JP2003526698A - ポリエーテルイミドの電気泳動電着 - Google Patents
ポリエーテルイミドの電気泳動電着Info
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Abstract
Description
ーテルイミド組成物の泳動電着に関する。
材に適用されている。一般に、アニオン電着(アノード電着ともいわれる)では
、樹脂Rとイオン形成基(例えば−COOH)が化学的に結合して酸性樹脂RC
OOHを形成し、これが塩基と反応してアノード析出用マクロイオンRCOO-
を形成する。基本的に、フィルム形成性マクロイオン(RCOO-)と対イオン
(Y+)の水性分散液中に挿入した2つの電極で、水不溶性の樹脂(RCOOH
)が陽極(アノード)上に析出し、水溶性YOHが負極(カソード)上に形成さ
れる。このプロセスの際、基材から遊離した金属イオンはポリアニオンの沈殿を
速める。
マクロイオン、Y+は対イオンである。電極反応は次の通りである。
と、金属イオンに起因する変色、さらには消費されずに残ったカルボキシル基(
−COOH)に起因するアルカリ感受性まで多岐にわたる。
、しかも良好なアルカリ耐性を有する製品が得られる。このプロセスではポリカ
チオンを使用し、通例、酸水溶液と次の電極反応を利用して第三級アミン(NR 3 )をカチオン(NR4 +)へと変換する。
形成性マクロイオン、Xは対イオンである。
は、ポリエーテルイミド組成物については、エマルジョン安定性が悪く、貯蔵安
定性に乏しく、溶媒毒性と刺激臭があり、つきまわり性(throwing power;すな
わち基材の隔たった箇所でも塗膜が所望の厚さで均一に付着する能力)に乏しく
、そのため塗膜厚みにバラツキが生じるので、工業的実施性に欠ける。
マルジョンで、つきまわり性が高くポリエーテルイミド収率の高いものが必要と
されている。
このアセンブリ(10)は、第一の位置と第二の位置との間で可動であってこの
第一の位置から第二の位置への移動が第一の方向であるトグルスイッチアセンブ
リ(24、26、30)を有する第一の遮断器(12)と、第一の位置と第二の
位置との間で可動であってこの第一の位置から第二の位置への移動が前記第一の
方向と同じ方向であるトグルスイッチアセンブリ(25、27、30)を有する
第二の遮断器と、第二の遮断器のトグルスイッチアセンブリが第一の位置にある
ときに第一の遮断器のトグルスイッチアセンブリが第二の位置にあるのを妨げる
インヒビタコネクタ(40、42)とを含んでいる。
しい実施形態では、この方法は、n個の遮断器を脱着自在に固定することができ
るサドルベース(105)を形成するための金型を用意し、サドルベース上に取
り付けるのは望ましくない遮断器のn未満の数を決定し、サドルベースの成形中
に選択された数のリジェクションブロック(167、168)をサドルベースと
一体的に成形して望ましくない数の遮断器がサドルベースに固定されないように
するステップを含んでいる。
される。好ましい実施形態では、このエンクロージャは、第一(210)、第二
(202)、第三(203)及び第四(206)の側壁と、底面(207)と上
面とを含んでいる。第一、第二及び第三の側壁と底面は一体的に形成されており
、第一と第二の側壁はオーバーラップ面(205、204)を含んでいる。この
エンクロージャを形成するには、独特のスロット(230、231)配置を画定
することにより第一と第二の側壁及び2つのオーバーラップ面を画定し、第一と
第二の側壁を所定の曲げライン(A、E)に沿って曲げ、第一と第二のオーバー
ラップ面を別の所定の曲げライン(B、D)に沿って曲げ、第三の側壁を第三の
所定の曲げライン(C)に沿って曲げ、側壁及びオーバーラップ面並びに第四の
側壁及び上面をエンクロージャに固定し、各オーバーラップ領域(Z)を含むオ
ーバーラップ面が側壁間に形成されたギャップとオーバーラップするようにする
。
環剤、中和剤、溶媒、共溶媒及び水からなる。本発明の方法は、ポリエーテルイ
ミドを溶媒に溶解し、共溶媒を加え、アミン環を開環剤で開環し、混合物を中和
剤で第四級化し、最後に水を加えて水性ポリエーテルイミドエマルジョンを形成
することからなる。
約5vol%以下の開環剤、約5vol%以下の中和剤、約20vol%以下の
溶媒、約20vol%以下の共溶媒及び残部の水からなり、約3〜約8vol%
のポリエーテルイミド樹脂、約0.2〜約3vol%の開環剤、約0.3〜約3
.5vol%の中和剤、約8〜約15vol%の溶媒、約9〜約15vol%の
共溶媒及び残部の水からなるのが好ましく、約4〜約7vol%のポリエーテル
イミド樹脂、約0.5〜約1.5vol%の開環剤、約0.5〜約2vol%の
中和剤、約10〜約13vol%の溶媒、約10〜約12.5vol%の共溶媒
及び残部の水からなるのが特に好ましい。
なポリエーテルイミド樹脂は公知の化合物であり、その製造及び性質は例えば米
国特許第3803085号及び同第3905942号などに記載されている。な
お、これらの米国特許の開示内容は援用によって本明細書に取り込まれる。
の構造単位を2〜1000もしくはそれ以上、好ましくは10〜1000含んで
いる。
、3,4′位、4,3′位又は4,4′位を橋かけするもので、Tは−O−又は
式−O−Z−O−の基であり、Zは以下の式(II)
は0又は1であり、Rは(a)炭素原子数6〜約20の芳香族炭化水素基及びそ
のハロゲン化誘導体、(b)炭素原子数2〜約20のアルキレン基、(c)炭素
原子数3〜約20のシクロアルキレン基、及び(d)次の一般式(IV)
えてさらに次の式(VI)のポリイミド繰返し単位を含む共重合体であってもよい
。
及び(IX)からなる群から選択される。
4869号、同第3850885号、同第3852242号、同第385517
