JP2003094597A

JP2003094597A - 平版印刷版の作製法

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Publication number: JP2003094597A
Application number: JP2002174462A
Authority: JP
Inventors: Damme Marc Van; マルク・バン・ダメ; Johan Loccufier; ヨハン・ロキユフイエ
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa Gevaert NV
Priority date: 2001-06-15
Filing date: 2002-06-14
Publication date: 2003-04-03
Also published as: DE60111363T2; DE60111363D1; EP1266750B1; EP1266750A1

Abstract

(57)【要約】【課題】湿し液及び／又はインキによりオンプレスで
版を現像することができ、分離された処理装置又は化学
品が必要でなく、通常の版と同じ版特性及び平版印刷特
性を有する平版印刷版を与え、複雑でなく、比較的安価
なインキジェットプリンターのみを必要とする平版印刷
版の作製法を提供すること。【解決手段】ネガティブ作用性平版印刷版の作製法を
開示する。平版支持体及び画像形成層を含む印刷版前駆
体を印刷機上に搭載する。溶解阻害剤を含有する液体を
インキジェット印刷により前駆体上に画像通りに分配す
る。湿し液及びインキを適用することにより前駆体を印
刷機上で現像し、それにより画像領域を保持して非−画
像領域を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の分野】本発明は直接インキジェット印刷による
平版印刷版の作製に関する。

【０００２】

【発明の背景】印刷の従来の方法には凸版印刷、グラビ
ア印刷及びオフセット平版印刷が含まれる。これらの印
刷法のすべては画像のパターンでインキを転写するため
の版を必要とし、それは通常効率のために回転印刷機の
版胴上に搭載される。凸版印刷では、画像パターンが版
上に隆起した領域の形態で与えられ、それがインキを受
容し、それを刷りによって記録媒体上に転写する。対照
的にグラビア印刷胴は、記録媒体上に堆積させるために
インキを受容するスクリーン目又はくぼみの系列を含有
する。

【０００３】従来のオフセット平版印刷の場合、印刷さ
れるべき画像はインキ反発性（疎油性もしくは親水性）
背景上におけるインキ受容性（親油性）領域のパターン
として版上に存在する。湿式システムでは、インキ供給
の前に湿し（ｄａｍｐｅｎｉｇ）（又は「湿し（ｆｏｕ
ｎｔａｉｎ））液を最初に適用することによって、必要
なインキ反発性が与えられる。通常の予備増感平版印刷
版はフォトポリマー又はジアゾニウム化学に基づくＵＶ
感受性コーティングを有する。版は画像を保有するマス
クを介してＵＶ−露出されねばならない。マスクは、ハ
ロゲン化銀化学に基づき、カメラもしくはイメージ−セ
ッターによる露出を含み、且つさらに湿式処理を含む写
真法により作製されるグラフィックアートフィルムであ
る。用いられる版の型に依存して（ネガティブもしくは
ポジティブ）、非−画像領域もしくは画像領域が可溶化
され、それにより親油性と親水性領域に版を分化させ
る。この従来の方法の欠点は、必要でやっかいな、湿式
処理を含む写真の中間フィルムの作製である。さらに別
の欠点は、印刷版自身の湿式処理である。

【０００４】印刷に導くグラフィックデザインプロセス
に改革を起こすことでコンピューターが出現して、写真
的な中間物質をもはや必要としない簡便且つ安価なダイ
レクト刷版（ｃｏｍｐｕｔｅｒ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）シ
ステムを開発する広範囲の努力があった。近年では、種
々の化学的システム及び露出法に基づくこれらのシステ
ムのいくつかが市場に導入されている。例えばＡｇｆａ
−ＧｅｖａｅｒｔＮ．Ｖ．の商標であるＳＥＴＰＲＴ
ＩＮＴ材料はハロゲン化銀ＤＴＲ化学に基づいており、
光−様式の露出及び処理の後に相補的な親油性及び親水
性領域を生ずる写真コーティングを保有するポリエチレ
ンテレフタレートベースから成る。光−様式の露出に基
づいているが、親水性アルミニウムベースを有する他の
システムは、Ａｇｆａ−ＧｅｖａｅｒｔＮ．Ｖ．の商
標であるＬＩＴＨＯＳＴＡＲである。強力な赤外レーザ
ーによるヒートモード露出に基づくシステムはＴＨＥＲ
ＭＯＳＴＡＲと呼ばれ、これもＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒ
ｔＮ．Ｖ．の商標である。

【０００５】新しいダイレクト刷版システムの多くは大
きく、複雑且つ高価である。それらは大きな印刷会社に
より、それらの印刷運転のプリプレスプロセスを合理化
し、それらの顧客により与えられるグラフィックデザイ
ンのデジタル情報への迅速な交換及び応答を利用するた
めの手段として用いられるために設計されている。平版
印刷を用いている多くの比較的小さいプリンターのため
の経済的且つ有効なダイレクト刷版システムを求める強
い要求がまだある。

【０００６】これらの比較的小さいプリンターの要求を
満たすために、平版印刷版の作製において用いるための
複数の電子的ノン−インパクト印刷システムが研究され
てきた。これらの中のまず第１に、例えば米国特許第
５，３０４，４４３号及びその中の引用文献に記載され
ているようなレーザー印刷システムがあった。平版印刷
のための経済的且つ簡便なダイレクト刷版作製のために
注目を受けてきた他のノン−インパクト印刷システム
は、例えば米国特許第４，９５８，５６４号に記載され
ているような熱転写印刷である。

【０００７】近年、インキジェットプリンターがコンピ
ューターのための最も人気のあるハードコピー出力プリ
ンターとしてレーザープリンターに取って替わってき
た。インキジェットプリンターのいくつかの競争的利点
は、低コスト及び信頼性である。インキジェット印刷シ
ステムは比較的迅速な画像出力システムであり、それは
複雑な光学システムを必要としないので簡単な構造を有
している。最近、平版印刷版の作製のためのインキジェ
ットプリンターの使用を提案するいくつかの報告が文献
中にある。

【０００８】特開昭６２−２５０８１号公報において
は、親油性液体又は流体インキがインキジェット印刷に
より平版印刷版の親水性アルミニウム表面上に印刷され
た。チタネートもしくはシランカップリング剤がインキ
中に存在した。

【０００９】平版印刷版の作製のためのインキジェット
印刷装置がＰＣＴＷＯ９４／１１１９１に記載され
ている。それは疎水性印刷版上に疎水性もしくは親水性
物質を堆積させることを目的としている。

