【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板に対し薬液処理と洗浄処理とを交互に行う薬液処理装置に関し、特にフォトリソグラフィ工程において微細なパターンを基板に形成する場合に用いて好適な薬液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネル等で用いられるカラーフイルタの製造方法としては各種の方法が知られているが、近年、感光性着色樹脂シートを用いた転写による方法が、精度の高いカラーフイルタを簡便に製造することができるなどの理由で注目を浴びている。
【０００３】
この感光性着色樹脂シートを用いる転写法では、まず、所定の色の着色材料（顔料または染料）と感光性樹脂とからなる感光性着色樹脂層を可撓性支持体シートの上に設けて製造する。この感光性シートは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黒色（Ｋ）の各色のものが製造される。次に、この感光性シートをラミネータにセットして、透明なガラス基板に例えばＲの感光性着色樹脂層を熱転写する。次に、露光装置で、感光性着色樹脂層の表面にフォトマスクを介して光を照射し、感光性着色樹脂層をパターン状に露光する。次に、現像処理装置で露光済みの感光性着色樹脂層を現像して、ガラス基板上にＲの着色画素パターンを形成する。同様にして、ガラス基板上にＧ及びＢの着色パターンを形成した後に、Ｋ感光性着色樹脂層を熱転写し、これを感光性樹脂層の転写面とは反対側の面から露光した後に現像して、ガラス基板にブラックマトリクスを形成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
カラーフィルタの需要は近年に至ってますます高くなり、それに伴ってカラーフィルタの性能の向上および低価格化が要求されている。このため、得率アップ及びコストダウンなどの観点から基板が大型化しており、それに対応して各現像処理装置も大型化している。しかも、現像処理装置は、少なくとも複数種類の薬液を用いるため、各薬液処理に対応する複数の槽が必要な他に洗浄槽や乾燥槽などが必要になる（例えば特開平６−６１１３７号公報、同６−２６０４１２号公報、同１１−１２８８５２号公報）。したがって各槽の設置所有面積（フットプリント）が広く必要になる。とくに、クリーンな環境化で製造が要求されるためクリーンルーム内に各設備を設置する必要があり、設置所有面積の増大は設備コスト及びランニングコストの増加につながる。
【０００５】
これに対して、本出願人は、特願２０００−３４７８５９号にて、基板に対し薬液処理を行う１つの薬液処理槽と、この薬液処理槽に隣接して配置され基板を洗浄する洗浄槽と、前記薬液処理槽に供給する薬液を切り換える薬液切替部と、前記薬液処理槽を洗浄する洗浄部とを備えた薬液処理装置を提案している。これにより、装置の設置面積の縮小、基板大型化の要請に応えている。
【０００６】
しかしながら、上記提案装置では、基板上部に設置されたノズルからシャワー状に薬液を噴射して供給している。このため、基板表面に達した薬液が基板上をその周辺部へ流れながら膜面を処理する。その際に、基板が大型化するほどシャワーノズルの数も増加するため、基板中央部の薬液の流れが悪化し、部分的に液溜まりが生じやすくなる。その結果、基板面内の処理性に差が生じ、基板面内の画素形状が不均一になるという問題がある。
【０００７】
この液溜まりを防止するためには、薬液処理中に基板またはノズルまたはこれらの両方を揺動させたり、ノズルからの薬液の供給量、シャワー圧力、基板との距離を各ノズル毎に調節するなどの策を講じることが考えられる。しかしながら、このような方策では、揺動装置が必要になったり、各種調節を行う必要があり、装置が大型化してしまうとともに、調節に時間を要するという問題がある。
【０００８】
本発明は、基板の大型化に対応が可能であり、簡単な構成で基板内のフィルタ画素形状を均一にすることができるようにした薬液処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の現像処理装置は、感光性着色層が一方の面に形成された基板に対し薬液処理を行う１つの薬液処理槽と、前記薬液処理槽に隣接して配置され基板を洗浄する洗浄槽と、前記薬液処理槽に供給する薬液を切り換える薬液切替部と、薬液処理槽を洗浄する洗浄部と、前記各槽間で前記感光性着色層を下にして搬送する基板搬送部と、前記薬液処理槽に設けられ、前記基板の下方から前記感光性着色層に対して薬液を供給する薬液供給部とを備えている。
【００１０】
なお、前記薬液供給部を、薬液ノズルまたは薬液供給浴槽から構成することが好ましい。また、前記薬液処理槽は、基板洗浄ブラシと洗浄ノズルとを備えることが好ましい。さらに、前記洗浄槽を、前記基板送り方向で前記薬液処理槽を挟むように複数設け、前記薬液切替部は、一方の洗浄槽で基板を洗浄中に薬液処理槽の洗浄及び薬液切り換えを行うことが好ましい。また、前記複数の洗浄槽の一方を第１洗浄槽とし他方を第２洗浄槽とし、前記第１洗浄槽をガラス基板の受け入れ洗浄における受け入れ槽とし、この第１洗浄槽に基板出入口を設け、この基板出入口から受け入れ洗浄の基板を挿入し、前記第２洗浄槽側からそれ以外の薬液処理や中間洗浄の基板を挿入することが好ましい。前記第１洗浄槽に、密着促進処理液の噴射ノズルを設け、前記受け入れ洗浄時に密着促進処理液を基板に向けて噴射することが好ましい。また、前記薬液処理槽または洗浄槽で基板を往復動させることが好ましい。前記薬液処理槽と洗浄槽との間に液切りゾーンを設け、この液切りゾーン内で薬液処理槽側に薬液処理槽へ向けて基板に対し気体を吹き出す噴射ノズルを配置するとともに、液切りゾーン内で洗浄槽側に洗浄槽へ向けて基板に対し気体を吹き出す噴射ノズルを配置し、基板の通過方向に対応させて、前記噴射ノズルから気体を選択的または一斉に吹き出すことが好ましい。また、前記洗浄部は、薬液槽のノズルから薬液槽内に洗浄気体と洗浄液とを交互に複数回噴出させて、洗浄を行うことが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の現像処理機の概略を示す正面図である。現像処理機１０は、ガラス基板１１に対し薬液処理を行う薬液処理槽１２と、薬液処理槽１２に隣接して配置されガラス基板１１を洗浄する第１ないし第４のリンス槽（洗浄槽）１３〜１６と、エアーナイフ槽１７と、これら各槽１２〜１７にガラス基板１１を搬送する基板搬送部２０と、前記薬液処理槽１２に供給する薬液を切り換える薬液切替部２１とから構成されている。なお、ガラス基板１１は、感光性着色層を下側にして現像処理機１０に挿入され、各槽に搬送される。また、薬液処理槽１２とこれに隣接する第１及び第２リンス槽１３，１４との間には、液切りゾーン１８，１９が設けられており、この液切りゾーン１８，１９は、各槽における薬液や洗浄水などをエアーを噴射して液切りして、隣接槽への液の持ち込みを抑制する。
【００１２】
エアーナイフ槽１７には第１の基板出入口２３が設けられており、第１リンス槽１３には第２の基板出入口２４が設けられている。これら基板出入口２３，２４をつなぐようにして、前記基板搬送部２０が各槽１２〜１７を貫通するように水平に配置されている。第１基板出入口２３の近くにはターンテーブル２５が、第２基板出入口２４の近くにはローラコンベア２６が設けられている。通常は第１基板出入口２３からガラス基板１１の挿入及び排出が行われる。また、第１基板出入口２３には、上下方向に離して除電バー２７が設けられており、ガラス基板１１を除電する。除電バー２７としては、イオナイザ（リッチモンド社製）を用いているが、除電機能を有するものであればよく、種々のタイプの除電装置を用いてよい。
【００１３】
また、ガラス基板１１を受け入れ洗浄（予備洗浄）する場合などには、ローラコンベア２６を介して、第２基板出入口２４から受け入れ洗浄用ガラス基板１１ａが挿入される。このように、ガラス基板１１の出入口２３，２４を２つ設け、一方の出入口２４を用いて、第１リンス槽１３に直接に受け入れ洗浄用ガラス基板１１ａを挿入することにより、予備洗浄前のガラス基板１１ａによって、現像処理機１０内の基板搬送部２０の各ローラや各槽１２〜１７が汚染されてしまうことがなくなる。これにより、予備洗浄と、現像処理や中間洗浄等を１つの現像処理機を用いて行うことができる。なお、第２基板挿入口２４にはシャッタ２８が設けられている。このシャッタ２８はガラス基板１１ａの受け入れ時以外は閉じられており、第１リンス槽１３の洗浄水が水滴や飛沫として槽外部のクリーンルームへ排出されることがないようにしている。
【００１４】
ガラス基板１１には、前工程において、図示しないラミネータにより感光性着色層が転写され、さらに図示しない露光機により感光性着色層にフォトマスクにより画素パターンが露光される。露光済みのガラス基板１１は、感光性着色層を下に向けた状態でターンテーブル２５により、第１基板出入口２３から現像処理機１０内に送られる。
【００１５】
基板搬送部２０は、多数の搬送ローラ３０から構成されている。図２に示すように、搬送ローラ３０は、ローラ駆動部３１により各槽１３〜１７毎に個別に、回転方向、回転速度が変えられて回転駆動される。これにより、ガラス基板１１は矢印Ａ方向またはＢ方向に送られ、現像処理機１０内で往復搬送される。また、処理速度等に応じて各槽１２〜１７における搬送速度が適切なものに変えられる。
【００１６】
図３に示すように、薬液処理槽１２は、薬液を噴射するシャワーゾーン１２ａと、ガラス基板１１をブラッシングするブラシゾーン１２ｂとに区画されている。上述したように、ガラス基板１１は、感光性着色層を下側にして搬送されることから、シャワゾーン１２ａには、ガラス基板１１の感光性着色層に対面するように、下方に複数の薬液噴射ノズル３６が配置されている。同様にして、ブラシゾーン１２ｂにも、ガラス基板１１の感光性着色層に対面するように、下方に複数の薬液噴射ノズル３７が配置されている。また、ブラシゾーン１２ｂには、上方・下方両方にブラシ洗浄ノズル３８が配置されている。このように、薬液噴射ノズル３６及び薬液噴射ノズル３７を下方に配置し、ガラス基板１１の感光性着色層に下方から薬液を噴射させて薬液処理を行うことにより、薬液処理後の薬液は重力により下方に落とされ、ガラス基板１１の感光性着色層に薬液溜まりが発生することがなくなる。
【００１７】
図４に示すように、薬液噴射ノズル３６は、ガラス基板１１の送り方向に直交する基板幅方向に沿って配置されるノズルヘッド３６ａと、このノズルヘッド３６ａの基板幅方向に所定ピッチで配置される複数のノズル本体３６ｂとから構成されている。他の薬液噴射ノズル３７及びブラシ洗浄ノズル３８も、薬液噴射ノズル３６と同様に構成されている。
【００１８】