8号及び同第3983093号に開示されているような公知の方法で製造される
。これらの米国特許の開示内容は援用によって本明細書に取り込まれる。
ビス(エーテル無水物)と下記の式(XI)の有機ジアミンとの反応で合成される
。
ジクロロベンゼン、m−クレゾール/トルエンなどの周知の溶剤を用いて約10
0℃〜約250℃の温度で式(X)の無水物と式(XI)のジアミンとを相互作用
させることで実施できる。
ミンとの溶融重合によっても製造でき、成分混合物を攪拌しながら高温で加熱す
ることによってなされる。一般に溶融重合では約200℃〜400℃の温度を用
いる。反応に連鎖停止剤及び枝分れ剤を使用してもよい。
3972902号及び同第4455410号に開示されており、その開示内容は
援用によって本明細書に取り込まれる。
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン二無水物、4,4′−
ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテル二無水物、4,4
′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、
4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゾフェノン二無水物、
4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水
物、2,2−ビス[4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパ
ン二無水物、4,4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエ
ーテル二無水物、4,4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニ
ルスルフィド二無水物、4,4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベ
ンゾフェノン二無水物、4,4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン二無水物、4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−4′−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニル−2,2−プロパン二無水物、
4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−4′−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)ジフェニルエーテル二無水物、4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ
)−4′−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物
、4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−4′−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)ベンゾフェノン二無水物、及び4−(2,3−ジカルボキシフェノキ
シ)−4′−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物
、並びにこれらの各種混合物がある。
には、Tが次の式(XII)のものがある。
のような二無水物をビス(エーテル無水物)と組合せて使用する。
ニルジニトリルと二価フェノール化合物の金属塩との反応生成物の加水分解及び
その後での脱水反応によって製造することができる。
フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン(慣用名「4,4′−メチレンジアニリン」)、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4
,4′−ジアミノジフェニルエーテル(慣用名「4,4′−オキシジアニリン」
)、1,5−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチルベンジジン、3,3−ジメ
トキシベンジジン、2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(
p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−o−
アミノフェニル)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、1
,2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、ベンジジン、m−キシリレンジア
ミン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、ビス(4−アミ
ノシクロヘキシル)メタン、3−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4−ジメ
チルヘプタメチレンジアミン、2,11−ドデカンジアミン、2,2−ジメチル
プロピレンジアミン、1,18−オクタメチレンジアミン、3−メトキシヘキサ
メチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチ
ルヘプタメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジアミン、5−メチルノ