【００１０】米国特許第５，５０１，１５０号におい
て、インキジェット印刷により銀−還元可能な画像を形
成する材料を含有する流体インキと親水性媒体のセット
が金属銀画像の形成のために用いられ、それは十分に疎
水性の銀画像の形成のための湿式処理に続いて、平版印
刷版を与えると言われている。

【００１１】インキが液体もしくは流体型のインキでは
なくて固体又は相変化型のインキであるインキジェット
印刷が、オフセット版の表面上に熱ワックスを堆積させ
るために米国特許第４，８３３，４８６号に記載されて
いる。ワックスが冷却されるとそれは固化し、それによ
り印刷版を与える。固体のインキジェット印刷は、ワッ
クスもしくは樹脂画像がその熱可塑性、化学的性質及び
接着性のために限られた耐久性を有し、媒体上の固化し
たインキジェット滴の量及び丸い形が液体のインキジェ
ット印刷で見られる本来の解像性を有していない点で、
平版印刷版のために重大な欠点を有する。

【００１２】例えば特開昭６３−１０９，０５２号公報
におけるように、感光性平版印刷版ブランクに不透明画
像もしくはマスクパターンを適用するためのインキジェ
ット印刷の使用における先行技術もある。次いでブラン
クをインキジェット画像形成されたマスクパターンを介
して露出し、次いで通常の手段により処理し、平版印刷
版を得る。この方法は通常の平版印刷版の材料及び処理
をそのまま保留しており、それを介して通常の版を露出
するフォトマスクの代わりとしてインキジェット印刷を
用いているだけである。かくしてこの方法は版作製法の
複雑性及び費用を増しており、版の疎水性画像のことで
インキジェットインキ画像に依存してはいない。米国特
許第５，４９５，８０３号は印刷版用のフォトマスクの
作製のための固体もしくは相変化型のインキジェット印
刷を記載している。

【００１３】インキジェット印刷システムの使用による
印刷版の作製法のさらに別の例として、特開平３−１１
３４５６号公報は、インキ−反発性材料（例えば硬化可
能なシリコーン類）をインキジェット印刷により印刷版
上に印刷することによる印刷版の作製法を提案してい
る。この方法により得られる印刷版は、基質の表面上に
形成されるインキ−反発性材料が非−画像部分として働
く凹版印刷版である。結果として、印刷される蔭領域に
おける画像又は反転した線の解像度はあまり良くない。
さらに、印刷版の表面のほとんどを占める非−画像部分
全体の上にインキ−反発性材料を堆積させねばならない
ので、この方法では多量のインキが必要であり、それに
より印刷プロセスを遅らせる。

【００１４】ＵＳ−Ｐ−５５１１４７７は：フォト
ポリマーインキ組成物を用いるインキジェット印刷によ
り基質上にポジティブもしくはネガティブ画像を形成
し、場合により約３０℃〜２６０℃の温度に予備加熱
し、得られる印刷された基質をＵＶ線に供し、それによ
り該インキ組成物を硬化させて該画像を形成することを
含むフォトポリマー性レリーフ型印刷版の作製法を開示
している。これは、時として該インキの高い蒸気圧及び
毒性のために、いやな方法である。

【００１５】ＵＳ−Ｐ−５３１２６５４は：インキ
吸収層及び基質と吸収層の間の親水性化層を有する基質
上に光重合可能なインキ組成物を用いるインキジェット
印刷により画像を形成し、それを該インキ組成物が増感
されている波長領域内の化学光に露出し、画像を硬化す
ることを含む平版印刷版の作製法を開示している。該印
刷版の印刷耐久性は低い。

【００１６】特開平４−６９２４４号公報は、親水性処
理に供された記録材料上に光硬化可能な成分を含有する
疎水性インキを用いるインキジェット印刷により印刷画
像を形成し、表面全体を化学光に露出する段階を含む印
刷版の作製法を開示している。しかしながら、平版印刷
版のために用いられるべき基質の表面は通常、優れた親
水性及び保水性を得るために、機械的研磨、陽極酸化又
は親水性処理のような種々の処理に供される。従って、
非常に高い表面張力を有するインキ組成物の使用でさ
え、インキのスプレッディングの故の基質の表面上の劣
った画像及び低い印刷耐久性を生ずる。

【００１７】ＥＰ−Ａ−５３３１６８は、インキ印刷
の後に除去されるインキ吸収層を平版ベースにコーティ
ングすることによる該インキスプレッディングを避ける
ための方法を開示している。これは不経済でやっかいな
方法である。

【００１８】１９８８年５月のＲｅｓｅａｒｃｈＤｉ
ｓｃｌｏｓｕｒｅ２８９１１８は、インキが疎水性ポ
リマーラテックスであるインキジェットを用いる印刷版
の作製法を開示している。しかしながら該印刷版は悪い
インキ受容性及び低い印刷耐久性を有する。

【００１９】ＥＰ−Ａ−００３７８９は親油性インキ
を用いるインキジェット法によるオフセット印刷版の作
製法を開示している。該インキがいかにして製造される
かは示されていないが、実施例からそれが人工のラテッ
クスに関連していることが明らかであり、それは製造が
困難である。

【００２０】ＪＮ−５７／０３８１４２はブランク印刷
版上にインキ画像を形成することによる、及び又、この
画像−形成領域にトナーを粘着させることによってこの
画像を熱的に定着させることによる印刷版の作製法を開
示している。インキの組成は言及されておらず、トナー
の組成のみが開示されている。

【００２１】ＪＮ−０７／１０８６６７は、インキジェ
ット書き込みの時点に導電性支持体にバイアス電圧を適
用することによる、静電引力型インキセットシステムに
従い、表面層が親水性にされた導電性支持体上に親水性
物質を含有するインキ画像を形成し、それを乾燥又は硬
化させる版−作製法を開示している。これはやっかいな
方法である。

【００２２】ＵＳ−Ｐ−５，２１３，０４１は、熱融解
可能な成分を含有する噴射可能な物質を用いるジェット
印刷により、版表面上に画像形成堆積物を射出する、印
刷のための再使用可能な印刷版の作製法を開示してい
る。画像は画像形成堆積物を形成し、それを可変周波数
且つ可変出力の誘導加熱器を用いて印刷版の表面に融着
させる。

【００２３】ＷＯ９７／４３１２２に従うと、遷移金
属錯体及び有機カルボニル化合物より成る群から選ばれ
る反応性成分を含むインキジェット流体により平版印刷
版が作製される。好ましい態様では、反応性化合物は１
種もしくはそれより多い有機酸のクロム錯体を含む。