薬液噴射ノズル３６は、ノズルシフト部５７により、ガラス基板１１の幅方向に往復動自在に構成されており、その振幅、送り速度が変更可能になっている。更に、薬液処理槽１２内の搬送ローラ３０は、ローラ駆動部３１によって、薬液を噴射中に正逆に回転することで、ガラス基板１１をその送り方向で往復動させる。このように、ガラス基板１１及び薬液噴射ノズル３６が揺動することで、ガラス基板１１に対して薬液がむらなく均一に噴射される。また、搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａとローラ本体３０ｂとガイドフランジローラ３０ｃとを備えており、ガラス基板１１に直接接触するローラ本体３０ｂは、ローラ本体シフト部６２により、ガラス基板１１の幅方向に往復動自在に構成されており、ガラス基板１１のサイズ・種類に合わせてシフト長さが変更可能になっている。そして、ガラス基板１１の感光性着色層においてパターン面が形成されていない箇所にローラ本体３０ｂが位置決めされ、ガラス基板１１が搬送される。
【００１９】
図５に示すように、薬液噴射ノズル３６は、ガラス基板１１の搬送方向において、複数設けられた搬送ローラ３０の各ピッチ間の中間に配置される。また、薬液噴射ノズル３７も同様に、搬送ローラ３０の各ピッチ間の中間に配置される。これにより、ガラス基板１１の感光性着色層の全面にムラなく薬液を噴射させることができる。なお、薬液噴射ノズル３６及び薬液噴射ノズル３７は、上記配置位置に限定されることなく、搬送ローラ３０の配置ピッチなどに応じて、その配置位置及び個数は適宜変更してもよい。
【００２０】
図３に示すように、薬液噴射ノズル３６には、感光性着色層の現像処理液として、ＰＤ，ＣＤ，ＳＤの各液供給ライン４０，４１，４２が切替ヘッド４５を介して接続され、薬液噴射ノズル３７にはＳＤ供給ライン４２が切替ヘッド４６を介して接続される。さらに、これら薬液噴射ノズル３６，３７には、後に説明するフラッシング洗浄のための水供給ライン４３、エアー供給ライン４４が切替ヘッド４５，４６を介して接続される。また、ブラシ洗浄ノズル３８には、切替ヘッド４６を介して、水供給ライン４３が接続されている。各液または水供給ライン４０〜４３は、貯留タンク４０ａ〜４３ａとポンプ４０ｂ〜４３ｂと配管４０ｃ〜４３ｃ等を備えている。エアー供給ライン４４には圧縮エアー供給源４４ａが接続されており、配管４４ｃを介して切替ヘッド４５，４６に送られる。なお、上記の配管例は一例であり、シャワーゾーン１２ａとブラシゾーン１２ｂとの両方で、ＰＤ，ＣＤ，ＳＤの各液を任意に切り替えて噴射するようにしてもよい。
【００２１】
切替ヘッド４５，４６は、各供給ライン４０〜４４と薬液噴射ノズル３６，３７との間に設けられる電磁バルブ５０ａから構成されている。各電磁バルブ５０ａはコントローラ４９に接続されている。コントローラ４９は、各電磁バルブ５０ａを選択的に駆動することで、薬液噴射ノズル３６，３７に所望の薬液や水、エアーなどを供給する。回収ライン５１側の切替ヘッド４７も同様に構成されており、各電磁バルブ５０ａを選択的に駆動することにより、薬液処理槽１２に噴射された薬液を回収ライン５１及び切替ヘッド４７を介して、各貯留タンク４０ａ〜４３ａや廃液タンク５２等に回収する。これにより、薬液などが循環使用される。なお、切替ヘッド４５，４６の気体用電磁バルブは噴射ノズル３６，３７から最も遠い位置に配置されており、配管内の液の置換の効率を良くしている。
【００２２】
図１に示すように、ブラシゾーン１２ｂには、上下方向に並べたブラシローラ対５５，５６が基板送り方向で２組配置されるとともに、ブラシローラ対５５，５６の上方には、前記薬液噴射ノズル３７が配置されている。図３に示すように、各ブラシローラ５５ａ，５５ｂ、５６ａ，５６ｂは、ブラシ駆動部５４によって、回転数及び回転方向が単独で変更自在になっている。しかも、ブラシ駆動部５４によって上下のブラシローラ５５ａ，５５ｂ、５６ａ，５６ｂの間隔が変更自在になっている。したがって、ブラシローラ５５ａ，５５ｂ、５６ａ，５６ｂの間隔、回転方向、回転数などを適宜変更することにより、薬液や処理内容に対応した最適のブラッシングが可能になる。
【００２３】
図１に示すように、ブラシローラ対５５，５６の上方及び下方には、前記ブラシ洗浄ノズル３８が配置されている。ブラシ洗浄ノズル３８は、ブラッシングが終了して薬液処理槽１２を洗浄する際に、水を噴射してブラシローラ対５５，５６を洗浄する。
【００２４】
図３に示すように、搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａとローラ本体３０ｂとガイドフランジローラ３０ｃとを備えている。ローラ本体３０ｂはローラ軸３０ａの軸方向で離して２個設けられているが、このローラ本体３０ｂの配置個数は１個または３個以上であってもよい。ガイドフランジローラ３０ｃは、そのローラ部がガラス基板１１の両側縁部の下面に接触して、ガラス基板１１を支持するとともに、そのフランジ部がガラス基板の両側縁に接触して基板幅方向でガラス基板１１が移動することがないように案内する。現像槽１２内のガイドフランジローラ３０ｃは、ローラシフト部６１によりガラス基板１１の幅方向に移動自在にされており、ガラス基板１１のサイズに応じてガイド幅が可変とされている。また、他の各槽１３〜１９に配置される搬送ローラ３０のガイドフランジローラ３０ｃは、最大サイズのガラス基板１１に対応させた幅で固定されている。なお、他の各槽１３〜１７においても、ガイドフランジローラ３０ｃを現像槽薬１２と同じように、軸方向で移動自在に構成し、各サイズに対応させるようにしてもよい。
【００２５】
図１に示すように、ブラシゾーン１２ｂ内の搬送ローラ３０における、ガイドフランジローラ３０ｃの上方にはニップローラ３２が配置されている。このニップローラ３２は、搬送ローラ３０と協働してガラス基板１１をニップ搬送し、ブラシゾーン１２ｂを通過する際のガラス基板１１の幅方向へのずれを規制する。なお、ニップローラ３２は省略してもよい。また、ニップローラ３２は、必要に応じて他の搬送ローラ３０に設けてもよい。
【００２６】
図６に示すように、後述する液切りゾーン１８，１９には位置決めガイド６４が設けられている。位置決めガイド６４は、搬送ローラ３０により各リンス槽１３，１４から送られて来たガラス基板１１の両側縁に接触して、ガラス基板１１をその幅方向で位置決めする。この位置決めガイド６４は、ガイド本体６５とガイドシフト部６６とから構成されている。ガイド本体６５は１対設けられており、これらのガイド本体６５は、薬液処理槽１２と第１リンス槽１３及び第２リンス槽１４との境界付近を上方から見た場合に、薬液処理槽１２への基板進入方向に対して狭まったハの字に配置されている。これらガイド本体６５には複数個、例えば５個のガイドローラ６５ａが設けられている。ガイドシフト部６６は、ガラス基板１１のサイズに応じて、搬送ローラ３０の幅決めに連動してガイド位置を変更する。この位置決めガイド６４をガラス基板１１が通過することで、ガラス基板１１は中央部よりに位置決めされて薬液処理槽１２に送られる。
【００２７】
処理薬液を変更する場合には、処理済みのガラス基板１１がリンス槽１３，１４に移動した後に、切替ヘッド４５〜４７を介して薬液噴射ノズル３６，３７からエアーと水とが交互に噴射され、薬液処理槽１２の内部やブラシローラ対５５，５６、搬送ローラ３０、ガイドローラ６５等が洗浄される。またブラシ洗浄ノズル３８から水が噴射され、ブラシローラ対５５，５６が洗浄される。
【００２８】
図１に示すように、各リンス槽１３〜１６には、水をガラス基板１１に向けて噴射する水噴射ノズル７０が設けられている。この水噴射ノズル７０は、ガラス基板１１の上面及び下面に対面する位置で設けられており、薬液噴射ノズル３６とほぼ同様に構成されている。第１及び第２リンス槽１３，１４内では、ローラ駆動部３１による搬送ローラ３０の回転制御によって、ガラス基板１１の停止、搬送方向における往復動が可能にされており、また往復回数等も適宜変更することができる。このようにリンス槽１３，１４内でガラス基板１１が往復動されることで、ガラス基板１１がむらなく洗浄される。なお、第１リンス槽１３内には、薬液処理槽１２に近接して、密着促進処理液噴射ノズル７１が設けられている。このノズル７１は、後に説明するガラス基板１１ａの受け入れ洗浄の際に用いられる。
【００２９】
液切りゾーン１８，１９には、ガラス基板１１を挟むように配置した２組のエアー噴射ノズル７５，７６が設けられている。液切りゾーン１９の一方のエアー噴射ノズル７５は第１リンス槽１３に向けてエアーが噴射するように配置され、他方のエアー噴射ノズル７６は薬液処理槽１２に向けてエアーが噴射するように配置されている。したがって、第１リンス槽１３から薬液処理槽１２へガラス基板１１が移動する際に、第１リンス槽１３の洗浄水が薬液処理槽１２に入ることがない。また、薬液処理槽１２から第１リンス槽１３にガラス基板１１が移動する際には、薬液処理槽１２の薬液が第１リンス槽１３に入ることがない。第２液切りゾーン１９も、第１液切りゾーン１８と同様に構成されており、各構成部材には同一符号が付してある。なお、吹き出すエアー量は必要に応じて変えることができる。
【００３０】
エアー噴射を効率よく行うために、薬液処理槽１２から第１リンス槽１３へのガラス基板１１の送り時には、薬液処理槽１２にエアーを吹き出すように一方のエアー噴射ノズル７６が選択され、第１リンス槽１３から薬液処理槽１２へのガラス基板１１の送り時には、第１リンス槽１３にエアーを吹き出すように他方のエアー噴射ノズル７５が選択される。なお、エアー噴射ノズル７５，７６をガラス基板１１の送り方向に応じて選択する代わりに、両方のエアー噴射ノズル７５，７６からエアーをガラス基板１１へ向けて噴射し、液切りしてもよい。なお、エアー量は必要に応じて変えることができる。
【００３１】
第２リンス槽１４も第１リンス槽１３と同じに構成されており、水噴射ノズル７０から水を噴射してガラス基板１１を洗浄する。このとき、必要に応じてガラス基板１１の搬送が停止された後に、ガラス基板１１が基板送り方向で往復動させられる。これにより、ガラス基板１１がむらなく洗浄される。
【００３２】
第３リンス槽１５及び第４リンス槽１６も基本的には、第１及び第２リンス槽１３，１４と同様に構成されるが、装置全体をコンパクトにまとめる必要から、及び第１、第２リンス槽１３，１４で大部分の洗浄が行われていることから、ガラス基板１１の送り方向の長さは短くされておりコンパクト化が図られている。この長さは、第３リンス槽１５では第１及び第２リンス槽１３，１４の長さのほぼ半分、第４リンス槽１６は第３リンス槽１５のほぼ半分である。第１〜第３リンス槽１３〜１５では、タンク内の純水を循環することで水温の安定化及び節水を図っている。また、第４リンス槽１６には純水製造装置から直接配管によりピュアな純水が供給され、洗浄の仕上げが行われる。なお、これら各リンス槽の個数及び長さ等は適宜変更してよい。例えば第３及び第４リンス槽１５，１６も、第１及び第２リンス槽１３，１４と同じような長さで形成してもよい。
【００３３】
