JP2003522947A - Ｘ線照射を使用して対象の内部構造の画像を得る方法およびそれを実行する装置 - Google Patents

Ｘ線照射を使用して対象の内部構造の画像を得る方法およびそれを実行する装置

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、被験体（特に、生体）の内部構造の写真（視覚的に認知できる形態で提示されたもの）を得るのに使用する手段に関する。本発明の方法によれば、Ｘ線源によるＸ線照射は、（例えば、Ｘ線レンズ（２）の助けを借りて）、被験体（５）の検査領域（７）の内側に設置されたポイント（４）を含む領域で集中され、それには、電流測定結果が参照される。該領域内で現れる二次照射（コンプトン、蛍光）は、（例えば、Ｘ線レンズ（３）の助けを借りて）、１個または数個の検出器（６）に運搬される。被験体（５）の検査領域（７）のスキャンアウトは、該領域に位置をずらすことにより実行され、そのポイントでの被験体の密度は、１個または数個の検出器（６）から受容された二次照射強度値を総計することにより決定され、そしてポイント（４）の座標と同時に決定される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 提案した発明は、内部観察する手段に関し、Ｘ線を使用して、対象（特に、生
体）の内部構造の画像形成手段である。本発明は、欠陥検査（ｄｅｆｅｃｔｏｓ
ｃｏｐｙ）および医療診断で使用することを前提としている。
【０００２】 該目的の多様な方法および装置は、投影レントゲン検査の伝統的な原理を実現
したものであり、公知である。このような方法および装置は、陰影のある投射と
して、対象（例えば、生体の組織）の内部構造の画像形成を獲得するのに使用さ
れる。その各ポイントで得られる密度は、その光源から検出設備で研究中の対象
を通るＸ線の簡単な低減（ｓｕｍｍａｒｙ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）により、規定
される。最後の手段として、Ｘ線フィルムの蛍光スクリーンがあり、これは、画
像視覚化を得るために、化学的に処理されるはずである（Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｄｉｃｔｉｏｎａｒｙ．Ｍｏｓｃｏｗ，「Ｓｏｖｉｅｔ Ｅｎｃｙｃｌ
ｏｐｅｄｉａ」，１９７６［１］，ｐ．４２５；Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ ｉｍａ
ｇｅ ｖｉｓｕａｌｉｚａｔｉｏｎ ｉｉｎ ｍｅｄｉｃｉｎｅ．Ｅｄｉｔｅｄ
ｂｙ Ｓ．Ｗｅｂｂ．Ｍｏｓｃｏｗ，「Ｍｉｒ」，１９９１［２］，ｐ．４０
〜４１）。
【０００３】 該二次元陰影投射形状での実質三次元構造の画像は、上記方法および装置で獲
得される。その専門家は、（特に、技術的および医学的な診断において）、この
対象を分析するが、時には、該投射の解釈に困難が伴い得るので、適当な資格お
よび経験がなければならない。その理由は、以下である：低いコントラスト、中
程度の信号−ノイズ関係、その構造要素の画像を確実に書き留めること（ｕｎｆ
ａｉｌｉｎｇｌｙ ｋａｙｉｎｇ ｄｏｗｎ）、その対象の別個の局所断片を密
度で定量的に比較することが不可能なこと。その画像の鮮明度およびコントラス
ト範囲も同様に、γ効果の下で低下し、二次コンプトン散乱照射の検出設備に当
たる。
【０００４】 三次元対象の薄層の二次元画像を得るためのＸ線コンピュータ断層撮影用の方
法および装置も同様に、公知である（Ｖ．Ｖ．Ｐｉｋｌｏｖ，Ｎ．Ｇ．Ｐｒｅｏ
ｂｒａｚｈｅｎｓｋｉｙ．Ｃｏｍｐｕｔａｔｉｏｎａｌ ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ
ａｎｄ ｐｈｙｓｉｃａｌ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔ．Ｔｈｅ ｐｒｏｇｒｅｓ
ｓ ｏｆ ｐｈｙｓｉｃａｌ ｓｃｉｅｎｃｅｓ，ｖ．１４１，３版、１９８３
年１１月、ｐ．４６９〜４９８［３］；また、［２］，ｐ．１３８〜１４６を参
照）。異なるポイントから研究中の対象を複数回照射すること、および検出器ル
ーラーによりこの対象を通る放射線を受容することは、このような方法および装
置において、行われる。研究中の断面での対象組織の密度分布は、コンピュータ
ーを使用して、方程式体系への解により、別個の形態で得られる（その形態の次
元および解要素の量は、位置量の積に対応しており、そこから、これらの検出器
の量により、この照射が実現される）。異なる断面での照射により設定される二
次元リット−パリット（ｌｉｔ−ｐａｒｌｉｔ）画像を規準にして、三次元対象
画像を得ることができる。この画像の高い品質は、コンピューター断層撮影を使
用して得ることができ、この画像は、組織密度の分布写真を提供する（その光源
から視覚投影の一方または他方の要素への照射路に設置された物質（例えば、生
体組織）の全体的な吸収により生じる写真ではない）。しかしながら、それは、
照射位置の量的増大により、得ることができる。この場合、この物質により吸収
される照射用量は、高くなり、これは、望ましくない（それは、しばしば、医療
用途で禁止されている）。コンプトン散乱照射の存在は、マイナス要因であり、
これは、この群の公知方法および装置でも起こる。両方の試験群の方法および装
置の医療への応用は、集中的な照射により特徴付けられ、これは、照射路にある
検査対象ではない組織および器官（研究中の領域の前または後）で作用する。第
二群の方法および装置での照射は、研究中のものを取り囲んでいる異なる組織お
よび器官が照射中のとき、異なる位置の選択が原因で、第一のものよりも少ない
。
【０００５】 第二群の手段で解像度を高めるには、異なる点からの照射量の増大が要求され
、まず第一に、この照射用量の法外な増大（ｐｒｏｈｉｂｉｌｉｔｉｖｅｌｙ
ｉｎｃｒｅａｓｉｎｇ）により、限定される。この画像の一次情報作成および引
き続いた再構成のための技術的な設備は、非常に複雑である。それは、特別なソ
フトウェアを備えた高速コンピュータの使用の必要性およびその構成の機械的な
要素に精度が要求されることの両方により、調整される。これらの要素は、それ
らを異なる点から照射するとき、研究中の領域の同じ解像要素の正確な位置確認
を保証すべきである。その最新のものは、実際のデータ（これは、異なる照射サ
イクルで推測されるが、同じ解像要素を参照する）に依存しており、これは、こ
の画像を再構成するとき、その算出に加えるべきである。
【０００６】 該群の第二の方法および装置（各解像要素の密度についての分散形態での情報
は、そこで獲得される）は、想定されたものに非常に近い。
【０００７】 提案された研究は、以下の技術上の結果を得る目的である：複雑かつ高価な技