【００２４】ＷＯ００／４６０３４において、少なく
とも１面上の親水性多孔質層及び親水性多孔質層に接着
されたインキ受容性熱可塑性画像層を有する基質を含
み、ここでインキ受容層が低い表面エネルギー及び酸を
用いて少なくとも部分的に中和された複数の第３級アミ
ン部位を有するポリマーを含有している印刷可能な媒体
が開示されている。さらに、第３級アミン部位を有する
ポリマーを流体中で、インキジェット印刷により親水性
多孔質層上に適用する方法が開示されている。類似の流
体がＷＯ００／４６０３８に開示されている。

【００２５】ＷＯ９７／３９８９４に、感熱性組成物
及びそれを用いる平版印刷版の作製法が開示されてい
る。平版ベース上に好ましくはフェノール樹脂及びフェ
ノール樹脂と熱的にもろい錯体を形成する化合物の錯体
をコーティングする。この錯体は非錯体化フェノール樹
脂より現像液中で可溶性が低い。さらにレーザー吸収性
材料が存在することができる。錯体が例えば高−出力Ｉ
Ｒ−線により画像通りに加熱されると、錯体は壊れて非
−錯体化フェノール樹脂が現像液中に溶解するのを許
す。ポジティブ作用性印刷版が得られる。この記述はＷ
Ｏ９８／４２５０７においてさらにみがきをかけら
れ、そこには特殊な溶解阻害剤が開示されている。

【００２６】ＥＰ８６４４２０に、水性アルカリ性溶
液中で可溶性のポリマーを含む層及びＩＲ−感受性最上
層を平版ベース上に含む、ポジティブ作用性平版印刷版
の作製のための感熱性画像形成要素が提供されている。
画像通りに露出されると、最上層に浸透するか、又はそ
れを可溶化する水性アルカリ性溶液の容量が変化する。

【００２７】上記で引用した参照文献に従うヒートモー
ドに基づく平版印刷版前駆体は、高価で寿命の短い高出
力ＩＲ露出装置が備えられた複雑で高価なプレートセッ
ター装置をそれらが必要とするという欠点を示す。さら
にそれらの作用様式はポジティブ作用性に限られてい
る。

【００２８】ヨーロッパ特許出願出願番号０１０００１
５０において、インキジェット印刷によりネガティブ作
用性平版印刷版を作製するための方法が開示されてい
る。この方法は平版支持体及び水性アルカリ性現像液中
に可溶性のポリマー性結合剤を含有する画像形成層を含
む平版印刷版前駆体を用いている。該水性アルカリ性現
像液中における該結合剤の溶解度を低下させることがで
きる化合物を含むインキジェット流体により前駆体に画
像通りに印刷する。現像後、ネガティブ作用性印刷版が
得られる。

【００２９】このシステム及び上記で引用した参照文献
において開示されているほとんどのシステムの欠点は、
印刷機外での処理を必要とすることであり、分離された
処理装置及び化学品が必要である。

【００３０】

【発明の目的】本発明の目的は、印刷機上で湿し液及び
／又はインキにより版を現像することができ、分離され
た処理装置又は化学品が必要でない平版印刷版の作製法
を提供することである。

【００３１】本発明のさらに別の目的は、通常の版と同
じ版特性及び平版印刷特性を有する平版印刷版の作製法
を提供することである。

【００３２】本発明のさらに別の目的は、複雑でなく且
つ比較的安価なインキジェットプリンターのみを必要と
する平版印刷版の作製法を提供することである。

【００３３】

【発明の概略】上記の目的は、以下の段階：（１）平版支持体及び印刷機上に湿し液及び／又はイン
キを適用することにより溶解され且つ除去され得る画像
形成層を含む印刷版前駆体を該印刷機上に搭載し、
（２）段階（１）の前又は後に、該画像形成層上の湿し
液及び／又はインキの溶解及び除去作用を阻害するかも
しくは低下させることができる溶解阻害剤化合物を溶媒
担体中に含むことを特徴とする流体の滴を、インキジェ
ット印刷によって該平版印刷版前駆体の表面上に画像通
りに分配し、（３）版前駆体を乾燥して少なくとも部分
的に該流体の溶媒担体を除去し、（４）乾燥された版前
駆体上に湿し液及び／又はインキを適用し、それにより
該画像形成層のインキジェット印刷によって画像形成さ
れた領域を完全にもしくは少なくとも部分的に保持しな
がら、該画像形成層のインキジェット印刷によって画像
形成されなかった領域を除去し、且つ同時に該平版支持
体の表面を露出せしめるを順番に含む平版印刷版の作製
法を提供することにより実現される。

【００３４】好ましい態様の場合、画像形成層はアニオ
ン的に安定化されたモノマーを含む。

【００３５】

【発明の詳細な記述】本発明の必須の要素は印刷版前駆
体及びインキジェット流体の組成であり、それをここで
詳細に説明する。

【００３６】−平版印刷版前駆体の組成（ａ）平版支持体支持体は印刷版に適したいずれの支持体であることもで
きる。典型的な支持体には金属性及びポリマー性シート
又は箔が含まれる。好ましくは、金属性表面を有する支
持体が用いられる。好ましくは、金属性表面は酸化され
る。本発明の特に好ましい態様では、陽極酸化されたア
ルミニウム表面を有する支持体が用いられる。平版印刷
版のための支持体は典型的には、例えば電気化学的研磨
により研磨され、次いで例えば硫酸及び／又はリン酸を
用いる陽極酸化法により陽極酸化されたアルミニウムか
ら作られる。研磨及び陽極酸化の両方法は当該技術分野
において周知であり、本明細書にさらに記載する必要は
ない。画像の書き込みの後、印刷版に通常の方法で印刷
インキを用いてインキ供給することができ、印刷機上で
版を用いることができる。インキ供給の前に天然ゴム、
例えばアラビアゴム又は合成ゴム、例えばカルボキシメ
チルセルロースの水溶液を用いて版を処理することがで
き、それは印刷の技術分野において周知である。

【００３７】本発明と関連する他の様式に従うと、親水
性表面を有する平版ベースは柔軟性支持体、例えば架橋
された親水性層が設けられた紙又はプラスチックフィル
ムを含む。特に適した架橋された親水性層は、ホルムア
ルデヒド、グリオキサール、ポリイソシアナート、メラ
ミン型架橋剤、炭酸ジルコニルアンモニウム、チタネー
ト架橋剤又は加水分解されたテトラアルキルオルトシリ
ケートのような架橋剤を用いて架橋された親水性結合剤
から得ることができる。後者が特に好ましい。