ナメチレンジアミン、1,4−シクロヘキサンジアミン、1,18−オクタデカ
ンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)スルフィド、N−メチル−ビス(3−
アミノプロピル)アミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、
ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン及びこれらのジアミンの混合物が
ある。
がp−フェニレン、m−フェニレン又はp−フェニレンとm−フェニレンの混合
物であって、Tが−O−Z−O−でZが次の式(XIV)であり、式(XIV)の二価
基が式(I)の各アリールイミド部分のアリール環の3,3′位を橋かけしてい
る繰返し単位を含んでなるものである。
ルボキシフェノキシフェノール)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミン及
びアミノプロピル末端D10ポリジメチルシロキサンとの縮合で製造され、ポリジ
メチルシロキサン由来の構造単位を34重量%(wt%)含有し、約60000
g/モルの分子量を有するシロキサンポリエーテルイミド共重合体であってもよ
い。
して、約0.2dl/gを超える固有粘度[η]、好ましくは約0.35〜約0
.7dl/gの固有粘度[η]を有する。
レン標準を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定して、100
00〜150000g/モルの重量平均分子量を有する。
ミド樹脂を溶解し得る溶媒に溶解させる。本発明で有用な慣用溶媒の一例はN−
メチルピロリドンのような有機溶媒である。ポリエーテルイミド樹脂を溶解し得
る他の慣用の溶媒を使用してもよい。
体で、広い温度域(すなわち約150℃まで、好ましくは250℃まで)上記の
溶媒と混和性で、しかも析出塗膜中での溶媒/共溶媒比が約1未満となるもので
あるべきである。エマルジョンの安定性を向上させ、高いつきまわり性(すなわ
ち、平均電圧が零に近づく或いは略ゼロとなること)を得るとともに、析出層内
の水分量を低減するために、共溶媒は水に不溶性又は僅かしか溶解しないもので
、好ましくは水中での溶解度が約5.5g/l未満のものであるべきである。表
1に、20mlのN−メチルピロリドン−水(50/50)混合物に対する共溶
媒の不混和点及びカップリング係数を示す。カップリング係数は不均一混合物を
得るのに必要な共溶媒の量で混合物の量を割った値で表す。
リング係数を有する。可能な共溶媒としては、特に限定されないが、芳香族エー
テル類、ケトン類、エーテルケトン類、アリールアリルケトン類、アリールアル
キルケトン類、アリールエーテルアルコール類、ケトン類、フェノール類及びエ
ーテル含有溶媒があるが、メチルフェニルエーテル(すなわちアニソール)及び
2−メトキシフェニルアセトンが好ましい。表2から分かるように、エマルジョ
ンの安定性は共溶媒の水溶解度と相関しており、水溶解度の高い共溶媒ほどエマ
ルジョンの安定性は低くなるか或いは乳化が不完全となる。
。
間に及ぼす共溶媒の効果を示す。
用いて開環する。この開環剤はポリエーテルイミドのイミド基を開環することの
できる化合物であればどんなものでもよく、アミンが好ましい。そうしたアミン
は水と混和性の第二級又は第三級アミンで、標準的製造・貯蔵条件(すなわち略
25℃及び1気圧)下で揮発しないような沸点の十分に高いものであり、沸点は
約90℃を上回っているのが好ましく、約110℃を上回っているのが特に好ま
しい。好ましくは、かかるアミンはアルコール基のような親水性基を有する。N
−メチルピペラジンが好ましく、2−(1−ピペラジニル)エタノール(HEP
)が特に好ましい。これらは、ポリエーテルイミドの収率が高く、ポリエーテル
イミドと効率的に反応し、その過剰分はポリエーテルイミド塗膜の硬化時に容易
に除去されるからである。
。アミン基は中和剤を用いて第四級化される。中和剤には、所望の第四級化を達
成するのに十分な酸強度を有する酸が包含される。可能な中和剤としては、特に
限定されないが、酸強度Kaが約10-5以上の一塩基酸がある。他の酸も使用で
きるが、中和剤の余分な酸性基はエマルジョンの安定性を低下させる。好ましく
は、乳酸又はグリコール酸を使用する。これらの酸の対イオンは溶媒和が強いの
で親水性を高めて水/溶媒/共溶媒の界面へと移行し、安定エマルジョンを生じ
るからである。表5及び表6に、乳酸又はグリコール酸を中和剤として用いたと
きのエマルジョン及び析出塗膜の安定性と収率が改善されることを示す。
成分を混合することによってなされる。好適な条件には、例えば一軸又は二軸押
出機、ミキシングボール又は成分に剪断を加えることのできる同様の混合装置で
の溶液ブレンディング又は溶融混合がある。二軸押出機は一軸押出機に比べて混
合能力に優れているので好ましいことが多い。組成物中の揮発性不純物を除去す
るため押出機の少なくとも1箇所のベント口を介してメルトを真空に引くのが往
々にして有利である。
ーテルイミド樹脂を好ましくは溶媒と共溶媒の混合物に加熱しながら溶解させる
。このプロセスは室温(RT)で達成することもできるが、ポリエーテルイミド
の溶解を促すため好ましくは混合物を加熱する。溶解し終わったら、開環剤を共
溶媒に溶解して、上記溶液に混ぜる。溶液は次いで好ましくは、開環剤がポリエ
ーテルイミドの無水物基の望ましい量と反応してアミン基を形成するのに十分な
時間及び十分な温度に加熱する。開環剤と反応させる無水物基の望ましい量は具
体的用途に基づいて決められ、実質的にすべての無水物基を反応させることも可
能であるが、約50〜約80%が好ましく、約60〜約75%が特に好ましい。
る。中和剤の使用量は第四級化することが望まれるアミン基の量に基づいて決め
