JP2004002870A - セリウム研磨材製造用の軽希土類原料 - Google Patents

セリウム研磨材製造用の軽希土類原料 Download PDF

Info

Publication number
JP2004002870A
JP2004002870A JP2003166025A JP2003166025A JP2004002870A JP 2004002870 A JP2004002870 A JP 2004002870A JP 2003166025 A JP2003166025 A JP 2003166025A JP 2003166025 A JP2003166025 A JP 2003166025A JP 2004002870 A JP2004002870 A JP 2004002870A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cerium
rare earth
oxide
raw material
abrasive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003166025A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3917953B2 (ja
Inventor
Tetsushi Hisatsune
久恒 哲史
Kazuaki Endo
遠藤 一明
Takehiro Tsunoda
角田 毅弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seimi Chemical Co Ltd
Original Assignee
Seimi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seimi Chemical Co Ltd filed Critical Seimi Chemical Co Ltd
Priority to JP2003166025A priority Critical patent/JP3917953B2/ja
Publication of JP2004002870A publication Critical patent/JP2004002870A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3917953B2 publication Critical patent/JP3917953B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Abstract

【課題】アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減されたセリウムを主成分とするセリウム研磨材製造用の軽希土類原料を提供する。
【解決手段】アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減されたセリウムを主成分とするセリウム研磨材製造用の軽希土類原料であって、当該原料においては、酸化物換算35重量%以上の軽希土類を含有し、当該セリウムが、全希土類酸化物に対して50重量%以上であり、またアルカリ金属酸化物が0.5重量%以下、アルカリ金属及びアルカリ土類金属酸化物の合計が1.5重量%以下であり、酸化トリウム及び酸化ウラニウムの合計が0.05重量%以下であるようにした。
【選択図】    なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はセリウム研磨材製造用の軽希土類原料に関する。
【0002】
【従来の技術】
セリウム研磨材はテレビブラウン管のパネル(前面ガラス)、液晶表示素子用ガラス、各種光学用ガラス及び板ガラス等の研磨に広く用いられている。セリウム研磨材にはCeO (酸化セリウム)の含有率によって高セリウム研磨材と、低セリウム研磨材とに分けられ、酸化セリウムの含有率が高ければ研磨力も大きくなるがコストも高くなる。低セリウム研磨材は酸化セリウムの含有率が50%前後乃至それ以下で、残りはLa(酸化ランタン)、Nd O (酸化ネオジウム)、Pr O11(酸化プラセオジム)等の軽希土類の酸化物からなる混合希土酸化物研磨材である。本発明は低セリウム研磨材の製造方法に適する。
【0003】
セリウム研磨材の原料としては、モナザイト精鉱、バステナサイト精鉱及びバステナサイト精鉱から得られたセリウムコンセントレ−ト等が用いられている。モナザイト鉱は資源的に豊富に存在しているが、トリウムやウラニウム等の放射性元素を比較的多く含んでいることから、ウランやトリウムの原料として用いられることが多く、それを目的として高次な処理体系が確立されている。従ってこれからセリウム研磨材の原料を得るとコスト的に高くなる。従って、比較的安価な低セリウム研磨材の原料としては主としてバステナサイト精鉱が用いられている。
