JP2004014550A - 導電性シート - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、絶縁性フィルムの表裏両面に形成されている導電層の電気的接合の信頼性を向上させいかなる大きさのビアホールであっても比電気抵抗を確保できるとともに、空孔の破裂の問題もなくしかも製造効率にも優れた導電性シートを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムの表裏両面に導電層が形成されている導電性シートであって、当該絶縁性フィルムを物理的に貫通するように開孔されているビアホールに対して、その内部全てを埋めるように前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物を充填することにより、これら表裏両面の両導電層が互いに電気的に接合可能とされていることを特徴としている。
【選択図】 図4
【解決手段】本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムの表裏両面に導電層が形成されている導電性シートであって、当該絶縁性フィルムを物理的に貫通するように開孔されているビアホールに対して、その内部全てを埋めるように前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物を充填することにより、これら表裏両面の両導電層が互いに電気的に接合可能とされていることを特徴としている。
【選択図】 図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、導電性シートに関する。より詳細には、半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができる導電性シートに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯電話機やゲーム機をはじめとする各種民生用電子機器およびOA機器や計測器をはじめとする各種産業用電子機器においては、いずれも高性能かつコンパクトな形態が望まれており、これに伴ってそれらに用いられている各種基板類においても一層の高密度化が要求されている。そしてこれらの要求に応えるひとつの手段として当該基板の表裏両面を有効に活用しようとする試みが種々なされており、このためこれらの基板の基材として用いられる導電性シートにおいても絶縁性フィルムの表裏両面に導電層を形成したものが種々提案されている。このような構造の導電性シートにおいては、絶縁性フィルムに設けられているビアホールと呼ばれる小孔を介して表裏の導電層が電気的に接合される仕組みとなっている。
【0003】
しかしながら、このビアホールを介する電気的接合方法においては種々の問題点が指摘されている。すなわち、通常このビアホールは絶縁性フィルムに導電層を設けた後に開孔加工を施すことによって形成されるが、この場合開孔されたビアホールの底部にフィルムの残部が残留するためこれが原因となって電気的接合不良を生じることがあった。この問題点を解決するために二種の異なったレーザを用いて開孔加工を施す試みがなされているが(特開2001−15560公報)、2種の異なったレーザを同一箇所に精度よく照射することは困難であり作業精度ならびに作業効率にいずれも問題があった。また、表裏の両導電層を互いに電気的に接合可能とするためにはこのようなレーザによる開孔加工後に再度めっき等による加工を施す必要があり、絶縁性フィルム上に導電層を形成する加工と併せると二度手間となっていた。また、上記のようなめっき加工ではビアホールの内壁面だけをめっきすることにより行なわれていたが、これでは電気的接合の信頼性が乏しいものとなりとりわけビアホールの内径が小さくなる場合においてその比電気抵抗が問題となっていた。さらにまた、このようなめっき加工ではめっき後においてもホール全体として見れば未だ空孔のままの状態であり、このような空孔を放置すればそこに溜まっている空気などが後の工程において高温にさらされた場合に膨張し破裂することがあるため何らかの手段により空孔を埋める必要があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の問題点に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、絶縁性フィルムの表裏両面の導電層の電気的接合の信頼性を向上させいかなる大きさのビアホールであっても比電気抵抗を確保できるとともに、空孔の破裂の問題もなくしかも製造効率にも優れた導電性シートを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムの表裏両面に導電層が形成されている導電性シートであって、当該絶縁性フィルムを物理的に貫通するように開孔されているビアホールに対して、その内部全てを前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物を充填することにより、これら表裏両面の両導電層が互いに電気的に接合可能とされていることを特徴としている。
【0006】
また本発明の導電性シートにおいては、導電層を構成する構成物によるビアホールの充填が当該導電層を形成するのと同時に行なうようにすることができる。
【0007】
さらに本発明の導電性シートにおいては、導電層を構成する構成物によるビアホールの充填および当該導電層の形成が、めっきにより行なうようにすることができる。
【0008】
一方、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムと導電層との間に下地層を形成することもできる。
【0009】
また本発明の導電性シートは、ビアホールの位置を特定することを目的として絶縁性フィルムにアライメントマークを形成することもできる。
【0010】
さらにまた、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムが長尺の連続状のものとすることができる。
【0011】
また本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムが長尺の連続状のものであり、かつそれに形成されている導電層がエッチングされることにより複数の回路パターンを構成するとともに各回路パターンごとにカッティングが可能とされたものとすることができる。
【0012】
本発明の導電性シートにおいては、上記のような構成を採用したことにより、とりわけ絶縁性フィルムの表裏両面の導電層を電気的に接合可能とするためのビアホールに対する加工が、その内壁面のみの加工ではなく、ビアホールの内部全てを導電性物質で埋めることにより充填したものであるため、その電気的接合効果の信頼性は極めて高くいかなる大きさのビアホールであっても比電気抵抗を確保できるとともに空孔の破裂の問題を同時に解消したものとなり、またこのようなビアホールに対する加工と導電層の形成とが単一の工程で行なうものとすることができることから製造効率に極めて優れたものとなる。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の導電性シートの各構成要素ならびに該シートの構造をそれぞれの製造方法等を含めて以下に説明する。
【0014】
<絶縁性フィルム>
本発明の導電性シートの基材フィルムとして用いられる絶縁性フィルムとしては、この種の用途に用いることができる従来公知のものであれば特に限定なくいかなるものも用いることができる。その一例を挙げると、たとえばポリイミド、ポリエステル、ポリスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンオキシド、PEN、液晶ポリマー、ガラス繊維強化エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等のフィルムを挙げることができる。これらの中でも特に柔軟性に優れ高性能化の可能なポリイミドやガラス繊維強化エポキシ樹脂からなるフィルムを用いることが好ましい。なお、ここでいうフィルムとは、その厚みが10〜150μm、好ましくは25〜130μm程度のものが好適であり、またその形状についてはシート状のものである限り枚葉の形態のものであってもロールのような長尺の連続状の形態のものであっても差し支えない。本発明においては、特にその製造における加工効率の観点からロールのような長尺の連続状のものを用いることが好適である。