術的手段を使わないことと組み合わせて、得られた画像の物質密度の相対指標を
規定する精度の向上。医療診断および他の研究で提案された治験を使用すると、
生体物質に対する影響と関連して、研究中のものを取り囲んでいる組織での照射
用量を低下できるようになる。
【０００８】 Ｘ線を使用して対象の内部構造を画像形成する提案方法のこの種の技術的な成
果を得るために、この照射は、そのポイントを備えたゾーンに集中するべきであ
り、それには、電流測定結果（ｔｈｅ ｃｕｒｒｅｎｔ ｒｅｓｕｌｔｓ ｏｆ
ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ）が参照される。二次照射（コンプトン散乱干渉お
よび非干渉、蛍光照射）は、このゾーンから得られ、１つ以上の検出器に運搬さ
れる。研究中の対象ゾーンの走査は、該ゾーンを移動させることにより、実現さ
れる。同時に、このポイントを備えたＸ線集中ゾーンの座標（それには、電流測
定結果が参照される）が規定され、そして固定される。該ポイントでの対象物質
の密度は、二次照射強度の値から生じ、１つ以上の検出器から得られ、この点の
座標と同時に規定される。得られた値は、この対象物質の密度の指標として取り
扱われるが、それに対応している座標値を備えて、研究中の対象領域の物質密度
の分布画像をモデル化するのに使用される。研究中の領域を走査するためにＸ線
集中ゾーンを移動させることは、研究中の対象の相対的なシフト、Ｘ線源、Ｘ線
集中手段、これらの検出器への二次放射を運搬する手段、および検出器それ自体
の互いに対する静電気の相互転置により、実現される。
【０００９】 研究中の対象およびＸ線光学系（これは、それらの制御手段および検出器と共
に、Ｘ線源を含む）の相対シフトが実現されるとき、公知（［２］，ｐ．１３８
〜１４６，［３］，ｐ．４７１〜４７２）の提案方法には、研究中の対象に対す
るＸ線作用が共通している。
【００１０】 この提案方法は、そのポイントを備えたゾーンでのＸ線濃度（それには、電流
測定結果が参照される）の存在下では、他のものとは異なる。その走査は、公知
の提案方法の一般的な特徴であるが、すなわち、次のポイント（それに対して、
研究中の対象の物質密度が規定される）の近傍にＸ線集中ゾーンの現在位置を移
動させることにより、最後のものとは完全に異なって実現される。二次照射（コ
ンプトン散乱干渉および非干渉、蛍光照射）の運搬は、その集中ゾーンで励起さ
れるが、このゾーンから検出器まで、その独特の特徴でもある。
【００１１】 この場合、該二次照射は、この検出器に作用するが、その照射源は、研究中の
被験体を通る。よく知られているように、この二次照射の強度は、他の事柄と共
に、同等である（Ｊ．Ｊａｃｋｓｏｎ．Ｃｌａｓｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｄ
ｙｎａｍｉｃｓ．Ｍ．，「Ｍｉｒ」，１９６５，ｐｐ．５３７〜５３８［４］）
が、その物質の密度に比例しており、ここで、この照射は、物質の性質とは無関
係に励起される。この事実のために、この二次散乱照射は、公知方法での妨害要
因であるが、その情報要因になる。この二次照射密度の現在値をそのポイントで
の物質密度係数（それには、電流測定結果が参照される）として使用することも
同様に、この提案方法の違いである。
【００１２】 この提案方法と公知方法との差は、この方法の具体化の実行可能な特定の場合
の記述において、以下で特徴付けられる。これらの場合では、Ｘ線集中方法およ
び二次散乱放射運搬方法の異なる組合せを使用することが可能となる。
【００１３】 特定の場合では、このポイントを備えたゾーンでＸ線を集中するために、１つ
以上のコリメータが使用され、それには、電流測定結果が参照される。フォーマ
ット済二次照射もまた、１つ以上のコリメータにより、１つ以上の検出器に運搬
される。この場合、全てのコリメータは、そのポイントにて、それらの中心チャ
ンネルの軸を横切るように配向され、それには、電流測定結果が参照される。
【００１４】 他の特定の場合では、このポイントを備えたゾーンでのＸ線集中は、それには
、電流測定結果が参照されるが、１つ以上のＸ線半レンズを使用することにより
得られ、これらは、間隔を置いたＸ線源の適当な量の分岐照射を擬似平行に変換
する。この場合、１つ以上のＸ線半レンズまたはレンズは、検出器にこの照射の
焦点を合わせ、フォーマット済二次照射を１つ以上の検出器に運搬するのを可能
にする。１つ以上のＸ線半レンズによる二次照射の１つ以上の検出器の運搬もま
た、擬似平行照射を形成して、可能である。この場合、全てのＸ線レンズおよび
半レンズは、それらの光軸がこのポイントと交差するように配向すべきであり、
それには、電流測定結果が参照される。
【００１５】 もう１つの特定の場合では、このポイントを備えたゾーンでのＸ線集中は、そ
れには、電流測定結果が参照されるが、１つ以上のＸ線半レンズにより実現され
、これらは、間隔を置いたＸ線源の適当な量の分岐照射を擬似平行に変換する。
１つ以上検出器へと運搬されるフォーマット済二次照射は、１つ以上のコリメー
タにより実現される。この場合、Ｘ線半レンズおよびコリメータは、全Ｘ線半レ
ンズの全光軸および全コリメータの中心チャンネルがこのポイントで交差するよ
うに配向すべきであり、それには、電流測定結果が参照される。
【００１６】 このポイントを備えたゾーンでのＸ線集中はまた、それには、電流測定結果が
参照されるが、１つ以上の間隔を置いたＸ線源および適当な量のＸ線半レンズの
使用により実現される。これらのレンズは、このポイントで、各Ｘ線源の分岐Ｘ
線の焦点を合わせ、それには、電流測定結果が参照される。１つ以上の検出器に
運搬されるフォーマット済二次照射は、Ｘ線レンズにより実現され、それは、検
出器にこの照射の焦点を合わせ、そして該ポイントで第二焦点を有する。
【００１７】 特定の場合では、このポイントを備えたゾーンでのＸ線の集中に備えて、それ
には、電流測定結果が参照されるが、１つ以上の間隔を置いたＸ線源および適当
な量のＸ線半レンズの使用と共に、固定ポイントで各Ｘ線源の分岐レントゲン照
射の焦点を合わせ、フォーマット済二次照射の１つ以上検出器への運搬は、コリ
メータの使用で実現でき、これらは、同じポイントにおいて、それらの中心チャ
ンネルの光軸を交差するように配向される。
【００１８】 Ｘ線を使用して対象の内部構造を画像形成するのに提案された装置は、以下を
含む：研究中の対象を位置付ける手段、Ｘ線光学システム、研究中の対象を位置
付ける手段およびＸ線光学システムを相対的に移動する手段、データ処理および
画像手段、このポイントの座標を決定する検出器。このポイントは、研究中の対
象物質で位置付けられ、それには、その測定結果が参照される。これらの結果は
、研究中の対象を位置付ける手段およびＸ線光学システムと関係しており、これ
