JP2004068093A - ウェハーのめっき装置 - Google Patents

ウェハーのめっき装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004068093A
JP2004068093A JP2002229835A JP2002229835A JP2004068093A JP 2004068093 A JP2004068093 A JP 2004068093A JP 2002229835 A JP2002229835 A JP 2002229835A JP 2002229835 A JP2002229835 A JP 2002229835A JP 2004068093 A JP2004068093 A JP 2004068093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
cathode electrode
seal packing
plating
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002229835A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3940648B2 (ja
Inventor
Yuji Uchiumi
内海 裕二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EEJA Ltd
Original Assignee
Electroplating Engineers of Japan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Electroplating Engineers of Japan Ltd filed Critical Electroplating Engineers of Japan Ltd
Priority to JP2002229835A priority Critical patent/JP3940648B2/ja
Publication of JP2004068093A publication Critical patent/JP2004068093A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3940648B2 publication Critical patent/JP3940648B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

【課題】ウェハーに均等な膜厚のめっきを形成でき、しかもウェハーが載置される支持部の構造が簡単であるめっき装置を提供すること。
【解決手段】めっき液槽10の開口縁に沿って延在する環状の端面11と、端面11上の環状のシールパッキン21と、シールパッキン21上の環状のカソード電極22とからなるウェハーWの支持部を有するウェハーのめっき装置において、シールパッキン21の表面の、カソード電極22と対向する位置に、周方向に沿って等間隔で突起21bを形成する。このように、シールパッキン21に複数の突起21bを形成すると、カソード電極22のうち突起21bに押される部分が確実にウェハーWに確実に接触する。また、非接触部分は接触部分の間に分散して生じ、ウェハーWの外周部の全周に散在する状態になり、全周に亘る均等な通電状態が確保される。
【選択図】 図5