【0015】
<導電層>
上記絶縁性フィルムの表裏両面に形成される導電層としては、この種の導電層として従来公知のものであれば特に限定なくいかなるものも用いることができる。その一例を挙げると、たとえば導電性を示す各種金属をめっきやスパッタリングすることにより形成したものやこれらの金属からなる箔を接着や熱プレスすることにより形成したもの、あるいはこれらの金属をはじめとしてその他カーボンブラック等のような導電性物質を含んでなる導電性インクを用いることにより形成したもの、またあるいはこれらの技術とレジスト技術を組合せたものなどを挙げることができる。これらの中でも加工効率や後述のビアホールの充填の容易さ等を考慮すると導電性を示す各種金属をめっきにより形成したものが特に好ましい。当該ビアホールの内径が小さいものである場合には、特にめっきによらなければその内部を充填することは非常に困難となるからである。なお、上記の金属としては、銅、銀、金、ニッケル、亜鉛、パラジウム、スズまたはこれらの金属の一種以上を含んでなる合金等を挙げることができる。また、めっきとしては無電解めっきまたは電気めっきのいずれであっても差し支えないが、めっき液の組成やめっき条件は後述のビアホールの充填のことをも考慮して適宜選択することが好ましい。たとえば、めっき液の組成としてはビアホールを十分に充填できるよう適宜金属塩の濃度を調節し、通常金属塩の濃度を10〜600g/l程度の条件のものを選択することが好ましい。また、めっき条件としては、pH、浴温、電流密度等を適宜調節し、通常pH1〜13、浴温10〜70℃、電流密度0.1〜50A/dm2の条件のものを選択することが好ましい。また、当該導電層の厚みは、3〜130μm、好ましくは8〜20μmとすることが好適である。3μm未満の場合には十分な導電効果を得ることができず、また130μmを超えても導電効果に大差なく却って経済的に不利となり、またエッチング性(パターン)も悪くなる。
【0016】
<下地層>
本発明においては、必要に応じ上記絶縁性フィルムと導電層との間に下地層を形成することができる。当該下地層は、前記絶縁性フィルムと前記導電層との組み合わせにより、またあるいは必要とされる導電層の厚さ等によりその絶縁性フィルム上に直接導電層を形成することが困難な場合に必要とされるものであって、電気的手段によって導電層を形成する際にいわばその電極としての作用を奏したりあるいは塗布手段によって導電層を形成する際にそのアンカー層としての作用を奏するものである。このような下地層は、たとえば前述の各種金属をめっきしたりスパッタリングさせたりすることにより、またあるいは前記導電性インクにおいて導電性物質を含まない組成のインクやレジストを塗布することにより絶縁性フィルム上に形成することができる。これらの中でも、後述のビアホールの内部を均一に被覆するためには、特にめっきおよびスパッタリングを採用することが好ましい。当該ビアホールの内径が小さいものである場合、特にこれらの方法によらなければその内部を被覆することは非常に困難となるからである。通常、この下地層の厚みは、0.05〜2μm、好ましくは0.5〜1μmとすることが好適である。その厚みが0.05μm未満の場合には、導電層を形成させるための効果が十分に発揮されなくなる場合がある一方、2μmを超える厚みで形成させても得られる効果に大差なく却って経済的に不利となる。
【0017】
<ビアホール>
本発明におけるビアホールとは、前記絶縁性フィルムを物理的に貫通するように設けられている小孔であって、その内部全てを埋めるように前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物が充填されている。これにより本発明のビアホールは、前記絶縁性フィルムの表裏両面に設けられている導電層を互いに電気的に接合する作用を奏するものである。本発明においては、このビアホールに対して従来技術のようにその内壁面のみを導電性物質でめっきあるいはコートした手法を取るのではなく、全く新規な着想に基づきその内部の全てを埋めるように導電性物質(すなわち導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物)を充填するといった手法を採用しているため従来技術に比しその電気的接合効果に対する信頼性を飛躍的に向上させたものである。したがって、ビアホールの大きさにかかわらず比電気抵抗を確保できしかも空孔の破裂の問題を同時に解消したものである。このようなビアホールは、内径が10〜100μm、好ましくは20〜30μmとなるように各種レーザ、ドリル、パンチ、プレスなどの開孔手段により物理的に貫通するように開孔される。ただし、予め絶縁性フィルムの片方の面に導電層や下地層が設けられている場合にはそれらの層を含めて物理的に貫通するものであってもよいし、またあるいはこれらの層を物理的に貫通せずに残すようなかたちで上記の絶縁性フィルムのみを物理的に貫通するようにして開孔させることもできる。また、このようなビアホールの形状は、特に限定されることはなく、円形のものや多角形状のものとすることができる。なお、当該ビアホールの前記内径が10μm未満となる場合には電気的接合効果が十分に担保されなくなる場合が生じる一方、100μmを超える場合には前記導電性物質の充填が十分に達成されなくなる場合があるためいずれも好ましくない。
【0018】
<アライメントマーク>
本発明の絶縁性フィルムには、アライメントマークを形成することができる。当該アライメントマークはビアホールの所定の位置を決定する基準となるものであり、通常絶縁性フィルムの両端(ビアホールの設けられていない位置)に形成するのが好適である。このようなアライメントマークは光学的、電子的、磁気的、目視的あるいはその他の読み取り手段によりビアホールの所定の位置を決定できるものであればいかなるものであっても差し支えなく、またその形成方法としても特に限定されるものはない。たとえば、目視的に読み取る場合にはこのアライメントマークとして絶縁性フィルムの両端にこのフィルムを貫通させるようにホールを開けたものが好適である。そしてこのホール(アライメントホールと呼ぶ)はさらに好ましくは一定の間隔を持って連続的に開孔させるのが好適である。このような構成を取ることによりビアホールの位置をさらに簡単に決定することができるようになるからである。このようなアライメントホールの大きさとしては、通常50μm〜3mm程度とするのが好ましく、レーザ、ドリル、パンチ、プレスなどにより開孔させることが可能である。
【0019】
<導電性シートの構造>
以下に、図1〜13を参照して本発明の導電性シートの構造について説明する。
【0020】
図1は本発明の導電性シートの前駆体のひとつを示した概略断面図であって、絶縁性フィルム11にビアホール13が設けられているとともにその片面に導電層12が形成されたものである。図2は本発明の導電性シートの概略断面図であって、上記図1の導電層が形成されていない方の面に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム21の両面に導電層22、24が形成されており、ビアホール23の内部が上記一方の導電層24で充填されたものである。
【0021】
