JP2004070338A - 光波長変換装置、及び光波長変換方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光波長変換装置は、第1、第2の半導体レーザ111、117と、これが出射する第1、第2のレーザ光112、118を和周波光119に変換する非線形光学材料からなる波長変換素子113を有する。第1の半導体レーザ111と波長変換素子113が配置されて第1のレーザ光112が共振状態となる外部共振器構造115が構成され、第2のレーザ光118が波長変換素子113を伝搬するように第2のレーザ光118の光路が定められている。
【選択図】 図1
Description
第1の実施の形態に係る光波長変換装置は、第1の半導体レーザと波長変換素子と一対のミラーからなる外部共振器構造に第2の半導体レーザからのレーザ光が波長変換素子内を伝搬するように第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする。半導体レーザとは半導体活性層を有するレーザである。
1)2つの共振器縦モードを非線形光学材料中で和周波光と位相整合をとることは、極めて高い精度の外部共振器制御、温度制御が要求される。特に、擬似位相整合をとるために周期分極反転構造を非線形光学材料中に形成した素子では、新たな和周波光を発生させる条件は、両入力光が共振器モードである場合、極めて困難である。
2)少なくとも一方の外部共振器レーザに変調を加えることは、発振スペクトルの変動を招き、また、共振器モード成立のための応答遅れが生じ、結果として、変換効率の変動、変調速度の低下を生じる。
Feedback:DFB)型LDを用いている。また、外部共振器を構成する一対の反射面のうち一方は、第1の半導体レーザの出射端面とは反対側の端面に設けられているミラーであり、他方の反射面は、波長変換素子の端面のうち、波長変換素子内を通過して折り返す側の端面に設けられるミラーである。
第2の実施の形態に係る光波長変換装置は、波長変換素子が周期分極反転構造を有することを特徴とする。それ以外は第1の実施の形態と同じである。本実施の形態に係る光波長変換装置を図2に示す。符号2115は周期分極反転構造、2107、2103は誘電体多層膜、2102、2106は反射面であるミラーとしての誘電体多層膜、2104、2109は集光レンズ、2111はビームスプリッタ、2110は第2半導体レーザ117を駆動するための駆動回路である。
同図において3201は第1の半導体レーザの外部共振器縦モードを表している。3202は第1の半導体レーザの許容波長幅であり、3202に示す波長範囲で有効な波長変換が生じる。3203は第2の半導体レーザの発振スペクトルを表す。第1および第2の半導体レーザ光が波長変換素子を介して和周波混合を生じ、3204に示す和周波光の発生になる。和周波光発生に繋がる第1の半導体レーザの共振器モード波長をλ1(=2πc/ω1)、第2の半導体レーザ発振光波長をλ2(=2πc/ω2)、その結果発生する和周波光波長をλ3(=2πc/ω3)とすると、周波数整合条件から、
ω3=ω1+ω2
(1)
n1、n2、n3とすれば、位相整合条件から
n3ω3= n1ω1+ n2ω2±Δk
(2)
Λ=2πc/Δk
(3)
入力する第1の半導体レーザ光のパワーをP1、第2の半導体レーザ光のパワーをP2とすれば、和周波光のパワーP3は以下のように表される。
図5は本実施形態に係る波長変換素子の周期分極反転構造の具体的構造を示す模式図である。符号402は光導波路、401は周期分極反転構造を指す。
90°、位相整合角φ(光伝播方向とx-y平面内のx軸が成す角度)= 0°に沿って伝播する様にカットした結晶長10 mmのものが用いられる。
nmで高反射率となり、波長530〜540nmで低反射となるように誘電体多層膜2106が形成されている。
nmに対して低反射率になる。
nmを中心波長とする緑色の変調されたレーザ光のみが得られる。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、一対の反射面のうち、波長変換素子側の反射面が波長変換素子から離れて配置されたミラーであることを特徴とする。それ以外は第2の実施の形態と同じである。
本実施形態において、波長変換素子113としてKTPを用い、位相整合角θ= 90°とφ= 0°は第2実施形態と同様である。一方、位相整合を取る2つの半導体レーザの偏波方向は同方向である。周期分極反転の周期は、およそ10μmとなる。端面コーティングされた膜については、第2の実施形態と同様である。KTPの位相整合は、θ=
90°、φ= 0°に対してノンクリティカル位相整合となり、波長変換効率に対する角度許容幅が大きくなる。また、非線形定数をKTP結晶の最大非線形テンソル成分d33=16.9
(pm/V)に設計することができる。
本実施の形態に係る光波長変換装置は第2半導体レーザとして電極分割DBRレーザを用いたことを特徴とする。それ以外は第2、第3の実施の形態のいずれかと同じである。図8は本実施形態に係る光波長変換装置を示す模式図である。符号706がDBRレーザ、707は、必要に応じて設けられる光ファイバ、701は、第1の半導体レーザとしての一例である出射側端面を無反射コーティングしキャンパッケージされた素子である第1の半導体レーザ、708は光導波路、そして709は、必要に応じて設けて配置される赤外カットフィルタである。
mmとし、2つの半導体レーザの偏波面を基板に対して平行させて波長変換素子へレーザ光を結合させる。
0.3nmと狭いが、半導体レーザ706のDBR領域と位相制御領域への電流注入で発振波長を可変制御して、和周波光への波長変換効率が最大となるように調整できる。半導体レーザ706の光出力は利得領域への電流注入で増減する。変調信号を加えるのも利得領域への電流注入で行う。波長許容幅は狭いが、本実施例では非線形定数がLNの最大非線形テンソル成分d33=34.4(pm/V)を利用できるため、高い波長変換効率が得られる。光導波路を通過した半導体レーザ光は、赤外カットフィルタ709で除去されて和周波成分である緑色のレーザ光710となる。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、第2の半導体レーザにバイアス電流と、信号に合わせたパルス電流を重畳させることでパルス状のレーザ光を出力させることを特徴とする。それ以外は第2ないし第4の実施の形態のいずれかと同じである。