【００３８】親水性結合剤として親水性（コ）ポリマ
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸（ａｃｒｙｌａｔｅａｃｉｄ）、メタク
リレート酸（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅａｃｉｄ）、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも６０重
量パーセント、好ましくは８０重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか、又
はそれより高い。

【００３９】本態様に従って用いられる平版ベースにお
ける架橋された親水性層は好ましくは、層の機械的強度
及び多孔度を向上させる物質、例えば金属酸化物粒子も
含有し、それは二酸化チタン又は他の金属酸化物の粒子
である。これらの粒子の導入は架橋された親水性層の表
面に微視的丘と谷から成る均一な粗いきめを与え、それ
は背景領域における水のための保存場所として働くと思
われる。好ましくはこれらの粒子はベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲルマ
ニウム、ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テルル、
鉛、ビスマス、チタン又は遷移金属の酸化物もしくは水
酸化物である。特に適した無機粒子はアルミニウム、ケ
イ素、ジルコニウム又はチタンの酸化物もしくは水酸化
物であり、親水性層の最高で７５重量％で用いられる。
無機顔料は０．００５μｍ〜１０μｍの範囲の粒度を有
することができる。

【００４０】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１２４
０、ＧＢ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３
００３５４、ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０、ＵＳ−Ｐ
−４２８４７０５及びＥＰ−Ａ５１４４９０に
開示されている。

【００４１】本態様と関連する平版ベースの柔軟性支持
体として、プラスチックフィルム、例えば基質化ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエチレンナ
フタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリス
チレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどを用い
るのが特に好ましい。プラスチックフィルム支持体は不
透明又は透明であることができる。

【００４２】（ｂ）画像形成層画像形成組成物の主な特徴は、それが湿し液及び／又は
インキの作用により印刷機上で除去され得ることであ
る。好ましい態様の場合、該層はそれが少なくとも１種
のアニオン的に安定化された化合物を含有することを特
徴とする。画像形成層のアニオン性は、湿し液及び／又
はインキにより層が印刷機上で除去される時の印刷機の
不安定化を妨げる。

【００４３】アニオン性化合物はアニオン的に安定化さ
れたポリマー粒子又はアニオン性官能基性ポリマーであ
ることができる。

【００４４】アニオン的に安定化されたポリマー粒子
は、乳化重合により製造されるアニオン性ポリマー、ア
ニオン的に安定化されたポリマービーズ又はアニオン性
ポリマー分散液であることができる。アニオン的に安定
化されたポリマー粒子は好ましくは（ｐｒｅｆｅｒｅｎ
ｔｉａｌｌｙ）室温でフィルム形成性ではない。

【００４５】アニオン的に安定化されたポリマー粒子
は、アニオン性界面活性剤を用いる乳化重合により製造
することができる。

【００４６】モノマーとして：スチレン、ｐ．−メチル
スチレン、ｔｅｒｔ．−ブチルスチレン、メチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート、α−メチルスチレン、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、バーサチック酸
ビニル（ｖｉｎｙｌｖｅｒｓａｔａｔｅ）、ブタジエ
ン、イソプレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スルホエチルメタクリレート及びそのアルカリ塩、
アクリル酸、メタクリル酸、ｔｅｒｔ−ブチルアクリル
アミド、ＡＭＰＳ、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、
イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イソプロピ
ルメタクリレート、イタコン酸ジアルキル、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル、メタ−イソプロペニルジ
メチルイソシアナート（ＴＭＩ）、ｔｅｒｔ．−ブチル
メタクリレート、４−メチル−２，４−ジフェニル−１
−ペンテン、２，２−ジメチル−４−メチレン−ペンタ
ン二酸ジメチルエステル、アリルメタクリレート及び塩
化ビニルを用いることができる。

【００４７】アニオン性界面活性剤の特定の例は脂肪ア
ルコールサルフェート、アルキルフェノールサルフェー
ト、脂肪アルコールエーテルサルフェート、脂肪アルコ
ールエーテルサルフェート、アルキルフェノールエーテ
ルサルフェート、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキ
ルエーテルカルボン酸及びそれらの塩、アルキルスルホ
スクシネート、アルキルスルホスクシナメート、ホスフ
ェートエステル、α−オレフィンスルホネートなどであ
る。

【００４８】乳化重合を用いて得られる粒度は３０ｎｍ
〜３００ｎｍの範囲である。好ましくは３０ｎｍ〜２０
０ｎｍの直径を有する粒子が用いられる。

【００４９】本発明でアニオン的に安定化されたポリマ
ービースを用いることもできる。そのようなビーズの製
造法は： −Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｍｏｎｏｄｉｓｐｅ
ｒｓｅｓｐｈｅｒｉｃａｌｐｏｌｙｍｅｒｐａｒ
ｔｉｃｌｅｓ，Ｈａｒｒｉｓｏｎ，ＤａｖｉｄＢｒｙａ
ｎ；Ｐｏｄｓｚｕｎ，Ｗｏｌｆｇａｎｇ；Ｌｏｕｗｅ
ｔ，Ｆｒａｎｋ；（Ａｇｆａ−ＧｅｖａｅｒｔＡＧ）
ＥＰ９９５７６４ −Ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｅｄｈｏｍｏｄｉｓｐｅｒｓｅ
ｐｏｌｙｍｅｒｐａｒｔｉｃｌｅｓ，Ｌｏｕｗｅ
ｔ，Ｆｒａｎｋ；ＤｅＣｌｅｒｃｑ，Ｒｏｎｎｙ；Ｇ
ｅｕｄｅｎｓ，Ｊｏｈａｎ；ＤｅＷｉｎｔｅｒ，Ｗａ
ｌｔｅｒ．Ｄｅｓ．ＭｏｎｏｍｅｒｓＰｏｌｙｍ．
（１９９８），１（４），４３３−４４５． −Ｍｅｔｈｏｄｆｏｒｐｒｅｐａｒｉｎｇｓｏｌ
ｖｅｎｔ−ｒｅｓｉｓｔａｎｔｐｏｌｙｍｅｒｂｅ
ａｄｓ，Ｔｉｍｍｅｒｍａｎ，ＤａｎｉｅｌＭａｕｒｉ
ｃｅ；ＶａｎＴｈｉｌｌｏ，ＥｔｉｅｎｎｅＡｄｒ
ｉａｎｕｓ；Ｍｕｙｓ，ＢａｖｏＡｕｇｕｓｔ．（Ａ
ｇｆａ−ＧｅｖａｅｒｔＮ．Ｖ．）ＥＰ４６６９８
２ −Ｓｔａｂｌｅａｑｕｅｏｕｓｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎｓｏｆｐｏｌｙｍｅｒｂｅａｄｓａｎｄｔ
ｈｅｕｓｅｏｆｔｈｅｓｅｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎｓｉｎｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃｅｌｅｍｅｎ
ｔｓ，Ｔｉｍｍｅｒｍａｎ，ＤａｎｉｅｌＭａｕｒｉ
ｃｅ；Ｐｒｉｅｍ，ＪａｎＪｏｚｅｆ；Ｊａｎｓｓｅ
ｎｓ，Ｗｉｌｈｅｌｍｕｓ．（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒ
ｔＮ．Ｖ．）ＥＰ８０２２５ −Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎｐｒｏｃｅｓｓｆｏｒｐ
ｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｓｐｈｅｒｉｃａｌｐｏ
ｌｙｍｅｒｓ，Ｐｏｄｓｚｕｎ，Ｗｏｌｆｇａｎｇ；Ｋ
ｒｕｇｅｒ，Ｊｏａｃｈｉｍ；Ｈａｌｌｅ，Ｏｌａｆ；
Ｌｏｕｗｅｔ，Ｆｒａｎｋ，（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒ
ｔＡＧ）．ＥＰ８９７９３９ −ＵＳ５，２３４，８９０及びＵＳ４，８３３，０
６０において見いだされ得る。