らは、それらの出力口を備えたデータ処理および画像手段に連結されている。そ
れゆえ、Ｘ線光学システムは、以下からなる：１つ以上のＸ線源、該１つ以上の
Ｘ線源の放射をポイントを備えたゾーンに集中する手段（それには、電流測定結
果が参照される）、フォーマット済二次照射を運搬する１つ以上の手段、および
照射検出器（これは、これらの手段の出力口で位置付けられている）。これらの
検出器の出力口は、このデータ処理および画像手段に連結されている。
【００１９】 提案された公知装置に一般的なものには、研究中の対象を位置付ける手段、Ｘ
線光学システム、それらを互いに対して移動する手段、この座標検出器だけでな
く、データ処理および画像手段がある。
【００２０】 この公知装置とは異なり、提案されたもののＸ線光学システムは、このポイン
トを備えたゾーンでの該１つ以上のＸ線源の照射集中手段を含み、それには、電
流測定結果が参照される。そのほかに、このシステムは、フォーマット済二次照
射をこの照射の検出器に運搬する１つ以上の手段を含み、正確には、この事実の
ために、この照射（このＸ線源の照射ではなしに、研究中の被験体を通る）は、
この検出器の入力口に落ちる。これらの座標検出器は、公知のものよりも提案装
置において、他の機能を備えている：それらは、このポイントの座標を確認し、
それには、電流測定結果が参照される。このデータ処理および画像手段の機能も
また、異なる：この手段は、その入力データで操縦され、この物質の密度および
ポイントの座標についての情報を直接的に運び、それには、これらのデータが参
照される。この提案装置の構成およびその機能の原理は、全精度排除の必要条件
（ｔｈｅ ｔｏｔａｌ ｅｌｉｍｉｎａｔｉｏｎ ｏｆ ａｃｃｕｒａｃｙ）を
生じ、また、データ処理手段に対する解像度依存性を生じ、この装置品質の指数
は、Ｘ線集中手段の使用パラメータにより、実用的かつ全体的に規定される。
【００２１】 それを実行する特定の異なる場合における提案装置に独特な他の相違は、以下
で特徴付けられる。
【００２２】 これらの特定の場合の１つでは、提案装置のＸ線システムは、数個のＸ線源を
含む。それゆえ、このポイントを備えたゾーンでのＸ線源の各照射集中手段（そ
れには、電流測定結果が参照される）、およびフォーマット済二次照射を検出器
に運搬する各手段は、それらのチャンネルを備えたコリメータとして作製され、
Ｘ線源を集中する照射ゾーンに配向される。全コリメータの中心チャンネルの光
軸は、その点で交差しており、それには、電流測定結果が参照される。
【００２３】 この特定の場合では、Ｘ線光学システムのＸ線源は、擬似ポイント（ｑｕａｓ
ｉ−ｐｏｉｎｔ）であり得る。それゆえ、これらのコリメータは、それらのチャ
ンネルを有し、これらのＸ線源に集中させ、そして研究中の対象を位置付ける手
段の方へと分岐する（広がる）。開口部を備えたスクリーンは、各Ｘ線源の出力
口と対応するコリメータの入力口との間に位置している。
【００２４】 同じ特定の場合では、Ｘ線システムのＸ線源は、拡張され得る。それゆえ、こ
れらのコリメータは、それらのチャンネルを有し、そして研究中の対象を位置付
ける手段の方へと収束する（狭まる）。
【００２５】 この提案装置を実行する他の特定の場合では、Ｘ線システムのＸ線源は、擬似
ポイントである。このポイントを備えたゾーンでのＸ線集中手段は、それには、
電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズとして作製され、対応するＸ線源の
分岐放射を擬似平行に変換する。この検出器に向かってフォーマット済コンプト
ン二次照射を運搬する各手段は、Ｘ線半レンズから作製され、検出器にこの照射
の焦点を合わせる。それゆえ、全Ｘ線半レンズの光軸は、このポイントで交差し
、それには、電流測定結果が参照される。
【００２６】 この提案装置を実現する以下の特定の場合では、先の場合のように、Ｘ線シス
テムのＸ線源は、擬似ポイントである。また、このポイントを備えたゾーンでの
各Ｘ線集中手段は、それには、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズとし
て作製され、対応するＸ線源を擬似平行に変換する。しかしながら、先の場合と
は異なり、フォーマット済二次照射を検出器に運搬する各手段は、Ｘ線半レンズ
から作製される。レンズの焦点は、このポイントにあり、それには、電流測定結
果が参照され、レンズは、該放射を擬似平行に変換し、それを検出器に向ける。
それゆえ、全Ｘ線半レンズの光軸は、このポイントで交差し、それには、電流測
定結果が参照される。
【００２７】 １つまたはそれ以上の特定の場合では、Ｘ線光学システムのＸ線源もまた、擬
似ポイントであり、このポイントを備えたゾーンでの各Ｘ線集中手段は、それに
は、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズとして作製され、これは、対応
するＸ線源の分岐照射を擬似平行に変換する。しかしながら、先の場合とは対照
的に、フォーマット済二次照射を検出器に輸送する各手段は、Ｘ線レンズとして
作製され、この照射を検出器に集中させ、Ｘ線集中ゾーンにおいて、二次焦点を
有する。全Ｘ線半レンズおよびレンズの光軸は、このポイントで交差し、それに
は、電流測定結果が参照される。
【００２８】 以下の特定の場合では、先の２つの場合のように、Ｘ線光学システムのＸ線源
は、擬似ポイントであり、このポイントを備えたゾーンでの各Ｘ線集中手段は、
それには、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズとして作製され、これは
、対応するＸ線源の分岐照射を擬似平行に変換する。これが起こるとき、フォー
マット済二次照射を検出器に輸送する各手段は、チャンネルを備えたコリメータ
として作製され、対応する検出器の方へと分岐する（広がる）。全Ｘ線半レンズ
の光軸およびコリメータの中心チャンネルは、このポイントで交差し、それには
、電流測定結果が参照される。
【００２９】 提案装置のＸ線光学システムは、以下のようにして作製できる。このシステム
のＸ線源は、擬似ポイントである。このポイントを備えたゾーンでの各Ｘ線集中
手段は、それには、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズとして作製され
、これは、対応するＸ線源の分岐照射を擬似平行に変換する。フォーマット済二
次照射を検出器に輸送する各手段は、チャンネルを備えたコリメータとして作製
され、対応する検出器の方へと収束する（狭まる）。全Ｘ線半レンズの光軸およ
びコリメータの中心チャンネルは、このポイントで交差し、それには、電流測定
結果が参照される。
【００３０】 この提案装置を実行する次の特定の場合は、以下により特徴付けられる：Ｘ線