nmから1000 nmまでの範囲での発振が可能である。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、第1のレーザ半導体が配置される側とは反対側から第2の半導体レーザ光が波長変換素子へ入光するように、第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする。それ以外は、第1ないし第5の実施の形態のいずれかと同じである。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、一対の反射面のうち、波長変換素子側の反射面が波長変換素子から離れて配置されたミラーであることを特徴とする。それ以外は、第6および第3の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第2半導体レーザとして電極分割DBRレーザを用いたことを特徴とする。それ以外は、第6および第4の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第2の半導体レーザにバイアス電流と、信号に合わせたパルス電流を重畳させることでパルス状のレーザ光を出力させることを特徴とする。それ以外は、第6および第5の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第2の半導体レーザが第1の半導体レーザの後ろに配置されたことを特徴とする。それ以外は、第1ないし第9の実施の形態の何れかと同じである。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、波長変換素子に周期分極反転構造と光導波路とを設けたことを特徴とする。それ以外は第10の実施の形態と同じである。
本実施の形態に係る光波長変換装置は、光導波路103と光導波路2116の光結合にレンズを用いず、端面を直接隣接させて結合を行う、いわゆる、butt-coupling方式を用いていることである。それ以外は第11の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第12の実施の形態で説明したミラーを持たずに、波長変換素子の一方の端面に誘電体多層膜が構成されていることを特徴とする。それ以外は第12の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第1の半導体レーザと第2の半導体レーザとの間の光結合にレンズを用いず、端面を直接隣接させて結合を行うbutt-coupling方式を用いていることである。それ以外は第13の実施の形態と同じである。
本実施形態に係る光波長変換装置は、第2半導体レーザからの光を光ファイバにて第1の半導体レーザへ導入することを特徴とする。それ以外は第14の実施の形態と同じである。
本実施形態は、第1ないし第15の実施の形態に係る光波長変換装置を光源としたことを特徴とする画像投射型表示装置に係る。図20は本実施形態に係る画像投射装置を示す模式図である。符号801、802、803は光源、804は合波器、805は投射レンズ、806、807は光偏向器、808は被投射面、809は画素スポットを示す。
光源802としての本発明の光波長変換装置である緑色の和周波光源装置において、波長805nmおよび1590nmの半導体レーザを入力波光源とし、周期分極反転構造と光導波路を形成したKTP結晶基板を波長変換素子とすることで、波長534nmの光を得ることができる。緑色出力光の最大100mWを得るため、波長805nmのレーザ出力は最大500mW、波長1590nmの半導体レーザ出力は最大100mWとしている。連続電流を第1の半導体レーザに流すことで、発振波長805nmのレーザ共振が外部共振器で発生する。第2の半導体レーザにパルス幅変調を施した変調電流を流すことで、発振波長1590nmでピーク出力100mWのレーザ光が得られる。
本実施の形態は、第1ないし第15の実施の形態のいずれかに係る光波長変換装置を光源としたことを特徴とする電子写真方式の画像形成装置に係る。
112 第1のレーザ光
113 非線形光学材料
115 外部共振器
117、706、902、1801 第2の半導体レーザ
118 第2のレーザ光
119 和周波光
Claims (10)
- 第1、第2の半導体レーザと、該2つの半導体レーザが各々出射する第1、第2のレーザ光を和周波光に変換する波長変換素子とを有する光波長変換装置であって、前記第1の半導体レーザと前記波長変換素子とが配置されて第1のレーザ光が共振状態となる外部共振器構造を有しており、前記第2のレーザ光が前記波長変換素子を伝搬するように第2のレーザ光の光路が定められていることを特徴とする光波長変換装置。
- 前記第1の半導体レーザと前記波長変換素子との間から前記波長変換素子に前記第2のレーザ光が入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光波長変換装置。
- 前記第1の半導体レーザが配置されている側とは反対側から前記第2のレーザが前記波長変換素子へ入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光波長変換装置。
- 前記第1の半導体レーザを通過して前記光波長変換素子へ前記第2のレーザが入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光波長変換装置。
- 請求項1に記載の前記光波長変換装置を光源として有することを特徴とする画像投射型表示装置。
- 請求項1に記載の前記光波長変換装置を光源として有することを特徴とする電子写真方式の画像形成装置。
- 第1、第2の半導体レーザが各々出射する第1、第2のレーザ光を波長変換素子に入射してそれらの和周波光を発生させる光波長変換方法であって、前記第1の半導体レーザと前記波長変換素子とが配置されて第1のレーザ光が共振状態となる外部共振器構造を構築し、前記第2のレーザ光が前記波長変換素子を伝搬するように第2のレーザ光の光路を定めることを特徴とする光波長変換方法。
- 前記第1の半導体レーザと前記波長変換素子との間から前記波長変換素子に前記第2のレーザ光が入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項7に記載の光波長変換方法。
- 前記第1の半導体レーザが配置されている側とは反対側から前記第2のレーザが前記波長変換素子へ入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項7に記載の光波長変換方法。
- 前記第1の半導体レーザを通過して前記光波長変換素子へ前記第2のレーザが入光するように前記第2の半導体レーザが配置されていることを特徴とする請求項7に記載の光波長変換方法。
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