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、めっき対象であるウェハーに電解めっきするめっき装置に関し、特にカップ式めっき装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウェハーのめっき対象面に電解めっきを施すめっき装置として、いわゆるカップ式めっき装置がある(図1参照)。図7に示されるように、従来のカップ式めっき装置100のウェハー支持部は、めっき液槽の上端開口に沿って延びる環状の端面部111と、当該端面部111の上に設置された環状のシールパッキン121と、シールパッキン121の上面に設置された環状のカソード電極122とからなる。シールパッキン121やカソード電極はトップリング123でめっき液槽(端面部111の上)に固定されている。また、環状のシールパッキン121は、その内周縁部に、上向きに突き出た環状の凸部121aを備えている。
【0003】
このようなめっき装置100でめっき処理を行う場合は、まずめっき対象であるウェハーWを支持部上に載置し、この後、ウェハーWの外周部を押えリング124で支持部120側に押しつけて、めっき液の液漏れを防止すると共に、ウェハーWの外周部とカソード電極122との間の通電状態を確保し、その後通電してめっきを行う。
【0004】
ところで、このようにしてウェハーを固定するだけでは、めっき液の漏れを防止できても、ウェハーのめっき対象面に均等な膜厚のめっきを施すことは難しい。また、ウェハーの外周部のうちカソード電極との接触面には良好な通電状態を得る等の目的で薄膜状のシードが設けられているが、このシードの抵抗が高い場合や厚さが薄い場合に、特にウェハーの外周部を全周に亘って均等にカソード電極に接触させることが難しい。単にウェハーの外周部を全周に亘って支持部側(カソード電極)に押しつけるだけでは、ウェハーの外周部全周を全面的にカソード電極に接触させることができず(つまり接触状態に偏りが生じ)、その結果、均等な通電状態を確保できなくなると考えられる。押しつける力を強すれば、より広い接触面積を確保できるが、押しつける力を強くするにも、めっき液槽の強度上の制約があることから限界がある。
【0005】
また、図8に示されるようなウェハーの支持部を備えた別のめっき液槽101がある。このめっき装置101の支持部では、カソード電極122として、ウェハーWと対向する位置に複数の突起122aを有するものが用いられている。このように突起122aを形成すれば、突起の位置でウェハーWとカソード電極122とを確実に接触させることができる。ところが、この場合、カソード電極122に突起122aを形成するための手間がかかる。そして、カソード電極122の材料は、例えば金など、突起122aを形成できるだけの加工性を有するものに限られる。カソード電極122の材料が例えばチタンなど加工性に劣る(割れを生じやすい)場合、突起122aを形成できないか、できるとしても歩留まりが低く、極めて手間がかかる。また、カソード電極122は、突起122aの部分だけでしかウェハーWに接触せず、カソード電極122の表面をできるだけ接触させて、できるだけ広い通電面積を確保することが難しい。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような背景の下になされたものであり、ウェハーに均等な膜厚のめっきを形成することができ、しかもその場合にカソード電極に突起を設けるような加工を施す必要がないなど、支持部の構造が簡単であるめっき装置を提供することを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、発明者は、ウェハーの外周部をカソード電極に押しつけた状態での両者の接触状態を調べた。その結果、接触面積は全体の80%〜90%程度であった。そして、非接触領域は、例えば1箇所あるいは2箇所程度といった限定された所に偏って発生し、これによりウェハーの外周部の全周に亘る均等な通電が妨げられていることが解った。また、押しつけ力を強くしていっても接触面積が数%程度改善されるにとどまり、均等な通電状態は得られなかった。このようなことから、突起を有しない従来のカソード電極を用いる場合、カソード電極を全面的にウェハーに接触させることは極めて困難であることが解った。そこで、突起を有していないカソード電極を全面的にウェハーに接触させなくても、均等に接触させることができる構造を検討することとした。その結果、非接触部分をカソード電極(またはウェハーの外周部)の全周に散在させることができれば、全周に亘って均等な通電状態を確保できることを見出し、さらに検討を重ねた結果、本発明に想到するに至った。
【0008】
本発明は、槽内にアノード電極が設置されためっき液槽を備えており、当該めっき液槽の開口縁に沿って延在する環状の端面と、当該端面の上に設置されたシールパッキンと、当該シールパッキン上に設置されたカソード電極とからなるウェハーの支持部を有するウェハーのめっき装置において、前記シールパッキンのカソード電極と対向する位置に、めっき液槽の開口を取り囲むように突起を形成することを特徴とするものである。
【0009】
カソード電極は厚さの薄い部材であり、シールパッキンの凹凸形状に応じて変形させることが可能である。したがって、本発明のように、シールパッキンに突起を設けておくと、ウェハーを支持部に押しつけたときに、突起によってカソード電極がウェハー側に押され、当該押された部分(以下、優先的接触部分と称する)が優先的にウェハーに接触するようになる。本発明において、めっき液槽の開口のを取り囲むようにシールパッキン上に形成される突起としては、例えば、全周に亘ってリング形状に延在する突起を挙げることができる。めっき液槽の開口縁に沿って延在する環状の端面の形状としては円形や四角形をはじめとする多角形など種々の形状が考えられ、シールパッキンに形成される突起の形状も、端面の形状に応じて円形や四角形など種々の形状が考えられる。このような突起を形成してカソード電極とウェハーとを接触させると、突起を設けない場合と比べて総接触面積が減少する場合があると考えられるが、突起に押される優先的接触部分に限れば、この部分の接触率は著しく向上する。そして、非接触の領域はほとんどなくなると考えられる。この結果、ウェハーは、その外周部の全周に亘って均等にカソード電極に接触することとなり、全周に亘る均等な通電状態が確保されると考えられる。均等な通電状態が確保されれば、ウェハーのめっき対象面上に均等な膜厚のめっきを得ることができる。