図3は本発明の導電性シートの上記図1とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム31にビアホール33が設けられているとともにその片面には導電層32が、もう一方の片面には下地層35が各形成されたものである。図4は本発明の上記図2とは別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図3の導電層が形成されていない方の面に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム41の両面に導電層42、44(ただしその一方の44は下地層45の上に)が形成されておりビアホール43の内部が上記一方(すなわち下地層45の上に形成させた方)の導電層44で充填されたものである。
【0022】
図5は本発明の導電性シートのまた別の前駆体のひとつを示した概略断面図であって、絶縁性フィルム51にビアホール53とアライメントホール56が設けられているとともにその全面に下地層55が形成されたものである。図6は本発明の導電性シートの概略断面図であって、上記図5の下地層上に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム61の全面に下地層65が形成されており、下地層65上に導電層62を形成するとともにビアホール63の内部が同導電層62で充填されたものである。なお、アライメントホール66は、開孔部が広いため導電層62によって充填されていない。
【0023】
図7は本発明の導電性シートの上記とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム71にビアホール73とアライメントホール76が設けられているとともにその両面に導電層72と74が各形成されたものである。図8は本発明の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図7の導電層上にさらに導電層を形成するとともにこのさらに形成した導電層でビアホールの内部を充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム81の両面に導電層82、84が形成されておりこれらの導電層上にさらに導電層87を形成するとともにビアホール83の内部をこの導電層87で充填させたものである。図9は本発明の別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図7において一方の導電層を残すようにしてビアホールを開孔させたものに対してさらに導電層を形成させたものであり、すなわち絶縁性フィルム91の両面に導電層92、94が形成されており、この導電層92の側から導電層94を残すようにしてビアホール93が開孔されており、さらに導電層92上に導電層97を形成するとともにビアホール93の内部がこの導電層97で充填されたものである。なお、図8および図9中、アライメントホール86、96は、開孔部が広いため導電層87、97によって充填されていない。
【0024】
図10は本発明の導電性シートの上記とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム101にビアホール103とアライメントホール106が設けられているとともにその両面に導電層102と104が各形成され、さらにその全面に下地層105が形成されたものである。図11は本発明の導電性シートを概略断面図であって、上記図10の下地層上に導電層を形成するとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム111の両面に導電層112、114が形成されており、さらにこれらの全面に下地層115が形成され、この下地層115上に導電層117を形成するとともにビアホール113の内部がこの導電層117で充填されたものである。図12は本発明の別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図10において一方の導電層を残すようにしてビアホールを開孔させたものに対して下地層を形成しさらにその上に導電層を形成させたものであり、すなわち絶縁性フィルム121の両面に導電層122、124が形成されており、この導電層122の側から導電層124を残すようにしてビアホール123が開孔されており、さらに導電層122上に下地層125が形成され、この下地層125上に導電層127を形成するとともにビアホール123の内部がこの導電層127で充填されたものである。なお、図11および図12中、アライメントホール116、126は、開孔部が広いため導電層117、127によって充填されていない。
【0025】
図13は本発明の導電性シートの概略平面図であり、当該シートの両端にはアライメントホール136が開孔されているとともに導電層を介してその下にあるビアホール133が透視的に示されている。
【0026】
〈導電性シートの製造方法〉
本発明の上記に記載したそれぞれの構造の導電性シートは、たとえば以下のようにして製造することができる。まず、前記絶縁性フィルム11に対してアライメントマーク(たとえばアライメントホール136など)を付した後当該マークを基準として所定の位置にビアホール133を開孔させる。なお、アライメントマークが形成されていない場合には、X線回折装置などを適宜使用してビアホールの位置決めを行なうことも可能である。また、当該絶縁性フィルムとしてその片方の面に導電層12や下地層35等が設けられている絶縁性フィルム11を用いても差し支えなく、この場合には当該ビアホール13はそれらの層が設けられていない方の面に対して通常開孔されることとなるが、前述のようにそれらの層を含めて物理的に貫通させるか、あるいはそれらの層を残すようなかたちで絶縁性フィルム11のみを貫通するように開孔させてもよい(図1参照)。なお、このような導電層や下地層は各複数形成させたり積層して形成させたりすることができ、また絶縁性フィルムの両面に形成されていても差し支えない(図7、図10参照)。
【0027】
次いで、上記のようにビアホールが設けられた絶縁性フィルム21の表裏両面に導電層22、24を形成するとともに、これらの導電層を構成する構成物によりビアホール23の内部全てを充填させる。本発明においては、このような導電層の形成とビアホールの充填とをひとつの加工操作で同時に行なうことが特に好ましい。製造効率が向上するとともに別途ビアホールの空孔を埋める処理が不要となるからである。このような導電層22、24の形成方法としては、前述の通りめっきやスパッタリングにより形成させたり、またあるいは導電性インクやレジストにより形成させたりすることができるが、本発明の特徴のひとつである導電層を構成する構成物によりビアホールの内部全てを充填させるためには、とりわけめっきによることが好ましく、なかでも電気めっきによることが特に好ましい。なお、前述のように予め絶縁性フィルム21の片方の面に導電層22がすでに設けられている場合には、上記の工程は導電層22が設けられていない片方の面のみについて行なわれ、ビアホールの充填もその導電層24を構成する構成物により充填されることになるが、そうでない場合すなわちビアホールを開孔させた後に絶縁性フィルムの表裏両面に対して導電層を設ける場合は、当該ビアホールの充填は表裏どちらの導電層を構成する構成物により充填されていてもよく、またあるいはそれらの導電層の両構成物により充填されたものであってもよい。また、予め形成されている導電層上にさらに導電層を形成させることもでき、このようにさらに形成される導電層によりビアホールを充填させるようにすることもできる。
【0028】
一方、本発明においては、前述の通り導電層の形成に先立って絶縁性フィルムの表裏両面またはいずれか一方の面に必要に応じ下地層35を設けることもできる。このような下地層35はめっきやスパッタリング、あるいはインクやレジストにより形成することができる。また、このような下地層は、導電層上に形成させることもでき、この層を介して導電層を積層させることができる。
【0029】