【００５０】アニオン的に安定化されたポリマー分散液
も本発明において有用である。安定なポリマー分散液を
得るための多くの分散法が当該技術分野における熟練者
に既知である。ポリマーはポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化フ
ェノール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリイミド、ポリカーボネート、エポ
キシ樹脂、ノボラック、レゾールフェノール類とアルデ
ヒド又はケトンとの縮合樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、アクリルに基づく共重合樹脂などに基づい
ていることができる。

【００５１】アニオン性化合物はアニオン性官能基性ポ
リマーであることもできる。そのようなポリマーはアニ
オン性官能基性モノマーを（共）重合させることにより
製造することができる。好ましくはそのようなモノマー
は官能基としてスルホン酸、硫酸、カルボン酸、ホスホ
ン酸、リン酸の塩を含む。そのようなモノマーの例は：
２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホ
ン酸（ＡＭＰＳ）、スルホイソフタル酸、スルホエチル
メタクリレート、２−（ソジオスルホ）エチルメタクリ
レート、（スルホキシアルキル）アクリレートもしくは
メタクリレート、スチレンスルホン酸、メタクリルアミ
ドフェニルジアゾスルホネートのようなジアゾスルホネ
ートモノマー、アリルエトキシサルフェート、１−アリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルスルホネート、ビニ
ルスルホン酸、硫酸モノエテニルエステル（ビニル硫
酸）、硫酸のモノ−２−プロペニルエステル、硫酸モノ
ビニルエステル（ビニル硫酸）、スルファトエチルメタ
クリレート（ＢｉｓｏｍｅｒＳＥＭ）、メタクリル酸２
−ヒドロキシエタンスルホン酸エステル（スルホエチル
メタクリレート＝ＳＥＭ）、ビニルアルコールのリン酸
エステル、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルアルコー
ルの硫酸エステル、イタコン酸、マレイン酸、クロトン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、モノアクリ
ルオキシエチルホスフェート、モノメタクリルオキシエ
チルホスフェート、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル
ホスホネートエステル、アクリル酸２−ヒドロキシエチ
ルホスホネートエステル、４，４−ビス（ヒドロキシフ
ェニル）ペンタン酸、トリメリト酸無水物、モノアルキ
ルマレート、モノアルキルフマレート、２−メチル−２
−プロペン−１−スルホン酸、ビニルホスフェート（リ
ン酸モノビニルエステル）、アリルホスホン酸、ビニル
ホスホン酸、メチルビニルホスホネート、モノメチルア
リルホスホネート、リン酸モノエテニルモノメチルエス
テル、アリルアルコールモノリン酸エステル、ジメチロ
ール酢酸、４−ヒドロキシ−２−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２−メチル−ブタン酸、ジメチロールプロピオン
酸及びそれらの塩である。

【００５２】これらのモノマーを既知のモノマー、例え
ば：（Ａ）それぞれ芳香族ヒドロキシル基を有するアクリル
アミド類、メタクリルアミド類、アクリレート類、メタ
クリレート類、ヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−及
びｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−及びｐ−ヒドロ
キシフェニルアクリレートもしくはメタクリレート（Ｂ）それぞれ脂肪族ヒドロキシル基を有するアクリレ
ート類及びメタクリレート類、例えば２−ヒドロキシエ
チルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート（Ｃ）（置換）アクリレート類、例えばメチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブ
チルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、オクチルアク
リレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、２−クロロエチルアクリレート、４−ヒドロキシブ
チルアクリレート、グリシジルアクリレート及びＮ−ジ
メチルアミノエチルアクリレートなど（Ｄ）（置換）メタクリレート類、例えばメチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレ
ート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、
ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、フェニルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、２−クロロエチルメタク
リレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、グリ
シジルメタクリレート及びＮ−ジメチルアミノエチルメ
タクリレートなど（Ｅ）アクリルアミド又はメタクリルアミド、例えばア
クリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルア
ミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリル
アミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルメ
タクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、
Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ
−フェニルアクリルアミド及びＮ−エチル−Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミドなど（Ｆ）ビニルエーテル類、例えばエチルビニルエーテ
ル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニ
ルエーテルなど（Ｇ）ビニルエステル類、例えば酢酸ビニル、クロロ酢
酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルなど（Ｈ）スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、
クロロメチルスチレンなど（Ｉ）ビニルケトン類、例えばエチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなど（Ｊ）オレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレンなど（Ｋ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、Ｎ−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど（Ｌ）アクリルアミド類、例えばＮ−（ｏ−アミノスル
ホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノス
ルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノ
スルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−［１−（３
−アミノスルホニル）ナフチル］アクリルアミド及びＮ
−（２−アミノスルホニルエチル）アクリルアミド、メ
タクリルアミド、例えばＮ−（ｏ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−［１−（３−
アミノスルホニル）ナフチル］メタクリルアミド及びＮ
−（２−アミノスルホニルエチル）メタクリルアミド、
アクリレートのような不飽和スルホンアミド類、例えば
ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｍ−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノスルホ
ニルフェニルアクリレート及び１−（３−アミノスルホ
ニルフェニルナフチル）アクリレートならびにメタクリ
レートのような不飽和スルホンアミド類、例えばｏ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート及び１−（３−アミノスルホ
ニルフェニルナフチル）メタクリレートと共重合させることができる。