光学システムのＸ線源は、擬似ポイントである：このポイントを備えたゾーンで
の各Ｘ線集中手段は、それには、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズと
して作製され、これは、Ｘ線源の分岐照射の焦点を合わせる；フォーマット済二
次照射を検出器の方に輸送する各手段は、チャンネルを備えたコリメータとして
作製され、対応する検出器の方へと狭まる（収束する）。それゆえ、全Ｘ線半レ
ンズの光軸およびコリメータの中心チャンネルは、このポイントで交差し、それ
には、電流測定結果が参照される。
【００３１】 この装置を実行するそれ以上の特定の場合は、以下により特徴付けられる：Ｘ
線光学システムのＸ線源は、擬似ポイントである：このポイントを備えたゾーン
での各Ｘ線集中手段は、それには、電流測定結果が参照されるが、Ｘ線半レンズ
として作製され、これは、Ｘ線源の分岐照射の焦点を合わせる；フォーマット済
二次照射を検出器の方に輸送する各手段は、チャンネルを備えたコリメータとし
て作製され、対応する検出器の方へと広げる（分岐する）。それゆえ、全Ｘ線半
レンズの光軸およびコリメータの中心チャンネルは、このポイントで交差し、そ
れには、電流測定結果が参照される。
【００３２】 この提案方法は、以下のようにして、この提案装置によって行われる： 擬似ポイント源１（図１）に由来の分岐Ｘ線は、対象（例えば、生体）の研究
中の領域７の所定点４で、Ｘ線レンズ２により集中される。この対象は、位置決
め手段１０によって、必要に応じて、位置付けられる。その照射は、ポイント４
で集中されるが、対象物質５の分岐二次照射（コンプトン干渉または非干渉照射
、蛍光照射）を励起する。変動内での二次照射の強度は、二次照射の励起プロセ
スの確率的な性質により生じるが、そこから照射が現れる物質の密度と比例して
いる。二次Ｘ線レンズ３の焦点は、同じポイントにある。このレンズは、散乱し
た二次照射を検出器６に捕捉し、次いで、焦点を合わせるが、この検出器は、そ
れを電気信号に変換し、これは、データ処理および画像入力手段１２に伝導され
る。レンズ１および３の全焦点４の位置選択は、対象を位置付ける手段１０およ
び装置要素の群を互いに対して移動することにより、実現される（Ｘ線源１、Ｘ
線レンズ２、３および照射検出器６を備えたＸ線光学システム８）。
【００３３】 Ｘ線制御用レンズ（分岐照射集中、分岐照射から形成される擬似平行ビーム、
擬似平行ビーム集中など）は、この照射運搬用の曲線状チャンネルの組合せを示
す。これらのチャンネルでの照射は、複数の外部全反射に晒される（例えば、Ａ
ｒｋａｄｉｅｖ Ｖ．Ａ．，Ｋｏｌｏｍｉｙｔｓｅｖ Ａ．Ｉ．，Ｋｕｍａｋｈ
ｏｖ Ｍ．Ａ．ら、Ｂｒｏａｄｂａｎｄ Ｘ−ｒａｙ ｏｐｔｉｃ ｗｉｔｈ
ｗｉｄｅ ａｎｇｕｌａｒ ａｐｅｒｔｕｒｅ、Ｔｈｅ Ｐｒｏｇｒｅｓｓ ｏ
ｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，１９８９，ｖｏｌ．１５７，３版、ｐ．５２９〜５３７［
６］（この場合、この種の第一レンズが記載されている）；米国特許第５７４４
８１３号（１９９８年４月２８日に公開）［７］（この場合、最新レンズが記載
されている）を参照）。レンズは、全体として、バレル形状であり（すなわち、
それは、両面の方へと狭まっている）、もし、このレンズが分岐照射を集中する
と言われているなら、半バレル形状（すなわち、１面だけ狭まっている）であり
、もし、分岐照射を擬似平行変換すると言われているなら、該照射の焦点を合わ
せられる。「全レンズ」および「半レンズ」との用語は、該２種類のレンズを明
確にするために、広く使用されている。
【００３４】 図１は、この装置の操作および使用の２つの可能な変型を描写している。１つ
の変型では、研究中の対象を位置付ける手段１０（研究中の対象５は、その中に
設置される）は、静止している。そして、Ｘ線システムが位置をずらされ（図１
の矢印９は、Ｘ線システムの位置ずれの可能性を示す）、要素１、２、３および
６の相互配列を保持する（これは、結果的に、レンズ１および３の焦点に一致し
ている）。他の変型では、その逆もまた正しく、Ｘ線システム８は静止しており
、研究中の対象５と共に位置付ける手段１０が位置をずらされる。１つの変型ま
たは他の変型を実現することの有用性は、上で枚挙した要素（Ｘ線システム８を
含めて）の群のサイズおよび要素と比較した対象５のサイズおよび質量に依存し
ている。
【００３５】 この手段は、同様に、調整検出器１１を含み、Ｘ線光学システム８および位置
付け手段１０（これは、検出器１１に連結されている）の相対的な運動に反応す
る。検出器１１は、選択した基点表示（これは、位置決め手段１０に連結されて
いる）に関して、レンズ２および３の共通焦点４の現在の座標に比例して、信号
を形成するように調整しなければならない。検出器１１の出力信号は、検出器６
の出力信号と同様に、データ処理および画像手段１２の入力口に供給される。こ
の場合、焦点４は、そのポイントであり、それには、電流測定結果が参照される
；照射源１の照射は、実際には、Ｘ線レンズ２の焦点ゾーンの有限寸法を考慮し
て、このポイントの周囲で集中される。データ処理および画像手段１２は、密度
分布の画像再構築を行い、このスクリーン上での二次元または三次元画像の一方
または他方の形成アルゴリズムを実現する（例えば、Ｅ．Ｌａｐｓｈｉｎ．Ｇｒ
ａｐｈｉｃｓ ｆｏｒ ＩＢＭ ＰＣ．Ｍ．，「Ｓｏｌｏｎ」，１９９５［５］
を参照）。その最も簡単な場合では、例えば、対象５のある平面部分にて、走査
（ポイント４でのＸ線集中ゾーンの転置であり、それには、電流測定結果が参照
される）が実現され、このスクリーン上で長い残光を備えた手段１２の画像走査
なども、同時に実施できる。次の定期的画像と共に有限数の測定結果を保存する
ことも可能である。
【００３６】 提案発明の操作原理は、その散乱二次コンプトン照射の密度（この照射の量子
形成の確率）が物質密度に比例しており他の全ての因子は同等である（特に、こ
の物質に作用する一定の一次Ｘ線強度で）という事実に基づいている。
【００３７】 提案方法および装置の本質の説明で述べたように、これらの発明の主要な特徴
は、公知の方法および装置（ここでは、量子は、有害な効果がある）とは異なり
、情報提供者として散乱二次コンプトン照射の量子を使用することにある。
【００３８】 述べたように、提案発明を医学で使用するなら、合理的な精度を生じる可能性
は、生体組織の照射用量が高まるとき、非常に有利となる。
【００３９】 可能なゲインを概算するために、以下の仮定を行う：光子エネルギーは、Ｅ＝
５０ｋｅＶである；Ｘ線集中ゾーンは、５０ｍｍ深さであり、１ｍｍ×１ｍｍ×
１ｍｍの寸法を有する（これらの値は、例えば、乳房Ｘ線撮影研究における観察