そして上記のようにして製造される本発明の導電性シートは、さらにその導電層を任意にエッチング等することにより、絶縁性フィルムの表裏両側において互いに電気的に接合した所望の回路を構成することができ、とりわけ絶縁性フィルムが長尺の連続状のものであり上記回路が複数形成されるような場合には各回路パターンごとにカッティングすることが可能である。
【0030】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0031】
<実施例1> 絶縁性フィルムとしてポリイミドフィルム(厚さ25μmであって全長100mのもの)を用い、その一方の表面に導電層として厚さ12μmの銅箔を熱プレスにより接合させた。次いで、このフィルムの銅箔が接合されていない方の表面に対してUVYAGレーザを照射してポリイミドフイルムの部分のみが物理的に貫通されるように内径が25μmのビアホールを開孔させた。
【0032】
続いて、上記のフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対して金属銅を含有した導電性ペーストをナイフコータにより塗工することにより導電層を形成すると同時に上記のビアホールの内部全てをこの導電性ペーストにより充填することによって本発明の導電性シートを製造した。
【0033】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩ以下であった。
【0034】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0035】
<実施例2>
ビアホールを開孔するところまでは実施例1と全く同様にして一方の面に銅からなる導電層が形成されているポリイミドフィルムを作成した。
【0036】
続いて、このフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対してスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNOCHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅100g/l、硫酸140g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる導電層(厚さ8μm)を形成するとともにこの銅によりビアホールの内部全てを充填させることにより本発明の導電性シートを製造した。
【0037】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩ以下であった。
【0038】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0039】
<実施例3>
絶縁性フィルムとしてガラス繊維強化エポキシ樹脂(厚さ50μmであって全長100mのもの)を用い、その一方の表面に対してスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNO CHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅110g/l、硫酸150g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ9μmの導電層を形成した。続いて、このフィルムの左右両端にドリルを用いて2.0mmのアライメントホールを開孔形成するとともに、当該フィルムの導電層が形成されていない方の表面に対してCO2レーザを照射してガラス繊維強化エポキシ樹脂の部分のみが物理的に貫通されるように内径が25μmのビアホールを、上記アライメントホールを基準として所定の位置に開孔させた。
【0040】
続いて、このフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対して上記と同じスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNO CHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅90g/l、硫酸130g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる導電層(厚さ8μm)を形成するとともにこの銅によりビアホールの内部全てを充填させることにより本発明の導電性シートを製造した。
【0041】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩであった。
【0042】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0043】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0044】
【発明の効果】
本発明の導電性シートは、ビアホールの内部全てが導電層を構成する構成物により充填された構造となっていることから従来のものに比し電気的接合効果の信頼性が向上したとともにビアホールの大きさにかかわらず比電気抵抗を確保することができ、また空孔の破裂の問題も同時に解消している。また、このようなビアホールの充填が導電層の形成と同時に行なうことができることから製造効率の向上が図られ、特に従来において導電層の形成、ビアホールに対する加工、空孔の充填加工というように3工程に分かれていたものを1工程でできるようになった点飛躍的な合理化を達成している。さらに、アライメントマークが設けられているものについては、ビアホールの所定の位置を極めて簡単に特定できるという特有の効果をも有している。
【0045】
本発明の導電性シートは、このように優れた効果を有することから民生用または産業用電気電子機器用回路基板や半導体用基板として、またあるいは各種の電気電子機器や部品またはパッケージング材として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図2】本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図3】下地層を形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図4】下地層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図5】下地層を両面に形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図6】下地層を両面に形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図7】導電層を両面に形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図8】導電層を両面に積層形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図9】導電層を積層形成した本発明の別の導電性シートの概略断面図である。
【図10】導電層上に下地層を形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図11】図10の下地層上に導電層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図12】導電層上の下地層上にさらに導電層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図13】本発明の導電性シートの概略平面図である。
【符号の説明】
11,21,31,41,51,61,71,81,91,101,111,121 絶縁性フィルム、12,22,24,32,42,44,62,72,74,82,84,87,92,94,97,102,104,112,114,117,122,124,127 導電層、13,23,33,43,53,63,73,83,93,103,113,123,133 ビアホール、35,45,55,65,105,115,125 下地層、56,66,76,86,96,106,116,126,136 アライメントホール。