【００５３】アニオン性ポリマーは天然ポリマー、例え
ばアルギン酸、カルボキシメチルセルロース（ＣＭ
Ｃ）、酸化デンプン、デキストランサルフェートなど及
びそれらの塩からも誘導され得る。

【００５４】さらにポリマー類似反応によりアニオン性
ポリマーを製造することができ、例はスルホン化ポリウ
レタン、アルカリ処理された無水物コポリマー、無水物
を用いるヒドロキシ官能基性ポリマーの改質（例えばポ
リビニルアルコールと無水フタル酸もしくは無水マレイ
ン酸との反応生成物）である。

【００５５】好ましい種類のアニオン性化合物は、アゾ
スルホネート官能基を含有するポリマーである。そのよ
うなポリマーの有用な例はアリールジアゾスルホネート
単位及びアリールトリアゼニルアルカンスルホネート単
位を有するポリマーである。そのようなポリマーの例は
ヨーロッパ特許出願出願番号９９２００８４６及び９９
２００８４７に記載されている。

【００５６】さらに画像形成層はポリマー、染料及び界
面活性剤を含むことができる。ポリマーは画像の耐久性
又は印刷機上処理特性を向上させるために加えられ得
る。ＥＰ０９３１６４７に記載されているような
親水性結合剤が好ましい。

【００５７】画像形成層の乾燥被覆率は好ましくは０．
２０〜２ｇ／ｍ²、最も好ましくは０．２５〜１．５ｇ
／ｍ²に含まれる。

【００５８】画像形成層はＵＶ−感受性であることがで
きる。そのような層を含む版の利点は、フィルムを介す
るアナログＵＶ−露出を用いる通常の版作製においても
それを用いることができることである。しかしながら、
好ましくは画像形成層は入射ＵＶ−線により実質的に影
響されない。これは安全光を使用せずに昼光条件下で版
作製システムを用いることを可能にする。

【００５９】−流体の調製本発明の新規なインキジェット流体マーキング材料（ｍ
ａｒｋｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌ）は液体担体及び少な
くとも１種の「不溶化化合物」を含む。これらの不溶化
化合物は画像形成層中のアニオン性化合物と錯体形成／
相互作用し、湿し液及び／又はインキ中における溶解度
を低下させると思われる。

【００６０】好ましくは不溶化化合物はカチオン性化合
物である。低分子量及び高分子量化合物の両方を用いる
ことができる。

【００６１】有用な種類の不溶化化合物は、少なくとも
１個の窒素原子が第４級化されているか、複素環式環中
に導入されているか、又は第４級化され、且つ複素環式
環中に導入されている窒素−含有化合物である。有用な
第４級化窒素含有化合物の例はトリアリールメタン染
料、例えばＣｒｙｓｔａｌＶｉｏｌｅｔ（ＣＩベー
シックバイオレット３）及びＥｔｈｙｌＶｉｏｌｅ
ｔならびにテトラアルキルアンモニウム化合物である。

【００６２】より好ましくは、不溶化化合物は窒素−含
有複素環式化合物である。適した窒素−含有複素環式化
合物の例はキノリン及びトリアゾール類、例えば１，
２，４−トリアゾールである。

【００６３】最も好ましくは、不溶化化合物は第４級化
複素環式化合物である。適した第４級化複素環式化合物
の例はイミダゾリニウム化合物、例えばすべてＭｏｎａ
Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓの商品名であるＭＯＮＡＺＯＬ
ＩＮＥＣ、ＭＯＮＡＺＯＬＩＮＥ０、ＭＯＮＡＺＯ
ＬＩＮＥＣＹ及びＭＯＮＡＺＯＬＩＮＥＴ、キノリ
ニウム化合物、例えば１−エチル−２−メチルキノリニ
ウムヨーダイド及び１−エチル−４−メチルキノリニウ
ムヨーダイドならびにベンゾチアゾリウム化合物、例え
ば３−エチル−２−メチルベンゾチアゾリウムヨーダイ
ドならびにピリジニウム化合物、例えばセチルピリジニ
ウムブロミド、エチルビオロゲンジブロミド及びフルオ
ロピリジニウムテトラフルオロボレートである。

【００６４】有用なキノリニウムもしくはベンゾチアゾ
リウム化合物にはカチオン性シアニン染料、例えばＱｕ
ｉｎｏｌｄｉｎｅＢｌｕｅ及び３−エチル−２−［３
−（３−エチル−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾリリデン）
−２−メチル−１−プロペニル］ベンゾチアゾリウムヨ
ーダイドが含まれる。

【００６５】他の有用な不溶化化合物はフェロセニウム
化合物、例えばフェロセニウムヘキサフルオロホスフェ
ートである。

【００６６】他の好ましい種類の不溶化化合物はオニウ
ム塩により構成される。適したオニウム塩にはヨードニ
ウム、スルホニウム、ブロモニウム、クロロニウム、オ
キシスルホニウム、スルホキソニウム、セレノミウム及
びテルロニウムが含まれる。そのような化合物はＵＳ
４，７０８，９２５に記載されている。

【００６７】不溶化化合物は０．０１〜１０、好ましく
は０．１〜８重量％の量でインキ中に存在することがで
きる。

【００６８】不溶化化合物が均一な溶液又は安定なコロ
イド分散液の形態にあり、それがプリンターヘッドのノ
ズルを通過できることが必要である。

【００６９】液体担体は水又は有機溶媒あるいはそれら
の組合わせである。特定の液体担体の選択は特定のイン
キジェットプリンターならびにインキジェット印刷に用
いられているインキジェットプリンティングヘッド及び
カートリッジとのその適合性に依存する。用いられてい
るインキ−ジェット法：ピエゾ、サーマル、バブルジェ
ット（登録商標）又は連続インキジェットに依存して、
水性ベース及び溶剤（ｓｏｌｖｅｎｔ）ベースのインキ
の両方を本発明で用いることができる。