状態および正確な作業に特徴的である）；この検出器は、５ｃｍの深さで始めて
、二次照射の５％を感知する（この仮定は、二次照射が検出器に照射を運搬する
手段の入力口に当たる前に、この放射線が患者の身体で５ｃｍの距離を覆うこと
を意味し、それゆえ、このレンズまたはコリメータ（これは、二次照射を検出器
に送達する）の捕捉角は、０．０５×４πステラジアンである）。患者の身体で
の線形光子吸収因子は、Ｅ＝５０ｋｅＶで、水中でのものに近いことを考慮する
と、それは、２×１０-1ｌ／ｃｍのオーダーであり、そのようにして、以下を得
る：５ｃｍの深さで貫通している一次照射ビームの強度は、ｅｘｐ（２×１０-1 ×５）＝ｅ〜２．７１倍。二次照射（その光子エネルギーは、５０ｋｅＶに近い
）の強度は、同様に、ｅ〜２．７１倍で低下し、患者の身体から現れる。それゆ
え、患者の身体での放射線吸収の結果としての全強度損失は、ｅ×ｅ〜７．３倍
である。この概算ゲインを過小評価して、二次照射のコンプトン要素だけを考慮
してみる。厚さσkでのコンプトン二次照射の量子形成確率は、ψ＝σk×Ｎe×
Δχであり、この場合、その二次コンプトン散乱の部分は、σk＝６．５５×１
０-25ｃｍ2である；水中での電子密度は、Ｎe＝３×１０23ｌ／ｃｍ3である。そ
れゆえ、Δχ＝１ｍｍ＝１０-1ｃｍでは、ψ＝６．５５×１０-25×３×１０23
×１０-1〜２×１０-2である。言い換えれば、長さΔχ＝１ｍｍでは、１個の二
次光子を形成するために、平均して、一次照射の１：（２×１０-2）＝５０個の
光子が必要である。
【００４０】 この密度概算（すなわち、二次光子デーティング（ｄａｔｉｎｇ）の量）の誤
差が１％のオーダーである必要とあるとする。予想されるプロセス特性を考慮す
ると、その相対誤差の平均平方値は、σ＝１（Ｎ）1/2であり、この場合、Ｎは
、登録光子の量である。Ｎ＝１００００は、σ＝０．０１に相当している。
【００４１】 現在、Ｎx−一次光子（これは、５ｃｍの深さで貫通しており、そこで、二次
コンプトン照射を形成する）の必要量−に対する簡単な等式を設定することが可
能である。それは、順に、５ｃｍ深さを貫通し、この場合、Ｎ＝１００００個の
光子が、この検出器に当たる。 Ｎx×ｅ-2×５×１０-2×２×１０-2＝１０4 ここで、この係数５×１０-2は、５％＝５×１０-2だけの光子がこの検出器に
当たり、形成された二次光子の全量が登録されることを意味する。この等式は、
Ｎx＝７．２×１０7となる。
【００４２】 エネルギーＥ＝５０ｋｅＶの光子は、もし、この光子フラックスが２．８×１
０10ｌ／ｃｍ2であるなら、１レントゲンに等しい照射ゾーンを形成する（この
光子エネルギー、それらの量およびドーズ（ｄｏｚｅ）を表にしたデータは、例
えば、［２］を参照）。もし、一次Ｘ線ビームの断面が、患者の身体の入力口に
おいて、１ｃｍ2に等しいなら、そのフラックス７．３×１０7ｌ／ｃｍ2は、患
者の身体において、２．６×１０-3レントゲンに等しい照射を形成する。
【００４３】 伝統的なＸ線断層撮影では、例えば、骨粗鬆症を検査するとき、その照射ゾー
ンは、通常、１００÷３００ミリレントゲン、すなわち、１００倍大きい（Ｖ．
Ｉ．Ｍａｚｕｒｏｖ，Ｅ．Ｇ．Ｚｏｔｋｉｎ．Ｔｏｐｉｃａｌ ｑｕｅｓｔｉｏ
ｎｓ ｏｆ ｏｓｔｅｏｐｏｒｏｓｉｓ ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ ａｎｄ ｔ
ｒｅａｔｍｅｎｔ．Ｓａｉｎｔ−Ｐｅｔｅｒｓｂｕｒｇ，ＩＫＦ「Ｆｏｌｉａｎ
ｔ」，１９９８，ｐ．４７［８］）。
【００４４】 もし、この照射が数個のＸ線源（それらのビームは、異なる様式で、その集中
ゾーンに当たり、患者の身体には保存されない）から実行されるなら、そのドー
ズは、数倍少なくできる。
【００４５】 従って、提案方法および装置を実行する変型を使用するのがさらに適当であり
、ここで、数個の間隔を置いたＸ線源および検出器は、相当量の照射集中手段と
、この検出器（レンズ、半レンズ、コリメータ）に向かって運搬される二次コン
プトン照射とを備えて、使用される。一方では、それにより、さらに有効な照射
集中（もし、この集中手段だけが使用されるなら、この集中は、図１で示すよう
に、Ｘ線レンズを使用してのみ、可能である）を得ることができ、また、その検
出器の出力口での信号／ノイズ関係を高めることができるようになる。他方、そ
れにより、研究中の対象に対するＸ線の影響を分散できるようになり、また、ド
ーズにわたる対象部分に対する照射を回避できるようになり、これらは、研究さ
れないと推測される。単純平均化（または、データ処理および画像手段１２の異
なる検出器の出力信号のさらに複雑な処理（例えば、「重み」平均）、または互
いに対して近いポイントで相関した密度の存在を考慮した処理）で、数個の検出
器を使用すると、他の全ては等しいとして、精度を損なうことなく、出力の低い
Ｘ線源を使用することが可能となる。そのうえ、平均化につれて、精度を低下さ
せる他の要因の影響が少なくなる（例えば、決定する密度に対して異なる点に向
かう途中でのＸ線源により照射の種々の吸収、および検出器の方へと二次コンプ
トン照射を運搬する手段の入力口に向かうこれらのポイントからの途中での二次
照射）。
【００４６】 これらの変型は、以下で検査する（図１〜１１）。
【００４７】 図１および２で示す変型は、技術的には、最も簡単に実現できる。
【００４８】 図２の図式では、擬似鋭利Ｘ線源１およびコリメータ１３（チャンネルを備え
ている）は、ゾーン１６で集中する照射に対して、この照射分布の方へと分岐し
て（広がって）、使用される。このコリメータ入力口での放射線透過用の開口部
を備えたスクリーン１４は、その照射が物体に直接当たるのを防止する（これら
のコリメータを迂回して）が、Ｘ線源１とコリメータ１３との間に位置している
。この二次照射は、これらのチャンネルを備えたコリメータ１５により、検出器
６に運搬され、照射伝播（すなわち、検出器６）の方へと収束する（狭まる）。
これらのチャンネルは、これらの検出器の感知面において、焦点を有することが
できる。それは、検出器６（例えば、小さな入口開口部を備えた半導体検出器）
として使用することが可能である。
【００４９】 図３では、これらのコリメータは、図２で示したものとは反対の配向を有する
。その照射をゾーン１６に集中させて、コリメータ１８の入口開口部を十分に利
用するために、伸長Ｘ線源１７を使用することが適当である。それは、広い開口
部を備えた検出器２０（例えば、シンチレーション型のもの）を使用するのと同
じである。
【００５０】 図４では、擬似鋭利Ｘ線源１の照射集中手段および二次照射を運搬する手段は
、それに対応して、Ｘ線半レンズ２１、２２として作製される。これが起こるに
つれて、半レンズ２２は、散乱二次照射を検出器６に焦点させる。