【発明の属する技術分野】
本発明は、導電性シートに関する。より詳細には、半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができる導電性シートに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯電話機やゲーム機をはじめとする各種民生用電子機器およびOA機器や計測器をはじめとする各種産業用電子機器においては、いずれも高性能かつコンパクトな形態が望まれており、これに伴ってそれらに用いられている各種基板類においても一層の高密度化が要求されている。そしてこれらの要求に応えるひとつの手段として当該基板の表裏両面を有効に活用しようとする試みが種々なされており、このためこれらの基板の基材として用いられる導電性シートにおいても絶縁性フィルムの表裏両面に導電層を形成したものが種々提案されている。このような構造の導電性シートにおいては、絶縁性フィルムに設けられているビアホールと呼ばれる小孔を介して表裏の導電層が電気的に接合される仕組みとなっている。
【0003】
しかしながら、このビアホールを介する電気的接合方法においては種々の問題点が指摘されている。すなわち、通常このビアホールは絶縁性フィルムに導電層を設けた後に開孔加工を施すことによって形成されるが、この場合開孔されたビアホールの底部にフィルムの残部が残留するためこれが原因となって電気的接合不良を生じることがあった。この問題点を解決するために二種の異なったレーザを用いて開孔加工を施す試みがなされているが(特開2001−15560公報)、2種の異なったレーザを同一箇所に精度よく照射することは困難であり作業精度ならびに作業効率にいずれも問題があった。また、表裏の両導電層を互いに電気的に接合可能とするためにはこのようなレーザによる開孔加工後に再度めっき等による加工を施す必要があり、絶縁性フィルム上に導電層を形成する加工と併せると二度手間となっていた。また、上記のようなめっき加工ではビアホールの内壁面だけをめっきすることにより行なわれていたが、これでは電気的接合の信頼性が乏しいものとなりとりわけビアホールの内径が小さくなる場合においてその比電気抵抗が問題となっていた。さらにまた、このようなめっき加工ではめっき後においてもホール全体として見れば未だ空孔のままの状態であり、このような空孔を放置すればそこに溜まっている空気などが後の工程において高温にさらされた場合に膨張し破裂することがあるため何らかの手段により空孔を埋める必要があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の問題点に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、絶縁性フィルムの表裏両面の導電層の電気的接合の信頼性を向上させいかなる大きさのビアホールであっても比電気抵抗を確保できるとともに、空孔の破裂の問題もなくしかも製造効率にも優れた導電性シートを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムの表裏両面に導電層が形成されている導電性シートであって、当該絶縁性フィルムを物理的に貫通するように開孔されているビアホールに対して、その内部全てを前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物を充填することにより、これら表裏両面の両導電層が互いに電気的に接合可能とされていることを特徴としている。
【0006】
また本発明の導電性シートにおいては、導電層を構成する構成物によるビアホールの充填が当該導電層を形成するのと同時に行なうようにすることができる。
【0007】
さらに本発明の導電性シートにおいては、導電層を構成する構成物によるビアホールの充填および当該導電層の形成が、めっきにより行なうようにすることができる。
【0008】
一方、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムと導電層との間に下地層を形成することもできる。
【0009】
また本発明の導電性シートは、ビアホールの位置を特定することを目的として絶縁性フィルムにアライメントマークを形成することもできる。
【0010】
さらにまた、本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムが長尺の連続状のものとすることができる。
【0011】
また本発明の導電性シートは、絶縁性フィルムが長尺の連続状のものであり、かつそれに形成されている導電層がエッチングされることにより複数の回路パターンを構成するとともに各回路パターンごとにカッティングが可能とされたものとすることができる。
【0012】
本発明の導電性シートにおいては、上記のような構成を採用したことにより、とりわけ絶縁性フィルムの表裏両面の導電層を電気的に接合可能とするためのビアホールに対する加工が、その内壁面のみの加工ではなく、ビアホールの内部全てを導電性物質で埋めることにより充填したものであるため、その電気的接合効果の信頼性は極めて高くいかなる大きさのビアホールであっても比電気抵抗を確保できるとともに空孔の破裂の問題を同時に解消したものとなり、またこのようなビアホールに対する加工と導電層の形成とが単一の工程で行なうものとすることができることから製造効率に極めて優れたものとなる。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の導電性シートの各構成要素ならびに該シートの構造をそれぞれの製造方法等を含めて以下に説明する。
【0014】
<絶縁性フィルム>
本発明の導電性シートの基材フィルムとして用いられる絶縁性フィルムとしては、この種の用途に用いることができる従来公知のものであれば特に限定なくいかなるものも用いることができる。その一例を挙げると、たとえばポリイミド、ポリエステル、ポリスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンオキシド、PEN、液晶ポリマー、ガラス繊維強化エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等のフィルムを挙げることができる。これらの中でも特に柔軟性に優れ高性能化の可能なポリイミドやガラス繊維強化エポキシ樹脂からなるフィルムを用いることが好ましい。なお、ここでいうフィルムとは、その厚みが10〜150μm、好ましくは25〜130μm程度のものが好適であり、またその形状についてはシート状のものである限り枚葉の形態のものであってもロールのような長尺の連続状の形態のものであっても差し支えない。本発明においては、特にその製造における加工効率の観点からロールのような長尺の連続状のものを用いることが好適である。
【0015】
<導電層>
上記絶縁性フィルムの表裏両面に形成される導電層としては、この種の導電層として従来公知のものであれば特に限定なくいかなるものも用いることができる。その一例を挙げると、たとえば導電性を示す各種金属をめっきやスパッタリングすることにより形成したものやこれらの金属からなる箔を接着や熱プレスすることにより形成したもの、あるいはこれらの金属をはじめとしてその他カーボンブラック等のような導電性物質を含んでなる導電性インクを用いることにより形成したもの、またあるいはこれらの技術とレジスト技術を組合せたものなどを挙げることができる。これらの中でも加工効率や後述のビアホールの充填の容易さ等を考慮すると導電性を示す各種金属をめっきにより形成したものが特に好ましい。当該ビアホールの内径が小さいものである場合には、特にめっきによらなければその内部を充填することは非常に困難となるからである。なお、上記の金属としては、銅、銀、金、ニッケル、亜鉛、パラジウム、スズまたはこれらの金属の一種以上を含んでなる合金等を挙げることができる。また、めっきとしては無電解めっきまたは電気めっきのいずれであっても差し支えないが、めっき液の組成やめっき条件は後述のビアホールの充填のことをも考慮して適宜選択することが好ましい。たとえば、めっき液の組成としてはビアホールを十分に充填できるよう適宜金属塩の濃度を調節し、通常金属塩の濃度を10〜600g/l程度の条件のものを選択することが好ましい。また、めっき条件としては、pH、浴温、電流密度等を適宜調節し、通常pH1〜13、浴温10〜70℃、電流密度0.1〜50A/dm2の条件のものを選択することが好ましい。また、当該導電層の厚みは、3〜130μm、好ましくは8〜20μmとすることが好適である。3μm未満の場合には十分な導電効果を得ることができず、また130μmを超えても導電効果に大差なく却って経済的に不利となり、またエッチング性(パターン)も悪くなる。