エアーナイフ槽１７には、ガラス基板１１を上下方向から挟むように、エアーナイフ８０が配置されている。エアーナイフ８０はガラス基板１１の送り方向に交差するようにそのエアー噴射ノズル８０ａ，８０ｂが上方から見て斜めに配置されている。この斜め配置により、ガラス基板１１に付着している水をガラス基板１１の幅方向側縁に向けて吹き出し、液切れが効率よく行われる。
【００３４】
次に、本実施形態の作用を説明する。本実施形態では、薬液噴射ノズル３６及び薬液噴射ノズル３７を下方に配置し、ガラス基板１１の感光性着色層に下方から薬液を噴射させて薬液処理を行うことにより、薬液処理後の薬液は重力により下方に落とされ、ガラス基板１１の感光性着色層に薬液溜まりが発生することがなくなる。また、薬液処理槽１２や第１〜第４リンス槽１３〜１６を選択的に用いる他に、薬液処理槽１２へ供給する薬液を切り換えることで、露光済みの感光性着色層を有するガラス基板１１に対しての現像処理の他に、受け入れ洗浄や、中間または最終洗浄などを１つの現像処理機１０によって行うことができる。
【００３５】
図７に示すように、現像における薬液処理について説明する。なお、図７〜図９において、ガラス基板１１の流れを矢印で示しており、実線表示の矢印は処理が行われる場合を示し、破線表示の矢印は処理が行われずに単に通過することを示している。まず、基板移載部９５によって、ターンテーブル２５にガラス基板１１が載せられる。基板移載部９５は、本実施形態では、３次元に移動可能なロボットハンドが用いられるが、ガラス基板１１を移載させる形態のものであればよく、各種の移載装置を使用してよい。ロボットハンドのハンド本体は吸着パッドを備え、ガラス基板１１の上面を吸着した状態でターンテーブル２５にガラス基板１１を載せる。
【００３６】
ガラス基板１１には、図示しないラミネータで感光性着色層が転写され、図示しない露光機でこの感光性着色層に画素パターンが露光されている。本発明では、この感光性着色層を下側に向けてガラス基板１１を現像処理機１０に挿入するために、ガラス基板１１は感光性着色層が下を向いた状態でターンテーブル２５にセットされる。このとき、感光性着色層を傷つけることがないように、ガラス基板１１の下面の感光性着色層のパターン形成部を避けた位置でガラス基板１１を支持するように、ターンテーブル２５には搬送ローラ２５ａが設けられている。この搬送ローラ２５ａは感光性着色層の画素パターンに対応して、その位置が変更可能になっている。そして、ガラス基板１１は必要に応じてターンテーブル２５で回転され、現像処理機１０への挿入向きが変更される。ターンテーブル２５に載せられたガラス基板１１はターンテーブル２５の搬送ローラ２５ａによって現像処理機１０に送られる。
【００３７】
現像処理では、３種類の薬液ＰＤ、ＣＤ、ＳＤが用いられる。薬液ＰＤは、感光性着色層の熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層を除去する。薬液ＣＤは、感光性着色層の感光性樹脂層を現像する。薬液ＳＤは、非画素部の残渣を除去するもので、ブラッシングと併用される。なお、薬液や感光性着色樹脂シートなどについては、例えば特開平１１−１４９０１１号公報などに詳しく説明されている。
【００３８】
まず、基板搬送部２０の駆動によって、ガラス基板１１はエアーナイフ槽１７、第４〜第２リンス槽１６〜１４を素通りして、薬液処理槽１２に達する。このガラス基板１１の搬送では、図６に示すような位置決めガイド６４により、ガラス基板１１は中央部寄りに位置決めされて薬液処理槽１２に送られる。薬液処理部１２では、ガイドフランジローラ３０ｃがガラス基板１１の両側縁に接触して、ガラス基板１１が幅方向で移動することがないように案内する。
【００３９】
薬液処理槽１２内のシャワーゾーン１２ａをガラス基板１１が通過すると、薬液ＰＤが薬液噴射ノズル３６から噴射される。また、ガラス基板１１がシャワーゾーン１２ａに完全にセットされると、ガラス基板１１の搬送を停止した後に、ガラス基板１１が送り方向に所定量だけ前後動される。これにより、薬液ＰＤでガラス基板１１の感光性着色層の熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層が効率よく溶解除去される。なお、必要に応じてガラス基板１１を停止させることなく搬送したまま、処理を行ってもよい。また、ガラス基板１１は往復動の他にまたは往復動に加えて、幅方向に揺動させてもよい。さらに、薬液噴射ノズル３６を、ガラス基板１１の幅方向で往復動させてもよい。
【００４０】
薬液ＰＤによる薬液処理が終了すると、ガラス基板１１が第１リンス槽１３に向けて送られる。このときガラス基板１１が液切りゾーン１８を通過する。液切りゾーン１８では、エアー噴射ノズル７５、７６からエアーが噴射される。ガラス基板１１が薬液処理槽１２から第１リンス槽１３に送られるときは、薬液処理槽側のエアー噴射ノズル７６から薬液処理槽１２へ向けて、エアーが噴射される。したがって、薬液処理槽１２内の薬液や、ガラス基板１１に付着した薬液は、第１リンス槽１３に到達することなく、薬液処理槽１２に戻されるため、薬液の次の槽への持ち込み量が抑えられる。なお、液切りのためのエアー噴射圧が高いと、処理面状むらが発生する場合もある。この場合には、エアー噴射圧をゼロまたは極力絞ることにより、面状むらの発生を抑える。
【００４１】
ガラス基板１１の全面が第１リンス槽１３に到達すると、水噴射ノズル７０から水が噴射されガラス基板１１が水洗される。このとき、ガラス基板１１は第１リンス槽１３内の搬送ローラ３０によって前後動され、洗浄がむらなく行われる。なお、ガラス基板１１の前後動の長さ及び回数は最適な値に設定されている。
【００４２】
第１リンス槽１３でガラス基板１１を洗浄中に、薬液処理槽１２ではフラッシング洗浄が行われ、薬液噴射ノズル３６，３７やその配管内、薬液処理槽１２の内壁面が洗浄される。フラッシング洗浄では、水とエアーとが交互に噴出され、配管内や内壁面が効率よく洗浄される。この洗浄水は図３に示すように、切替ヘッド４７を介して、廃液タンク５２に送られる。
【００４３】
ガラス基板１１の洗浄が終了すると、搬送ローラ３０によりガラス基板１１が薬液処理槽１２に向けて送られる。この送り中にも、液切りゾーン１８をガラス基板１１が通過する際に、エアー噴射ノズル７５，７６からエアーが噴射される。このとき、第１リンス槽１３側のエアー噴射ノズル７５は第１リンス槽１３に向けて、薬液処理槽１２側のエアー噴射ノズル７６は薬液処理槽１２に向けて、それぞれエアーが噴射されるため、液切れが確実に行われ、洗浄水及び薬液が混じることがなく、薬液が希釈されたり、減少したりすることが防止される。
【００４４】
ガラス基板１１が薬液処理槽１２のシャワーゾーン１２ａを通過中にガラス基板１１を搬送しながら、薬液噴射ノズル３６により薬液ＣＤがガラス基板１１に向けて噴射され、薬液ＣＤにより感光性着色層の露光部分が除去される。このシャワー現像中も、前記薬液ＰＤと同様に、薬液噴射ノズル３６は基板幅方向で揺動され、また、ガラス基板１１は基板送り方向で前後動される。これにより、むらなく現像処理が行われる。現像処理後は、第２リンス槽１４へ向けてガラス基板１１が送られる。このとき、液切りゾーン１９でエアー噴射により、薬液は薬液処理槽１２側へ、洗浄水は第２リンス槽１４側へ吹き飛ばされ、それぞれ液切りされる。なお、エアー噴射圧が高く処理面状むらが発生する場合には、エアー噴射圧がゼロにされ、または極力絞られる。
【００４５】
第２リンス槽１４にガラス基板１１の全面が到達すると、水噴射ノズル７０から水がガラス基板１１へ向けて噴射され、ガラス基板１１の洗浄が行われる。この洗浄は第１リンス槽１３と同様にして行われる。ガラス基板１１の洗浄を終了すると、ガラス基板１１が搬送ローラ３０により薬液処理槽１２へ向けて送られる。このとき、液切りゾーン１９をガラス基板１１が通過する際に、上記同様にして液切りされる。また、ガラス基板１１の洗浄中に、薬液処理槽１２では前述したようなフラッシング洗浄が行われ、次の薬液噴射の準備が行われる。
【００４６】
本発明方式では１つの薬液処理槽１２を用いて複数の薬液処理を行う関係上、１つの薬液処理を行っている間に、他の薬液はバルブ切り替えまでのタンクからの配管内で薬液が冷やされてしまう。例えば、薬液ＰＤで処理している間に、薬液ＣＤ、薬液ＳＤはタンク内の液温は設定温度に達していても、配管内に滞留している液はノズルから噴射までに配管内で温度が低下し、場合によっては処理許容温度以下に下がってしまうことで、処理の均一性が悪くなることがある。そこで、液温の低下を防ぐ方法として、基板処理前に事前に薬液を薬液ノズルから噴射させ、液温が許容液温に達してから、基板処理を行うように、液の事前放出を行う。
【００４７】
液温低下防止策としては、その他に配管の内側または外側または両方を保温材でカバーする。またはシート状ヒータを配管に巻き付ける。または、配管内に数カ所ヒータを内蔵する。または、薬液切替バルブの直前で薬液タンクへのリターンバルブを設け、ノズルから噴射させるまでの間、常に配管内で液を循環させておく。これらの液温低下防止策は選択的にまたは組み合わせて施してよい。
【００４８】
ガラス基板１１が薬液処理槽１２のブラシゾーン１２ｂを通過すると、この通過中に、薬液ＳＤが薬液噴射ノズル３７から噴射される。また、ブラシローラ対５５，５６が回転してブラッシングによりガラス基板１１の残渣が取り除かれる。ブラシローラ対５５，５６は各々単独で回転数及び回転方向が選択され、更にブラシローラ対５５，５６の各ブラシローラ間隔は可変可能にされる。したがって、ガラス基板１１のサイズや厚み等に対応して最適なブラシローラ対５５，５６の設定が行われ、薬液ＳＤにより、非画素部の現像時の残渣が効率よく除去される。
【００４９】
この後、現像済みのガラス基板１１は第１リンス槽１３に送られ、前記同様にしてガラス基板１１が洗浄される。このとき、液切れゾーン１８でガラス基板１１に付着した液が切られる。また、ガラス基板１１の洗浄中に、薬液処理槽１２ではフラッシング洗浄が行われる。第１リンス槽１３で洗浄を終了すると、ガラス基板１１が薬液処理槽１２へ向けて送られる。
【００５０】
送られたガラス基板１１は薬液処理槽１２を素通りして、第２リンス槽１４にガラス基板１１の全面が到達した時点で、第２リンス槽１４の水噴射ノズル７０から水が噴射され、ガラス基板１１が洗浄される。以下、第３リンス槽１５、第４リンス槽１５とガラス基板１１が通過して、ガラス基板１１が洗浄される。第４リンス槽１５を通過したガラス基板１１はエアーナイフ槽１７で液切れされ、第１基板出入口２３からターンテーブル２５に排出される。この排出に際して、除電バー２７によりガラス基板１１が除電される。
【００５１】
なお、現像時の実施形態は上記処理に限定されず、薬液処理液、処理条件によって現像処理機１０内の必要な機能を選択して使用することができる。薬液処理槽１２や各リンス槽１３〜１６のノズル配管内のエアー、水洗水、薬液の圧力及び流量は必要に応じて調節することができる。また、ガラス基板１１の搬送速度は各槽１２〜１７毎に変えることができる。更に、薬液処理槽１２において、ブラシゾーン１２ｂをガラス基板１１が通過する際に、薬液処理に応じて、ブラシローラ対５５，５６を回転させずにガラス基板１１を通過させてもよい。