【0010】
また、めっき液槽の開口を取り囲むようにシールパッキン上に形成される突起としては、全周に亘るリング形状の突起の他に、開口の周方向に沿って等間隔をあけて形成される突起がある。この突起を形成した場合、優先的接触部分はウェハーの外周部の全周にほぼ等間隔をあけて生ずる。そして、非接触部分は、生ずるとすれば、突起に押されていない領域、すなわち優先的接触部分どうしの間の領域に生ずることになるが、優先的接触部分は全周に等間隔で生ずることから、非接触部分はウェハーの外周部の全周に散在することになる。
【0011】
このように、従来偏在していた非接触部分を、ウェハーの外周部の全周に散在させることができれば、カソード電極をウェハーに全面的に接触させることができなくても、ウェハーの外周部の全周に亘って均等な通電状態が確保される。例えば、カソード電極が平板からなる環形状であると、ウェハーの外周部とカソード電極とを、これらの間の非接触部分(隙間)を追い出すようにして両者を密着させようとしても、ウェハーの外周部とカソード電極とを全面的に接触させることは難しく、非接触部が偏在しやすいが、非接触部分を散在させて均等な通電を確保する本発明は、このように形状のカソード電極の場合にも有効である。均等な通電状態が確保されれば、ウェハーのめっき対象面上に均等な膜厚のめっきを得ることができる。
【0012】
また、本発明によれば、ウェハーとカソード電極との接触面積として、従来通り、またはそれに匹敵する接触面積を確保できることが解った。これは次のような理由であると考えられる。シールパッキンはゴムなどの柔軟な材料からなるものであるので、ウェハーを支持部に押しつけると、突起は変形してつぶれた状態(別言すれば、シールパッキン本体中に埋没した状態)になる。この状態になると、カソード電極の形状は、見掛け上、突起を有していない従来のカソード電極と同様の形状になり、従来通りの接触面積が確保されることになるのである。なお、接触部分は優先的接触部分を中心とした広がりとして存在するので、非接触部分が散在する状態は維持される。このように、本発明によれば、均等な通電状態を確保しても、接触面積が減ることがなく、あるいは減少が最小限度に抑制される。なお、リング形状に延在する突起を設ける場合と、周方向に沿って等間隔をあけて突起を設ける場合とを比較すると、後者の場合の方がより広い接触面積を確保しやすい。後者の場合の方がより突起を押しつぶしやすいからであると考えられる。これに対し、従来の技術で説明したように、カソード電極に突起を設けた場合、突起の位置でカソード電極をウェハーに確実に接触させることはできるが、カソード電極はシールパッキンのような柔軟性を有していないので、ウェハーをカソード電極に押しつけても、突起以外の部分でカソード電極とウェハーとを接触させることはできず、広い接触面積を確保することは困難である。
【0013】
以上のように本発明によれば、カソード電極には何ら加工を施す必要がなく、突起を設けていない従来のカソード電極を用いることができる。つまり、カソード電極の材質が制限されることはない。また、シールパッキンの表面に突起を付加するだけでよいので、ウェハーの支持部は極めて簡単な構造である。したがって、これまで通り簡単に製造できる。ただし、より広い接触面積を確保するという点では、カソード電極は柔軟性を有するものがより好ましく、この点で、カソード電極としては、金や白金製のものが好ましい。
【0014】
ところで、上述のように、本発明によればウェハーとカソード電極との間の接触面積を確保しやすいが、高さの高い突起を設けると、突起以外の部分でシールパッキンとカソード電極とを接触させることができず、強い力でウェハーを押しつけても必要な接触面積を確保できなくなるおそれがある。そこで高さについて検討した。その結果、突起の高さは、めっき液漏れ防止用に形成される凸部の高さ以下が好ましく、具体的には0.3mm以下が好ましいことが解った。その一方で、0.1mm以上が好ましいことが解った。これより低いと、カソード電極の一部を優先的にウェハーに接触させることができず、非接触部分を分散させることができないおそれがあるからである。突起の形状としては、半球形など表面が球面状の突起や、円錐形などの錐形状の突起など種々の形状を取り得る。
【0015】
そして、カソード電極が環形状である場合、シールパッキンに形成されている複数の突起は、シールパッキン上に載置した環形状のカソード電極の中心と各突起とを結んで線分を得た場合の、隣接する線分相互のなす角度が4°〜20°になる間隔で形成されているのが好ましい。この角度が20°以上になる間隔や、反対に4°未満になる間隔では、非接触部分をウェハーの外周部の全周に均等に分散させることができないおそれがあるからである。そして、上記範囲のなかでも均等な通電状態を容易かつ確保できるという点では、突起の間隔は、下限値としては5°以上がより好ましい。また、上限としては、10°以下がより好ましい。なお、シールパッキンがカソード電極と同心の環形状、例えば円板形状であれば、パッキンの中心を基準として各突起の間隔を特定できる。また、円形以外の環形状の場合、例えば楕円の場合は長軸と短軸の交点を、そして四角形の場合は対角線の交点を、さらに五角形の場合は各頂点を通過するように描かれた円の中心を、それぞれ基準となる中心とし、これらの中心から各突起に延ばして得られる線分を用いて各突起の位置関係を特定できる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るカップ式めっき装置の好適な実施形態を図面を参照しつつ説明する。
【0017】