られる。例えば、ポリエーテルイミドの50vol%を第四級化するため、中和
剤の50vol%水溶液を上記溶液に混合する。好ましくは、アミン基の約75
%までもしくはそれ以上を第四級化するが、約42〜約55%が特に好ましい。
最後に、水性エマルジョン中のポリエーテルイミド百分率が所望の値となるだけ
の十分な水、好ましくは脱イオン水を添加する。なお、開環剤及び中和剤は上記
溶液に添加する前に共溶媒中に混合しておくのが好ましく、エマルジョンの安定
性を維持・確保するため上記溶液中に若干の共溶媒を使用するのが好ましい。エ
マルジョンの安定性を確保するため、溶媒:共溶媒比が約1以下に保たれる限り
において溶媒は共溶媒と共に又はその代わりに使用することができる。この比が
約1を上回るとエマルジョンは不安定になる。
のに用いた。
シフェノール)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミンの縮合で合成した重
量平均分子量約55×103g/モルのポリエーテルイミド樹脂80gを、15
0mlのN−メチルピロリドンと20mlの共溶媒に、窒素雰囲気下で85〜9
5℃に加熱しながら混合物を攪拌して溶解させた。ポリマーが溶解したところで
、18.9gの開環剤と60mlの共溶媒を、激しく攪拌するとともに温度を8
5〜95℃に保ちつつ、1ml/分の速度で加えた。添加後、混合物を2時間1
10℃に加熱した。
リコール酸の50%水溶液4.2g)を100gのポリマー溶液中に攪拌するこ
とによってポリマーの50vol%を第四級化した。次いで、この第四級化溶液
に259.9gの脱イオン水をゆっくり加えて6wt%のポリマー水性エマルジ
ョンを形成した。
して、HEPを開環剤として用いたエマルジョン及び析出塗膜の改善された安定
性と収率を示す。
な通り、溶媒:共溶媒比は1未満であり、水分量は低い。水分量が低いとポリエ
ーテルイミド塗膜の伝導率が低下するのでつきまわり性が改善され、一方、溶媒
:共溶媒比が低いことは共溶媒析出が優先することを示しており、改善された塗
膜の製造が容易になる。共溶媒は塗膜硬化時に蒸発し易く、実質的に均一で密着
性の高い塗膜を生成するからである。
エマルジョンの製造に用いた溶媒及び共溶媒は環境に優しく、改善された香りと
改善されたつきまわり性をもっており、そのため形状の複雑なものの均一塗装が
可能になる。
Claims (59)
- 【請求項1】 泳動電着プロセスで使用するためのポリエーテルイミドエマ
ルジョンの製造方法であって、 無水物基を有するポリエーテルイミド樹脂を溶媒及び実質的に水不溶性の共溶
媒に分散させ、 開環剤を上記無水物基と反応させてアミン基を形成し、 上記アミン基を中和剤で中和して第四級化混合物を形成し、 上記第四級化混合物に水を混合してエマルジョンを形成する ことを含んでなるポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項2】 前記ポリエーテルイミド樹脂が次式(I)の構造単位を含ん
でなる、請求項1記載の安定ポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 【化1】 式中、二価基Tは式(I)の各アリールイミド部分のアリール環の3,3′位、
3,4′位、4,3′位又は4,4′位を橋かけするもので、Tは−O−又は式
−O−Z−O−の基であり、Zは次の式(II) 【化2】 からなる群から選択される二価基であり、Xは次の式(III) 【化3】 の二価基からなる群から選択されるものであり、yは1〜約5の整数であり、q
は0又は1であり、Rは(a)炭素原子数6〜約20の芳香族炭化水素基及びそ
のハロゲン化誘導体、(b)炭素原子数2〜約20のアルキレン基、(c)炭素
原子数3〜約20のシクロアルキレン基、及び(d)次の一般式(IV) 【化4】 の二価基からなる群から選択される二価有機基であって、Qは式(V) 【化5】 からなる群から選択されるものであり、y′は約1〜約5の整数である。 - 【請求項3】 前記ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス[4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フェニレンジア
ミンとの溶融重合で合成された反応生成物からなる、請求項1記載のポリエーテ
ルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項4】 前記溶媒及び前記共溶媒の水中での溶解度が各々約5.5g
/l未満である、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項5】 前記溶媒がN−メチルピロリジノンである、請求項1記載の
ポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項6】 前記共溶媒がケトン系溶媒、フェノール系溶媒又はエーテル
系溶媒である、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項7】 前記共溶媒がアニソールである、請求項1記載のポリエーテ
ルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項8】 前記開環剤がアミンである、請求項1記載のポリエーテルイ
ミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項9】 前記開環剤が第二級又は第三級アミンである、請求項8記載
のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項10】 前記開環剤がN−メチルピペラジン又は2−(ピペラジニ