【００５２】
また、現像処理に限らず、中間及び最終洗浄や、ガラス基板１１の受け入れ洗浄に現像処理機１０を用いてもよい。図８は、中間または最終洗浄における処理手順を示す説明図である。この中間または最終洗浄では、まず、ターンテーブル２５からガラス基板１１を第１基板出入口２３を介して現像処理機１０内に挿入する。基板搬送部２０によってガラス基板１１の全面が第２リンス槽１４に到達した時点で、水を水噴射ノズル７０から噴射させて、ガラス基板１１を洗浄する。
【００５３】
第２リンス槽１４でガラス基板１１の洗浄が終了したら、ガラス基板１１を薬液処理槽１２へ向けて送る。ガラス基板１１がブラシゾーン１２ｂを通過中に薬液ＳＤを薬液噴射ノズル３７から噴射させ、同時にブラシローラ対５５，５６を回転させてガラス基板１１を薬液ＳＤにより洗浄処理する。ガラス基板１１がシャワーゾーン１２ａに達したら、ガラス基板１１の搬送方向を切り換えて、逆転させる。そのとき、ブラシゾーン１２ｂは通過させるのみにして、第２リンス槽１４にガラス基板１１が完全に到達した時点で洗浄水を噴射させ、ガラス基板１１を搬送方向で往復動させてガラス基板を洗浄する。
【００５４】
続いて、第３リンス槽１５、第４リンス槽１６をガラス基板１１が通過中に水噴射ノズル７０からガラス基板へ向けて水を噴射し洗浄する。そして、エアーナイフ槽１７をガラス基板１１が通過中にエアーナイフ８０によりエアーをガラス基板１１に向けて吹き出して水切りする。その後、第１基板出入口２３をガラス基板１１が通過する際に除電バー２７によりガラス基板１１が除電される。
【００５５】
また、ガラス基板の受け入れ洗浄は、図９に示すような処理手順により行われる。このガラス基板の受け入れ洗浄では、ガラス基板１１ａに対して洗浄と密着促進処理液の噴射とを行い、ラミネータでガラス基板１１ａに対して感光性着色層を転写する前処理を行う。この場合には、基板搬送部３０が洗浄前のガラス基板１１ａで汚染されることがないように、ローラコンベア２６を介して第２基板出入口２４からガラス基板１１ａを投入する。そして、第１リンス槽１３にガラス基板１１ａの全面が到達した時点で、シャッタ２８を閉めて第２基板出入口２４を閉じた後に、水噴射ノズル７０から水を噴射して、ガラス基板１１ａを洗浄する。
【００５６】
ガラス基板１１ａが液切りゾーン１８を通過中に、エアーを噴出してガラス基板１１ａの液切りを行う。次に、ガラス基板１１ａが薬液処理槽１２のブラシゾーン１２ｂを通過する際に、薬液噴射ノズル３７から薬液ＳＤを噴射するとともにブラシローラ対５５，５６を回転させて、ガラス基板１１ａを薬液ＳＤにより洗浄する。ガラス基板１１ａが液切りゾーン１９を通過中は、各エアー噴射ノズル７５，７６によりガラス基板１１ａの液切りが行われる。
【００５７】
ガラス基板１１ａの全面が第２リンス槽１４に到達した時点で、水噴射ノズル７０から水をガラス基板１１ａに向けて噴射し、ガラス基板１１ａの洗浄を行う。第２リンス槽１４でガラス基板１１ａの洗浄を終了した後は、ガラス基板１１ａを薬液処理槽１２に向けて送る。ガラス基板１１ａが薬液処理槽１２内のシャワーゾーン１２ａを通過中に、薬液噴射ノズル３６から水をガラス基板１１ａに向けて噴射し洗浄を行う。そして、液切りゾーン１８をガラス基板１１ａが通過中に、前記同様にしてガラス基板１１ａの液切りが行われる。
【００５８】
ガラス基板１１ａが薬液処理槽１２から第１リンス槽１３へ通過中に、密着促進処理液をガラス基板１１ａの表面に向けて噴射する。この密着促進処理液の噴射は、薬液処理槽１２側の第１リンス槽１３内の密着促進処理液噴射ノズル７１から行われる。密着促進処理液をガラス基板１１ａの全面に噴射終了後に、第１リンス槽１３内で搬送方向にガラス基板１１ａを往復動させながら洗浄する。
【００５９】
次に、基板搬送部３０によって、ガラス基板１１ａの搬送方向が切り替わり、ガラス基板１１ａは薬液処理槽１２及び第２リンス槽１４へ向けて送られる。薬液処理槽１２ではガラス基板１１ａを素通りさせ、ガラス基板１１ａの全面が第２リンス槽１４に到達した時点で、水噴射ノズル７０から水を噴射してガラス基板１１ａを洗浄する。以下、第３リンス槽１５、第４リンス槽１６でガラス基板１１ａを洗浄した後に、エアーナイフ槽１７でガラス基板１１ａの水切りを行う。水切りされたガラス基板１１ａはを除電バー２７で除電された後に、ターンテーブル２５に排出される。ターンテーブル２５では、ロボットハンド等の移載装置によりガラス基板１１ａを図示しない基板カセットに収納する。このように、未洗浄のガラス基板１１ａの受け入れ洗浄では、第１リンス槽１３に直接にガラス基板を挿入して、第１リンス槽１３、薬液処理槽１２を介してガラス基板１１ａを洗浄するので、通常の現像処理や中間または最終洗浄を受け入れる第１基板出入口２３側の基板搬送部３０等が未洗浄のガラス基板１１ａで汚染されることがなくなる。
【００６０】
図１０に他の実施形態を示す。上記実施形態のものと同様の構成部材には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。この実施形態では、薬液処理槽１０２には、薬液浴槽１０３が設けられている。薬液浴槽１０３は、薬液供給浴槽１０４と薬液回収浴槽１０５とから構成される。薬液供給浴槽１０４には、槽内に薬液を供給する薬液供給孔１０６と、上方に薬液を噴き出す薬液噴出孔１０７とが設けられている。ガラス基板１１の幅方向の両端には、それぞれ搬送ローラ対１０８が設けられている。搬送ローラ対１０８は、上下に配置された上方ローラ１０８ａと下方ローラ１０８ｂとから構成され、ガラス基板１１を挟持搬送する。ガラス基板１１が、薬液処理槽１０２に送られてくると、薬液噴出孔１０７から薬液が噴出され、ガラス基板１１の感光性着色層が形成された下面に対して、薬液処理が行われる。噴出された薬液は薬液回収浴槽１０５に回収される。なお、薬液処理槽１０２は薬液切替部１１０に接続されており、上記実施形態と同様に、３種類の薬液ＰＤ、ＣＤ、ＳＤや洗浄水の切替を行う。
【００６１】
上記実施形態では、液切りのために、エアーナイフ８０を用いたが、これはガス流ナイフであればよく、用いる気体は特に限定されない。例えば、空気の他に、窒素、水素、酸素などの各種気体を用いてよい。同様にして、液切りゾーン１８，１９の噴出気体も特に限定されることなく、各種気体を用いてよい。また、現像処理や受け入れ洗浄等を行う基板はガラス基板１１，１１ａに限定されることなく、各種基板であってよい。
【００６２】
【発明の効果】
本発明によれば、基板に対し薬液処理を行う１つの薬液処理槽と、基板を洗浄する洗浄槽とを用い、１つの薬液処理槽への薬液を切り換えて複数の薬液処理を行うようにしたから、従来のように複数の薬液処理槽が不要になり、現像処理機の設置スペースが小さくなる。したがって、現像処理機が設置されるクリーンルームの省スペース化が図れ、設備コスト及びランニングコストを低く抑えることができる。また、薬液処理槽は、基板洗浄ブラシと薬液ノズルとを備えることにより、薬液に応じた効率のよい薬液処理が可能になる。
【００６３】
また、薬液ノズルを用いる場合には、下方から基板の露光面に薬液を噴射させて薬液処理を行い、薬液供給浴槽を用いる場合には、下方から基板の露光面に薬液を噴出させて薬液処理を行うことから、基板の露光面に薬液溜まりが発生することがなくなり、薬液溜まりに起因する基板面内の画素形状の不均一がなくなる。さらには、薬液溜まり防止用の振動機構が不要になり、装置コストを抑えることができる。また、薬液を上方から噴射させないことから、薬液の基板衝突時の発泡が少なくなり、消泡剤が不要になるとともに、泡の発生による基板の処理ムラがなくなる。したがって、薬液処理槽での薬液置換が短時間にでき、消泡機構が不要となり、設備コスト及びランニングコストを抑えることができる。また、、基板上面で薬液が滞留し基板が撓むことがなくなり、基板搬送性がよくなる。さらに、薬液と一緒に現像溶解物が下方へ落とされることから、基板上での欠陥が減少する。
【００６４】
また、基板送り方向で１つの薬液処理槽を挟むように洗浄槽を複数設け、前記薬液切替部は、一方の洗浄槽で基板を洗浄中に薬液処理槽の洗浄及び薬液切り換えを行うから、効率よく薬液処理を行うことができる。また、一方の洗浄槽をガラス基板の受け入れ洗浄における受け入れ槽とし、他方の洗浄槽をそれ以外の薬液処理や中間洗浄処理用とすることで、受け入れ洗浄前のガラス基板で現像処理機及びターンテーブル、搬送装置、カセット等が汚染されることがなく、基板受け入れ洗浄と、現像処理とを１つの処理機で併用することができる。したがって、基板洗浄を含めた薬液処理スペースの省スペース化が図れる。さらに、薬液処理槽及び洗浄槽で基板を往復動させることにより、効率のよい薬液処理が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像処理機の概略を示す正面図である。
【図２】薬液処理槽の平面図である。
【図３】薬液洗浄槽と薬液切替部とを示す概略図である。
【図４】薬液噴射中の一例を示す正面図である。
【図５】薬液噴射中の一例を示す側面図である。
【図６】薬液処理槽内の搬送ローラと位置決めガイドとを示す平面図である。
【図７】ガラス基板の現像処理の手順を示す説明図である。
【図８】中間または最終洗浄におけるガラス基板の洗浄処理を示す説明図である。
【図９】ガラス基板の受け入れ洗浄を示す説明図である。
【図１０】本発明の他の実施形態を示す、薬液処理槽の側面図である。
【符号の説明】
１０ 現像処理機
１１ ガラス基板
１２ 薬液処理槽
１２ａ シャワーゾーン
１２ｂ ブラシゾーン
１３〜１６ リンス槽（洗浄槽）
１７ エアーナイフ槽
１８，１９ 液切りゾーン
２０ 基板搬送部
２１ 薬液切替部
２３，２４ 基板出入口
２５ ターンテーブル
２６ ローラコンベア
２７ 除電バー
２８ シャッタ
３０ 搬送ローラ
３６，３７ 薬液噴射ノズル
３８ ブラシ洗浄ノズル
４０〜４２ 液供給ライン
４３ 水供給ライン
４４ エアー供給ライン
４５〜４７ 切替ヘッド
５１ 回収ライン
５５，５６ ブラシローラ対
６４ 位置決めガイド
７０ 水噴射ノズル
７１ 密着促進処理液噴射ノズル
７５，７６ エアー噴射ノズル
８０ エアーナイフ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a chemical processing apparatus for alternately performing chemical processing and cleaning on a substrate, and more particularly to a chemical processing apparatus suitable for use in forming a fine pattern on a substrate in a photolithography process.