図1に示されるように、カップ式めっき装置1は、めっき液を収容するためのめっき液槽10を備えており、めっき液槽10の上端にある円形の開口には、めっき対象物であるウェハーWが載置される支持部20が設けられている。図2に示されるように、支持部20は、開口縁に沿って延在する環形状の上端面11a(図2参照)を備える端面部11と、端面部11の上に設置されたシールパッキン21と、シールパッキン21の上に設置された金製のカソード電極22とからなる。そして、カソード電極22の上には、パッキン23を介して支持部20の外周領域を覆う環状のトップリング24が載置されており、シールパッキン21およびカソード電極22は、トップリング24と端面部11とに挟まれた状態でめっき液槽10に固定されている。
【0018】
支持部20を構成する部材のうち、シールパッキン21は、図3に示されるように環形状であり、図4(a)に示されるように、その内周縁部に全周に亘って形成される凸部21aを有する。この凸部21aは、支持部20の上に載置されたウェハーWに密着する部分であり、ウェハーWと凸部21aとを密着させると、めっき液槽10内からのめっき液の液漏れが防止される。また、シールパッキン21の上面の、カソード電極22と対向する位置には、周方向に沿って等間隔をあけて複数の突起21bが形成されている。この突起21bがあると、カソード電極22は、各突起21bに対応する位置において優先的にウェハーに接触する。なお、突起21bの間隔は、環状のカソード電極22の中心と各突起21bとを結んで得られる線分L(図4(a)参照)のなす角度が10°になる間隔であり、突起21bは、図4(b)に示されるように、半球形状であり、高さは0.2mmであった。
【0019】
そして、シールパッキン21上のカソード電極22は、環状の薄い板材からなるものでる。なお、カソード電極22は厚さが0.1mmであり、容易に曲げ変形できるものであった。
【0020】
また、図1に示されるように、めっき液槽10は、その底面に、めっき液の供給口12を備えており、端面部11の直下の周壁面10aに、めっき液の排出口13を備えている。そして、めっき液槽10内の底部には、カソード電極22の対極である環形状のアノード電極25が供給口を取り囲むように設置されている。なお、符号「26」は、支持部20に載置されたウェハーWを支持部20に押しつける押さえリングである。
【0021】
このようなめっき装置1を用いてウェハーWにめっきを施す場合は、まず、ウェハーWのめっき対象面をめっき液が満たされためっき液槽10内に向けた状態で、シードが形成されているウェハーWの外周部を支持部20の上に載置する。そして、図5に示されるように、ウェハーWの外周部を押えリング26で支持部20に押しつける。すると、シールパッキン21の凸部21aがウェハーWに密着し、めっき液槽10内のめっき液の漏れが防止される状態になる。
【0022】
また、ウェハーWの外周部を支持部20に押しつけると、カソード電極22は、裏側(図中の下側)で各突起21bに接する位置において、当該突起21bによってウェハーW側に押されてウェハーWに接する。各突起21bは等間隔をあけて形成されているので、図6に示されるように、突起21bによる接触部分(優先的接触部分)Sは、ウェハーWの外周部の全周に均等に生ずる。そして、これらの接触部分Sの間に非接触部分Tが生ずる。このように、本実施形態のめっき装置1によれば、ウェハーWとカソード電極22との接触部分SはウェハーWの外周部の全周に均等に生じ、その間の非接触部分TはウェハーWの外周部の全周に散在する。なお、図6では、シールパッキン21またはカソード電極22と、ウェハーWとの接触領域を斜線を付すことで模式的に示した。また、接触部分Sの内周側に存する帯状の接触領域は、ウェハーWとシールパッキン21との接触領域である。
【0023】
この状態で、供給口12からめっき液を供給し、排出口13からめっき液を排出させつつ、ウェハーWとアノード電極25との間にめっき液を介して通電させてめっき処理を行う。実際にめっきを行ったところ、ウェハーWのめっき対象面上に均等な膜厚のめっきが得られた。ウェハーWの外周部の全周に亘って均等な通電状態が確保されているからであると考えられる。
【0024】
なお、接着剤を用いてカソード電極をシールパッキンに接着しておくことがある。両者を接着しておくと、シールパッキンへのカソード電極の位置決め作業が不要になり取り扱いが容易であるという利点や、シールパッキンとカソード電極との間へのめっき液の侵入が防止されるので、新たなウェハーをカソード電極上に載せて押しつけたときにカソード電極とシールパッキンとの間からめっき液が染み出すようなことが防止され、染み出しためっき液でウェハー表面の薄膜状のシードが溶かされるようなことが防止されるといった利点があるからである。そこで、シールパッキン21とカソード電極22とを接着しためっき装置をついても、めっき処理テストを行った。その結果、ウェハーWのめっき対象面上に均等な膜厚のめっきが得られた。両者を接着させた場合でも、シールパッキン21に突起を設けておけば、カソード電極22とウェハーWとの非接触部分をウェハーWの外周部の全周に散在させることができるからであると考えられる。
【0025】
【発明の効果】
以上の説明から解るように、本発明によれば、ウェハーの外周部の全周に均等に通電でき、ウェハーのめっき対象面上に均等な膜厚のめっきを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態のめっき装置のめっき液槽を示す断面図。
【図2】ウェハーの支持部を示す断面図。
【図3】シールパッキンを示す平面図
【図4】シールパッキンの要部(図3の領域A)を拡大して示す平面図および断面図。
【図5】支持部の上にウェハーを固定した状態を示す断面図。
【図6】図5のC−C面を示す平面図。
【図7】従来のめっき装置の支持部を示す断面図。
【図8】従来の別のめっき装置の支持部を示す断面図。
【符号の説明】
1 めっき装置
10 めっき液槽
10a 周壁面
11  端面部
11a 上端面(端面)
12  供給口
13  排出口
20  支持部
21  シールパッキン
21a 凸部
21b 突起
22 カソード電極
23 パッキン
24 トップリング
25 アノード電極
26 押さえリング
W ウェハー

