JP2003531029A - 版に像形成を行う方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、版に像形成する方法に関しており、ここではインキ受容層とこのインキ受容層上に位置するインキ反撥層とを備えた版が準備される。本発明によれば、インクジェット印刷装置を用いて、印刷しようとする像に応じて現像液がインキ反撥層に塗布され、現像液によって、噴射された領域においてインキ反発層がふ腐食もしくは溶解され、膨潤されるか、または保持手段が取り除かれ、インキ反撥層の、腐食または溶解された領域が除去される。特にシリコーンから成るインキ反撥層を備えた水なし版が使用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、請求項１の上位概念に記載の、版に像形成を行う方法に関する。

【０００２】 オフセット印刷用の平版もしくは版の像形成は様々な方法で公知である。その
うちの１つによれば、写真感光性の版がレーザで露光され、次いで湿式で現像さ
れる。さらに従来技術ではいわゆるサーマル版が公知であり、ここではレーザエ
ネルギによって、最上位の層の架橋が得られ、別のステップにおいて、そのよう
に接合されるプロセスが最後まで行われる。別の方法では、いわゆる熱研磨版（
thermisch ablasive Platte）が選択される。そこでは吸収性の中間層が、レー
ザによって気化され、これに基づいてこの中間層上に位置するインキ反撥層が溶
解され、かつ後続のステップで取り除かれる。（米国特許第５４８７３３８号明
細書参照）。

【０００３】 さらに適当な液体を塗布することによって版に像形成を行うことが公知である
。米国特許第４０１３３１２号明細書によれば、版基板にシリコーン溶液を、印
刷しようとする像に応じて塗布して、そこで硬化させ、これによって版の必要な
表面構造が形成される。しかしながら塗着しようとするシリコーン層の処理は困
難である。さらに塗着されるシリコーン層の硬化が生じる。

【０００４】 特開平１０−１１９２３０号公報には、版を製作する方法が開示されている。
この版では、インキ受容層たとえば印刷層が、親水性の層に載設されている。版
を製作するために、インキ受容層は、インクジェットによって像形成材料で塗布
されるので、印刷されない領域は水溶性である。

【０００５】 したがって本発明の課題は、版に像形成を行う方法を提供することである。

【０００６】 この課題は、請求項１の特徴部に記載した方法によって解決される。

【０００７】 特に本発明で得られる利点によれば、インクジェット印刷装置を用いて、印刷
しようとする像に応じて現像液をインキ反撥層に塗布し、現像液によって、塗布
された領域においてインキ反撥層を溶解し、インキ反撥層の溶解された領域を取
り除く。

【０００８】 つまりインクジェット印刷装置を用いた、直接的な最上位の層に対して噴射も
しくは塗布を行うことによって、最上位の層が取り除かれるか、もしくはこの層
が除去可能になるまで溶解される。現像液によって、インキ反撥層の性質は、現
像液で塗布される領域において簡単に取り除くことができるように、変化される
。現像液の塗布されない領域が版に残存するので、所望の表面構造が得られる。
インキ反撥層が取り除かれる領域において、インキ受容層が露出されるので、版
は、印刷しようとする像に応じてインキ受容領域とインキ反撥領域とを備えてい
る。インクジェット印刷装置によって、現像液は滴下して正確に塗布することが
できる。

【０００９】 記載の方法で版の表面層を直接的に腐食もしくは溶解することによって、著し
い利点が得られる。インクジェット方法のより高い運転確実性が得られ、特に従
来の方法で公知のインク乾燥が防止される。シリコーン溶液を噴射（塗布）する
際、または版の写真現像のための光拒絶性（lichtabweisend；光を受容しない）
の印刷インキを塗布する際に、多くの場合印刷ヘッドの閉塞が生じ、これによっ
て手間のかかるクリーニングが必要となるか、もしくは印刷ヘッド全体が使用不
能になる。これに対して本発明で使用される現像液によって、インクジェット印
刷装置の印刷ヘッドの閉塞が生じない。

【００１０】 さらに版の加工の際に別のステップが省略される。このステップとは、たとえ
ば噴射されるシリコーンもしくは合成樹脂の硬化、または剥離されない領域が固
着した後の感光層の一般的な写真現像である。

【００１１】 特に有利には、版の記載の像形式の際に、従来公知の方法では維持する必要の
あった印刷機における純粋なスペース条件を省略することができる。なぜならば
材料が塗着されず、単に材料が取り除かれるからである。

【００１２】 原則として、種々異なる版を使用することができる。有利には、特にシリコー
ンから成るインキ反撥層を備えた水なし版が使用される。インキ受容層として、
インキ反撥層のための現像液に耐える種々異なる層が考慮される。特にシリコー
ン層の下方に位置するようにポリエチレン箔を設けることができる。

【００１３】 有利には、使用される現像液は溶解層に調和される。特にインキ反撥層の適当
な領域を液化するような溶媒が使用される。これによってシリコーン層は、後続
のステップで、溶解される領域において特に簡単に取り除くことができる。