[0002]
[Prior art]
Various methods are known as methods for producing color filters used in liquid crystal display panels and the like, but in recent years, methods using transfer using photosensitive colored resin sheets can easily produce high-precision color filters. It is attracting attention for reasons such as being able to.
[0003]
In this transfer method using a photosensitive colored resin sheet, first, a photosensitive colored resin layer composed of a coloring material (pigment or dye) of a predetermined color and a photosensitive resin is provided on a flexible support sheet. To do. This photosensitive sheet is manufactured in red (R), green (G), blue (B), and black (K) colors. Next, this photosensitive sheet is set in a laminator, and, for example, an R photosensitive colored resin layer is thermally transferred onto a transparent glass substrate. Next, with an exposure apparatus, the surface of the photosensitive colored resin layer is irradiated with light through a photomask to expose the photosensitive colored resin layer in a pattern. Next, the exposed photosensitive colored resin layer is developed by a development processing apparatus to form an R colored pixel pattern on the glass substrate. Similarly, after forming a colored pattern of G and B on a glass substrate, the K photosensitive colored resin layer is thermally transferred, developed after being exposed from the surface opposite to the transfer surface of the photosensitive resin layer. Then, a black matrix is formed on the glass substrate.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The demand for color filters has been increasing in recent years, and accordingly, the performance and cost reduction of color filters are required. For this reason, the size of the substrate is increased from the standpoint of increasing the yield and reducing the cost, and the size of each development processing apparatus is increased accordingly. Moreover, since at least a plurality of types of chemical solutions are used in the development processing apparatus, a plurality of tanks corresponding to each chemical solution processing are required, and in addition, a cleaning tank and a drying tank are required (for example, JP-A-6-61137, No. 6-260412 and No. 11-128852). Therefore, a large footprint (footprint) for each tank is required. In particular, since manufacturing is required in a clean environment, it is necessary to install each facility in a clean room, and an increase in the installed ownership area leads to an increase in facility cost and running cost.
[0005]
On the other hand, the present applicant, in Japanese Patent Application No. 2000-347859, has one chemical processing tank that performs chemical processing on a substrate, and a cleaning tank that is disposed adjacent to the chemical processing tank and cleans the substrate. The chemical solution processing apparatus provided with the chemical | medical solution switching part which switches the chemical | medical solution supplied to the said chemical | medical solution processing tank, and the washing | cleaning part which wash | cleans the said chemical | medical solution processing tank is proposed. This responds to the demands for reducing the installation area of the device and increasing the size of the substrate.
[0006]
However, in the proposed apparatus, the chemical liquid is jetted and supplied in a shower form from a nozzle installed on the upper part of the substrate. For this reason, the film surface is processed while the chemical solution that has reached the substrate surface flows on the substrate to the periphery thereof. At that time, the larger the substrate is, the more the number of shower nozzles is increased. Therefore, the flow of the chemical at the center of the substrate is deteriorated, and the liquid pool is likely to be partially generated. As a result, there is a problem in that the processability within the substrate surface is different, and the pixel shape within the substrate surface becomes non-uniform.
[0007]
In order to prevent this liquid accumulation, the substrate and / or nozzles are swung during the chemical treatment, the chemical supply amount from the nozzle, the shower pressure, and the distance from the substrate are adjusted for each nozzle. It is conceivable to take these measures. However, in such a measure, there is a problem that a swinging device is required or various adjustments are required, and the device becomes large and requires time for adjustment.
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chemical processing apparatus that can cope with an increase in the size of a substrate and can make the filter pixel shape in the substrate uniform with a simple configuration.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a development processing apparatus according to the present invention includes a chemical processing tank for performing chemical processing on a substrate having a photosensitive colored layer formed on one surface, and a chemical processing tank adjacent to the chemical processing tank. A cleaning tank that cleans the disposed substrate, a chemical switching unit that switches a chemical supplied to the chemical processing tank, a cleaning unit that cleans the chemical processing tank, and the photosensitive colored layer between the tanks is conveyed. And a chemical solution supply unit that is provided in the chemical treatment tank and supplies the chemical solution to the photosensitive colored layer from below the substrate.
[0010]
In addition, it is preferable to comprise the said chemical | medical solution supply part from a chemical | medical solution nozzle or a chemical | medical solution supply bathtub. The chemical treatment tank preferably includes a substrate cleaning brush and a cleaning nozzle. Further, a plurality of the cleaning tanks are provided so as to sandwich the chemical treatment tank in the substrate feed direction, and the chemical switching unit performs cleaning of the chemical treatment tank and switching of the chemicals while cleaning the substrate in one cleaning tank. Is preferred. Further, one of the plurality of cleaning tanks is a first cleaning tank and the other is a second cleaning tank, the first cleaning tank is a receiving tank for receiving and cleaning a glass substrate, and a substrate entrance is provided in the first cleaning tank, It is preferable to insert a substrate for receiving and cleaning from the substrate inlet / outlet, and insert a substrate for other chemical processing or intermediate cleaning from the second cleaning tank side. Preferably, the first cleaning tank is provided with a spray nozzle for the adhesion promoting treatment liquid, and the adhesion promoting treatment liquid is sprayed toward the substrate during the receiving cleaning. Moreover, it is preferable that the substrate is reciprocated in the chemical treatment tank or the cleaning tank. A liquid draining zone is provided between the chemical liquid processing tank and the cleaning tank, and an injection nozzle that blows gas toward the chemical liquid processing tank toward the chemical liquid processing tank is disposed on the chemical liquid processing tank side in the liquid draining zone. It is preferable that an injection nozzle that blows gas toward the cleaning tank is disposed on the cleaning tank side, and the gas is selectively or simultaneously blown out from the injection nozzle in accordance with the passage direction of the substrate. Moreover, it is preferable that the said washing | cleaning part performs a washing | cleaning by ejecting cleaning gas and a washing | cleaning liquid several times alternately into the chemical | medical solution tank from the nozzle of a chemical | medical solution tank.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a front view showing an outline of the developing processor of the present invention. The developing processor 10 includes a chemical processing tank 12 that performs chemical processing on the glass substrate 11, and first to fourth rinse tanks (cleaning tanks) 13 that are disposed adjacent to the chemical processing tank 12 and clean the glass substrate 11. 16, an air knife tank 17, a substrate transport unit 20 that transports the glass substrate 11 to each of these tanks 12 to 17, and a chemical solution switching unit 21 that switches a chemical solution supplied to the chemical solution treatment tank 12. . The glass substrate 11 is inserted into the developing processor 10 with the photosensitive colored layer facing down, and is transported to each tank. Further, liquid draining zones 18 and 19 are provided between the chemical treatment tank 12 and the first and second rinsing tanks 13 and 14 adjacent thereto, and the liquid draining zones 18 and 19 are provided in each tank. Injecting chemical liquids and washing water in the air by blowing off the air to suppress the liquid from being brought into the adjacent tank.
[0012]
The air knife tank 17 is provided with a first substrate inlet / outlet 23, and the first rinse tank 13 is provided with a second substrate inlet / outlet 24. The substrate transport unit 20 is horizontally disposed so as to pass through the tanks 12 to 17 so as to connect the substrate entrances 23 and 24. A turntable 25 is provided near the first substrate entrance 23 and a roller conveyor 26 is provided near the second substrate entrance 24. Usually, the glass substrate 11 is inserted and discharged from the first substrate entrance 23. The first substrate entrance / exit 23 is provided with a neutralization bar 27 that is spaced apart in the vertical direction, and neutralizes the glass substrate 11. As the charge removal bar 27, an ionizer (manufactured by Richmond Co.) is used. However, any type having a charge removal function may be used, and various types of charge removal devices may be used.
[0013]
When the glass substrate 11 is received and cleaned (preliminary cleaning), the receiving and cleaning glass substrate 11 a is inserted through the roller conveyor 26 from the second substrate entrance 24. In this way, two entrances 23 and 24 of the glass substrate 11 are provided, and the glass before pre-cleaning is inserted by inserting the receiving and cleaning glass substrate 11 a directly into the first rinse tank 13 using one of the entrances and exits 24. The substrate 11a prevents the rollers and the tanks 12 to 17 of the substrate transport unit 20 in the developing processor 10 from being contaminated. Accordingly, preliminary cleaning, development processing, intermediate cleaning, and the like can be performed using one development processing machine. Note that a shutter 28 is provided in the second substrate insertion opening 24. The shutter 28 is closed except when the glass substrate 11a is received, so that the cleaning water in the first rinsing tank 13 is not discharged into the clean room outside the tank as water droplets or splashes.
[0014]
In the previous step, a photosensitive colored layer is transferred to the glass substrate 11 by a laminator (not shown), and a pixel pattern is exposed to the photosensitive colored layer by a photomask by an exposure machine (not shown). The exposed glass substrate 11 is sent into the developing processor 10 from the first substrate entrance 23 by the turntable 25 with the photosensitive colored layer facing downward.
[0015]
The substrate transport unit 20 includes a large number of transport rollers 30. As shown in FIG. 2, the transport roller 30 is rotationally driven by the roller driving unit 31 with the rotation direction and the rotational speed being changed individually for each of the tanks 13 to 17. As a result, the glass substrate 11 is sent in the direction of arrow A or B, and is reciprocated in the developing processor 10. Moreover, according to a processing speed etc., the conveyance speed in each tank 12-17 is changed into an appropriate thing.
[0016]
As shown in FIG. 3, the chemical treatment tank 12 is divided into a shower zone 12 a that ejects a chemical and a brush zone 12 b that brushes the glass substrate 11. As described above, since the glass substrate 11 is conveyed with the photosensitive colored layer on the lower side, the shower zone 12a has a plurality of chemical solutions on the lower side so as to face the photosensitive colored layer of the glass substrate 11. An injection nozzle 36 is disposed. Similarly, a plurality of chemical solution injection nozzles 37 are arranged below the brush zone 12b so as to face the photosensitive colored layer of the glass substrate 11. In the brush zone 12b, brush cleaning nozzles 38 are disposed both above and below. In this way, the chemical solution injection nozzle 36 and the chemical solution injection nozzle 37 are disposed below, and the chemical solution is sprayed onto the photosensitive colored layer of the glass substrate 11 from below to perform the chemical treatment. It is dropped downward and no chemical liquid pool is generated in the photosensitive colored layer of the glass substrate 11.
[0017]
As shown in FIG. 4, the chemical solution injection nozzles 36 are arranged at a predetermined pitch in the substrate width direction of the nozzle head 36a and the nozzle head 36a arranged along the substrate width direction orthogonal to the feeding direction of the glass substrate 11. And a plurality of nozzle bodies 36b. The other chemical solution injection nozzle 37 and the brush cleaning nozzle 38 are configured in the same manner as the chemical solution injection nozzle 36.