【0016】
<下地層>
本発明においては、必要に応じ上記絶縁性フィルムと導電層との間に下地層を形成することができる。当該下地層は、前記絶縁性フィルムと前記導電層との組み合わせにより、またあるいは必要とされる導電層の厚さ等によりその絶縁性フィルム上に直接導電層を形成することが困難な場合に必要とされるものであって、電気的手段によって導電層を形成する際にいわばその電極としての作用を奏したりあるいは塗布手段によって導電層を形成する際にそのアンカー層としての作用を奏するものである。このような下地層は、たとえば前述の各種金属をめっきしたりスパッタリングさせたりすることにより、またあるいは前記導電性インクにおいて導電性物質を含まない組成のインクやレジストを塗布することにより絶縁性フィルム上に形成することができる。これらの中でも、後述のビアホールの内部を均一に被覆するためには、特にめっきおよびスパッタリングを採用することが好ましい。当該ビアホールの内径が小さいものである場合、特にこれらの方法によらなければその内部を被覆することは非常に困難となるからである。通常、この下地層の厚みは、0.05〜2μm、好ましくは0.5〜1μmとすることが好適である。その厚みが0.05μm未満の場合には、導電層を形成させるための効果が十分に発揮されなくなる場合がある一方、2μmを超える厚みで形成させても得られる効果に大差なく却って経済的に不利となる。
【0017】
<ビアホール>
本発明におけるビアホールとは、前記絶縁性フィルムを物理的に貫通するように設けられている小孔であって、その内部全てを埋めるように前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物が充填されている。これにより本発明のビアホールは、前記絶縁性フィルムの表裏両面に設けられている導電層を互いに電気的に接合する作用を奏するものである。本発明においては、このビアホールに対して従来技術のようにその内壁面のみを導電性物質でめっきあるいはコートした手法を取るのではなく、全く新規な着想に基づきその内部の全てを埋めるように導電性物質(すなわち導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物)を充填するといった手法を採用しているため従来技術に比しその電気的接合効果に対する信頼性を飛躍的に向上させたものである。したがって、ビアホールの大きさにかかわらず比電気抵抗を確保できしかも空孔の破裂の問題を同時に解消したものである。このようなビアホールは、内径が10〜100μm、好ましくは20〜30μmとなるように各種レーザ、ドリル、パンチ、プレスなどの開孔手段により物理的に貫通するように開孔される。ただし、予め絶縁性フィルムの片方の面に導電層や下地層が設けられている場合にはそれらの層を含めて物理的に貫通するものであってもよいし、またあるいはこれらの層を物理的に貫通せずに残すようなかたちで上記の絶縁性フィルムのみを物理的に貫通するようにして開孔させることもできる。また、このようなビアホールの形状は、特に限定されることはなく、円形のものや多角形状のものとすることができる。なお、当該ビアホールの前記内径が10μm未満となる場合には電気的接合効果が十分に担保されなくなる場合が生じる一方、100μmを超える場合には前記導電性物質の充填が十分に達成されなくなる場合があるためいずれも好ましくない。
【0018】
<アライメントマーク>
本発明の絶縁性フィルムには、アライメントマークを形成することができる。当該アライメントマークはビアホールの所定の位置を決定する基準となるものであり、通常絶縁性フィルムの両端(ビアホールの設けられていない位置)に形成するのが好適である。このようなアライメントマークは光学的、電子的、磁気的、目視的あるいはその他の読み取り手段によりビアホールの所定の位置を決定できるものであればいかなるものであっても差し支えなく、またその形成方法としても特に限定されるものはない。たとえば、目視的に読み取る場合にはこのアライメントマークとして絶縁性フィルムの両端にこのフィルムを貫通させるようにホールを開けたものが好適である。そしてこのホール(アライメントホールと呼ぶ)はさらに好ましくは一定の間隔を持って連続的に開孔させるのが好適である。このような構成を取ることによりビアホールの位置をさらに簡単に決定することができるようになるからである。このようなアライメントホールの大きさとしては、通常50μm〜3mm程度とするのが好ましく、レーザ、ドリル、パンチ、プレスなどにより開孔させることが可能である。
【0019】
<導電性シートの構造>
以下に、図1〜13を参照して本発明の導電性シートの構造について説明する。
【0020】
図1は本発明の導電性シートの前駆体のひとつを示した概略断面図であって、絶縁性フィルム11にビアホール13が設けられているとともにその片面に導電層12が形成されたものである。図2は本発明の導電性シートの概略断面図であって、上記図1の導電層が形成されていない方の面に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム21の両面に導電層22、24が形成されており、ビアホール23の内部が上記一方の導電層24で充填されたものである。
【0021】
図3は本発明の導電性シートの上記図1とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム31にビアホール33が設けられているとともにその片面には導電層32が、もう一方の片面には下地層35が各形成されたものである。図4は本発明の上記図2とは別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図3の導電層が形成されていない方の面に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム41の両面に導電層42、44(ただしその一方の44は下地層45の上に)が形成されておりビアホール43の内部が上記一方(すなわち下地層45の上に形成させた方)の導電層44で充填されたものである。
【0022】
図5は本発明の導電性シートのまた別の前駆体のひとつを示した概略断面図であって、絶縁性フィルム51にビアホール53とアライメントホール56が設けられているとともにその全面に下地層55が形成されたものである。図6は本発明の導電性シートの概略断面図であって、上記図5の下地層上に導電層を形成させるとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム61の全面に下地層65が形成されており、下地層65上に導電層62を形成するとともにビアホール63の内部が同導電層62で充填されたものである。なお、アライメントホール66は、開孔部が広いため導電層62によって充填されていない。
【0023】