【００５１】 図５では、擬似鋭利Ｘ線源１の照射集中手段および二次照射を運搬する手段は
、それに対応して、Ｘ線半レンズ２１、２３として作製される。これが起こるに
つれて、半レンズ２３は、散乱二次照射を検出器６を擬似平行に変換し、それを
、広い開口部を備えた検出器２０に向ける。
【００５２】 図６では、それらを組み合わせた変型が示されている：擬似鋭利Ｘ線源１の照
射集中手段は、Ｘ線半レンズ２１、２３として作製され、それらの平行ビームを
ゾーン１６に向ける。そして二次コンプトン照射を検出器６に運搬する手段は、
「完全」Ｘ線レンズ３として作製される。
【００５３】 図７および８では、他の組合せが示されており、これらは、二次コンプトン照
射をそれらの検出器の方へと運搬する手段は、コリメータとして作製される。
【００５４】 図７では、コリメータ１９は、検出器６に広がるチャンネルを有し、その最後
のものは、広い入口開口部を有する。
【００５５】 図８では、コリメータ１５は、逆に、検出器６に狭まるチャンネルを有し、そ
の最後のものは、狭い入口開口部を有する。
【００５６】 図９では、精度および解像度に関して最も有効な変型が示されている。この変
型では、擬似鋭利Ｘ線源１の照射集中手段および二次照射を検出器６に運搬する
手段は、（この変型を、図１で示したものと比較して）、それに対応して、「完
全」レンズ２および３として作製される。
【００５７】 図１０および１１では、２個のさらに組み合わせた変型が示されている。それ
らは、擬似鋭利Ｘ線源１の照射集中手段として「完全」Ｘ線レンズ２を使用する
点で、共通している。
【００５８】 図１０では、この検出器の方へと狭まっているコリメータ１５の使用は、狭い
開口部を備えた検出器６に二次照射を運搬する手段として、示されている。
【００５９】 図１１では、この検出器の方へと広がっているコリメータ１９の使用は、広い
開口部を備えた検出器２０に二次コンプトン照射を運搬する手段として、示され
ている。
【００６０】 この方法および装置のモデル化を実現する１つまたは他の図式の使用は、以下
に依存している：照射集中および運搬のためのこのような有効手段（すなわち、
Ｘ線レンズおよび半レンズ）、および必要な解像度。この最後の要因は、同様に
、これらのレンズおよび半レンズのパラメータ（例えば、焦点スポットのサイズ
、レンズの光軸に向かい焦点ゾーンの伸長など）の選択に影響を与える。それゆ
え、（一部、数ミリメトール以上の）「完全」レンズを使用するとき、高い解像
度の実現には、研究中の被験体領域のさらに長時間の走査を要することを考慮し
なければならない。他の状況もまた、同様に、考慮しなければならず、これには
、例えば、必要な性能およびサイズのＸ線源の利用可能性などがある。
【００６１】 提案方法の実現および提案装置のモデル化の記述した変型および他の多くの変
型の利用可能性により、内部観察（ｉｎｔｒａｖｉｅｗｉｎｇ）して具体的な要
件を満たす手段を構築する種々の機会が得られる。
【００６２】 （情報源）
【００６３】
【表１】
【図面の簡単な説明】
提案発明は、図面により例示されている：
【図１】 図１は、提案装置の基本的な原理を描写している：提案装置を実行するための
相互位置および主要要素接合の概略図。
【図２】 図２は、その方法の具体化および装置の実行の特別な場合を描写しており、Ｘ
線を集中し二次照射を検出器の方へと運搬するコリメータを使用する。
【図３】 図３は、その方法の具体化および装置の実行の特別な場合を描写しており、Ｘ
線を集中し二次照射を検出器の方へと運搬するコリメータを使用する。
【図４】 図４は、Ｘ線半レンズを使用するものを描写している。
【図５】 図５は、Ｘ線半レンズを使用するものを描写している。
【図６】 図６は、Ｘ線集中用のＸ線半レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬する
ための「完全」Ｘ線レンズを使用するものを描写している。
【図７】 図７は、Ｘ線集中用のＸ線半レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬する
ためのコリメータを使用するものを描写している。
【図８】 図８は、Ｘ線集中用のＸ線半レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬する
ためのコリメータを使用するものを描写している。
【図９】 図９は、Ｘ線集中用のＸ線レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬するた
めのコリメータを使用するものを描写している。
【図１０】 図１０は、Ｘ線集中用のＸ線レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬する
ためのコリメータを使用するものを描写している。
【図１１】 図１１は、Ｘ線集中用のＸ線レンズおよび検出器の方へと二次照射を運搬する
ためのコリメータを使用するものを描写している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ２１Ｋ 1/06 Ｇ２１Ｋ 1/06 Ｇ 5/02 5/02 Ｘ Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA04 BA14 CA01 DA06 GA03 GA04 GA09 GA11 HA12 JA01 JA06 JA07 KA03 KA20 LA01 SA02 4C093 AA22 AA30 BA18 EA12 EA20 EB18 EB22 EB30 EC21 FE01 FF42

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 対象がＸ線により照射されるとき、該Ｘ線により該対象の内
    部構造の画像を作成する方法であって、該対象の物質密度についての情報を得る
    ために、１つ以上の放射線検出器の出力信号が使用され、ここで、該Ｘ線は、検
    証下にある該対象（５）の領域（７）内のゾーンで集中される；該ゾーンは、ポ
    イント（４）を含み、それには、電流測定結果が参照される；該ゾーンで生じる
    二次照射は、１つ以上の検出器（６）に向けられる； 研究中の該対象（５）の領域（７）の走査は、該ゾーンの移動により、実行さ
    れる； 該ポイントでの該対象の該物質密度は、１つ以上の検出器（６）によって得ら
    れる該二次照射の強度の設定値ｆで評価され、そしてＸ線照射の該集中ゾーンに
    おける該ポイント（４）の座標で同時に決定され、それには、電流測定結果が参
    照される； 研究中の該対象（５）の領域（７）の該物質密度の分布パターンは、対応する