[0018]
The chemical injection nozzle 36 is configured to reciprocate in the width direction of the glass substrate 11 by the nozzle shift portion 57, and its amplitude and feed rate can be changed. Further, the transport roller 30 in the chemical solution treatment tank 12 is rotated forward and backward by the roller driving unit 31 during the injection of the chemical solution, thereby reciprocating the glass substrate 11 in the feeding direction. As described above, the glass substrate 11 and the chemical solution injection nozzle 36 are swung, so that the chemical solution is uniformly injected onto the glass substrate 11 without unevenness. The transport roller 30 includes a roller shaft 30a, a roller body 30b, and a guide flange roller 30c. The roller body 30b that directly contacts the glass substrate 11 is moved in the width direction of the glass substrate 11 by the roller body shift unit 62. The shift length can be changed in accordance with the size and type of the glass substrate 11. And the roller main body 30b is positioned in the location in which the pattern surface is not formed in the photosensitive colored layer of the glass substrate 11, and the glass substrate 11 is conveyed.
[0019]
As shown in FIG. 5, the chemical solution injection nozzle 36 is disposed in the middle between the pitches of the plurality of transport rollers 30 provided in the transport direction of the glass substrate 11. Similarly, the chemical solution injection nozzle 37 is arranged in the middle between the pitches of the transport rollers 30. Thereby, a chemical | medical solution can be sprayed uniformly on the whole surface of the photosensitive colored layer of the glass substrate 11. The chemical solution injection nozzles 36 and the chemical solution injection nozzles 37 are not limited to the above arrangement positions, and the arrangement positions and the number of the chemical liquid injection nozzles 36 and the chemical liquid injection nozzles 37 may be changed as appropriate according to the arrangement pitch of the transport rollers 30.
[0020]
As shown in FIG. 3, PD, CD, and SD liquid supply lines 40, 41, and 42 are connected to the chemical liquid injection nozzle 36 via a switching head 45 as a development processing liquid for the photosensitive colored layer. An SD supply line 42 is connected to the ejection nozzle 37 via a switching head 46. Further, a water supply line 43 and an air supply line 44 for flushing cleaning, which will be described later, are connected to the chemical solution injection nozzles 36 and 37 via switching heads 45 and 46. Further, a water supply line 43 is connected to the brush cleaning nozzle 38 via a switching head 46. Each liquid or water supply line 40-43 is provided with storage tanks 40a-43a, pumps 40b-43b, pipes 40c-43c, and the like. A compressed air supply source 44a is connected to the air supply line 44 and is sent to the switching heads 45 and 46 via a pipe 44c. Note that the above piping example is merely an example, and the PD, CD, and SD liquids may be arbitrarily switched and ejected in both the shower zone 12a and the brush zone 12b.
[0021]
The switching heads 45 and 46 are configured by electromagnetic valves 50 a provided between the supply lines 40 to 44 and the chemical solution injection nozzles 36 and 37. Each electromagnetic valve 50 a is connected to the controller 49. The controller 49 selectively drives each electromagnetic valve 50a to supply a desired chemical solution, water, air, or the like to the chemical solution injection nozzles 36 and 37. The switching head 47 on the recovery line 51 side is configured in the same manner, and by selectively driving each electromagnetic valve 50a, the chemical liquid injected into the chemical processing tank 12 is passed through the recovery line 51 and the switching head 47. It collect | recovers to each storage tank 40a-43a, the waste liquid tank 52 grade | etc.,. Thereby, a chemical solution or the like is circulated. Note that the gas electromagnetic valves of the switching heads 45 and 46 are disposed farthest from the injection nozzles 36 and 37, so that the efficiency of replacement of the liquid in the piping is improved.
[0022]
As shown in FIG. 1, in the brush zone 12b, two pairs of brush rollers 55 and 56 arranged in the vertical direction are arranged in the substrate feeding direction, and the chemical liquid injection is disposed above the brush roller pairs 55 and 56. A nozzle 37 is arranged. As shown in FIG. 3, the brush rollers 55 a, 55 b, 56 a, and 56 b can be independently changed in rotation speed and rotation direction by the brush drive unit 54. In addition, the distance between the upper and lower brush rollers 55a, 55b, 56a, 56b can be changed by the brush drive unit 54. Therefore, optimal brushing corresponding to the chemical solution and processing content can be performed by appropriately changing the interval, rotation direction, rotation speed, and the like of the brush rollers 55a, 55b, 56a, and 56b.
[0023]
As shown in FIG. 1, the brush cleaning nozzle 38 is disposed above and below the pair of brush rollers 55 and 56. The brush cleaning nozzle 38 sprays water to clean the brush roller pair 55 and 56 when the brushing is finished and the chemical treatment tank 12 is cleaned.
[0024]
As shown in FIG. 3, the conveyance roller 30 includes a roller shaft 30a, a roller body 30b, and a guide flange roller 30c. Two roller main bodies 30b are provided apart in the axial direction of the roller shaft 30a, but the number of the roller main bodies 30b may be one or three or more. The guide flange roller 30c supports the glass substrate 11 by contacting the lower surface of both side edges of the glass substrate 11 with the guide flange roller 30c, and the flange portion contacts both side edges of the glass substrate to make glass in the substrate width direction. The substrate 11 is guided so as not to move. The guide flange roller 30 c in the developing tank 12 is movable in the width direction of the glass substrate 11 by the roller shift unit 61, and the guide width is variable according to the size of the glass substrate 11. Moreover, the guide flange roller 30c of the conveyance roller 30 arrange | positioned at each other tank 13-19 is being fixed by the width | variety corresponding to the glass substrate 11 of the largest size. In each of the other tanks 13 to 17, the guide flange roller 30 c may be configured to be movable in the axial direction in the same manner as the developing tank medicine 12 so as to correspond to each size.
[0025]
As shown in FIG. 1, a nip roller 32 is disposed above the guide flange roller 30c in the conveying roller 30 in the brush zone 12b. The nip roller 32 cooperates with the transport roller 30 to nip the glass substrate 11 and regulates the displacement of the glass substrate 11 in the width direction when passing through the brush zone 12b. The nip roller 32 may be omitted. Further, the nip roller 32 may be provided on another transport roller 30 as necessary.
[0026]
As shown in FIG. 6, positioning guides 64 are provided in the liquid draining zones 18 and 19 to be described later. The positioning guide 64 contacts both side edges of the glass substrate 11 sent from the respective rinsing tanks 13 and 14 by the transport roller 30 to position the glass substrate 11 in the width direction. The positioning guide 64 includes a guide main body 65 and a guide shift portion 66. A pair of guide main bodies 65 are provided, and these guide main bodies 65 are disposed in the chemical treatment tank 12 when the vicinity of the boundary between the chemical treatment tank 12 and the first rinse tank 13 and the second rinse tank 14 is viewed from above. It is arranged in a U-shape narrowed with respect to the direction of board entry into. These guide bodies 65 are provided with a plurality of, for example, five guide rollers 65a. The guide shift unit 66 changes the guide position in conjunction with the width determination of the transport roller 30 according to the size of the glass substrate 11. As the glass substrate 11 passes through the positioning guide 64, the glass substrate 11 is positioned from the central portion and sent to the chemical treatment tank 12.
[0027]
When changing the processing chemical solution, after the processed glass substrate 11 has moved to the rinsing tanks 13 and 14, air and water are alternately jetted from the chemical jet nozzles 36 and 37 via the switching heads 45 to 47. The inside of the chemical treatment tank 12, the pair of brush rollers 55 and 56, the conveying roller 30, the guide roller 65, and the like are cleaned. Further, water is sprayed from the brush cleaning nozzle 38, and the brush roller pair 55, 56 is cleaned.
[0028]
As shown in FIG. 1, each of the rinsing tanks 13 to 16 is provided with a water injection nozzle 70 that injects water toward the glass substrate 11. The water injection nozzle 70 is provided at a position facing the upper surface and the lower surface of the glass substrate 11, and is configured in substantially the same manner as the chemical solution injection nozzle 36. In the first and second rinsing tanks 13 and 14, the glass substrate 11 can be stopped and reciprocated in the conveying direction by the rotation control of the conveying roller 30 by the roller driving unit 31. Can be changed. As described above, the glass substrate 11 is reciprocated in the rinsing tanks 13 and 14 so that the glass substrate 11 is cleaned evenly. In the first rinse tank 13, an adhesion promoting process liquid jet nozzle 71 is provided in the vicinity of the chemical process tank 12. The nozzle 71 is used for receiving and cleaning the glass substrate 11a described later.
[0029]
The liquid draining zones 18 and 19 are provided with two sets of air injection nozzles 75 and 76 arranged so as to sandwich the glass substrate 11. One air injection nozzle 75 of the liquid draining zone 19 is arranged so that air is injected toward the first rinse tank 13, and the other air injection nozzle 76 is arranged so that air is injected toward the chemical treatment tank 12. Has been. Therefore, when the glass substrate 11 moves from the first rinse tank 13 to the chemical solution treatment tank 12, the cleaning water in the first rinse tank 13 does not enter the chemical solution treatment tank 12. Further, when the glass substrate 11 moves from the chemical solution treatment tank 12 to the first rinse tank 13, the chemical solution in the chemical solution treatment tank 12 does not enter the first rinse tank 13. The second liquid draining zone 19 is configured in the same manner as the first liquid draining zone 18, and the same reference numerals are given to the respective constituent members. In addition, the amount of air to blow out can be changed as needed.
[0030]
In order to perform air injection efficiently, when the glass substrate 11 is fed from the chemical treatment tank 12 to the first rinse tank 13, one air injection nozzle 76 is selected so as to blow air into the chemical treatment tank 12. When the glass substrate 11 is fed from the rinsing tank 13 to the chemical treatment tank 12, the other air injection nozzle 75 is selected so as to blow air into the first rinsing tank 13. Instead of selecting the air injection nozzles 75 and 76 according to the feeding direction of the glass substrate 11, air may be injected from both the air injection nozzles 75 and 76 toward the glass substrate 11 to drain the liquid. The amount of air can be changed as necessary.
[0031]
The 2nd rinse tank 14 is comprised similarly to the 1st rinse tank 13, and injects water from the water injection nozzle 70, and wash | cleans the glass substrate 11. FIG. At this time, after the conveyance of the glass substrate 11 is stopped as necessary, the glass substrate 11 is reciprocated in the substrate feeding direction. Thereby, the glass substrate 11 is washed evenly.
[0032]
Although the 3rd rinse tank 15 and the 4th rinse tank 16 are also comprised similarly to the 1st and 2nd rinse tanks 13 and 14 fundamentally from the necessity to put the whole apparatus together compactly, and the 1st, 2nd Since most of the cleaning is performed in the rinsing tanks 13 and 14, the length of the glass substrate 11 in the feeding direction is shortened to achieve compactness. This length is approximately half of the length of the first and second rinse tanks 13, 14 in the third rinse tank 15, and approximately half of the length of the third rinse tank 15 in the fourth rinse tank 16. In the 1st-3rd rinse tanks 13-15, stabilization of water temperature and water saving are aimed at by circulating the pure water in a tank. Further, pure water is supplied directly from the pure water production apparatus to the fourth rinse tank 16 through a pipe, and the cleaning is finished. In addition, you may change suitably the number, length, etc. of each of these rinse tanks. For example, you may form the 3rd and 4th rinse tanks 15 and 16 with the same length as the 1st and 2nd rinse tanks 13 and 14. FIG.
[0033]
An air knife 80 is disposed in the air knife tank 17 so as to sandwich the glass substrate 11 from above and below. The air spray nozzles 80a and 80b of the air knife 80 are arranged obliquely so as to intersect with the feeding direction of the glass substrate 11. By this oblique arrangement, water adhering to the glass substrate 11 is blown out toward the side edge of the glass substrate 11 in the width direction, and the liquid is efficiently cut off.