【0004】
バステナサイトはフッ化炭酸希土(R(CO )F)で、原鉱石は鉱脈型鉱床として存在し、例えば12%のバステナサイト鉱石を含有し、磁選や浮選による選鉱により方解石、重晶石、ケイ石等を除いて精鉱とされる。その代表的なマウンテンパス鉱山のバステナサイト精鉱の組成を酸化物換算重量で示すと、例えばCeO :35%、La O :24%、Nd O :8%、Pr O11:3%、他の希土類酸化物:0.7%、全希土類酸化物:68〜73%、強熱減量:20%であり、非希土類元素は同様に酸化物換算で18%(SrO:1%、CaO:1.8%、BaO:2.7%、F:6%、SiO :2.5%、P O :1.2%、Fe O :0.6%、SO :2.2%)含有されている。放射性物質のトリウム、ウラニウムも含まれているが、上限は法的基準値をThO 換算した値0.135%以下に規制されている。
【0005】
バステナサイト精鉱からのセリウム研磨材の製造方法は、例えば精鉱のセリウムやフッ素含量について必要に応じて成分調整し、他の添加剤を加えたりした後、粉砕、粒度調整が行われ、予備乾燥される。次いでロ−タリ−キルン又はシャトルキルン中で600℃〜1000℃で焼成され、粉砕、分級、再度の粒度調整が行われて製品であるセリウム研磨材とされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
我国では低セリウム研磨材原料としては、品質が安定しており、大量に安定的に供給されることから、主としてマウンテンパス鉱山から産出精鉱されたバステナサイトが利用されてきているが、しかし研磨材の組成は、この原鉱石の産出地と当該鉱石の精鉱法及び製造プラント能力によって大半が決定されるので、必ずしも希望通りの満足すべきセリウム研磨材が得られるとは言えなかった。
【0007】
例えば、原料であるバステナサイトにはトリウムやウラン等の放射性物質が含まれており、近年環境問題が重要視されるに従い、法定基準値内とはいえセリウム研磨材中の放射性物質の含量を、可能な限り少なくすることが望まれている。
【0008】
また原料中のアルカリ金属及びアルカリ土類金属元素の含有量が多いと、焼成時にシンタリングの原因となり、酸化希土の均一な焼成がしにくい。焼きすぎると結晶化度が上がり被研磨物にキズを生じやすくなり、焼きが甘いと研削力が低下してしまう。この為焼成温度の制御に十分な注意が必要で、大量の製品を常に均一に製造していくための品質管理が大変である。
【0009】
さらに、原料中には塩基性の強いランタンが炭酸ランタンとして含まれており、焼成により酸化ランタンとして研磨材に含まれることになる。塩基性の強い酸化ランタンの存在は、研磨時に研磨パッドの目詰まりを生じ、研磨面の研磨材水性スラリ−循環によるリフレッシュに悪影響を与える。殊に低セリウム研磨材ではランタン含量が比較的高いので問題となりやすい。この問題はバステナサイト精鉱中に含まれるフッ素によりフッ化ランタンになることにより緩和されるが、フッ素含量はバステナサイト精鉱の組成に依存し、十分緩和されるとは限らない。そこでフッ化希土類を別途添加することも行われているが、これによっても完全とは言えなかった。
【0010】
また低セリウム研磨材の場合は特にフッ素含量は研削力に関係し、フッ素含量は研削力が高く耐久性のあるセリウム研磨材にするのに重要な要素である。即ちフッ化希土類が含まれていると、ガラス表面で機械的な磨擦研磨の他に、一種の水和侵食層が形成され、ケイフッ化物を生成して研磨を促進すると言われている。よって、セリウムの含有量が少ないセリウム研磨材ではフッ素含量の調整は重要である。
【0011】
従って、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減され、ランタンの影響及び研削力の点からフッ素含量を自由にコントロ−ルできるセリウム研磨材の製造方法が望まれていた。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明では、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減されたセリウムを主成分とするセリウム研磨材製造用の軽希土類原料であって、当該原料においては、酸化物換算35重量%以上の軽希土類を含有し、当該セリウムが、全希土類酸化物に対して50重量%以上であり、またアルカリ金属酸化物が0.5重量%以下、アルカリ金属及びアルカリ土類金属酸化物の合計が1.5重量%以下であり、酸化トリウム及び酸化ウラニウムの合計が0.05重量%以下であるようにした。
【0013】
