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  1. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量が設けられた画素とを有する素子基板の電気的検査方法であって、
    前記信号線に接続された第1の電源線から電源電圧を前記信号線に供給することで、画素に設けられた保持容量に、所定の電荷蓄積
    前記信号線と前記第1の電源線との接続を切り離し前記信号線と第2の電源線を接続することで前記蓄積された電荷を、前記信号線及び前記第2の電源線を介して読み出し、
    前記読み出された電荷を用いて前記画素を検査することを特徴とする電気的検査方法。
  2. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量が設けられた画素とを有する素子基板の電気的検査方法であって、
    前記信号線に接続された第1の電源線から第1の電源電圧を前記信号線に供給することで、画素に設けられた保持容量に、所定の電荷蓄積
    前記信号線と前記第1の電源線との接続を切り離し前記信号線と第2の電源線を接続することで、前記蓄積された電荷を、前記信号線及び前記第2の電源線を介して読み出し、
    前記読み出された電荷を用いて前記画素を検査
    前記信号線と前記第2の電源線を接続した後、前記蓄積された電荷を読み出す前に、前記信号線及び前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給することを特徴とする電気的検査方法。
  3. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量、及び前記信号線と前記保持容量との間に設けられたスイッチング素子とが設けられた画素を有する素子基板の電気的検査方法であって、
    第1の電源電圧が供給され第1の電源線を前記信号線と接続し、なおかつ前記スイッチング素子をオンにして前記信号線と前記保持容量とを接続し、
    前記スイッチング素子をオフにし、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続を切り離し、第2の電源線と前記信号線を接続し、なおかつ前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給した後、前記保持容量に接続される測定点をフローティングにし、
    前記スイッチング素子をオンにすることで、前記測定点の電圧値又は電流値によって前記保持容量に保持されている電荷を読み出し、
    前記電荷を用いて前記画素の検査をすることを特徴とする電気的検査方法。
  4. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量、及び前記信号線と前記保持容量との間に設けられたスイッチング素子とが設けられた画素を有する素子基板の電気的検査方法であって、
    第1の電源電圧が供給され第1の電源線を前記号線と接続し、なおかつ前記スイッチング素子をオンにして前記信号線と前記保持容量とを接続することで、前記保持容量に電荷を蓄積し、
    前記スイッチング素子をオフにし、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続を切り離し、第2の電源線と前記信号線を接続し、なおかつ前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給した後、前記保持容量に接続される測定点をフローティングにし、
    前記スイッチング素子をオンにすることで、前記測定点の電圧値又は電流値によって前記保持容量に保持されている電荷を読み出し、
    前記電荷を用いて前記画素の検査をすることを特徴とする電気的検査方法。
  5. 請求項3または請求項4において、
    前記第1の電源電圧は、前記素子基板に設けられた接続端子を介して前記第1の電源線に供給されていることを特徴とする電気的検査方法。
  6. 請求項3乃至請求項5のいずれかにおいて、
    前記第2の電源電圧は、前記素子基板に設けられた接続端子を介して前記第2の電源線に供給されていることを特徴とする電気的検査方法。
  7. 請求項2乃至請求項6のいずれかにおいて、
    前記第1の電源電圧と前記第2の電源電圧は互いに高さが異なっていることを特徴とする電気的検査方法。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれかにおいて、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続及び前記第2の電源線と前記信号線との接続は、前記素子基板に設けられたインバータにより制御されていることを特徴とする電気的検査方法。
  9. 請求項1乃至請求項8のいずれか一において、
    前記素子基板には、前記保持容量に接続された発光素子の電極が設けられていることを特徴とする電気的検査方法。
  10. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量が設けられた画素とを有する半導体表示装置の作製方法であって、
    前記信号線に接続された第1の電源線から電源電圧を前記信号線に供給することで、前記保持容量に所定の電荷蓄積
    前記信号線と前記第1の電源線との接続を切り離し前記信号線と第2の電源線を接続することで前記蓄積された電荷を、前記信号線及び前記第2の電源線を介して読み出し、
    前記読み出された電荷を用いて前記画素を検査する工程を含むことを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  11. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量が設けられた画素とを有する半導体表示装置の作製方法であって、
    前記信号線に接続された第1の電源線から第1の電源電圧を前記信号線に供給することで、前記保持容量に所定の電荷蓄積
    前記信号線と前記第1の電源線との接続を切り離し前記信号線と第2の電源線を接続することで前記蓄積された電荷を、前記信号線及び前記第2の電源線を介して読み出し、
    前記読み出された電荷を用いて前記画素を検査する工程を含み、
    前記信号線と前記第2の電源線を接続した後、前記蓄積された電荷を読み出す前に、前記信号線及び前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給することを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  12. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量、及び前記信号線と前記保持容量との間に設けられたスイッチング素子とが設けられた画素を有する半導体表示装置の作製方法であって、
    前記信号線と第1の電源電圧が供給され第1の電源線を接続し、なおかつ前記スイッチング素子をオンにして前記信号線と前記保持容量とを接続し、
    前記スイッチング素子をオフにし、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続を切り離し第2の電源線と前記信号線を接続し、なおかつ前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給した後、前記保持容量に接続される測定点をフローティングにし、
    前記スイッチング素子をオンにすることで、前記測定点の電圧値又は電流値によって前記保持容量に保持されている電荷を読み出し、前記電荷を用いて前記画素の検査をする工程を含むことを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  13. 信号線と、前記信号線から供給された電荷を保持するための保持容量、及び前記信号線と前記保持容量との間に設けられたスイッチング素子とが設けられた画素を有する半導体表示装置の作製方法であって、
    前記信号線と第1の電源電圧が供給され第1の電源線を接続し、なおかつ前記スイッチング素子をオンにして前記信号線と前記保持容量とを接続することで、前記保持容量に電荷を蓄積し、
    前記スイッチング素子をオフにし、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続を切り離し第2の電源線と前記信号線を接続し、なおかつ前記第2の電源線に第2の電源電圧を供給した後、前記保持容量に接続される測定点をフローティングにし、
    前記スイッチング素子をオンにすることで、前記測定点の電圧値又は電流値によって前記保持容量に保持されている電荷を読み出し、前記電荷を用いて前記画素の検査をする工程を含むことを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  14. 請求項1または請求項1において、
    前記第1の電源電圧は、前記素子基板に設けられた接続端子を介して前記第1の電源線に供給されていることを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  15. 請求項1乃至請求項1のいずれかにおいて、
    前記第2の電源電圧は、前記素子基板に設けられた接続端子を介して前記第2の電源線に供給されていることを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  16. 請求項1乃至請求項1のいずれかにおいて、
    前記第1の電源電圧と前記第2の電源電圧は互いに高さが異なっていることを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  17. 請求項10乃至請求項1のいずれかにおいて、
    前記第1の電源線と前記信号線との接続及び前記第2の電源線と前記信号線との接続は、前記素子基板に設けられたインバータにより制御されていることを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
  18. 請求項10乃至請求項17のいずれか一において、
    前記検査をする工程の後、前記素子基板状に発光素子を形成することを特徴とする半導体表示装置の作製方法。
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