[0034]
Next, the operation of this embodiment will be described. In this embodiment, the chemical solution injection nozzle 36 and the chemical solution injection nozzle 37 are disposed below, and the chemical solution is sprayed onto the photosensitive colored layer of the glass substrate 11 from below to perform the chemical treatment. This prevents the chemical liquid pool from being generated in the photosensitive colored layer of the glass substrate 11. In addition to selectively using the chemical treatment tank 12 and the first to fourth rinse tanks 13 to 16, the glass substrate 11 having the exposed photosensitive colored layer by switching the chemical solution supplied to the chemical treatment tank 12. In addition to the development processing for the above, receiving cleaning, intermediate or final cleaning, and the like can be performed by one developing processor 10.
[0035]
As shown in FIG. 7, the chemical processing in the development will be described. 7 to 9, the flow of the glass substrate 11 is indicated by an arrow, the arrow indicated by a solid line indicates a case where the process is performed, and the arrow indicated by a broken line indicates that the process passes without being processed. ing. First, the glass substrate 11 is placed on the turntable 25 by the substrate transfer unit 95. In this embodiment, the substrate transfer unit 95 is a robot hand that can move three-dimensionally. However, any substrate transfer unit may be used as long as the glass substrate 11 is transferred, and various transfer devices may be used. . The hand body of the robot hand includes a suction pad, and the glass substrate 11 is placed on the turntable 25 with the upper surface of the glass substrate 11 being sucked.
[0036]
A photosensitive colored layer is transferred to the glass substrate 11 by a laminator (not shown), and a pixel pattern is exposed on the photosensitive colored layer by an exposure machine (not shown). In the present invention, in order to insert the glass substrate 11 into the developing processor 10 with the photosensitive colored layer facing downward, the glass substrate 11 is set on the turntable 25 with the photosensitive colored layer facing downward. The At this time, in order not to damage the photosensitive colored layer, the turntable 25 has a conveying roller so as to support the glass substrate 11 at a position avoiding the pattern forming portion of the photosensitive colored layer on the lower surface of the glass substrate 11. 25a is provided. The position of the transport roller 25a can be changed according to the pixel pattern of the photosensitive colored layer. And the glass substrate 11 is rotated with the turntable 25 as needed, and the insertion direction to the developing processor 10 is changed. The glass substrate 11 placed on the turntable 25 is sent to the developing processor 10 by the transport roller 25a of the turntable 25.
[0037]
In the development processing, three types of chemical solutions PD, CD, and SD are used. The chemical solution PD removes the thermoplastic resin layer and the oxygen blocking layer of the photosensitive colored layer. The chemical liquid CD develops the photosensitive resin layer of the photosensitive colored layer. The chemical solution SD is used to remove non-pixel residue and is used in combination with brushing. The chemical solution and the photosensitive colored resin sheet are described in detail, for example, in JP-A-11-149011.
[0038]
First, by driving the substrate transport unit 20, the glass substrate 11 passes through the air knife tank 17 and the fourth to second rinse tanks 16 to 14 and reaches the chemical treatment tank 12. In conveying the glass substrate 11, the glass substrate 11 is positioned closer to the center by a positioning guide 64 as shown in FIG. 6 and sent to the chemical treatment tank 12. In the chemical treatment unit 12, the guide flange roller 30 c is in contact with both side edges of the glass substrate 11 to guide the glass substrate 11 so as not to move in the width direction.
[0039]
When the glass substrate 11 passes through the shower zone 12 a in the chemical solution treatment tank 12, the chemical solution PD is ejected from the chemical solution ejection nozzle 36. When the glass substrate 11 is completely set in the shower zone 12a, the glass substrate 11 is moved back and forth by a predetermined amount in the feeding direction after the conveyance of the glass substrate 11 is stopped. Thereby, the thermoplastic resin layer and the oxygen barrier layer of the photosensitive colored layer of the glass substrate 11 are efficiently dissolved and removed by the chemical solution PD. In addition, you may process as it conveys, without stopping the glass substrate 11 as needed. Further, the glass substrate 11 may be swung in the width direction in addition to or in addition to the reciprocating motion. Further, the chemical solution injection nozzle 36 may be reciprocated in the width direction of the glass substrate 11.
[0040]
When the chemical treatment with the chemical PD is completed, the glass substrate 11 is sent toward the first rinsing tank 13. At this time, the glass substrate 11 passes through the liquid draining zone 18. In the liquid draining zone 18, air is jetted from the air jet nozzles 75 and 76. When the glass substrate 11 is sent from the chemical treatment tank 12 to the first rinse tank 13, air is jetted from the air spray nozzle 76 on the chemical treatment tank side toward the chemical treatment tank 12. Accordingly, the chemical solution in the chemical treatment tank 12 and the chemical solution adhering to the glass substrate 11 are returned to the chemical treatment tank 12 without reaching the first rinse tank 13, so that the amount of the chemical solution brought into the next tank is reduced. It can be suppressed. In addition, when the air injection pressure for liquid removal is high, unevenness of the processing surface may occur. In this case, the occurrence of surface unevenness is suppressed by reducing the air injection pressure to zero or as much as possible.
[0041]
When the entire surface of the glass substrate 11 reaches the first rinse tank 13, water is sprayed from the water spray nozzle 70 and the glass substrate 11 is washed. At this time, the glass substrate 11 is moved back and forth by the transport roller 30 in the first rinsing tank 13, and the cleaning is performed evenly. In addition, the length and frequency | count of the back-and-forth movement of the glass substrate 11 are set to the optimal value.
[0042]
While the glass substrate 11 is being cleaned in the first rinse tank 13, flushing cleaning is performed in the chemical processing tank 12, and the chemical spray nozzles 36 and 37, the piping thereof, and the inner wall surface of the chemical processing tank 12 are cleaned. In flushing cleaning, water and air are alternately ejected, and the inside of the pipe and the inner wall surface are efficiently cleaned. This washing water is sent to the waste liquid tank 52 via the switching head 47 as shown in FIG.
[0043]
When the cleaning of the glass substrate 11 is finished, the glass substrate 11 is sent toward the chemical treatment tank 12 by the transport roller 30. Even during the feeding, air is ejected from the air ejection nozzles 75 and 76 when the glass substrate 11 passes through the liquid draining zone 18. At this time, the air injection nozzle 75 on the first rinse tank 13 side is directed toward the first rinse tank 13, and the air injection nozzle 76 on the chemical solution treatment tank 12 side is sprayed toward the chemical solution treatment tank 12. The liquid is surely cut out, the washing water and the chemical liquid are not mixed, and the chemical liquid is prevented from being diluted or reduced.
[0044]
While conveying the glass substrate 11 while the glass substrate 11 passes through the shower zone 12a of the chemical treatment tank 12, the chemical liquid CD is ejected toward the glass substrate 11 by the chemical injection nozzle 36, and exposure of the photosensitive colored layer is performed by the chemical liquid CD. Part is removed. During this shower development, like the chemical solution PD, the chemical solution injection nozzle 36 is swung in the substrate width direction, and the glass substrate 11 is moved back and forth in the substrate feed direction. Thereby, the development processing is performed evenly. After the development processing, the glass substrate 11 is sent toward the second rinse tank 14. At this time, the chemical solution is blown to the chemical treatment tank 12 side and the cleaning water is blown to the second rinse tank 14 side by air jetting in the liquid draining zone 19, and the liquid is drained. In addition, when the air injection pressure is high and the processing surface unevenness occurs, the air injection pressure is made zero or reduced as much as possible.
[0045]
When the entire surface of the glass substrate 11 reaches the second rinse tank 14, water is sprayed from the water spray nozzle 70 toward the glass substrate 11, and the glass substrate 11 is cleaned. This cleaning is performed in the same manner as the first rinsing tank 13. When the cleaning of the glass substrate 11 is completed, the glass substrate 11 is sent toward the chemical treatment tank 12 by the transport roller 30. At this time, when the glass substrate 11 passes through the liquid draining zone 19, the liquid is drained in the same manner as described above. Further, during the cleaning of the glass substrate 11, the above-described flushing cleaning is performed in the chemical processing tank 12, and preparation for the next chemical injection is performed.
[0046]
In the method of the present invention, because one chemical solution treatment tank 12 is used to perform a plurality of chemical solution treatments, while one chemical solution treatment is being performed, the other chemical solutions are cooled in the pipe from the tank until the valve is switched. Will be. For example, while the chemical liquid CD and the chemical liquid SD are processed in the chemical liquid PD, the liquid staying in the pipe is heated in the pipe from the nozzle to the injection even though the liquid temperature in the tank has reached the set temperature. In some cases, the uniformity of the processing may deteriorate due to a decrease in the processing allowable temperature or lower. Therefore, as a method for preventing a decrease in the liquid temperature, the chemical liquid is ejected from the chemical liquid nozzle in advance before the substrate processing, and the liquid is discharged in advance so that the substrate processing is performed after the liquid temperature reaches the allowable liquid temperature.
[0047]
Other measures to prevent the liquid temperature from falling are to cover the inside, outside, or both of the pipes with a heat insulating material. Or wrap a sheet heater around the pipe. Or, several heaters are built in the pipe. Alternatively, a return valve to the chemical liquid tank is provided immediately before the chemical liquid switching valve, and the liquid is always circulated in the pipe until it is ejected from the nozzle. These liquid temperature reduction prevention measures may be applied selectively or in combination.
[0048]
When the glass substrate 11 passes through the brush zone 12 b of the chemical solution treatment tank 12, the chemical solution SD is ejected from the chemical solution ejection nozzle 37 during this passage. Further, the brush roller pair 55, 56 rotates, and the residue of the glass substrate 11 is removed by brushing. The number of rotations and the direction of rotation of each of the brush roller pairs 55 and 56 are selected independently, and the intervals between the brush rollers of the brush roller pairs 55 and 56 are made variable. Therefore, the optimum brush roller pair 55, 56 is set corresponding to the size, thickness, etc. of the glass substrate 11, and the residue at the time of developing the non-pixel portion is efficiently removed by the chemical liquid SD.
[0049]
Thereafter, the developed glass substrate 11 is sent to the first rinsing tank 13, and the glass substrate 11 is washed in the same manner as described above. At this time, the liquid adhering to the glass substrate 11 is cut in the liquid shortage zone 18. Further, during the cleaning of the glass substrate 11, flushing cleaning is performed in the chemical treatment tank 12. When cleaning is completed in the first rinse tank 13, the glass substrate 11 is sent toward the chemical treatment tank 12.
[0050]
The sent glass substrate 11 passes through the chemical treatment tank 12, and when the entire surface of the glass substrate 11 reaches the second rinse tank 14, water is jetted from the water jet nozzle 70 of the second rinse tank 14, and the glass The substrate 11 is cleaned. Thereafter, the third rinse tank 15, the fourth rinse tank 15, and the glass substrate 11 pass through and the glass substrate 11 is cleaned. The glass substrate 11 that has passed through the fourth rinse tank 15 is drained by the air knife tank 17 and discharged from the first substrate inlet / outlet 23 to the turntable 25. At the time of discharging, the glass substrate 11 is neutralized by the neutralization bar 27.