セリウム及びランタンを含む軽希土類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質を含む希土精鉱としては、バステナサイト精鉱以外の希土精鉱、例えば複雑鉱精鉱等を使用することができるが、バステナサイト精鉱を用いてもよく、コスト的には中国白雲鉱希土複雑鉱精鉱が好ましい。
【0014】
アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の化学的な分離除去には、濃硫酸処理による希土類の可溶化と熱水による抽出と不溶解成分の分離、複塩形成による結晶化分離、中和、塩酸処理とPH制御による鉄分、放射性物質の除去、ネオジウム等の有効成分の溶媒抽出分離及び塩化物のアルカリ処理による炭酸塩化の一連の工程を含む従来公知の鉱物の化学的処理方法の採用が好ましい。精鉱中のフッ素は初期の硫酸焙焼で全て除去されてしまう。
【0015】
アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質を化学的に分離除去して得られた軽希土類原料をフッ酸によりフッ素化すると、反応させるフッ酸量により軽希土類原料中の希土類は一様にフッ素化される。反応させるフッ酸量としては、軽希土類原料中に含まれているランタンがフッ化ランタンとなって中和される量を最低とし、また焼成中にこのフッ化希土類が焼結を起こさない量を最高とする。なお最終製品であるセリウム研磨材中のフッ素含量は3〜9重量%が好ましく、高研削性を求める場合には5〜7重量%がよい。従って、これに応じてフッ酸量が選択される。
【0016】
なお、本発明では、必ずしも希土精鉱を出発物質とする必要はなく、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質が化学的に分離除去されてその含量が低減された、セリウムを主成分とされた軽希土類原料を、出発物質としてもよい。
【0017】
また、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質が分離除去されてそれらの含量が低減されたセリウムを主成分とする軽希土類原料の組成としては、好ましくは酸化物換算35重量%以上の軽希土類を含有し、セリウムが全希土類酸化物に対して50重量%以上であり、またアルカリ金属酸化物が0.5重量%以下、アルカリ金属及びアルカリ土類金属酸化物の合計が1.5重量%以下であり、酸化トリウム及び酸化ウラニウムの合計が0.05重量%以下であるのがよい。
【0018】
なお、フッ酸による部分フッ素化の代わりに、セリウムを主成分とするフッ化希土類を添加するようにすることもできる。フッ化希土類の添加により、製品中の酸化ランタン比率を低下させることができ、さらに焼成時に酸化ランタンは酸化セリウム及びフッ素と反応しCeLa O Fのようにマトリックスを形成して研磨に好影響を与える。少なくとも研磨具に悪影響を与えないようにするためには、製品中の酸化ランタン含有量を極力低減することがよい。また最終製品中のフッ素含量が3〜9重量%になるようにするのが好ましい。
【0019】
【発明の実施の形態】
中国白雲鉱希土複雑鉱精鉱(酸化希土換算含量30%)を粉砕し、硫酸焙焼処理して希土類硫酸塩粉とする。その際、HF、CO 、SO 等は揮散する。希土類硫酸塩粉を水で抽出して、BaSO 、CaSO 、SiO などの不溶性残渣を分離する。硫酸希土類溶液に食塩を加え、塩化ナトリウムの複塩として結晶析出させ、その後水酸化ナトリウムで水酸化希土ケ−キとする。これを塩酸と反応させ塩素化するがPHを調整して酸性度を制御して、Th、Feなどの難溶性の水酸化物及び不溶性のシリカ分を分離除去する。
【0020】
塩化希土類溶液から塩化ネオジウムを溶媒抽出し、残余の塩化セリウムを主成分とする希土類塩化物を、重炭酸アンモニウムで処理して軽炭酸希土類原料を得る。水酸化希土類も研磨材原料として考えられるが、炭酸希土類が取扱いが容易である。軽炭酸希土類原料の組成を酸化物換算重量%で一例を示すと、CeO :23.0%、La O :10.0%、Nd O :2.0%、Pr O11:4.8%、他の希土類:0.3%、全希土類:40.1%、強熱減量:58.35%、非希土組成物:1.55%(Na O:0.10%、SrO+CaO+BaO:0.55%、Cl:0.40%、Fe O :0.10%、SO :0.35%)である。なお、酸化トリウム換算の放射性物質量はベクレルレベルでほとんどカウントしない。
【0021】
軽炭酸希土類原料では、放射性物質が実質的に除去され、焼成時のシンタリングの原因となるアルカリ性強塩基物質である酸化ナトリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化ストロンチウム等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属酸化物が除かれている。