ル)エタノールである、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造
方法。 - 【請求項11】 前記中和剤が約10-5を上回る酸強度Kaを有する、請求
項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項12】 前記中和剤が一塩基酸である、請求項1記載のポリエーテ
ルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項13】 前記中和剤が乳酸又はグリコール酸である、請求項1記載
のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項14】 前記エマルジョンが約10体積%(vol%)以下のポリ
エーテルイミド樹脂、約5vol%以下の開環剤、約5vol%以下の中和剤、
約20vol%以下の溶媒、約20vol%以下の共溶媒及び残部の水からなる
、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項15】 前記エマルジョンが約3〜約8vol%のポリエーテルイ
ミド樹脂、約0.2〜約3vol%の開環剤、約0.3〜約3.5vol%の中
和剤、約8〜約15vol%の溶媒、約9〜約15vol%の共溶媒及び残部の
水からなる、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項16】 前記エマルジョンが約4〜約7vol%のポリエーテルイ
ミド樹脂、約0.5〜約1.5vol%の開環剤、約0.5〜約2vol%の中
和剤、約10〜約13vol%の溶媒、約10〜約12.5vol%の共溶媒及
び残部の水からなる、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方
法。 - 【請求項17】 前記ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェノキシフェノール)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミン
及びアミノプロピル末端D10ポリジメチルシロキサンとの縮合で合成された共重
合体からなる、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項18】 前記無水物基の約50〜約80%を前記開環剤と反応させ
ることをさらに含む、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方
法。 - 【請求項19】 前記無水物基の約60〜約75%を前記開環剤と反応させ
ることをさらに含む、請求項1記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方
法。 - 【請求項20】 前記アミン基の約42〜約55%を中和することをさらに
含む、請求項19記載のポリエーテルイミドエマルジョンの製造方法。 - 【請求項21】 ポリエーテルイミド塗膜を形成するための泳動電着方法で
あって、 無水物基を有するポリエーテルイミド樹脂を溶媒及び実質的に水不溶性の共溶
媒に分散させ、 開環剤を上記無水物基と反応させてアミン基を形成し、 上記アミン基を中和剤で中和して第四級化混合物を形成し、かつ 上記第四級化混合物に水を添加してエマルジョンを形成することによってポリ
エーテルイミドエマルジョンを形成し、 上記エマルジョン中にアノード及びカソード電極を挿入し、 上記エマルジョンに電流を流し、 ポリエーテルイミドカチオンを生じさせ、そして 上記ポリエーテルイミドカチオンを上記カソードで反応させて基材を被覆する
不溶性ポリエーテルイミド種を形成する ことを含んでなる泳動電着方法。 - 【請求項22】 前記ポリエーテルイミド樹脂が次式(I)の構造単位を含
んでなる、請求項21記載の泳動電着方法。 【化6】 式中、二価基Tは式(I)の各アリールイミド部分のアリール環の3,3′位、
3,4′位、4,3′位又は4,4′位を橋かけするもので、Tは−O−又は式
−O−Z−O−の基であり、Zは次の式(II) 【化7】 からなる群から選択される二価基であり、Xは次の式(III) 【化8】 の二価基からなる群から選択されるものであり、yは1〜約5の整数であり、q
は0又は1であり、Rは(a)炭素原子数6〜約20の芳香族炭化水素基及びそ
のハロゲン化誘導体、(b)炭素原子数2〜約20のアルキレン基、(c)炭素
原子数3〜約20のシクロアルキレン基、及び(d)次の一般式(IV) 【化9】 の二価基からなる群から選択される二価有機基であって、Qは式(V) 【化10】 からなる群から選択されるものであり、y′は約1〜約5の整数である。 - 【請求項23】 前記ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス[4−(3,
4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フェニレンジ
アミンとの溶融重合で合成された反応生成物からなる、請求項21記載の泳動電
着方法。 - 【請求項24】 前記溶媒及び前記共溶媒の水中での溶解度が各々約5.5
g/l未満である、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項25】 前記溶媒がN−メチルピロリジノンである、請求項21記
載の泳動電着方法。 - 【請求項26】 前記共溶媒がケトン系溶媒、フェノール系溶媒又はエーテ
ル系溶媒である、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項27】 前記共溶媒がアニソールである、請求項21記載の泳動電