    座標値と合同して、密度値に基づいて、再構成される、 方法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、前記ポイントを含
    めた前記ゾーン（１６）で集中され、それには、電流測定結果が参照され、間隔
    を置いて配置した対応数のＸ線源（１）を使用して、１つ以上のコリメータ（１
    ３、１８）によって、研究中の前記対象の領域に設置されており； 生じる二次照射が、同様に、１つ以上のコリメータ（１５、１９）により、１
    つ以上の検出器（６、２０）に向けられ； それゆえ、全コリメータが、それらの中心チャンネルの軸が該ポイントで交差
    する様式で配向され、それには、電流測定結果が参照される、 方法。
  3. 【請求項３】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、１つ以上のＸ線半
    レンズ（２１）によって、前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）で集中され
    、それには、電流測定結果が参照され、間隔を置いて配置した対応数のＸ線源（
    １）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 生じる二次照射が、１つ以上のＸ線半レンズ（２２、２３）によって、１つ以
    上の検出器（６、２０）に向けられ、該検出器に該照射の焦点を合わせるかまた
    は擬似平行照射を形成し； それゆえ、全Ｘ線半レンズが、それらの光軸が該ポイントで交差する様式で配
    向され、それには、電流測定結果が参照される、 方法。
  4. 【請求項４】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、１つ以上のＸ線半
    レンズ（２１）によって、前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）で集中され
    、それには、電流測定結果が参照され、間隔を置いて配置した対応数のＸ線源（
    １）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 生じる二次照射が、１つ以上のＸ線レンズ（３）によって、１つ以上の検出器
    （６）に向けられ、該検出器（６）に該照射の焦点を合わせ； それゆえ、全Ｘ線半レンズおよびレンズが、それらの光軸が該ポイントで交差
    する様式で配向され、それには、電流測定結果が参照される、 方法。
  5. 【請求項５】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、１つ以上のＸ線半
    レンズ（２１）によって、前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）で集中され
    、それには、電流測定結果が参照され、研究中の前記領域内で設置され、間隔を
    置いて配置した対応数のＸ線源（１）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 生じる二次照射が、１つ以上のコリメータ（１９）によって、１つ以上の検出
    器（２０）に向けられ； それゆえ、Ｘ線半レンズおよびコリメータが、該半レンズおよび該コリメータ
    の中心チャンネルの光軸が該ポイントで交差する様式で配向され、それには、電
    流測定結果が参照される、 方法。
  6. 【請求項６】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、１つ以上のＸ線源
    （１）および対応数のＸ線レンズ（２）によって、前記ポイントを含めた前記ゾ
    ーン（４）に集中され、それには、電流測定結果が参照され、研究中の前記領域
    内で設置され、該ポイント（４）に各Ｘ線源（１）の分岐Ｘ線の焦点を合わせ、
    それには、電流測定結果が参照され； 生じる二次照射が、Ｘ線レンズ（３）によって、１つ以上の検出器（６）に向
    けられ、該検出器（６）に該照射の焦点を合わせ、そして該ポイントで二次焦点
    を有する、 方法。
  7. 【請求項７】 請求項１に記載の方法であって、Ｘ線が、間隔を置いて配置
    した１つ以上のＸ線源（１）および対応数のＸ線レンズ（２）を使用して、１つ
    以上のＸ線源（１）によって、前記ポイントを含めた前記ゾーン（４）に集中さ
    せ、それには、電流測定結果が参照され、研究中の前記領域内で設定され、該ポ
    イント（４）に各Ｘ線源（１）の分岐Ｘ線の焦点を合わせ、それには、電流測定
    結果が参照され； 生じる二次照射が、コリメータ（１５、１９）によって、１つ以上の検出器（
    ６、２０）に向けられ、それらの中心チャンネルの光軸が該ポイントで交差する
    様式で配向される、 方法。
  8. 【請求項８】 Ｘ線により対象の内部構造の画像を作成する装置であって、
    該装置は、以下の部分を含む： 研究中の該対象（５）を位置付ける手段（１０）； Ｘ線システム（８）； 研究中の該対象（５）および該Ｘ線システム（８）を位置付ける手段（１０）
    の相対的な配置手段； データ処理および画像化の手段（１２）であって、ここで、 該Ｘ線システム（８）は、１つ以上のＸ線源（１）を含む； ポイント（４）を含めたゾーンで１つ以上の該Ｘ線源（１）の照射を集中する
    手段（２）であって、それには、電流測定結果が参照される； 二次照射を生じる１つ以上の手段（３）； 該照射の検出器（６）であって、該検出器は、該手段（３）の出力口で設置さ
    れている； 該検出器の出力口は、該データ処理および画像化の手段（１２）に連結されて
    いる； 該ポイント（４）の座標を決定する検出器（１１）は、研究中の該対象（５）
    および該Ｘ線システム（８）を位置付ける手段（１）に連結されている； 該ポイント（４）は、研究中の該対象（５）領域内にあり、該測定結果が参照
    される； 該検出器（１１）は、それらの出力口により、該データ処理および画像化の手
    段（１２）に連結されている、 装置。
  9. 【請求項９】 請求項８に記載の装置であって、Ｘ線システムが、数個のＸ
    線源（１；１７）を含み； 該Ｘ線源照射用の各手段が、前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）で集中
    し、それには、前記電流測定結果が参照され、該ポイントで生じる前記二次照射
    を検出器（６／２０）に向ける各手段が、コリメータ（１３、１５、１８、１９
    ）として作製され； 該コリメータが、チャンネルを有し、該Ｘ線源の照射の集中する該ゾーン（１
    ６）で配向され； それゆえ、全コリメータの該中心チャンネルの光軸が、該ポイントで交差し、
