JP2004002894A - 液晶組成物、液晶組成物の電圧保持率増大方法、および液晶組成物の精製方法 - Google Patents

液晶組成物、液晶組成物の電圧保持率増大方法、および液晶組成物の精製方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 本発明は、液晶組成物に関し、詳しくは吸着剤処理によるキラルドーパントの濃度の低下が小さいか、実質的にない液晶組成物に関し、さらに液晶組成物の電圧保持率増大方法、および液晶組成物の精製方法に関する。
【解決手段】 少なくとも1種以上の非キラル液晶化合物とキラルドーパントとを含有するネマチック液晶組成物であって、吸着剤で処理したときに、前記キラルドーパントの濃度低下が小さいこと、特にキラルドーパントの濃度低下が、処理前の濃度の19%未満であるネマチック液晶組成物を用いることにより上記目的が達成される。
【選択図】  なし

Description

 液晶組成物に関し、詳しくは吸着剤処理によるキラルドーパントの濃度の低下が小さいか、実質的にない液晶組成物に関し、さらに液晶組成物の電圧保持率増大方法、および液晶組成物の精製方法に関する。
 特に最近の10年間に、液晶は種々の産業分野に導入され、そのなかでは電気光学およびデイスプレイデバイス特性(例えば時計、計算機、タイプライターデイスプレイ)が要求されていた。これらのデイスプレイデバイスは液晶性化合物のネマチック、コレステリックおよび/またはスメクチック相の中での誘電配向効果に基いていて、その化合物の分子の長軸は印加された電場の中で優先的な配向−誘電異方性によって起る−を採用している。これらのデイスプレイデバイス中の通常の応答時間は液晶の多くの他の有力な利用分野では余りにも長い。この欠点は大多数の画素がアドレスされているならば、特に顕著である。例えばビデオ装置のような比較的大きなスクリーン面積を含有する装置の生産コストはその場合には一般的に極めて高くなる。
 ネマチックおよびコレステリック液晶に加えて、光学活性スメクチック液晶相は最近数年間にその重要性が増大した。
 クラーク(Clark)およびラーガーウォール(Lagerwall)が示すことが出来たことは、極めて薄いセルの中の強誘電性液晶システムは普通のTN(「ねじれネマチック」)セルよりも1000倍迄も早い応答時間を持っている光学−電気スイッチングあるいはデイスプレイ素子を作製している(例えばラーガーウォール等、「デイスプレイ用の強誘電性液晶」SIDシンポジウム、1985年10月会議、サンディエゴ、カリフォルニア 米国 参照)。これらのおよびその他の好ましい特性、例えば準安定スイッチングの可能性、事実上の視角非依存コントラストによって、FLC(強誘電性液晶)は原理的には例えばマトリックスアドレッシングを通じて上記の適応分野では極めて妥当である。
 電気光学スイッチングおよびデイスプレイ素子にはねじれスメクチック相および直交スメクチック相を形成する化合物の必要性が存在し、あるいは強誘電性のスメクチック相はこのタイプのスメクチック相を形成しているにもかかわらず、それ自身は光学的には活性でない化合物を光学活性化合物によってドーピングすることによって誘起される。希望する相は出来うるかぎりの極めて広範囲の温度範囲に亙って安定でなければならない。
 電気光学成分の中で良好なコントラストを達成するためには、液晶の一様な平面配向が必要である。S* AおよびS* C相中の良好な配向は液晶混合物中の相シーケンスが温度の降下とともに以下のようになるならば達成することができる。
     等方性→ N* → S* A→ S* C
 N*相中でのらせんのピッチが極めて大きく(10μmよりも大きい)、あるいはなおそれよりも良いことというその前提条件は完全に相殺されている。(例えば、T.マツモト(Matsumoto)等、468−470頁、第6回国際デイスプレイ研究会議会議録(Proc.of the 6th Int.Display Research Conf.),日本デイスプレイ、1986年9月30日−10月2日、東京、日本;M.ムラカミ(Murakami)等、同書、344−347頁)。このことはキラル液晶混合物に右手らせんを誘起する他の光学活性ドープを添加することによって達成される。この混合物は、例えばらせんが丁度相殺されるような方法でN*相中では左手らせんを持っている。
 本出願は、式Iのキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体に関係し、
Figure 2004002894
この式の中では
MGはエステルグループを含有しないメソーゲン性のグループあるいは下記の基と結合してエステルグループを含まないメソーゲン性のグループを形成するグループであり、
Figure 2004002894
XはOあるいはCH2であり、
*は少なくとも1個のキラル炭素原子を含有するキラル基である。
 式Iの光学活性2,6−ジフルオロベンゼン誘導体はねじれスメクチック液晶相中のドープとして少量添加された場合においてさえコレステリック相中での高いねじれ度合いの原因になっていることが見出された。
 N*相中に誘起されたらせんはピッチの特異的相殺用の混合物中で有利に使用することができる。本発明によるドープはその高いねじれ能によって少量添加された場合においてさえ他のドープのピッチを相殺していることは特に有利なことである。
 JP−A 2 157 248は類似の、光学活性2,6−ジフルオロベンゼン誘導体を開示している。しかしながら、これら誘導体はエステルグループを含有しており、らせんの相殺には妥当ではない。その理由はこれら化合物が大きなピッチそれ自身を持っているからである。加えて、これら化合物はアクチブマトリックスアドレッシングには不十分である電圧保持率を持っている(例えば、G.ウエーバー(Weber)等、液晶 、1381(1989))。
 本出願は、したがって式Iのキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体に関係し、特にその中ではMGは式IIの基であり、
 R1−(A1−Z1l−A2−Z2          II
この式の中で、
  R1はF、Cl、CF3、OCF3、OCF2H、CNであるか、または、無置換または少なくともハロゲンでモノ置換もしくはシアノ基でモノ置換されていてもよく、且つ1個または2個の隣接していないCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキルもしくはアルケニル基であり;