着方法。 - 【請求項28】 前記開環剤がアミンである、請求項21記載の泳動電着方
法。 - 【請求項29】 前記開環剤が第二級又は第三級アミンである、請求項28
記載の泳動電着方法。 - 【請求項30】 前記開環剤がN−メチルピペラジン又は2−(ピペラジニ
ル)エタノールである、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項31】 前記中和剤が約10-5を上回る酸強度Kaを有する、請求
項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項32】 前記中和剤が一塩基酸である、請求項21記載の泳動電着
方法。 - 【請求項33】 前記中和剤が乳酸又はグリコール酸である、請求項21記
載の泳動電着方法。 - 【請求項34】 前記エマルジョンが約10体積%(vol%)以下のポリ
エーテルイミド樹脂、約5vol%以下の開環剤、約5vol%以下の中和剤、
約20vol%以下の溶媒、約20vol%以下の共溶媒及び残部の水からなる
、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項35】 前記エマルジョンが約3〜約8vol%のポリエーテルイ
ミド樹脂、約0.2〜約3vol%の開環剤、約0.3〜約3.5vol%の中
和剤、約8〜約15vol%の溶媒、約9〜約15vol%の共溶媒及び残部の
水からなる、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項36】 前記エマルジョンが約4〜約7vol%のポリエーテルイ
ミド樹脂、約0.5〜約1.5vol%の開環剤、約0.5〜約2vol%の中
和剤、約10〜約13vol%の溶媒、約10〜約12.5vol%の共溶媒及
び残部の水からなる、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項37】 ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス(2,3−ジカル
ボキシフェノキシフェノール)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミン及び
アミノプロピル末端D10ポリジメチルシロキサンとの縮合で合成された共重合体
からなる、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項38】 前記無水物基の約50〜約80%を前記開環剤と反応させ
ることをさらに含む、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項39】 前記無水物基の約60〜約75%を前記開環剤と反応させ
ることをさらに含む、請求項21記載の泳動電着方法。 - 【請求項40】 前記アミン基の約42〜約55%を中和することをさらに
含む、請求項39記載の泳動電着方法。 - 【請求項41】 約10体積%(vol%)以下のポリエーテルイミド樹脂
、約5vol%以下の開環剤、約5vol%以下の中和剤、約20vol%以下
の溶媒、約20vol%以下の共溶媒及び残部の水を含んでなる、泳動電着プロ
セスで使用するためのポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項42】 前記エマルジョンが約3〜約8vol%のポリエーテルイ
ミド樹脂、約0.2〜約3vol%の開環剤、約0.3〜約3.5vol%の中
和剤、約8〜約15vol%の溶媒、約9〜約15vol%の共溶媒及び残部の
水からなる、請求項40記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項43】 前記エマルジョンが約4〜約7vol%の前記ポリエーテ
ルイミド樹脂、約0.5〜約1.5vol%の前記開環剤、約0.5〜約2vo
l%の前記中和剤、約10〜約13vol%の前記溶媒、約10〜約12.5v
ol%の前記共溶媒及び残部の水からなる、請求項41記載のポリエーテルイミ
ドエマルジョン。 - 【請求項44】 前記ポリエーテルイミド樹脂が次式(I)の構造単位を含
んでなる、請求項41記載の泳動電着方法。 【化11】 式中、二価基Tは式(I)の各アリールイミド部分のアリール環の3,3′位、
3,4′位、4,3′位又は4,4′位を橋かけするもので、Tは−O−又は式
−O−Z−O−の基であり、Zは次の式(II) 【化12】 からなる群から選択される二価基であり、Xは次の式(III) 【化13】 の二価基からなる群から選択されるものであり、yは1〜約5の整数であり、q
は0又は1であり、Rは(a)炭素原子数6〜約20の芳香族炭化水素基及びそ
のハロゲン化誘導体、(b)炭素原子数2〜約20のアルキレン基、(c)炭素
原子数3〜約20のシクロアルキレン基、及び(d)次の一般式(IV) 【化14】 の二価基からなる群から選択される二価有機基であって、Qは式(V) 【化15】 からなる群から選択されるものであり、y′は約1〜約5の整数である。 - 【請求項45】 前記ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス[4−(3,
4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フェニレンジ
アミンとの溶融重合で合成された反応生成物からなる、請求項41記載のポリエ
ーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項46】 前記溶媒及び前記共溶媒の水中での溶解度が各々約5.5
g/l未満である、請求項41記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項47】 前記溶媒がN−メチルピロリジノンである、請求項41記