Claims (4)

  1. 槽内にアノード電極が設置されためっき液槽を備えており、当該めっき液槽の開口縁に沿って延在する環状の端面と、当該端面の上に設置されたシールパッキンと、当該シールパッキン上に設置されたカソード電極とからなるウェハーの支持部を有するウェハーのめっき装置において、
    前記シールパッキンの表面の、前記カソード電極と対向する位置に、めっき液槽の開口を取り囲むように突起を形成することを特徴とするウェハーのめっき装置。
  2. シールパッキンのカソード電極と対向する位置に形成される突起は、開口の周方向に沿って等間隔をあけて形成されるものである請求項1に記載のウェハーのめっき装置。
  3. 突起は、高さが0.1mm〜0.3mmである請求項1または請求項2に記載のウェハーのめっき装置。
  4. カソード電極は環形状であり、シールパッキンに形成されている複数の突起は、シールパッキン上に載置した環形状のカソード電極の中心と各突起とを結んで線分を得た場合の、隣接する線分相互のなす角度が4°〜20°になるように形成されている請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のウェハーのめっき装置。
JP2002229835A 2002-08-07 2002-08-07 ウェハーのめっき装置 Expired - Fee Related JP3940648B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002229835A JP3940648B2 (ja) 2002-08-07 2002-08-07 ウェハーのめっき装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002229835A JP3940648B2 (ja) 2002-08-07 2002-08-07 ウェハーのめっき装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004068093A true JP2004068093A (ja) 2004-03-04
JP3940648B2 JP3940648B2 (ja) 2007-07-04