【0022】
次に軽炭酸希土類原料を粉砕し、スラリ−状態下にフッ酸水溶液を撹拌下に滴下する。このように炭酸希土類をフッ酸水溶液で処理すると、希土類は一様にフッ素化され、ランタンをはじめ塩基性物質は中和される。反応させるフッ酸量としては、最終製品であるセリウム研磨材中のフッ素含量が3〜9重量%になるようにされる。
【0023】
次に部分フッ素化されたものを焼成する。焼成により主成分のセリウムは4価の酸化セリウムとなる。焼成温度は、目的とする研磨対象物によって結晶化度を制御するので一様でなく、また製品粒度によっても異なるが、600℃〜1000℃の間が好ましい。高研削性を得るためには高い温度での焼成が望ましく、一方、柔らかいガラス材が対象の場合や、研磨後のガラス表面の面精度を重視する場合には、比較的低い温度での焼成が望ましい。焼成後、粉砕し、それぞれの目的に応じて分級し製品であるセリウム研磨材とする。
【0024】
【実施例】
以下に、アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質が化学的に分離除去されてその含量が低減されたセリウムを主成分とする軽炭酸希土類原料を出発物質として、セリウム研磨材を製造した実施例を示す。
【0025】
炭酸希土類中の酸化物換算全希土(TREO)含量41%、TREO中の酸化セリウム含量が60%である軽炭酸希土類原料1800gに水道水1200mlを加え、湿式ボ−ルミルで数時間粉砕し、平均粒度1〜4ミクロンの粉体にした。これを容器内に入れ、水を加えてスラリ−状にし、撹拌しながら55%フッ酸91mlを徐々に滴下し、滴下終了後さらに約1時間撹拌して反応させることにより、部分フッ素化されたスラリ−とした。
【0026】
スラリ−は濾過、予備乾燥後、乾式粉砕器でさらに粉砕し、電気炉中で600℃〜1000℃で、5〜10時間焼成した。放冷後、粉砕、分級して平均粒度が1.4〜2.4ミクロンのセリウム研磨材を得た(これをサンプル1とする)。
【0027】
同様にTREO含量41%、酸化セリウム含量が50%の軽炭酸希土類原料を用いてサンプル1と同様に処理してセリウム研磨材を得た(これをサンプル2とする)。
【0028】
さらに、TREO含量46%、TREO中の酸化セリウム含量が50%の軽炭酸希土類原料1800gに、フッ化希土類270g、水道水1400mlを加え、湿式ボ−ルミルで数時間粉砕し平均粒度1〜4ミクロンの粉体にし、サンプル1及び2と同様に焼成、粉砕、分級処理をしてセリウム研磨材を得た(これをサンプル3とする)。
【0029】
マウンテンパス鉱山のバステナサイト精鉱から製造された市販のセリウム研磨材を比較例として、サンプル1、サンプル2を実施例、サンプル3を参考例として研削力試験を行った。試験方法は削材(青板)を1回45分間研磨し、青板の重量減を測定する。1日8回、4日間同様な操作を繰り返した。比較例の場合の重量減を100として各サンプルの重量減を相対値で表1に示した。なお研磨機として5Bラッピングマシンを使用し、削材として直径50mmの青板を使用、研磨圧は92g/cm 、スラリ−濃度は20重量%、定盤回転数は40rpmとした。
【0030】
【表1】
Figure 2004002870
【0031】
この結果から、本発明のセリウム研磨材はいずれも比較例と比較して優れた研削力を有していることがわかる。また研磨品位については比較例と同等の表面特性を保持していた。
【0032】
【発明の効果】
本発明では希土精鉱を化学的に処理して軽希土類原料としてから、又は化学的に処理されて得られた軽希土類原料を出発物質として使用して、同一プロセス内でフッ酸と反応させて部分フッ素化するので、フッ素化の程度を自由に制御でき、最終製品中のフッ素含量の制御も容易である。
【0033】
同一工程内でのフッ酸による部分フッ素化プロセスであることから、焼成に際してより均質なCeLa O Fマトリックス形成を得ることができ、耐久性のある研磨材にすることができる。
【0034】
またフッ酸による部分フッ素化の代わりに、軽希土類原料にセリウムを主成分とする軽フッ化希土類を添加して焼成する方法によっても、同様に研削力のある研磨材とすることができる。低セリウム研磨材においては、酸化ランタンによる悪影響をCeLa2  Fを生成させる方向で解決できる。
【0035】
本発明方法により製造されたセリウム研磨材は、放射性物質が極めて低いレベルに制御されているので、作業者に対する影響や環境問題に、より配慮した製品といえる。
【0036】
またアルカリ金属及びアルカリ土類金属の含有量が低減されているので、高温焼成時のシンタリングの問題が生じにくく、管理し易い温度条件幅で焼成でき、均一な製品を得ることができる。