図7は本発明の導電性シートの上記とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム71にビアホール73とアライメントホール76が設けられているとともにその両面に導電層72と74が各形成されたものである。図8は本発明の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図7の導電層上にさらに導電層を形成するとともにこのさらに形成した導電層でビアホールの内部を充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム81の両面に導電層82、84が形成されておりこれらの導電層上にさらに導電層87を形成するとともにビアホール83の内部をこの導電層87で充填させたものである。図9は本発明の別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図7において一方の導電層を残すようにしてビアホールを開孔させたものに対してさらに導電層を形成させたものであり、すなわち絶縁性フィルム91の両面に導電層92、94が形成されており、この導電層92の側から導電層94を残すようにしてビアホール93が開孔されており、さらに導電層92上に導電層97を形成するとともにビアホール93の内部がこの導電層97で充填されたものである。なお、図8および図9中、アライメントホール86、96は、開孔部が広いため導電層87、97によって充填されていない。
【0024】
図10は本発明の導電性シートの上記とは別の前駆体を示した概略断面図であって、絶縁性フィルム101にビアホール103とアライメントホール106が設けられているとともにその両面に導電層102と104が各形成され、さらにその全面に下地層105が形成されたものである。図11は本発明の導電性シートを概略断面図であって、上記図10の下地層上に導電層を形成するとともにビアホールの内部をそれで充填させたものであり、すなわち絶縁性フィルム111の両面に導電層112、114が形成されており、さらにこれらの全面に下地層115が形成され、この下地層115上に導電層117を形成するとともにビアホール113の内部がこの導電層117で充填されたものである。図12は本発明の別の導電性シートを示した概略断面図であって、上記図10において一方の導電層を残すようにしてビアホールを開孔させたものに対して下地層を形成しさらにその上に導電層を形成させたものであり、すなわち絶縁性フィルム121の両面に導電層122、124が形成されており、この導電層122の側から導電層124を残すようにしてビアホール123が開孔されており、さらに導電層122上に下地層125が形成され、この下地層125上に導電層127を形成するとともにビアホール123の内部がこの導電層127で充填されたものである。なお、図11および図12中、アライメントホール116、126は、開孔部が広いため導電層117、127によって充填されていない。
【0025】
図13は本発明の導電性シートの概略平面図であり、当該シートの両端にはアライメントホール136が開孔されているとともに導電層を介してその下にあるビアホール133が透視的に示されている。
【0026】
〈導電性シートの製造方法〉
本発明の上記に記載したそれぞれの構造の導電性シートは、たとえば以下のようにして製造することができる。まず、前記絶縁性フィルム11に対してアライメントマーク(たとえばアライメントホール136など)を付した後当該マークを基準として所定の位置にビアホール133を開孔させる。なお、アライメントマークが形成されていない場合には、X線回折装置などを適宜使用してビアホールの位置決めを行なうことも可能である。また、当該絶縁性フィルムとしてその片方の面に導電層12や下地層35等が設けられている絶縁性フィルム11を用いても差し支えなく、この場合には当該ビアホール13はそれらの層が設けられていない方の面に対して通常開孔されることとなるが、前述のようにそれらの層を含めて物理的に貫通させるか、あるいはそれらの層を残すようなかたちで絶縁性フィルム11のみを貫通するように開孔させてもよい(図1参照)。なお、このような導電層や下地層は各複数形成させたり積層して形成させたりすることができ、また絶縁性フィルムの両面に形成されていても差し支えない(図7、図10参照)。
【0027】
次いで、上記のようにビアホールが設けられた絶縁性フィルム21の表裏両面に導電層22、24を形成するとともに、これらの導電層を構成する構成物によりビアホール23の内部全てを充填させる。本発明においては、このような導電層の形成とビアホールの充填とをひとつの加工操作で同時に行なうことが特に好ましい。製造効率が向上するとともに別途ビアホールの空孔を埋める処理が不要となるからである。このような導電層22、24の形成方法としては、前述の通りめっきやスパッタリングにより形成させたり、またあるいは導電性インクやレジストにより形成させたりすることができるが、本発明の特徴のひとつである導電層を構成する構成物によりビアホールの内部全てを充填させるためには、とりわけめっきによることが好ましく、なかでも電気めっきによることが特に好ましい。なお、前述のように予め絶縁性フィルム21の片方の面に導電層22がすでに設けられている場合には、上記の工程は導電層22が設けられていない片方の面のみについて行なわれ、ビアホールの充填もその導電層24を構成する構成物により充填されることになるが、そうでない場合すなわちビアホールを開孔させた後に絶縁性フィルムの表裏両面に対して導電層を設ける場合は、当該ビアホールの充填は表裏どちらの導電層を構成する構成物により充填されていてもよく、またあるいはそれらの導電層の両構成物により充填されたものであってもよい。また、予め形成されている導電層上にさらに導電層を形成させることもでき、このようにさらに形成される導電層によりビアホールを充填させるようにすることもできる。
【0028】
一方、本発明においては、前述の通り導電層の形成に先立って絶縁性フィルムの表裏両面またはいずれか一方の面に必要に応じ下地層35を設けることもできる。このような下地層35はめっきやスパッタリング、あるいはインクやレジストにより形成することができる。また、このような下地層は、導電層上に形成させることもでき、この層を介して導電層を積層させることができる。
【0029】
そして上記のようにして製造される本発明の導電性シートは、さらにその導電層を任意にエッチング等することにより、絶縁性フィルムの表裏両側において互いに電気的に接合した所望の回路を構成することができ、とりわけ絶縁性フィルムが長尺の連続状のものであり上記回路が複数形成されるような場合には各回路パターンごとにカッティングすることが可能である。
【0030】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0031】
<実施例1> 絶縁性フィルムとしてポリイミドフィルム(厚さ25μmであって全長100mのもの)を用い、その一方の表面に導電層として厚さ12μmの銅箔を熱プレスにより接合させた。次いで、このフィルムの銅箔が接合されていない方の表面に対してUVYAGレーザを照射してポリイミドフイルムの部分のみが物理的に貫通されるように内径が25μmのビアホールを開孔させた。
【0032】
続いて、上記のフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対して金属銅を含有した導電性ペーストをナイフコータにより塗工することにより導電層を形成すると同時に上記のビアホールの内部全てをこの導電性ペーストにより充填することによって本発明の導電性シートを製造した。
【0033】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩ以下であった。
【0034】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0035】
<実施例2>
ビアホールを開孔するところまでは実施例1と全く同様にして一方の面に銅からなる導電層が形成されているポリイミドフィルムを作成した。