  A1およびA2は互いに独立して、無置換または1もしくは2個のF原子で置換されていてもよい1,4−フェニレンであり、その際、1または2個のCH基がNで置換されていてもよく、あるいは無置換または1個のシアノ基で置換されていてもよい1,4−シクロヘキシレンであり、その際、さらに、1あるいは2個のCH2基がOあるいはSで置換されていてもよく、あるいはチアジアゾール−2,5−ジイル、あるいは1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレンであり;
  Z1およびZ2はそれぞれ−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−C≡C−または単結合であり、
  lは0、1、2あるいは3である。
 好ましい実施態様は
a) Q*が式IIIの基であるキラル誘導体であり、
   −Q1−C*0YQ22        III
 この式中、
  Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;
  R0は水素、またはYとは異なるC1-6−アルキル基であり;
  YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
  R2はC1-6−アルキルであり、
  C*は4種の異なった置換基をもつキラル炭素原子である;
  ただしR0、Yおよび−Q22は互いに異なっていることを条件とする。
 さらに異なる好ましい実施態様は、
b) Q*が式IVの基であるキラル誘導体であり、
Figure 2004002894
 この式中、
  Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;R2はC1-6−アルキルであり;AはO、SまたはNHであり;Bは2H、CH2、OまたははSである。
 さらに異なる好ましい実施態様は、
c) Q*が式Vの基であるキラル誘導体であり、
Figure 2004002894
 この式中、
  R0は水素、またはYとは異なったC1-6−アルキル基であり;
  YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
  X’は−O−、−CH2−または単結合であり;
  MG’はMGと同じに定義され;
  L1およびL2は互いに独立にHまたはFである。
 さらに異なる好ましい実施態様は、
d) 式I1のキラル誘導体であり、
Figure 2004002894
この式中、R1はF、Cl、CF3、OCF3、OCF2H、CNであるか、または、無置換または少なくともハロゲンでモノ置換もしくはシアノ基でモノ置換されていてもよく、且つ1個または2個の隣接していないCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキルもしくはアルケニル基であり;
 Xは、OまたはCH2であり;
 Q1はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;
 YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
 mは0、1または2であり、
Figure 2004002894
nおよびoはそれぞれ0あるいは1であり、
pは2ないし8である。
 さらに本出願は少なくとも2種の液晶性成分を含有する液晶性媒体を開示しており、その特徴とするところはこれら成分は式VIの構造要素を含有する少なくとも1種のエステルグループを含有しない化合物を含有しており、
Figure 2004002894
(この式中、XとQ*は既に説明したとおりの基である。)
特に式Iの誘導体を含有する液晶性媒体を含有している。
 さらに本出願はこのタイプの液晶性媒体を含有する電気光学デイスプレイ、とくにスーパーツイスト液晶デイスプレイに関係している。
そのスーパーツイスト液晶デイスプレイは
・枠とともにセルを形成する2枚の面平行外側板、
・セル中で正の誘電異方性のネマチック液晶混合物、
・外側板の内側で配向層によってカバーされている電極層、
・外側板の表面での分子の長軸および約1度ないし30度の外側板間のピッチ角度および
・100ないし6000 間の値を有する配向層に対する配向層からセル中で液晶混合物のねじれ角度であって、
その場合にネマチック液晶混合物は
a) 成分Aに基いており、その成分Aは、
   +1.5ないし+40の誘電異方性を有する1種またはそれ以上の化合物からなり、そして40ないし90%、とくに55−85%含有されており、
b) 液晶性成分Bを0−40重量%含有し、その成分Bは、
   −1.5ないし+1.5の誘電異方性を有する1種またはそれ以上の化合物からなり、そして10ないし40%、とくに15−25%含有されており、
c) 液晶性成分Cを0−20重量%含有し、その成分Cは、
   −1.5より少ない誘電異方性を有する1種またはそれ以上の化合物からなり、2ないし20%、とくに5−15%含有されており、および
d) 光学活性成分Dを含有しており、その量はセル厚さ(面平行外側板間の距離)とキラルネマチック液晶混合物の自然のピッチ(p)間の比が約0.025ないし1.0となるように選択され、光学活性成分Dは式Iの少なくとも1種の化合物を含有し、
 ネマチック液晶混合物は少なくとも60℃のネマチック相範囲を持ち、35mPa.sより大きくない粘性を持ち、さらに少なくとも+1の誘電異方性を持っている。但し、化合物の誘電異方性およびネマチック液晶混合物に基くパラメーターは20℃で測定される。
 本発明は少なくとも1種の式Iの化合物を含有するキラルねじれスメクチック液晶性媒体に、
−少なくとも1種のアキラルスメクチック液晶性化合物を含有するアキラルスメクチック成分S、その成分Sの含有量は80ないし98%、特に85ないし95%であり、および
−キラルドープが式Iの化合物であるような少なくとも1種のキラルドープを含有する成分D、その成分Dの含有量は2ないし20%、特に5ないし15%であり
を含有する強誘電性液晶性媒体にも特に関係している。