載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項48】 前記共溶媒がケトン系溶媒、フェノール系溶媒又はエーテ
ル系溶媒である、請求項41記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項49】 前記共溶媒がアニソールである、請求項41記載のポリエ
ーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項50】 前記開環剤がアミンである、請求項41記載のポリエーテ
ルイミドエマルジョン。 - 【請求項51】 前記開環剤が第二級又は第三級アミンである、請求項41
記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項52】 前記開環剤がN−メチルピペラジン又は2−(ピペラジニ
ル)エタノールである、請求項42記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項53】 前記中和剤が約10-5を上回る酸強度Kaを有する、請求
項42記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項54】 前記中和剤が一塩基酸である、請求項41記載のポリエー
テルイミドエマルジョン。 - 【請求項55】 前記中和剤が乳酸又はグリコール酸である、請求項41記
載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項56】 ポリエーテルイミド樹脂が2,2−ビス(2,3−ジカル
ボキシフェノキシフェノール)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミン及び
アミノプロピル末端D10ポリジメチルシロキサンとの縮合で合成された共重合体
からなる、請求項41記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項57】 さらに前記無水物基の約50〜約80%を前記開環剤と反
応させてなる、請求項41記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項58】 さらに前記無水物基の約60〜約75%を前記開環剤と反
応させてなる、請求項41記載のポリエーテルイミドエマルジョン。 - 【請求項59】 さらに前記アミン基の約42〜約55%を中和してなる、
請求項58記載のポリエーテルイミドエマルジョン。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/127,024 | 1998-07-31 | ||
US09/127,024 US6013167A (en) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | Cataphoretic electrodeposition of polyetherimide |
PCT/US1999/014590 WO2000006628A1 (en) | 1998-07-31 | 1999-06-28 | Cataphoretic electrodeposition of polyetherimide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003526698A true JP2003526698A (ja) | 2003-09-09 |
JP2003526698A5 JP2003526698A5 (ja) | 2006-08-24 |
Family
ID=22427936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000562423A Withdrawn JP2003526698A (ja) | 1998-07-31 | 1999-06-28 | ポリエーテルイミドの電気泳動電着 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6013167A (ja) |
EP (1) | EP1112302B1 (ja) |
JP (1) | JP2003526698A (ja) |
AT (1) | ATE250095T1 (ja) |
DE (1) | DE69911440T2 (ja) |
ES (1) | ES2207256T3 (ja) |
WO (1) | WO2000006628A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060024511A1 (en) * | 2004-07-29 | 2006-02-02 | Joseph Elmer | Electro-coat adhesion layer with a siloxane top coat |
MX2017009782A (es) | 2015-02-10 | 2017-10-27 | Valspar Sourcing Inc | Sistema de electrodeposicion novedoso. |
CN117801668B (zh) * | 2024-02-28 | 2024-05-07 | 上海皓以科技有限公司 | 用于电沉积涂装的绝缘涂料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3972902A (en) * | 1971-01-20 | 1976-08-03 | General Electric Company | 4,4'-Isopropylidene-bis(3- and 4-phenyleneoxyphthalic anhydride) |