    それには、電流測定結果が参照される、 装置。
  10. 【請求項１０】 請求項９に記載の装置であって、前記Ｘ線源で構成される
    Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； コリメータ（１３、１５）が、前記チャンネルを有し、該Ｘ線源に焦点を合わ
    せ、そして研究中の前記対象（５）を位置付ける手段に分岐しており； 開口部を備えたスクリーン（４）が、各Ｘ線源（１）の出力口と対応コリメー
    タ（１３）の入力口との間で設置されている、装置。
  11. 【請求項１１】 請求項９に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    されるＸ線源（１７）が、伸長されており； コリメータ（１８、１９）が、チャンネルを有し、研究中の前記対象を位置付
    ける前記手段に狭まっている、 装置。
  12. 【請求項１２】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線半
    レンズ（２１）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、該対
    応Ｘ線源（１）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 前記検出器（６）に運搬する二次照射を生じる各手段が、Ｘ線半レンズ（２２
    ）として作製され、該検出器（６）に該照射の焦点を合わせ； それゆえ、全Ｘ線半レンズの光軸が、該ポイントで交差し、それには、該電流
    測定結果が参照される、 装置。
  13. 【請求項１３】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線半
    レンズ（２１）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、該対
    応Ｘ線源（１）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 前記検出器に運搬する二次照射を生じる各手段が、Ｘ線半レンズ（２３）とし
    て作製され、擬似平行照射を形成し、そして該照射集中ゾーン（１６）で焦点を
    有し； それゆえ、全Ｘ線半レンズの光軸が、該ポイントで交差し、それには、該電流
    測定結果が参照される、 装置。
  14. 【請求項１４】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線半
    レンズ（２１）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、該対
    応Ｘ線源（１）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 前記検出器（６）に運搬する二次照射を生じる各手段が、Ｘ線レンズ（３）と
    して作製され、該検出器（６）に該照射の焦点を合わせ、そして該照射集中ゾー
    ン（１６）で二次焦点を有し； 全Ｘ線半レンズおよびレンズの光軸が、該ポイントで交差し、それには、該電
    流測定結果が参照される、 装置。
  15. 【請求項１５】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線半
    レンズ（２１）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、該対
    応Ｘ線源（１）の分岐照射を擬似平行に移動させ； 前記検出器（２０）に運搬する二次照射を生じる各手段が、チャンネル付きコ
    リメータ（１９）として作製され、該対応検出器を分岐し； 全Ｘ線レンズ、半レンズおよび該コリメータの中心チャンネルの光軸が、該ポ
    イントで交差し、それには、該電流測定結果が参照される、 装置。
  16. 【請求項１６】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線半
    レンズ（２１）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、該対
    応Ｘ線源の分岐照射を擬似平行に移動させ； 前記検出器（６）に運搬する二次照射を生じる各手段が、チャンネル付きコリ
    メータ（１６）として作製され、該対応検出器を収束し； 全Ｘ線半レンズおよび該コリメータの中心チャンネルの光軸が、該ポイントで
    交差し、それには、該電流測定結果が参照される、 装置。
  17. 【請求項１７】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイント（４）を含めた前記ゾーンでＸ線を集中する各手段が、Ｘ線レン
    ズ（２）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、Ｘ線源（１
    ）の分岐照射に焦点を合わせ； 前記検出器（６）に運搬する二次照射を生じる各手段が、Ｘ線レンズ（３）と
    して作製され、該対応検出器に該照射の焦点を合わせ； 全Ｘ線レンズの光軸が、該ポイントで交差し、それには、該電流測定結果が参
    照される、 装置。
  18. 【請求項１８】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線レ
    ンズ（２）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、Ｘ線源（
    １）の分岐照射の焦点を合わせ； 前記検出器（６）に運搬する二次照射を生じる各手段が、チャンネル付きコリ
    メータ（１５）として作製され、該対応検出器を収束し； 全Ｘ線レンズおよび該コリメータの中心チャンネルの光軸が、該ポイントで交
    差し、それには、該電流測定結果が参照される、 装置。
  19. 【請求項１９】 請求項８に記載の装置であって、前記Ｘ線システムで構成
    される前記Ｘ線源（１）が、擬似鋭利であり； 前記ポイントを含めた前記ゾーン（１６）でＸ線を集中する各手段が、Ｘ線レ
    ンズ（２）として作製され、それには、前記電流測定結果が参照され、Ｘ線源（
    １）の分岐照射の焦点を合わせ； 前記検出器（２０）に運搬する二次照射を生じる各手段が、チャンネル付きコ
    リメータ（１９）として作製され、該対応検出器に分岐し； それゆえ、全Ｘ線レンズおよび該コリメータの中心チャンネルの光軸が、該ポ
    イントで交差し、それには、該電流測定結果が参照される、 装置。
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