 本発明はこのタイプの相を含有している電気光学デイスプレイ素子に関係しており、特に液晶、強誘電性液晶性媒体を含有するこのタイプのスイッチングおよびデイスプレイデバイス、外側板、電極少なくとも1配向層および、希望するならば、追加の補助層に関係しており、ここでは少なくとも1種の式Iの化合物を含有する強誘電媒体は請求項7による媒体である。
本発明はさらにアクチブマトリックスアドレッシングを持つ電気光学デイスプレイ素子にも関係しており、その素子は少なくとも1種の式Iの化合物を含有するネマチックあるいはコレステリック相を含有している。
 メソーゲン性のグループと言う用語は当業者には公知であり(例えば、H.ケルカー(Kelker)、H.ハッツ(Hatz),液晶のハンドブック)さらに環メンバー、場合によっては橋掛けメンバーあるいは側鎖グループから成る棒状基を示している。
 「エステルグループを含有しない」と言う用語はメソーゲン性のグループがカーボキシレートグループ−O−CO−および/または−CO−O−を含有しないことを意味している。
 以上および以下においてMG、MG’、A、B、m、n、o、p、R1、R2、R0、A1、A2、Q*、Q1、Q2、Y、X、X1、L1、L2、Z1、Z2およびlは特に記載しない限り、既述の意味を有している。
 以上および以下においてPhFFは下記の式
Figure 2004002894
の2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレングループを意味している。
 従って式Iの化合物は特にIaないしIhの従属式の化合物を含有している。
1−A2−PhFF−Q*             Ia
1−A2−Z2−PhFF−Q*           Ib
1−A1−A2−PhFF−Q*           Ic
1−A1−A2−Z2−PhFF−Q*        Id
1−A1−Z1−A2−PhFF−Q*        Ie
1−A1−Z1−A2−Z2−PhFF−Q*     If
1−A1−A1−A2−PhFF−Q*        Ig
1−A1−A1−Z1−A2−PhFF−Q*      Ih
 これらのなかで、式Ia、Ib、Ic、IdおよびIeが特に好ましい。
枝分かれした側鎖グループR1を含有する今迄のおよびこれ以降の式の化合物は重要であることもある。このタイプの枝分かれグループは一般的に2種類以上の側鎖を含有していない。R1は好ましくは1種より多い側鎖を含有しない直鎖のグループかあるいは枝分かれグループである。
 好ましい枝分かれ基はイソプロピル、2−ブチル(=1−メチルプロピル)、イソブチル(=2−メチルプロピル)、第三級ブチル、2−メチルブチル、イソペンチル(=3−メチルブチル)、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、2−エチルヘキシル、5−メチルヘキシル、2−プロピルペンチル、6−メチルヘプチル、7−メチルオクチル、イソプロポキシ、2−メチルプロポキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブトキシ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2−エチルヘキソキシ、1−メチルヘキソキシ、1−メチルヘプトキシ、2−オクサ−3−メチルブチルおよび3−オクサ−4−メチルペンチルである。
 基R1および特に基R2も交互に不斉炭素原子を含有する光学活性有機基であってもよい。
 R1およびR2は好ましくは15個までの炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニルである。特に5ないし12個の炭素原子を有するアルキル、即ち、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルおよびドデシルが好ましい。これらグループは直鎖あるいは枝分かれしていてもよく、直鎖アルキルグループが好ましい。しかしながら、R2は好ましくはメチルあるいはメチル側鎖、例えばイソプロピルを含有する枝分かれしたアルキルである。Z1、Z2及びZ3は互いに独立であり、好ましくはそれぞれ−CH2CH2−、−C≡C−あるいは単結合であり、特に好ましくは単結合である。
 lは好ましくは0あるいは1であり、oは好ましくは0あるいは1であり、nは好ましくは1あるいは2である。
 A1、A2およびA3好ましくは以下の1−8の内の1の意味を有する:
Figure 2004002894
2、4、5および6、特に6の意味が好ましい。
 これらの式Iおよび従属式の化合物のうちでその中に存在する少なくとも1種の基が上に示した好ましい意味の1を持っているような化合物が好ましい。
その化合物の中で幾つかの極めて好ましい小さなグループは従属式Ia1ないしIe3までのグループである。
Figure 2004002894
Figure 2004002894
 式IIIの好ましいキラル基は式IIIaないしIIIfの化合物である。
 −(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1     IIIa
 −O−(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1   IIIb
 −(CH2m−CHF−Cn2n+1         IIIc
 −O−(CH2m−CHF−Cn2n+1       IIId
 −(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1      IIIe
 −O−(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1    IIIf
この式の中ではそれぞれの場合に
mは0ないし8までの、好ましくは0ないし2の値であり、
nは2ないし14までの、好ましくは2ないし10の値である。
 IVの好ましいキラル基は式IVaおよびIVbの基である:
Figure 2004002894
Figure 2004002894
この式の中ではそれぞれの場合に
mは0ないし8までの、好ましくは1の値であり、
nは2ないし14までの、好ましくは2ないし10の値である。
 式Vの好ましい基は式Vの3,5−選択的にジ置換された−1,4−フェニレン構造である。
 Q*のさらに好ましい意味は式VIおよびVII基であり、
 −Q1−CHF−(CH2S−CHF−Cn2n+1    VI