US3847867A (en) * | 1971-01-20 | 1974-11-12 | Gen Electric | Polyetherimides |
US3814869A (en) * | 1971-10-13 | 1974-06-04 | Porta Systems Corp | Outgoing trunk extender test and monitor apparatus for central telephone equipment |
US3803085A (en) * | 1972-12-29 | 1974-04-09 | Gen Electric | Method for making polyetherimides |
US4092300A (en) * | 1973-02-05 | 1978-05-30 | General Electric Company | Polyamide acid salts |
US3905942A (en) * | 1973-06-22 | 1975-09-16 | Gen Electric | Method for making polyetherimides and products produced thereby |
US3850885A (en) * | 1973-11-23 | 1974-11-26 | Gen Electric | Method for making polyetherimides |
US3855178A (en) * | 1973-12-03 | 1974-12-17 | Gen Electric | Method for making polyetherimides |
US3852242A (en) * | 1973-12-03 | 1974-12-03 | Gen Electric | Method for making polyetherimide |
US3983093A (en) * | 1975-05-19 | 1976-09-28 | General Electric Company | Novel polyetherimides |
JPS6036162B2 (ja) * | 1979-04-27 | 1985-08-19 | 積水化学工業株式会社 | 合成樹脂エマルジョンの製造方法 |
US4455410A (en) * | 1982-03-18 | 1984-06-19 | General Electric Company | Polyetherimide-polysulfide blends |
JPH04234765A (ja) * | 1990-08-29 | 1992-08-24 | Xerox Corp | 基体、ベルトおよび静電写真像形成部材、並びにこれらの製造方法 |
US5258461A (en) * | 1990-11-26 | 1993-11-02 | Xerox Corporation | Electrocodeposition of polymer blends for photoreceptor substrates |
DE4335325A1 (de) * | 1993-10-18 | 1995-04-20 | Basf Lacke & Farben | Wäßrige Polyimidlacke |
-
1998
- 1998-07-31 US US09/127,024 patent/US6013167A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-06-28 AT AT99933590T patent/ATE250095T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-06-28 ES ES99933590T patent/ES2207256T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-28 DE DE69911440T patent/DE69911440T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-28 EP EP99933590A patent/EP1112302B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-28 WO PCT/US1999/014590 patent/WO2000006628A1/en active IP Right Grant
- 1999-06-28 JP JP2000562423A patent/JP2003526698A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1112302B1 (en) | 2003-09-17 |
WO2000006628A1 (en) | 2000-02-10 |
DE69911440D1 (de) | 2003-10-23 |
US6013167A (en) | 2000-01-11 |
ATE250095T1 (de) | 2003-10-15 |
EP1112302A1 (en) | 2001-07-04 |
ES2207256T3 (es) | 2004-05-16 |
DE69911440T2 (de) | 2004-07-15 |
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JPS6333786B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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