[0051]
The embodiment at the time of development is not limited to the above processing, and a necessary function in the developing processor 10 can be selected and used depending on the chemical processing solution and processing conditions. The pressure and flow rate of the air, the rinsing water, and the chemical solution in the nozzle pipes of the chemical solution treatment tank 12 and the rinse tanks 13 to 16 can be adjusted as necessary. Moreover, the conveyance speed of the glass substrate 11 can be changed for every tank 12-17. Further, in the chemical treatment tank 12, when the glass substrate 11 passes through the brush zone 12b, the glass substrate 11 may be passed without rotating the brush roller pair 55, 56 according to the chemical treatment.
[0052]
Further, the developing processor 10 may be used not only for the development processing but also for intermediate and final cleaning and for receiving and cleaning the glass substrate 11. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a processing procedure in intermediate or final cleaning. In this intermediate or final cleaning, first, the glass substrate 11 is inserted into the developing processor 10 from the turntable 25 through the first substrate entrance 23. When the entire surface of the glass substrate 11 reaches the second rinse tank 14 by the substrate transport unit 20, water is sprayed from the water spray nozzle 70 to clean the glass substrate 11.
[0053]
When the cleaning of the glass substrate 11 is completed in the second rinse tank 14, the glass substrate 11 is sent toward the chemical treatment tank 12. While the glass substrate 11 passes through the brush zone 12b, the chemical liquid SD is sprayed from the chemical liquid spray nozzle 37, and at the same time, the brush roller pair 55, 56 is rotated to clean the glass substrate 11 with the chemical liquid SD. When the glass substrate 11 reaches the shower zone 12a, the conveyance direction of the glass substrate 11 is switched and reversed. At that time, only the brush zone 12b is allowed to pass, and when the glass substrate 11 completely reaches the second rinse tank 14, the cleaning water is sprayed, and the glass substrate 11 is reciprocated in the transport direction to clean the glass substrate. To do.
[0054]
Subsequently, while the glass substrate 11 is passing through the third rinse tank 15 and the fourth rinse tank 16, water is sprayed from the water spray nozzle 70 toward the glass substrate and washed. Then, while the glass substrate 11 is passing through the air knife tank 17, air is blown out toward the glass substrate 11 by the air knife 80 and drained. Thereafter, the glass substrate 11 is neutralized by the neutralization bar 27 when the glass substrate 11 passes through the first substrate entrance 23.
[0055]
The glass substrate is received and cleaned by a processing procedure as shown in FIG. In this glass substrate receiving cleaning, the glass substrate 11a is cleaned and sprayed with an adhesion promoting treatment liquid, and a pretreatment for transferring a photosensitive colored layer to the glass substrate 11a by a laminator is performed. In this case, the glass substrate 11a is introduced from the second substrate entrance / exit 24 via the roller conveyor 26 so that the substrate transport unit 30 is not contaminated by the glass substrate 11a before cleaning. When the entire surface of the glass substrate 11a reaches the first rinse tank 13, the shutter 28 is closed and the second substrate entrance 24 is closed, and then water is sprayed from the water spray nozzle 70 to clean the glass substrate 11a. To do.
[0056]
While the glass substrate 11a passes through the liquid draining zone 18, the glass substrate 11a is drained by blowing air. Next, when the glass substrate 11a passes through the brush zone 12b of the chemical treatment tank 12, the chemical solution SD is ejected from the chemical solution ejection nozzle 37 and the pair of brush rollers 55 and 56 are rotated so that the glass substrate 11a is made by the chemical solution SD. Wash. While the glass substrate 11a passes through the liquid draining zone 19, the air spray nozzles 75 and 76 drain the glass substrate 11a.
[0057]
When the entire surface of the glass substrate 11a reaches the second rinse tank 14, water is sprayed from the water spray nozzle 70 toward the glass substrate 11a to clean the glass substrate 11a. After finishing the cleaning of the glass substrate 11 a in the second rinse tank 14, the glass substrate 11 a is sent toward the chemical solution processing tank 12. While the glass substrate 11a passes through the shower zone 12a in the chemical treatment tank 12, water is jetted from the chemical jet nozzle 36 toward the glass substrate 11a for cleaning. Then, while the glass substrate 11a passes through the liquid draining zone 18, the glass substrate 11a is drained in the same manner as described above.
[0058]
While the glass substrate 11a passes from the chemical treatment tank 12 to the first rinse tank 13, the adhesion promoting treatment liquid is sprayed toward the surface of the glass substrate 11a. The adhesion promotion treatment liquid is ejected from an adhesion promotion treatment liquid ejection nozzle 71 in the first rinse tank 13 on the chemical solution treatment tank 12 side. After spraying the adhesion promoting treatment liquid over the entire surface of the glass substrate 11a, the glass substrate 11a is cleaned while reciprocating in the transport direction in the first rinsing tank 13.
[0059]
Next, the conveyance direction of the glass substrate 11 a is switched by the substrate conveyance unit 30, and the glass substrate 11 a is sent toward the chemical treatment tank 12 and the second rinse tank 14. In the chemical treatment tank 12, the glass substrate 11a is passed through, and when the entire surface of the glass substrate 11a reaches the second rinse tank 14, water is sprayed from the water spray nozzle 70 to clean the glass substrate 11a. Thereafter, the glass substrate 11 a is washed in the third rinse tank 15 and the fourth rinse tank 16, and then the glass substrate 11 a is drained in the air knife tank 17. The drained glass substrate 11 a is discharged by the discharging bar 27 and then discharged to the turntable 25. In the turntable 25, the glass substrate 11a is stored in a substrate cassette (not shown) by a transfer device such as a robot hand. In this way, in receiving and washing the unwashed glass substrate 11a, the glass substrate 11a is directly inserted into the first rinse tank 13 and the glass substrate 11a is washed through the first rinse tank 13 and the chemical solution treatment tank 12. The substrate transfer unit 30 on the side of the first substrate inlet / outlet 23 that receives normal development processing and intermediate or final cleaning is not contaminated by the uncleaned glass substrate 11a.
[0060]
FIG. 10 shows another embodiment. Constituent members similar to those in the above embodiment are given the same reference numerals, and detailed descriptions thereof are omitted. In this embodiment, the chemical solution treatment tank 102 is provided with a chemical solution bath 103. The chemical bath 103 includes a chemical supply bath 104 and a chemical recovery bath 105. The chemical solution supply bath 104 is provided with a chemical solution supply hole 106 for supplying a chemical solution into the tank and a chemical solution ejection hole 107 for ejecting the chemical solution upward. Conveying roller pairs 108 are provided at both ends of the glass substrate 11 in the width direction. The conveyance roller pair 108 is composed of an upper roller 108a and a lower roller 108b arranged vertically, and sandwiches and conveys the glass substrate 11. When the glass substrate 11 is sent to the chemical solution treatment tank 102, the chemical solution is ejected from the chemical solution ejection hole 107, and the chemical treatment is performed on the lower surface of the glass substrate 11 on which the photosensitive colored layer is formed. The ejected chemical liquid is recovered in the chemical liquid recovery bathtub 105. The chemical solution treatment tank 102 is connected to the chemical solution switching unit 110, and performs switching between the three types of chemical solutions PD, CD, SD and washing water, as in the above embodiment.
[0061]
In the above embodiment, the air knife 80 is used for draining liquid, but this may be a gas flow knife, and the gas to be used is not particularly limited. For example, in addition to air, various gases such as nitrogen, hydrogen, and oxygen may be used. Similarly, the gas discharged from the liquid draining zones 18 and 19 is not particularly limited, and various gases may be used. Further, the substrate on which development processing, receiving cleaning, and the like are performed is not limited to the glass substrates 11 and 11a, and may be various substrates.
[0062]
【The invention's effect】
According to the present invention, a single chemical processing tank that performs chemical processing on a substrate and a cleaning tank that cleans the substrate are used, and a plurality of chemical processes are performed by switching the chemical to one chemical processing tank. Therefore, a plurality of chemical solution processing tanks are not required as in the prior art, and the installation space for the developing processor is reduced. Therefore, it is possible to save the space in the clean room where the developing processor is installed, and it is possible to keep equipment costs and running costs low. In addition, the chemical solution treatment tank includes the substrate cleaning brush and the chemical solution nozzle, thereby enabling efficient chemical treatment according to the chemical solution.
[0063]
In addition, when using a chemical nozzle, the chemical solution is sprayed onto the exposure surface of the substrate from below to perform chemical processing, and when using a chemical supply bath, the chemical solution is jetted onto the exposure surface of the substrate from below. As a result, the chemical liquid pool does not occur on the exposed surface of the substrate, and the non-uniform pixel shape in the substrate surface due to the chemical liquid pool is eliminated. Furthermore, the vibration mechanism for preventing the chemical liquid accumulation is unnecessary, and the apparatus cost can be suppressed. In addition, since the chemical liquid is not sprayed from above, the foaming of the chemical liquid at the time of the substrate collision is reduced, the antifoaming agent becomes unnecessary, and the processing unevenness of the substrate due to the generation of bubbles is eliminated. Therefore, the chemical solution replacement in the chemical solution treatment tank can be performed in a short time, the defoaming mechanism is not required, and the equipment cost and running cost can be suppressed. Further, the chemical solution does not stay on the upper surface of the substrate and the substrate is not bent, and the substrate transportability is improved. Further, since the developed solution is dropped together with the chemical solution, defects on the substrate are reduced.
[0064]
In addition, a plurality of cleaning tanks are provided so as to sandwich one chemical processing tank in the substrate feeding direction, and the chemical switching unit performs cleaning of the chemical processing tank and switching of the chemicals while cleaning the substrate in one cleaning tank. The chemical treatment can be performed well. In addition, one of the cleaning tanks is used as a receiving tank for receiving and cleaning glass substrates, and the other cleaning tank is used for other chemical processing and intermediate cleaning processing. In addition, the substrate receiving cleaning and the development processing can be used together in one processing machine without the contamination of the transfer device, the cassette, and the like. Therefore, it is possible to save the chemical processing space including the substrate cleaning. Furthermore, efficient chemical processing can be performed by reciprocating the substrate in the chemical processing tank and the cleaning tank.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view showing an outline of a developing processor of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of a chemical treatment tank.
FIG. 3 is a schematic view showing a chemical solution cleaning tank and a chemical solution switching unit.
FIG. 4 is a front view showing an example during chemical injection.
FIG. 5 is a side view showing an example during chemical injection.
FIG. 6 is a plan view showing a transport roller and a positioning guide in the chemical processing tank.
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a procedure for developing a glass substrate.
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a glass substrate cleaning process in intermediate or final cleaning.
FIG. 9 is an explanatory view showing acceptance cleaning of a glass substrate.
FIG. 10 is a side view of a chemical treatment tank showing another embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
10 Development processor
11 Glass substrate
12 Chemical treatment tank
12a shower zone
12b Brush zone
13-16 Rinse tank (cleaning tank)
17 Air knife tank
18, 19 Liquid draining zone
20 Board transfer section
21 Chemical switch part
23, 24 Substrate entrance / exit
25 Turntable
26 Roller conveyor
27 Static elimination bar
28 Shutter
30 Transport roller
36, 37 Chemical injection nozzle
38 Brush cleaning nozzle
40-42 liquid supply line
43 Water supply line
44 Air supply line
45-47 switching head
51 Collection line
55, 56 Brush roller pair
64 Positioning guide
70 Water injection nozzle
71 Adhesion promoting treatment liquid jet nozzle
75,76 Air injection nozzle
80 Air knife