Figure 2004002894
この式の中では
sは0ないし6であり
nは1ないし10である。
 式Iの化合物は文献に記載されたようなそれ自身公知の方法で合成することが可能であり(例えば、ホウベン−ヴァイル著、有機化学の方法( Methoden der Organischen Chemie )、ゲオルク−ティーメ( Georg−Thieme )出版社、シュツットガルト)のような標準的な著作)、厳密には、公知のしかも上記反応に妥当な反応条件に従って行う。それ自身公知な変法の使用も行ってもよいが、ここでは詳述しない。
 Q*が式IIIの基であり、XがOである式Iの化合物が様式1にしたがって合成された。
 様式1
Figure 2004002894
*が式IIIの基であり、Xが単結合である式Iの化合物が様式2にしたがって合成された。
 様式2
Figure 2004002894
*が式IVの基である式Iの化合物が様式3にしたがって合成された。
 様式3
Figure 2004002894
*が式Vの基である式Iの化合物が様式4にしたがって合成された。
 様式4
Figure 2004002894
 本発明による媒体は少なくとも1種、好ましくは少なくとも2種の式Iの化合物を含有する。本発明による強誘電性媒体は好ましくは1種のアキラルスメクチック化合物をを含有するアキラルスメクチック成分Sを含有しており、キラル化合物Dが少なくとも1種のキラルドープであり、ここでは少なくとも1種のキラル化合物は式Iの化合物である。特に好ましいのは本発明によるキラルねじれスメクチック液晶性相であり、そのキラル基本混合物は式Iの化合物に加えて、負のあるいは低い正の誘電異方性を持っている少なくとも1種の他の成分である。
 キラリティーは好ましくは部分的にあるいは全面的に式Iのキラル化合物に基いている。これらの相は好ましくは1種または2種の式Iのキラル化合物を含有している。しかしながら、式Iのアキラル化合物を利用することも可能であって(例えば、ラセミ体の形態で)、その場合には他の光学活性化合物が相のキラリティーの原因になっている。式Iのキラル化合物が使用されるときには、エナンチオマーを過剰に有する混合物が純粋な光学対掌体に添加するのが妥当である。アキラル基本混合物の上記の他の成分は基本混合物の1から50%にまで、好ましくは10から25%にまで達することも可能である。
 式Iの化合物は、例えばリバースツイストを予防するために、ネマチック液晶性相の成分として妥当である。
 さらに、式Iの化合物はSTN用およびアクティブマトリックスデイスプレイ用のネマチック液晶性の相のためのドープとして使用することも可能である。この場合には、特に、高いらせんねじれ能力(HTP)および高い電圧保持率に傑出している。特に、このタイプのドーピングされた、ネマチック混合物は酸化アルミニウムで処理することによって容易に純粋にすることができ、その際にキラルドープの出現のロスが無く、あるいは事実上無いのである。
 加えて、本発明によるキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体はいわゆる相変化デイスプレイ用の液晶性の媒体を製造するために使用することができる(例えば、Y.ヤベ(Yabe)等、SID 1991 ダイジェスト 261− 264)。
 本発明による液晶性の媒体は式Iの少なくとも1種の化合物を含めて2ないし25、好ましくは3ないし15成分から成っている。他の成分は好ましくはスメクチックあるいはスメクトジェニック物質、特に公知の物質、アゾキシベンゼン類、ベンジリデンアニリン類、ビフェニル類、ターフェニル類、フェニルあるいはシクロヘキシルベンゾエート類、フェニルあるいはシクロヘキシルシクロヘキサンカルボキシレート類、フェニルシクロヘキサン類、シクロヘキシルビフェニル類、シクロヘキシルシクロヘキサン類、シクロヘキシルナフタレン類、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼン類、4,4’−ビス−シクロヘキシルビフェニル類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリミジン類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリダジン類、およびそのN酸化物、フェニル−あるいはシクロヘキシルジオキサン類、フェニル−あるいはシクロヘキシル−1,3−ジチアン類、1,2−ジフェニルエタン類、1,2−ジシクロヘキシルエタン類、1−フェニル−2−シクロヘキシルエタン類、場合によってはハロゲン化したスチルベン類、ベンジルフェニルエーテル類、トラン類および置換された琥珀酸類から成る群から選択される。スメクチック成分Sはこのタイプのアキラル化合物に基いている。
 このタイプの液晶性相の成分として妥当である最も重要な化合物は式I’によって特徴付けることができる,
 R’−L−G−E−R’’             I’
この式の中ではLおよびEはそれぞれ1,4−ジ置換されたベンゼン、シクロヘキサン環、4,4’−ジ置換されたビフェニル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルシクロヘキサン、2,5−ジ置換されたピリミジンおよび1,3−ジオキサン環,2,6−ジ置換されたナフタレン、ジ−およびテトラヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒドロキナゾリンから成るグループから選ばれる炭素環またはヘテロ環であり、
Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−C≡C−、−CO−O−、−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2−CH2−、−CH2−O−、−CO−S−、−CH=N−、−CH2−S−、−COO−Phe−COO−あるいはC−C単結合であり、
Yはハロゲン、好ましくは塩素、あるいはCNであり、
R’およびR’’は1ないし8個の、好ましくは5ないし12個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシ、アルコキシカルボニルあるいはアルコキシカルボニルオキシであり、あるいはこれらの基の1は選択的に弗素、−CF3、−OCF3あるいはCNである。