Claims (1)

  1. アルカリ金属、アルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減されたセリウムを主成分とするセリウム研磨材製造用の軽希土類原料であって、当該原料においては、酸化物換算35重量%以上の軽希土類を含有し、当該セリウムが、全希土類酸化物に対して50重量%以上であり、またアルカリ金属酸化物が0.5重量%以下、アルカリ金属及びアルカリ土類金属酸化物の合計が1.5重量%以下であり、酸化トリウム及び酸化ウラニウムの合計が0.05重量%以下であることを特徴とするセリウム研磨材製造用の軽希土類原料。
JP2003166025A 2003-06-11 2003-06-11 セリウム研磨材製造用の軽希土類原料 Expired - Lifetime JP3917953B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003166025A JP3917953B2 (ja) 2003-06-11 2003-06-11 セリウム研磨材製造用の軽希土類原料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003166025A JP3917953B2 (ja) 2003-06-11 2003-06-11 セリウム研磨材製造用の軽希土類原料

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001401150A Division JP3837072B2 (ja) 2001-12-28 2001-12-28 セリウム研磨材の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004002870A true JP2004002870A (ja) 2004-01-08
JP3917953B2 JP3917953B2 (ja) 2007-05-23

Family

ID=30438280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003166025A Expired - Lifetime JP3917953B2 (ja) 2003-06-11 2003-06-11 セリウム研磨材製造用の軽希土類原料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3917953B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005070832A1 (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 酸化物固溶体粉末

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005070832A1 (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 酸化物固溶体粉末
CN100410176C (zh) * 2004-01-21 2008-08-13 三井金属鉱业株式会社 氧化物固溶体粉末
JP4906348B2 (ja) * 2004-01-21 2012-03-28 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材及びその研摩方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3917953B2 (ja) 2007-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09183966A (ja) セリウム研摩材の製造方法
AU762001B2 (en) Cerium based abrasive material, raw material thereof and method for their preparation
US7722692B2 (en) Cerium oxide-based abrasive, and production method and use thereof
WO2007105714A1 (ja) 希土類フッ化物を含有する組成物から希土類元素を回収する方法
US20070258875A1 (en) Mixed Rare Earth Oxide, Mixed Rare Earth Fluoride, Cerium-Based Abrasive Using the Materials and Production Processes Thereof
JP4248937B2 (ja) 希土類元素を含有する廃液から希土類酸化物を回収する方法
CN103124615A (zh) 铈系研磨材料
CN103509472A (zh) 铈基混合稀土抛光粉及其制备方法
CN101104791B (zh) 铈系研磨材料及其原料
TW200422387A (en) Method for evaluating the quality of abrasive grains, polishing method and abrasive for polishing glass
CN101735768B (zh) 一种稀土类抛光粉制备方法
JP4585991B2 (ja) セリウム系研摩材
JP3837072B2 (ja) セリウム研磨材の製造方法
CN111051463B (zh) 铈系研磨材料用原料的制造方法和铈系研磨材料的制造方法
JPH11269455A (ja) セリウム系研摩材の製造方法
JP3917953B2 (ja) セリウム研磨材製造用の軽希土類原料
JP3779925B2 (ja) セリウム研磨材の製造方法
JP3365993B2 (ja) セリウム系研摩材およびそのための原料、ならびにそれらの製造方法
JP3995411B2 (ja) セリウム系研摩材の製造方法
JP3607592B2 (ja) セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
CN107674592B (zh) 钐铈稀土抛光粉及其制备方法
JP4394848B2 (ja) セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
JP4395049B2 (ja) セリウム系研摩材及びセリウム系研摩材の製造方法
JP3838870B2 (ja) セリウム系研摩材用原料の製造方法及びその方法により製造されるセリウム系研摩材用原料
CN115461427B (zh) 铈系研磨材浆料原液和其制造方法、以及研磨液

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060711

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060908

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061024

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140216

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term