【００７０】水性インキのためには水が好ましい媒体で
あるが、水性組成物は１種もしくはそれより多い水混和
性溶媒、例えば多価アルコール類、例えばエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチルングリコー
ル又はトリメチロールプロパンを含むことができる。水
性組成物中の水性担体媒体の量は３０〜９９．９９５、
好ましくは５０〜９５重量％の範囲内であることができ
る。

【００７１】インキのための担体媒体として有機溶媒、
例えばアルコール類、ケトン類又はアセテート類を用い
ることもできる。

【００７２】インキジェット法に関して既知の通り、ジ
ェットの速度、滴の分離長、滴寸法及び流れの安定性
は、水性組成物の表面張力及び粘度によって大きく影響
される。インキ−ジェット印刷システムで用いるために
適したインキ−ジェットインキは２０〜６０、好ましく
は３０〜５０ダイン／ｃｍの範囲内の表面張力を有して
いることができる。少量の界面活性剤の添加により水性
インキにおける表面張力の調節を行うことができる。用
いられるべき界面活性剤の量は簡単な試行錯誤実験によ
り決定され得る。いくつかのアニオン性及びノニオン性
界面活性剤がインキ−ジェット技術分野において既知で
ある。市販の界面活性剤にはＡｉｒＰｒｏｄｕｃｔｓ
からの商品名であるＳＹＲＦＩＮＯＬＴＭシリーズ；
ＤｕＰｏｎｔからの商品名であるＺＯＮＹＬＴＭシリ
ーズ；３Ｍからの商品名であるＦＬＵＯＲＡＤＴＭシ
リーズ及びＣｙａｎａｍｉｄからの商品名であるＡＥＲ
ＯＳＯＬＴＭシリーズが含まれる。インキの粘度は好
ましくは室温で２０ｍＰａ．ｓ以下、例えば１〜１０、
好ましくは１〜５ｍＰａ．ｓである。

【００７３】インキはさらに他の成分を含むことができ
る。インキがプリントヘッドのオリフィス中で乾燥しき
ってしまうのを防ぐのを助けるために補助溶媒が含まれ
ることができる。時間を経てインキ中で起こり得る望ま
しくない微生物成長を予防するために殺生物剤を加える
ことができる。インキ中に場合により存在することがで
きる追加の添加剤には増粘剤、ｐＨ調整剤、緩衝剤、導
電性強化剤、乾燥剤、保湿剤及び脱泡剤が含まれる。

【００７４】平版印刷受容体上に画像を噴射した後に画
像コントラストを強化するために、染料を加えることが
できる。多くの染料及び顔料がインキジェット法に適し
ていることが既知である。適した染料はさらに担体媒体
（すなわち水性ベース、又は溶剤ベース）中におけるそ
れらの適合性ならびに親油化剤との適合性に基づいて選
ばれ、すなわちそれらは凝析を生じてはならない。

【００７５】ここで本発明を以下の実施例により例示す
るが、本発明はそれらに制限されない。

【００７６】

【実施例】実施例１ −印刷版前駆体の製造厚さが０．３０ｍｍのアルミニウム箔を、５０℃におい
て５ｇ／ｌの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで３
５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ²の電流密度において交
流を用い、４ｇ／ｌの塩酸、４ｇ／ｌの硼酸及び５ｇ／
ｌのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、０．５ｍｍの平均中心線粗さＲａを有
する表面トポロジーを形成した。

【００７７】脱イオン水で濯いだ後、次いで３００ｇ／
ｌの硫酸を含有する水溶液を用い、６０℃において１８
０秒間、アルミニウム箔をエッチングし、２５℃におい
て３０秒間、脱イオン水で濯いだ。

【００７８】続いて箔を２００ｇ／ｌの硫酸を含有する
水溶液中で、４５℃の温度、約１０Ｖの電圧及び１５０
Ａ／ｍ²の電流密度において約３００秒間、陽極酸化に
供し、３．００ｇ／ｍ²のＡｌ₂Ｏ₃の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を
用いて２０℃で１２０秒間濯ぎ、乾燥した。

【００７９】以下の成分を混合することによりコーティ
ング溶液を調製した：水３．７１ｇイソプロパノール５．５６ｇメチルエチルケトン６．６２ｇ水／イソプロパノール（４０／６０）の混合物中のアリールジアゾスルホネートコポリマーの１６．３％溶液（下記の式を参照されたい）３．４９ｇメチルエチルケトン中のＰａｔｅｎｔＢｌａｕＶの１％溶液５．６３ｇ

【００８０】

【化１】

【００８１】上記で説明した通りに製造された平版支持
体上にコーティング溶液をコーティングし、乾燥した。

【００８２】−流体の調製９０ｇの水と１０ｇのイソプロパノールの混合物中に８
ｇの化合物Ａ−１（後の式を参照されたい）を溶解する
ことにより流体を調製した。濾過の後、溶液をＥｐｓｏ
ｎＳｔｙｌｕｓＣｏｌｏｒ９００インキ−ジェ
ットプリンターの、あらかじめ空にされ、且つ清浄化さ
れたインキカートリッジ中に入れた。

【００８３】ＥｐｓｏｎＳｔｙｌｕｓＣｏｌｏｒ
９００インキ−ジェットプリンター中に装填された印
刷版前駆体上にテキスト画像を含有するテストパターン
を噴射した。

【００８４】次に湿し液としてＲＯＴＡ−ＭＡＴＩＣ
（ＵｎｉｇｒａｐｈｉｃａＧｍｂＨから入手可能）及
びインキとしてＫ＋Ｅ８００ＳｋｉｎｎｅｘＢｌ
ａｃｋ（ＢＡＳＦから入手可能）を用いるＨｅｉｄｅｌ
ｂｅｒｇＧＴＯ４６印刷機上に版を搭載した。最初に
１０回転の間、版を湿し液ローラーと接触させ、次いで
インキローラーを下ろした。そしてさらに１０回転の
後、紙を供給した。画像形成されなかった領域は、始動
の間に除去された。優れたコピーが得られた。実施例２ −印刷版前駆体の製造以下のコーティング組成物を実施例１で記載した平版支
持体上に３０ｇ／ｍ²の湿潤被覆率でコーティングし、
３５℃で乾燥した。

【００８５】コーティング組成物の調製：脱イオン水中
の界面活性剤（ポリマーに対して１．５％ｗ／ｗ）で
安定化されたポリスチレン（６０ｎｍの粒径）の２０％
ｗ／ｗ分散液の７．５ｇにインフラ−レッド染料Ｉ
（ｉｎｆｒａ−ｒｅｄｄｙｅＩ）（下記の式を参照
されたい）の１％ｗ／ｗ溶液の２０ｇを加えた。