 これらの化合物の大部分ではR’およびR’’はそれぞれ異なった鎖長さのアルキルあるいはアルコキシグループであり、その炭素原子の全数は一般的には12より多く、好ましくは12ないし20であり、特に13ないし18である。しかしながら提案されている置換基の他の変法もまた公知である。多くのそのような物質あるいはそれらの混合物は商品として入手できる。これらすべての物質は文献公知の方法によって合成可能である。
 本発明による媒体は0.1ないし99%、好ましくは10ないし95%の式Iの化合物を1種あるいはそれ以上多く含有している。0.1−40%、好ましくは0.5−10%の式Iの1種またはそれ以上の化合物を含有する本発明による液晶性相がさらに好ましい。
 成分Sのその他の混合物成分は好ましくは以下の式の化合物である
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
 この式の中ではRおよびR’は互いに独立であって、それぞれ5ないし18個の炭素原子を有するアルキルであり、XおよびX’は互いに独立であって、それぞれ5ないし18個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、ポリフルオロアルキルあるいはポリフルオロアルコキシである。
 本発明による相はそれ自身公知の方法で合成される。一般的には、成分はおたがいに溶解し、便宜的には高温で溶解する。
 妥当な添加剤によって、本発明の液晶性相は改善可能であって、その結果、今迄に公開された液晶デイスプレイ素子のすべてのタイプのなかで、ことにがんぎ飾り、あるいは本棚形態のSSFLCタイプの中で使用することができる。
 以下の実施例は発明を説明するためであって、これを制限するものではない。m.p.=融点、c.p.=透明点である。これまでもおよび今後もパーセント表示は重量%であり、すべての温度表示は℃である。「通常の加工処理」とは水を加え、混合物をジクロロメタンで抽出し、有機相を分離し、乾燥し、蒸発させ、生成物を再結晶および/またはクロマトグラフィーによって精製することを意味している。
 本出願および以下の実施例では、液晶化合物の構造は略成語で示し、化学式への変換は以下の表AおよびBに即して行う。全ての基Cn2n+1およびCm2m+1はnおよびm個の炭素原子をそれぞれに有する直鎖のアルキル基である。
表B中のコーディングは自明のことである。表Aでは、親構造の略成語だけを示している。個々の場合については親構造の略成語にはハイフォンで分離されて置換基のコードR1、R2、L1およびL2が続くのである。
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
Figure 2004002894
 さらに以下の略語を使用する。C:結晶性固体状態、S:スメクチック相(その指標はは相タイプを示す)、N:ネマチック状態、Ch:コレステリック相、I:等方性相。2個の記号の中間の数値は℃表示による転移温度を示す。
実施例1
 ジエチルアゾジカルボキシレート2.6ml(16ミリモル)を室温で4−[トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]−2,6−ジフルオロフェノール5g(15ミリモル)(S)−(+)−2−オクタノール2.1g(16ミリモル)、トリフェニルフォスフィン4.3gおよびTHF80mlの混合物に滴下する。混合物を2時間攪拌し、更に通常の加工処理を行う。クロマトグラフィーの結果(R)−(−)−4−[トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]−1−(1−メチルヘプチルオキシ)−2,6−ジフルオロベンゼン、
C 29 SB 42 Ch 73.8 I
HTP=−7.7、[α]20 D=−6.9(CH2Cl2)が得られた。
 以下の化合物を同様に合成した。
Figure 2004002894
Figure 2004002894
実施例2
 n−BuLiのヘキサン溶液51ミリモルを−100℃で4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2,6−ジフルオロベンゼン46ミリモル、THF500mlおよびカリウム第三級ブトキサイドの混合物に滴下する。混合物を1時間攪拌した後に、(S)−(+)−2−メチルブチルヨーソ60ミリモル、N−ジメチルプロピレン尿素およびTHF15mlの溶液を滴下した。反応混合物を1時間−90℃ないし−70℃で攪拌し、−10℃に加熱した。通常の加工処理およびクロマトグラフィーの結果4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2,6−ジフルオロ−1−(2−メチルブチル)ベンゼンが得られた。以下の化合物を同様に合成した。
Figure 2004002894
Figure 2004002894
実施例3
 NaH30ミリモル、2,6−ジフロロ−4−ペンチルフェノール20ミリモルおよびTHF20mlの混合物を50℃で1時間攪拌し、35℃で(S)−(−)−プロピレンオキサイド30ミリモルを添加する。得られた中間体(2,6−ジフルオロ−4−ペンチル−1−(2−メチル−2−ヒドロキシエチル)ベンゼン)を実施例1と同様に2,6−ジフルオロ−4−ペンチルフェノールと反応させる。通常の加工処理およびクロマトグラフィーの結果、1,2−ジ−(4−ペンチル−2,6−ジフルオロフェニル)オキシプロパンが得られた。
 以下の化合物を同様に合成した。
Figure 2004002894
実施例4
 種々の液晶性の基本素材(A,B)をそれぞれの場合に4−[トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]−1−(1−メチルヘプチルオキシ)−2,6−ジフルオロベンゼン(CCP−308*.F.F)でドープする。基本混合物は以下のような特性と組成を持っている。
Figure 2004002894
 得られたドーピングされた混合物のらせんピッチおよび保持率を測定し、さらにHTPをそれから計算によって求めた。混合物を引き続きアルミニウム酸化物で20分間処理し、らせんピッチおよび保持率を再測定した。この方法で得られた値はアルミウム酸化物処理の後にドープの残余濃度を計算するために使用することができる。得られた値を表Iに示す。
Figure 2004002894
比較実施例1
 実施例4において行われた検討は市販のドープS−811(E.メルク(Merck),ダルムシュタット、ドイツ)、1−メチルヘプチル4−(p−ヘキシルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾエート)を使用して行われた。得られた結果を表IIに示す。
Figure 2004002894
 表Iと表IIを比較して明らかになることは、公知のドープS−811はひくいHR値を持つ混合物を作り、アルミニウム酸化物による処理によって濃度においては新規なドープCCP−308*.F.Fよりも多く減少する。
実施例5
 以下の組成から成るスメクチック基本混合物(BM)がそれぞれの場合式IAの新規なドープ10%でドーピングされた。
PYP−706   3.3%
PYP−707   3.3%
PYP−708   3.3%
PYP−709   3.3%
PYP−906   7.8%
PYP−909  25.6%
NCB−804  31.1%
NCB− 76  15.6%
BCN− 55   6.7%
 得られた強誘電媒体の特性を表IIIに示す。
Figure 2004002894
    IA1 : r=0   X=CH3    m=3
    IA2 : r=0   X=CH3    m=6
    IA3 : r=1   X=F    m=6
Figure 2004002894
実施例6
 24%の水酸化ナトリウム溶液12ミリモルを60℃で4−オクチル−2,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシ−p−ターフェニル10ミリモル、R−(−)−エピクロロヒドリン、ジメチルフォルマミド5mlおよびベンジルトリエチルアンモニウムクロライド20mgの混合物に滴下する。
 その混合物を1時間攪拌し、通常の加工処理操作を行い、ジメチルプロピルマロネート6ミリモル、カリウム第三級ブトキサイド3.3ミリモルおよび第三級ブタノールを得られた未精製のエポキサイド3ミリモルに添加し、その混合物を12時間煮沸した。酸性にし、通常の加工処理さらにクロマトグラフィーによる精製を行うと光学活性のある以下の式のブチロラクトンを生成する。
Figure 2004002894
実施例7
 以下の組成から成る液晶性基本混合物(BM)がCCP−308*.F.Fでドーピングされた。
PCH−5F         5.0%
BCH−2F.F       5.0%
CCP−50CF3      5.0%
CUP−2F.F       6.0%
CUP−3F.F       7.0%
CUP−5F.F       7.0%
CCP−20CF2.F.F 25.0%
CCP−30CF2.F.F 20.0%
CCP−50CF2.F.F 20.0%
得られた混合物は以下の特性を示す。
Figure 2004002894

Claims (17)

  1.  少なくとも1種以上の非キラル液晶化合物とキラルドーパントとを含有するネマチック液晶組成物であって、
     吸着剤で処理したときに、前記キラルドーパントの濃度低下が小さいことを特徴とするネマチック液晶組成物。
  2.  吸着剤で処理したときに、前記キラルドーパントの濃度低下が、処理前の濃度の19%未満であることを特徴とする請求項1記載のネマチック液晶組成物。
  3.  吸着剤で処理したときに、前記キラルドーパントの濃度低下が、処理前の濃度の4%以下であることを特徴とする請求項1記載のネマチック液晶組成物。
  4.  前記吸着剤がアルミニウム酸化物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のネマチック液晶組成物。
  5.  前記キラルドーパントが、エステル基を含まない化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のネマチック液晶組成物。
  6.  前記キラルドーパントが、式Iで表されるキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のネマチック液晶組成物。
    Figure 2004002894
    {式I中、
     MGは、式II:
       R1−(A1−Z1l−A2−Z2   II
     (式II中、R1はF、Cl、CF3、OCF3、OCF2H、CNであるか、または、無置換または少なくともハロゲンでモノ置換もしくはシアノ基でモノ置換されていてもよく、その際1個または2個の隣接していないCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよい炭素数18までのアルキルもしくはアルケニル基であり;
      A1およびA2は互いに独立して、無置換または1もしくは2個のF原子で置換されていてもよく、その際1または2個のCH基がNで置換されていてもよい1,4−フェニレン、無置換または1個のシアノ基で置換されていてもよく、その際1または2個のCH2基がOまたはSで置換されていてもよい1,4−シクロヘキシレン、チアジアゾール−2,5−ジイル、または1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレンであり;
      Z1およびZ2はそれぞれ−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−C≡C−または単結合であり、
      lは0、1、2または3である。)
    で表される基であり、
     Xは、OまたはCH2であり、
     Q*は、
     (a)式III:
      −Q1−C*0Y−Q2−R2  III
     (式III中、
      Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;
      R0は水素、またはYとは異なるC1-6−アルキル基であり;
      YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
      R2はC1-6−アルキルであり;
      C*は4種の異なった置換基をもつキラル炭素原子である;
      ただしR0、Yおよび−Q2−R2は互いに異なっていることを条件とする。)、
     (b)式IIIa〜IIIf:
      −(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1     IIIa
      −O−(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1   IIIb
      −(CH2m−CHF−Cn2n+1        IIIc
      −O−(CH2m−CHF−Cn2n+1       IIId
      −(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1      IIIe
      −O−(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1    IIIf
     (上記各式中、mは0〜8の整数であり、nは2〜14の整数である。)、
     (c)式IV:
    Figure 2004002894
     (式IV中、
      Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;R2はC1-6−アルキルであり;AはO、SまたはNHであり;Bは2H、CH2、OまたはSである。)、
     (d)式V−2:
    Figure 2004002894
    (式V−2中、
      R0は水素、またはYとは異なるC1-6−アルキル基であり;
      YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
      X’は−O−、−CH2−または単結合であり;
      mは3〜5であり;
      L1およびL2は互いに独立にHまたはFである。)、
     (e)式VI:
      −Q1−CHF−(CH2S−CHF−Cn2n+1   VI
     (式中、Q1は1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり、sは0〜6の整数であり、nは1〜10の整数である。)、
    および
     (f)式VII:
    Figure 2004002894
     (式中、Q1は1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり、nは1〜10の整数である。)
    からなる群より選ばれるキラル基である。}
  7.  前記キラルドーパントが、式Ia〜Ihからなる群より選ばれる式で表されるキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のネマチック液晶組成物。
     R1−A2−PhFF−Q*          Ia
     R1−A2−Z2−PhFF−Q*       Ib
     R1−A1−A2−PhFF−Q*       Ic
     R1−A1−A2−Z2−PhFF−Q*     Id
     R1−A1−Z1−A2−PhFF−Q*     Ie
     R1−A1−Z1−A2−Z2−PhFF−Q*  If
     R1−A1−A1−A2−PhFF−Q*     Ig
     R1−A1−A1−Z1−A2−PhFF−Q*  Ih
    {上記各式中、
     PhFFは、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン基であり;
     R1はF、Cl、CF3、OCF3、OCF2H、CNであるか、または、無置換または少なくともハロゲンでモノ置換もしくはシアノ基でモノ置換されていてもよく、その際1個または2個の隣接していないCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよい炭素数18までのアルキルもしくはアルケニル基であり;
     A1およびA2は互いに独立して、無置換または1もしくは2個のF原子で置換されていてもよく、その際1または2個のCH基がNで置換されていてもよい1,4−フェニレン、無置換または1個のシアノ基で置換されていてもよく、その際1または2個のCH2基がOまたはSで置換されていてもよい1,4−シクロヘキシレン、チアジアゾール−2,5−ジイル、または1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレンであり;
     Z1およびZ2はそれぞれ−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−C≡C−または単結合であり;
     Q*は、
     (a)式III:
      −Q1−C*0Y−Q2−R2  III
     (式III中、
      Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;
      R0は水素、またはYとは異なるC1-6−アルキル基であり;
      YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
      R2はC1-6−アルキルであり;
      C*は4種の異なった置換基をもつキラル炭素原子である;
      ただしR0、Yおよび−Q2−R2は互いに異なっていることを条件とする。)、
     (b)式IIIa〜IIIf:
      −(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1     IIIa
      −O−(CH2m−CH(CH3)−Cn2n+1   IIIb
      −(CH2m−CHF−Cn2n+1        IIIc
      −O−(CH2m−CHF−Cn2n+1       IIId
      −(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1      IIIe
      −O−(CH2m−CH(CN)−Cn2n+1    IIIf
     (上記各式中、mは0〜8の整数であり、nは2〜14の整数である。)、
     (c)式IV:
    Figure 2004002894
     (式IV中、
      Q1およびQ2はそれぞれ、1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり;R2はC1-6−アルキルであり;AはO、SまたはNHであり;Bは2H、CH2、OまたはSである。)、
     (d)式V−2:
    Figure 2004002894
    (式V−2中、
      R0は水素、またはYとは異なるC1-6−アルキル基であり;
      YはCH3、ハロゲン、CF3、CF2H、CH2FまたはCNであり;
      X’は−O−、−CH2−または単結合であり;
      mは3〜5であり;
      L1およびL2は互いに独立にHまたはFである。)、
     (e)式VI:
      −Q1−CHF−(CH2S−CHF−Cn2n+1   VI
     (式中、Q1は1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり、sは0〜6の整数であり、nは1〜10の整数である。)
    、および
     (f)式VII:
    Figure 2004002894
     (式中、Q1は1個または隣接していない2個のCH2基が−O−または−S−で置換されていてもよいC1-8−アルキレン基であり、nは1〜10の整数である。)
    からなる群より選ばれるキラル基である。}
  8.  非キラル液晶化合物が、アゾキシベンゼン類、ベンジリデンアニリン類、ビフェニル類、ターフェニル類、フェニルあるいはシクロヘキシルベンゾエート類、フェニルあるいはシクロヘキシルシクロヘキサンカルボキシレート類、フェニルシクロヘキサン類、シクロヘキシルビフェニル類、シクロヘキシルシクロヘキサン類、シクロヘキシルナフタレン類、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼン類、4,4’−ビス−シクロヘキシルビフェニル類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリミジン類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリダジン類、およびそのN酸化物類、フェニル−あるいはシクロヘキシルジオキサン類、フェニル−あるいはシクロヘキシル−1,3−ジチアン類、1,2−ジフェニルエタン類、1,2−ジシクロヘキシルエタン類、1−フェニル−2−シクロヘキシルエタン類、場合によってはハロゲン化したスチルベン類、ベンジルフェニルエーテル類およびトラン類からなる群より選択される化合物であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のネマチック液晶組成物。
  9.  キラルドーパントでドープされた液晶組成物の電圧保持率を増大させる方法であって、
     少なくとも1種の非キラル液晶化合物と、吸着剤で処理したときに濃度低下が小さいキラルドーパントとを混合する工程と、
     ドープされた液晶組成物を吸着剤で処理する工程と
    を有する液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  10.  前記吸着剤による処理工程後の前記キラルドーパントの濃度低下が、処理前の濃度の4%以下であることを特徴とする請求項9記載の液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  11.  前記吸着剤がアルミニウム酸化物であることを特徴とする請求項9または10記載の液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  12.  前記キラルドーパントが、請求項6で定義された式Iで表されるキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体であることを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載の液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  13.  前記キラルドーパントが、請求項7で定義された式Ia〜Ihからなる群より選ばれる式で表されるキラル2,6−ジフルオロベンゼン誘導体であることを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載の液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  14.  非キラル液晶化合物が、アゾキシベンゼン類、ベンジリデンアニリン類、ビフェニル類、ターフェニル類、フェニルあるいはシクロヘキシルベンゾエート類、フェニルあるいはシクロヘキシルシクロヘキサンカルボキシレート類、フェニルシクロヘキサン類、シクロヘキシルビフェニル類、シクロヘキシルシクロヘキサン類、シクロヘキシルナフタレン類、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼン類、4,4’−ビス−シクロヘキシルビフェニル類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリミジン類、フェニル−あるいはシクロヘキシルピリダジン類、およびそのN酸化物類、フェニル−あるいはシクロヘキシルジオキサン類、フェニル−あるいはシクロヘキシル−1,3−ジチアン類、1,2−ジフェニルエタン類、1,2−ジシクロヘキシルエタン類、1−フェニル−2−シクロヘキシルエタン類、場合によってはハロゲン化したスチルベン類、ベンジルフェニルエーテル類およびトラン類からなる群より選択される化合物であることを特徴とする請求項9〜13のいずれかに記載の液晶組成物の電圧保持率増大方法。
  15.  アクティブマトリックスディスプレイ用のキラルドーパントでドープされたネマチック液晶組成物の精製方法であって、
     吸着剤による精製処理前後で、キラルドーパントの濃度の減少が実質的にないことを特徴とする精製方法。
  16.  キラルドーパントの濃度の減少が4%以下であることを特徴とする請求項15記載の精製方法。
  17.  前記吸着剤がアルミニウム酸化物であることを特徴とする請求項15または16記載の精製方法。
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