【００１４】 版の上位の層の、腐食もしくは剥離される領域を取り除くために、種々異なる
方法が考慮される。たとえば溶解される領域は、第１の印刷インキまたは適当な
クリーニングユニットで機械的に除去される。有利には、版の上位の層において
溶解される領域は、版の機械負荷によって、特に印刷過程によって除去される。
これによって像形成のために必要な作業ステップが減少され、効率的で簡単な版
像形成が得られる。

【００１５】 インキ反撥層の、既に記載の腐食もしくは溶解および除去に代わって、原則と
して、上位のインキ受容層に、インクジェット印刷装置を用いて記載の方法で現
像液を塗布し、これによって腐食もしくは溶解して除去することができるので、
この場合下位のインキ反撥層は領域ごとに露出される。有利には、前述の方法で
、特にシリコーンから成る上位のインキ反撥層を備えた版が使用され、この層は
領域ごとに印刷しようとする像に応じて除去される。

【００１６】 次に本発明の実施の形態を図示の実施例を用いて詳しく説明する。

【００１７】 図１に示された版０１は、支持層もしくは基板０２を備えており、この基板０
２はアルミニウムから形成されていてよく、かつ所望の機械的性質を得るために
適当な厚さを有している。この基板０２上に、インキ受容層０３が取り付けられ
ていて、ならびにこのインキ受容層上に位置するインキ反撥層０４が取り付けら
れている。インキ受理層０３は、ポリエチレン箔として形成されていてよい。そ
の厚さは、５〜５０μｍの範囲であり、有利には２０μｍである。インキ反撥層
０４はシリコーンから形成されている。その厚さは適当に選択されている。イン
キ反撥層の厚さは数μｍの範囲であり、この実施例では約２μｍである。基板０
２とインキ受容層０３との間に、接着層または下塗り層が位置していてよい。図
示の実施例では、酸化チタン層が設けられている。

【００１８】 有利には、米国特許第５４８７３３８号明細書に記載されているように、Ｐｒ
ｅｓｓｔｅｋ（ＰｅａｒｌＤｒｙ）社の水なし版が使用される（版の構造に関し
ては前掲明細書の記載参照）。

【００１９】 印刷しようとする像に応じてたとえばシリコーン層０４をたとえば剥離するも
しくは除去するために、インクジェット印刷装置の、図１に概略的に示された印
刷ヘッド０５によって、現像液として溶媒がシリコーン層０４の表面に滴下して
被着される。印刷ヘッド０５の制御は、インクジェットプリンタにとって一般的
な形式で行われる。印刷しようとする像に応じて被着された溶媒は、この溶媒の
被着された領域でシリコーンを液化するので、この領域におけるシリコーンは簡
単に剥がし取ることができる。液化に代わって、シリコーン層０４の性質変化は
、膨潤または下位に位置する層に対する保持力の減少によって行うこともできる
。腐食されたシリコーン層０４もしくは腐食された領域は、第１のインクまたは
適当なクリーニングユニットで継続案内することができる。この場合有利には、
腐食されたシリコーンが液体として存在する。特に液化されたシリコーンは、印
刷過程の機械的な負荷によって取り除くことができる。

【００２０】 図２には、シリコーン層０４の取り除かれた領域を備えた、像形成の完成され
た版が示されている。版０１は、印刷インキと接触され、印刷インキは、インキ
受容性のポリエチレン層０３だけに、つまりシリコーン層０４が取り除かれた領
域だけに付着される。それに応じて版の形成像は、印刷しようとする支持体に伝
達される。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の方法に基づく、印刷ヘッドを用いて現像液を塗布するまえの元来の状
態の版を示す概略図である。

【図２】 像形成したあとの、図１の版を示す概略図である。

【符号の説明】

０１ 版、 ０２ 基板、 ０３ インキ受容層、 ０４ インキ反撥層、 ０５ 印刷ヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＫ，ＤＭ ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ， ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ゲオルク シュナイダー ドイツ連邦共和国 ヴユルツブルク フリ ッツ−ハーバー−シュトラーセ 13 Ｆターム(参考） 2C056 FB01 2H084 AA26 AA32 BB02 BB13 CC06 2H114 AA05 AA22 BA00 BA10 DA38 EA01 EA02 FA16

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 版に像形成を行う方法において、 インキ受容層（０３）と、該インキ受容層（０３）上に位置するインキ反撥層
   （０４）とを備えた版（０１）を使用し、版（０１）に、インクジェット印刷装
   置（０５）を用いて、印刷しようとする像に応じて現像液をインキ反撥性の層（
   ０４）に塗布し、現像液によって、負荷された領域におけるインキ反撥層（０４
   ）を変化させ、インキ反撥層（０４）から、変化された領域を取り除くことを特
   徴とする、版に像形成を行う方法。
2. 【請求項２】 シリコーンから成るインキ反撥層（０４）を備えた、水なし
   オフセット印刷用の版（０１）を使用する、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 現像液を使用し、現像液によって、インキ反撥層（０４）の
   、現像液の塗着された領域を液化させる、請求項１または２記載の方法。
4. 【請求項４】 インキ反撥層（０４）にける溶解された領域を、機械的な負
   荷によって版（０１）から取り除く、請求項１から３までのいずれか１項記載の
   方法。