【００８６】上記で得られた溶液に６６．５ｇの脱イオ
ン水及びＣＡＲＢＯＰＯＬＷＳ８０１（Ｇｏｏｄｒｉ
ｃｈから商業的に入手可能なポリアクリル酸）の５％
ｗ／ｗ溶液の６ｇを加えた。

【００８７】

【化２】

【００８８】−流体の調製９０ｇの水及び１０ｇのイソプロパノールの混合物中に
８ｇのＡ−１を溶解することにより流体を調製した。濾
過の後、溶液をＥｐｓｏｎＳｔｙｌｕｓＣｏｌｏｒ
９００インキ−ジェットプリンターの、あらかじめ
空にされ、且つ清浄化されたインキカートリッジ中に入
れた。

【００８９】ＥｐｓｏｎＳｔｙｌｕｓＣｏｌｏｒ
９００インキ−ジェットプリンター中に装填された画
像形成体（ｉｍａｇｅｆｏｒｍｉｎｇ）上にテキスト
画像を含有するテストパターンを噴射した。

【００９０】次に湿し液としてＲＯＴＡ−ＭＡＴＩＣ
（ＵｎｉｇｒａｐｈｉｃａＧｍｂＨから入手可能）及
びインキとしてＫ＋Ｅ８００ＳｋｉｎｎｅｘＢｌ
ａｃｋ（ＢＡＳＦから入手可能）を用いるＨｅｉｄｅｌ
ｂｅｒｇＧＴＯ４６印刷機上に版を搭載した。最初に
１０回転の間、版を湿し液ローラーと接触させ、次いで
インキローラーを下ろした。そしてさらに１０回転の
後、紙を供給した。画像形成されなかった領域は、始動
の間に除去された。優れたコピーが得られた。実施例３〜１２いくつかの不溶化化合物（下記の式を参照されたい）の
不溶化能を以下の手順を用いて調べた。

【００９１】不溶化化合物を溶媒担体中に１％の濃度で
溶解した。次に各流体の６μｌの滴を実施例１で規定し
た印刷版前駆体上に噴射した。滴を室温で乾燥し、流体
の溶媒担体を除去した。次に版を印刷機上に搭載し、実
施例１で記載した印刷法を用いた。

【００９２】画像形成層の滴−領域がインキ−受容性の
場合、化合物は本発明で用いるのに適している。

【００９３】

【表１】

【００９４】化合物Ａ−１〜Ａ−７の式：

【００９５】

【化３】

【００９６】

【化４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ヨハン・ロキユフイエベルギー・ビー2640モルトセル・セプテストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内Ｆターム(参考） 2H084 AA25 AA38 AE05 BB02 CC05 2H086 BA01 BA02 BA05 BA15 BA18 BA19 BA33 BA34 BA59

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】以下の段階：（１）平版支持体及び印刷機上に湿し液及び／又はイン
キを適用することにより溶解され且つ除去され得る画像
形成層を含む印刷版前駆体を該印刷機上に搭載し、
（２）段階（１）の前又は後に、該画像形成層上の湿し
液及び／又はインキの溶解及び除去作用を阻害するかも
しくは低下させることができる溶解阻害剤化合物を溶媒
担体中に含むことを特徴とする流体の滴を、インキジェ
ット印刷によって該平版印刷版前駆体の表面上に画像通
りに分配し、（３）版前駆体を乾燥して少なくとも部分
的に該流体の溶媒担体を除去し、（４）乾燥された版前
駆体上に湿し液及び／又はインキを適用し、それにより
該画像形成層のインキジェット印刷によって画像形成さ
れた領域を完全にもしくは少なくとも部分的に保持しな
がら、該画像形成層のインキジェット印刷によって画像
形成されなかった領域を除去し、且つ同時に該平版支持
体の表面を露出せしめるを順番に含む平版印刷版の作製
法。
【請求項２】該画像形成層がアニオン的に安定化され
た化合物を含有する請求項１に従う方法。
【請求項３】該アニオン的に安定化された化合物がア
ニオン的に安定化されたポリマー又はアニオン性官能基
性ポリマーである請求項２に従う方法。
【請求項４】該アニオン的に安定化されたポリマーが
ポリマー分散液、ポリマーラテックス及びポリマービー
ズから選ばれる請求項３に従う方法。
【請求項５】該アニオン性官能基性ポリマーがスルホ
ン酸の塩、硫酸の塩、ホスホン酸の塩、リン酸の塩及び
カルボン酸の塩から選ばれる官能基を有するモノマーに
由来する構造単位を有する請求項３に従う方法。
【請求項６】該モノマーがアゾスルホネート基を含む
請求項５に従う方法。
【請求項７】該溶解阻害剤がＮ−第４級化Ｎ−含有化
合物、Ｎ−含有複素環式化合物又はＮ−第４級化Ｎ−含
有複素環式化合物から選ばれる請求項１〜６のいずれか
に従う方法。
【請求項８】該Ｎ−第４級化Ｎ−含有複素環式化合物
がイミダゾリニウム化合物、キノリニウム化合物、ベン
ズチアゾリウム化合物及びピリジニウム化合物より成る
群から選ばれる請求項７に従う方法。
【請求項９】該Ｎ−第４級化Ｎ−含有複素環式化合物
がビス−ピリジニウム化合物である請求項８に従う方
法。
【請求項１０】該溶解阻害剤がオニウム塩である請求
項１〜６のいずれかに従う方法。
【請求項１１】画像形成層の溶解度が入射ＵＶ線によ
り実質的に影響されない請求項１〜１０のいずれかに従
う方法。
【請求項１２】該平版支持体の表面が金属性である請
求項１〜１１のいずれかに従う方法。
【請求項１３】該金属性表面が研磨され且つ陽極酸化
されたアルミニウム表面である請求項１２に従う方法。
【請求項１４】該平版支持体がポリマー樹脂支持体及
び架橋された親水性層を含む請求項１〜１１のいずれか
に従う方法。
【請求項１５】該架橋された親水性層が無機顔料を含
む請求項１４に従う方法。
【請求項１６】該無機顔料がベリリウム、マグネシウ
ム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ヒ素、イン
ジウム、錫、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、チタ
ン又は遷移金属の酸化物又は水酸化物から選ばれる請求
項１５に従う方法。