【0036】
続いて、このフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対してスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNOCHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅100g/l、硫酸140g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる導電層(厚さ8μm)を形成するとともにこの銅によりビアホールの内部全てを充填させることにより本発明の導電性シートを製造した。
【0037】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩ以下であった。
【0038】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0039】
<実施例3>
絶縁性フィルムとしてガラス繊維強化エポキシ樹脂(厚さ50μmであって全長100mのもの)を用い、その一方の表面に対してスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNO CHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅110g/l、硫酸150g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ9μmの導電層を形成した。続いて、このフィルムの左右両端にドリルを用いて2.0mmのアライメントホールを開孔形成するとともに、当該フィルムの導電層が形成されていない方の表面に対してCO2レーザを照射してガラス繊維強化エポキシ樹脂の部分のみが物理的に貫通されるように内径が25μmのビアホールを、上記アライメントホールを基準として所定の位置に開孔させた。
【0040】
続いて、このフィルムのビアホールが開孔されている方の表面に対して上記と同じスルーホール用無電解銅めっき液(OPC−750無電解銅M(商品名)、OKUNO CHEMICAL社製)を用いて室温、pH12.9の条件下で無電解めっき処理を施すことによって銅からなる厚さ0.5〜1μmの下地層を形成させた。次いで、この下地層が形成されている面に対して硫酸銅めっき液(硫酸銅90g/l、硫酸130g/l、塩素50ppmその他添加剤からなるもの)を用いて温度28〜30℃、電流密度3〜4A/dm2、空気攪拌の条件下で電気めっき処理を施すことによって銅からなる導電層(厚さ8μm)を形成するとともにこの銅によりビアホールの内部全てを充填させることにより本発明の導電性シートを製造した。
【0041】
このようにして得た導電性シートのビアホールの比電気抵抗を測定したところ、1mΩであった。
【0042】
この導電性シートの表裏両面の導電層を任意の回路パターンにエッチングした後、個々のパターンごとにカッティングすることにより半導体用基板や電気、電子部品用回路基板あるいは各種パッケージング等に好適に用いることができた。
【0043】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0044】
【発明の効果】
本発明の導電性シートは、ビアホールの内部全てが導電層を構成する構成物により充填された構造となっていることから従来のものに比し電気的接合効果の信頼性が向上したとともにビアホールの大きさにかかわらず比電気抵抗を確保することができ、また空孔の破裂の問題も同時に解消している。また、このようなビアホールの充填が導電層の形成と同時に行なうことができることから製造効率の向上が図られ、特に従来において導電層の形成、ビアホールに対する加工、空孔の充填加工というように3工程に分かれていたものを1工程でできるようになった点飛躍的な合理化を達成している。さらに、アライメントマークが設けられているものについては、ビアホールの所定の位置を極めて簡単に特定できるという特有の効果をも有している。
【0045】
本発明の導電性シートは、このように優れた効果を有することから民生用または産業用電気電子機器用回路基板や半導体用基板として、またあるいは各種の電気電子機器や部品またはパッケージング材として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図2】本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図3】下地層を形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図4】下地層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図5】下地層を両面に形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図6】下地層を両面に形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図7】導電層を両面に形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図8】導電層を両面に積層形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図9】導電層を積層形成した本発明の別の導電性シートの概略断面図である。
【図10】導電層上に下地層を形成した本発明の導電性シートの前駆体の概略断面図である。
【図11】図10の下地層上に導電層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図12】導電層上の下地層上にさらに導電層を形成した本発明の導電性シートの概略断面図である。
【図13】本発明の導電性シートの概略平面図である。
【符号の説明】
11,21,31,41,51,61,71,81,91,101,111,121 絶縁性フィルム、12,22,24,32,42,44,62,72,74,82,84,87,92,94,97,102,104,112,114,117,122,124,127 導電層、13,23,33,43,53,63,73,83,93,103,113,123,133 ビアホール、35,45,55,65,105,115,125 下地層、56,66,76,86,96,106,116,126,136 アライメントホール。
Claims (7)
- 絶縁性フィルムの表裏両面に導電層が形成されている導電性シートであって、当該絶縁性フィルムを物理的に貫通するように開孔されているビアホールに対して、その内部全てを埋めるように前記導電層の少なくとも一方の導電層を構成する構成物を充填することにより、これら表裏両面の両導電層が互いに電気的に接合可能とされていることを特徴とする導電性シート。
- 導電層を構成する構成物によるビアホールの充填が当該導電層を形成するのと同時に行なわれる、請求項1記載の導電性シート。
- 導電層を構成する構成物によるビアホールの充填および当該導電層の形成が、めっきにより行なわれる、請求項1または2記載の導電性シート。
- 絶縁性フィルムと導電層との間に下地層が形成されている、請求項1〜3のいずれかに記載の導電性シート。
- ビアホールの位置を特定することを目的として絶縁性フィルムにアライメントマークが形成されている、請求項1〜4のいずれかに記載の導電性シート。
- 絶縁性フィルムが長尺の連続状のものである、請求項1〜5のいずれかに記載の導電性シート。
- 絶縁性フィルムが長尺の連続状のものであり、かつそれに形成されている導電層がエッチングされることにより複数の回路パターンを構成するとともに各回路パターンごとにカッティングが可能とされている、請求項1〜6に記載の導電性シート。
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