Family

ID=32016091

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002229835A Expired - Fee Related JP3940648B2 (ja) 2002-08-07 2002-08-07 ウェハーのめっき装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3940648B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011089164A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Omori Hanger Kogyo Kk メッキ用基板保持具
KR20180087379A (ko) * 2015-12-04 2018-08-01 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 보유 장치
CN109137029A (zh) * 2014-11-26 2019-01-04 诺发系统公司 用于半导体电镀装置的唇状密封件和触头元件
US10982346B2 (en) 2015-07-09 2021-04-20 Lam Research Corporation Integrated elastomeric lipseal and cup bottom for reducing wafer sticking
US11512408B2 (en) 2011-08-15 2022-11-29 Novellus Systems, Inc. Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating apparatuses

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011089164A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Omori Hanger Kogyo Kk メッキ用基板保持具
US11512408B2 (en) 2011-08-15 2022-11-29 Novellus Systems, Inc. Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating apparatuses
CN109137029A (zh) * 2014-11-26 2019-01-04 诺发系统公司 用于半导体电镀装置的唇状密封件和触头元件
CN109137029B (zh) * 2014-11-26 2021-01-01 诺发系统公司 用于半导体电镀装置的唇状密封件和触头元件
US10982346B2 (en) 2015-07-09 2021-04-20 Lam Research Corporation Integrated elastomeric lipseal and cup bottom for reducing wafer sticking
KR20180087379A (ko) * 2015-12-04 2018-08-01 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 보유 장치
KR102381604B1 (ko) 2015-12-04 2022-04-01 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 보유 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP3940648B2 (ja) 2007-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004068093A (ja) ウェハーのめっき装置
CN1672056A (zh) 通电试验用探针
US8900425B2 (en) Contact ring for an electrochemical processor
JPS58182823A (ja) 半導体ウエハ−のメツキ装置
US10457907B2 (en) Electrochemical measurement device
KR20180087379A (ko) 기판 보유 장치
JP2010129383A (ja) ドームシートユニット及びこれを備えるメンブレンスイッチ
KR20230121870A (ko) 기판 유지 장치의 컵형 척 및 기판 유지 장치
JPH07211724A (ja) メッキ装置およびメッキ方法と被メッキ処理基板
US9957605B2 (en) Substrate fixing apparatus
KR101586429B1 (ko) 탄성 보강 유니트를 포함하는 리테이너링을 갖는 화학기계적 연마장치
JP2004091808A (ja) メッキ装置
CN211838726U (zh) 雾化换能片和雾化装置
CN214898339U (zh) 湿法腐蚀夹具
CN214782232U (zh) 新型阴极载具导电环装置
JPH0313577A (ja) スパッタ装置の基板ホルダ
US20230290621A1 (en) Substrate fixing device
JP2019141111A (ja) パウダー容器用中蓋およびパウダー容器
CN218666284U (zh) 一种加热盘结构及镀膜设备
US5006217A (en) Arrangement for contacting and holding a mold
CN209702883U (zh) 八排引线框架电镀模具
JP2000298284A (ja) 液晶表示装置
JP3980746B2 (ja) トップリングのガイドリング取外し治具
KR20140052531A (ko) 화학기계적 연마장치의 레테이너 링
JP2000008192A (ja) カップ式めっき装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050607

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050607

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060606

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060804

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070309

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070402

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3940648

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160406

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees