JP2003517145A - ゴーストビーム効果の影響を低減した干渉計 - Google Patents
ゴーストビーム効果の影響を低減した干渉計Info
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Abstract
Description
ストイメージの望ましくない影響が実質的に低減され得る装置に関する。
で、内部素子からの反射によってゴーストビームが置換測定干渉計内で形成され
得る。ゴーストビームの本質について、より具体的には、ステージ計測に対する
置換干渉計の共通のタイプである高安定性平面ミラー干渉計(HSPMI)の例
を示す(さらなる例は、例えば、Dr.C.Zanoni、Different
ial Interferometer Arrangements for
Distance and Angle Measurements:Prin
ciples、Advantages and Applications,V
DI BERICHTE NR.749、1989を参照のこと)。偶発的な反
射を生成するための多くの機会が存在し、これにより「ゴースト」ビームを生じ
ることが図1から明らかである。これらの反射のいくつかは、干渉計内でコヒー
レントに混合し、非線形性を導入する。特に図1に示される測定波長板wRの前
面および後面が、所望の測定ビームを完全に重ね合わせ得るゴーストビームを生
成する。多くのガラス素子からの反射とは異なり、波長板の偏光特性は、ゴース
トビームの偏光状態によって、ゴーストビームの分離を妨げる。その結果非線形
性は、潜在的に、偏光混合のような一般的に公知のエラー源よりもさらに深刻で
ある。
ステージミラーに対して傾けることによって打ち消され得る。これらのチルトは
、ゴーストビームとメインビームとの間にチルトを導入することによってゴース
トビームの影響を低減する。言い換えれば、これらのビーム内に多くのチルト縞
が存在し、強い干渉信号を生成する。しかし、図1に示されるように測定ビーム
および基準ビームの両方に対する20の面反射が存在するため、2つの偶発的な
反射を含む400の可能なゴーストビーム経路が存在する。単一面反射の場合の
ように、光学素子を意図的に傾けることは、2つの表面がチルトを相殺するよう
な角度を有さない場合、多くの最も面倒な2つの表面反射の多くを除去する。不
幸にも、多くの2つの表面反射は、同じ光学素子が2つの平面間で逆反射するこ
とを伴う。2つの反射角が打ち消され、その結果、メインビームにコヒーレント
に与えられるゴーストビームとなる。
路の2つの例を示す。これらのゴーストビームの経路は分離されて示されている
が、実際には、これらの経路は、主要な干渉計ビームに重なることが理解される
。逆反射のため、波長板を傾けることによってこれらの経路を避ける試みは、干
渉計がステージミラー内のチップおよびチルトを調整するという同じ理由のため
失敗する。どんなに波長板が傾けられても、ゴーストビームは、検出器までの経
路を見出す。
内のピーク−谷(PV)エラーδxは、以下の式によって与えられる。
得る。その結果、図2および3に示される寄与のそれぞれに対してδx=0.2
5nmを得る。比較して、高品位ビームスプリッタ(<0.1%減光)における
HSPMI偏光混合からの寄与は、より小さな(0.05nm)オーダーである
。
かなり注目されてきたが、ゴースト反射に属する問題のいかなる処置の顕著な欠
如があった。例えば、In Appl.Opt.37(28),6696−67
00(1998)では、WuおよびDeslattesは、ゴーストの原因およ
び影響を簡単に議論し、マイカおよび方解石等のいくつかの材料がARコーティ
ングに対して弱い基質であることに留意されたい。しかし、これらのゴーストを
低減するための任意の手段を説明していない。
いゴーストビームの影響が低減され得る装置を提供することである。本発明主な
目的は、高安定平面ミラー干渉計(HSPMI)および他の平面ミラー干渉計型
の構成の測定波長板からのコヒーレント2次ゴースト反射の可能性を除去するこ
とである。
明らかであり、以後部分的に明確になる。
および第2の測定区間(leg)を有する平面ミラー型であり、1つは、好まし
くは基準区間として固定され、そして機能し、もう1つは、測定置換に対して移
動可能である(線形、角度またはその両方)。偏光リターデーション素子は、好
ましくは、分割波長板のセットの形態であり、互いに対して反対方向わずかに傾
いた(例えば、2mrad)2つのセグメントから構成され、望ましくないゴー
ストビームの影響を低減するように測定区間内に存在し、そうでなければ、主ビ
ーム(main beam)と同じ経路に沿って進み、著しい循環エラーを生成
する。このような分割波長板の第2のセットは、基準区間内に有利に使用され得
る。分割波長板の使用によって、2重反射ゴーストビームが主測定ビームに対し
て正味のチルトを有し、従って、干渉影響に寄与しない。これは、エラーの原因
として波長板ゴースト反射を効率的に除去する。本発明の精神を使用して、傾い
た波長板は、これらに限定されないが、非補償平面ミラー、高安定性平面ミラー
、差動平面ミラー、2重差動平面ミラー、およびデュアル線形/角度状型を含む
、様々な偏光干渉計において作製される。
、図面とともに詳細な説明を読むことによって最良に理解され得る。各要素は、
様々な図面において出現する場合はいつでもそれを識別する、割り当てられた数
を有する。
の影響を低減するために、好ましくは、その測定区間内に、2つの対向して傾け
た1/4波長板を使用する高安定平面ミラー干渉計10の透視図である。図1で
理解されるように、干渉計10は入力ビーム14を生成するための光源12を備
え、好適には、点線(s−偏光)および隣接する垂直な両頭矢印(p−偏光)に
よって記号を用いて示される2つの直交偏向された同延の成分を含む。光源12
は、好ましくはレーザまたはコヒーレントな照射源等であり、好ましくは偏光さ
れ、波長λ1を有する。ヘテロダイン検出の目的のために、変調器は、例えば、
音響光学デバイスまたはビーム14の偏光成分を選択的に変調するための追加の
光学素子を有する音響光学デバイスの組み合わせの形態で設けられ得る。好まし
くは、このような変調器は、ビーム14の直線偏光された成分の1つの発振周波
数をシフトする。直交に、直線偏向された成分に関する周波数f1の量、その成
分の偏光の方向が図示される。ビーム14が、例えば分散干渉法を実施するため
に2つ以上の波長を有し、これらの波長は、調和振動で関連付けられ得る。
波数二重化、周波数三重化、周波数四重化等を達成する光の周波数二重化手段に
組み合わされた単一のレーザ光源によって、和周波数生成または差周波数生成を
組み合わせた異なる波長の2つのレーザ光源、あるいは1以上の波長の光を生成
可能な任意の等価な光源構成によって代替的に与えられ得ることを当業者は理解
する。
任意の様々な従来技術(例えば、T.Baerらによる、「Frequency
Stabilization of a 0.633μm He−Ne−lo
ngitudinal Zeeman Laser」 Applied Opt
ics、19、3173−3177(1980)と、Burgwaldらによる
、1975年6月10日に発行された米国特許第3、889、207号と、Sa
ndstormらによる1972年5月9日に発行された米国特許第3、662
、279号を参照)によって安定化されたHeNe等のガスレーザであり得る。
あるいはレーザは、当業者に公知の様々な従来技術(例えば、T.Okoshi
and K.Kikuchi、「Frequency Stabilizat
ion of Semiconductor Lasers for Hete
rodyne−type Optical Communication Sy
stems」Electronic Letters、16、179−181(
1980)と、S.YamaqguchiおよびM.Suzuki、「Simu
ltaneous Stabilization of the Freque
ncy and Power of an AlGaAs Semicondu
ctor Lazer by Use of the Optogalvani
c Effect of Krypton、」IEEE J.Quantum
Electronics、QE−19、1514−1519(1983)を参照
)において安定化される ダイオードレーザ周波数であり得る。
び/またはレーザによって生成され得ることが理解され得る。(1)ゼーマンス
プリットレーザ(例えば、Bagleyらによる、1969年7月29日に発行
された米国特許第3、458、259号、G.Bouwhuitsによる「In
terferometrie Mit Gaslaser」Ned.T.Nat
uurk、34、225−232(1968年8月)、Bagleyらによる、
1972年4月18日に発行された米国特許第3、656、853号、およびH
.Matsumoto、「Recent interferometric m
easurements using stabilized lasers」
、Precision Engineering、6(2)、87−94(19
84))(2)音響光学ブラッグセルの対の使用(例えば、Y.Ohtsuka
およびK.Itohによる、「Two−frequency Laser In
terferometer for Small Displacement
Measurements in a Low Frequency Rang
e」、Applied Optics、18(2)、219−224(1979
)、N.Massieらによる、「Measuring Laser Flow
Field With a 64−Channel Heterodyne
Interferometer」、Applied Optics、22(14
)2141−2151(1983)、Y.OhtsukaおよびM.tsubo
kawaによる、「Dynamic Two−frequency Inter
ferometry for small Displacement Mea
surment」、Optics and Laser Technology
、16、25−29(1984)、H.Matumoto、ibid、P.Di
rkenらによる、1996年1月16日に発行された米国特許第5、485、
272号、N.A.RizaおよびM.H.K.Howlader、「Acou
sto−optic system for the generation
and control of tunable low−frequency
singnals」、Opt.Eng.、35(4)、920−925(19
96)(3)単一の音響光学ブラッグセルの使用(例えば、G.E.Somma
rgenによる同一出願人に譲受され、1987年8月4日に発行された米国特
許第4、684、828号、G.E.Sommargenによる同一出願人に譲
受され、1987年8月18日に発行された米国特許第4、687、958号、
P.Dirksenらによる同書(4)ランダムに偏光されたHeNeレーザの
2つの長手方向モードの使用(例えば、J.B.FergusonおよびR.H
.Morrisによる「Single Mode Collapse in 6
328Å HeNe Lasers」、Applied Optics、17(
18)、2924−2929(1978)または(5)レーザの複屈折成分また
はレーザの内部成分の使用(例えば、V.EvtuhovおよびA.E.Sie
gman、「A ’Twisted−Mode’Technique for
Obtaining Axially Uniform Energy Den
sity in a Laser Cavity」、Applied Opti
cs、4(1)、142−143(1965)。
発散を決定する。いくつかの光源、例えばダイオードレーザでは、従来のビーム
形成光学素子(例えば、従来の顕微ミラーの対物レンズ)を使用して以後の素子
についての適切な直径および発散を有するビーム14を供給することが必要であ
る可能性がある。光源が、例えばHeNeレーザである場合、ビーム形成光学素
子は必要とされ得ない。
ン手段(好ましくは、1/4波長板18および20の対の形態)ビームススプリ
ッタ16の出射切子面の右側にあり、互いに反対に傾いた(例えば、2mrad
)リターデーション手段と、周知の方法の移動に適応する1/4波長板18およ
び20の右側にある移動可能な平面ミラー22と、ビームスプリッタ16の上方
に位置し、ビームスプリッタ16の上部切子面に隣接する1/4波長板24と、
固定された基準平面ミラー24(好ましくは、1/4波長板24上方に固定され
、配置される)と、ビームスプリッタ16の下部切子面に対向して配置されれた
キューブコーナー(cube corner)リトロリフレクタ28とを備える
。
計10の測定区間に沿って進む、ビーム34のようなp−偏光成分を伝達するこ
とによってビーム14の直交偏光された成分を分離するように動作し、干渉計1
0の測定区間に沿って進む、ビーム36のようなs−偏光成分を反射する。
能ミラー22で反射する。このプロセスではビーム34の左右像が変化し、そし
て1/4波長板18に再度進み、その後、s−偏光として出射する。そのビーム
は次いで、コーティングされたビームスプリッタ16の斜辺面で反射され、その
後、キューブコーナーリトロリフレクタ28に入射し、そこからビーム38とし
て出射しビームスプリッタ16に向って再度進む。ビーム38は、ビームスプリ
ッタ16で反射し、移動可能な平面ミラー22に向ってビーム40として再度進
む。ビーム40は、傾けられた1/4波長板20を通過し、そこから円偏光とし
て出射し、移動可能ミラー22で反射する。このプロセスでは、光の左右像が反
転し、そして傾けられた1/4波長板20からp−偏光として出射し、出力ビー
ム成分42としてビームスプリッタ16を介して伝達される。
上方に進み、1/4波長板24を通過し、1/4波長板24から円偏光として出
射する。その円偏光は固定された平面ミラー26で反射し、1/4波長板24に
戻る。その円偏光の左右像は、平面ミラー26からの反射前の左右像と比較して
反転された左右像を有する。その後、その円偏光は、1/4波長板24からp−
偏光として出射し、p−偏光は、ビームスプリッタ16によって伝達され、キュ
ーブコーナーリトロリフレクタ28に進む。p−偏光は、キューブコーナーリト
ロリフレクタ28から出射し、再び上方に移動してビームスプリッタ16からp
−偏光44のビームとしてビームスプリッタ16から出射する。ビーム44は、
1/4波長板24を通過し、1/4波長板24から円偏光として出射し、平面ミ
ラー26から反射する。このプロセスでは、その円偏光は左右像が変化され、1
/4波長板24を介して進み、1/4波長板24からs−偏光として出射する。
ビーム44は、ビームスプリッタ16の対角表面で反射し、ビーム44は、出力
ビーム42と結合し出力ビーム45として反射する。ビーム42および44は、
偏光ミキサ30によって結合され、偏光ミキサ30は、光検出器32に送られる
出力ビーム46を生成する。光検出器32は、干渉計10の基準区間および測定
区間との間の光路差を表す信号を生成かつ出力するように動作する。次いで、光
検出器32の出力は、この目的のために設計されたオンボードソフトウエアの使
用による周知の様式で信号処理および信号解析するコンピュータ33に供給され
る。あるいは、このような処理および解析は、特定用途集積回路(ASIC)の
ような適切な機能性を有する専用チップによって達成され得る。 図4では、測定区間波長板18および20は、測定区間波長板18および20を
介して移動可能ミラー22への2重光通過伝達が主光に平行な2つの反射ゴース
トビームを生成しないように分割する。これは、測定1/4波長板に対して最も
重要であるが、図5に理解されるのと同様に基準波長板に対して有用で有り得る
。理解されるように、波長板セグメント18および20は、従来の単一波長板と
同様に正確に配向された自身の偏光軸を有する。このような波長板は入手可能で
あり、調和的に関連付けられ得る2以上の波長で動作する。 このようにして、2つの直交偏光されたビームを受け取り、それぞれ第1および
第2の測定区間に沿って進む2つのビームを分離し、第1および第2の測定区間
を進む際に各ビームが受け取る光路内のそれぞれの差に関する情報を含む出射ビ
ームを生成するための干渉計手段が設けられる。第1および第2の測定区間は、
第1および第2の測定区間の少なくとも1つが様々な物理長(すなわち、第1お
よび第2の測定区間の光路の各物理長の間の差に従って変化する第1および第2
の測定区間の間の光路長)を有するように構成かつ配置され、少なくとも1つの
第1および第2の測定区間は、出射ビームに対するゴースト反射の影響を低減す
る一方で、ビームの偏光状態を制御するための1対の対向して傾けられた1/4
波長板を備える。この配置は、ガラス素子の同一の光路長を通して基準ビームお
よび測定ビームが進むために、かなり安定り、それによって、干渉計10を熱の
影響に対して敏感でないようにすることが明らかである。また、2重光通過幾何
構成の結果として、平面ミラーのこのチルトの効果が打ち消される。
ビームとして設けられ得ることが明らかである。これは、例えば、偏光ビームス
プリッタコーティングを処理する偏光ビームスプリッタおよび平面ミラーあるい
はせん断板の使用のような周知の様式によって達成され得る。空間的に分離され
た入力ビームが使用される場合、同様に組み合わされた出力ビームに一致する。
ミラー干渉計50は、2セット(1セットは測定区間にあり、他の1セットは干
渉計内にある)対向して傾けられた1/4波長板を使用し、出力信号に関する望
ましくないゴースト反射の影響を低減する。従って、干渉計50は、2つの対向
するように傾けられた1/4波長板52および54の追加によって干渉計10と
は異なる。さらに、干渉計10および50の両方に共通な素子は、上述の干渉計
と同一の数および同一の動作であるとみなされる。しかし、ビーム光源14、偏
光ミキサ30、光検出器32、およびコンピュータ33は、図面を簡略化するた
めに省略されるが、実際にはこれらは含まれる。1/4波長板52および54は
、ここでは干渉計50の基準区間内ではなく、干渉計10において、1/4波長
板18および20と同一の動作を行う。
得ることが理解される。例えば、本発明は、Dr.C.Zanoniの上記の論
文(この論文全体を本明細書中で参考として援用する)に記載されるような熱効
果を補償しない平面ミラー干渉計、異なる平面ミラー干渉計、2つの差分平面ミ
ラー干渉計、および2重線形/角度置換干渉計において使用され得る。あるいは
、2重線形/角度置換干渉計のさらなる例は、米国特許第4,881、816号
、第4、859、066号、第4、883,357号、および4、883、35
7号に記載され得、これらの特許もまた本明細書中で参考として援用する。
明白であり、請求の範囲における本発明の範囲内にあることが意図される
。
面反射によって引き起こされる望ましくないゴースト反射の原因の1つを示す、
図1の干渉計の選択された素子の概略的な平面図である。
な偏光によって引き起こされる干渉計を通して4回通過する場合に発生する望ま
しくないゴースト反射についての別の原因を示す、図2と同様の概略的な平面図
である。
、干渉計の測定区間において2つの対向して傾いた1/4波長板を使用する高安
定性平面ミラー干渉計の概略的な透視図である。
、2つのセットの対向して傾いた1/4波長板(干渉計の測定区間内の1つのセ
ット、基準区間内の1つのセット)を使用する高安定性平面ミラー干渉計の概略
的な透視図である。
Claims (15)
- 【請求項1】 偏光干渉計装置であって、該装置は、少なくとも2つのビー
ムを受信し、第1および第2の測定区間を提供し、それぞれ該第1および該第2
の測定区間に沿って進む該2つのビームを分離する干渉計手段を備え、該第1お
よび第2の測定区間を進む際に各ビームが受けるそれぞれの光路差に関する情報
を含む出射ビームを生成し、該第1および該第2の測定区間は、構造化され調整
された光路を有する該第1および第2の測定区間を有し、少なくとも1つの該第
1および第2の測定区間は、変更可能な物理長を有し、該第1および第2の測定
区間との間の光路長の差が、該第1および第2の測定区間の光路に対応する物理
長の間の差に従って変動し、少なくとも1つの該第1および第2の測定区間は、
該ビームの偏光状態を制御するためのリターデーション素子を備え、一方で該出
射ビームへのゴースト反射の影響を低減する、偏光干渉計装置。 - 【請求項2】 前記出射ビームを組み合わせて、前記第1および第2の測定
区間の前記所定の光路の対応する光路からそれぞれの該出射ビーム間の位相差に
対応する情報を含む、混合された光信号を生成する手段をさらに備える、請求項
1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項3】 前記混合された光信号を検出し、前記測定区間の物理経路長
差および該測定区間の相対変化率の差に対応する情報を含む電気干渉信号生成す
る手段をさらに備える、請求項2に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項4】 前記電気干渉信号を解析するための電気手段をさらに備える
、請求項3に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項5】 前記リターデーション素子が、1対の対向して傾けられた1
/4波長板を備える、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項6】 直交偏光状態を有する少なくとも2つのビームを生成する手
段をさらに備える、請求項5に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項7】 前記干渉計手段は、前記第1および第2の測定区間の対応す
る区間に沿って進むため、前記直交偏光されたビームを分離するための少なくと
も1つの偏光ビームスプリッタを備える、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項8】 前記干渉計手段は、前記測定区間内の1つにおいて少なくと
も1つの平面ミラーを備える、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項9】 前記干渉計手段は、前記第1および第2の測定区間の対応す
る区間に沿って進む前記直交偏光されたビームを分離するための少なくとも1つ
の偏光ビームスプリッタを備える、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項10】 前記干渉計手段は、複数の光学素子を備え、該複数の光学
素子は、ガラスから構成され、前記第1および第2の測定区間に沿って進む前記
分離されたビームが、熱効果を補償するために、実質的に等しい光路長にわたっ
て、ガラスから構成される該光学素子を通って進むように調整された前記リター
デーション素子を備える、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項11】 前記複数の光学素子は、入射切子面と、出射切子面と、上
部切子面と、下部切子面とを有する偏光ビームスプリッタと、該上部切子面の上
方に実質的に平行に配置された第1の固定された平面ミラーと、該第1の平面ミ
ラーと該上部切子面との中間に配置された第1の1/4波長板と、該出射切子面
に実質的に平行かつ対向して配置された第2の移動可能な平面ミラーと、該第2
の平面ミラーと該出射切子面の中間に固定して配置された反対向きに傾けられた
1/4波長板の第2の対とを備える、請求項10に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項12】 前記直交偏光ビームは、同延の経路に沿って進む、請求項
1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項13】 前記干渉計は、前記直交偏光されたビームが、該干渉計に
2重通過させるように配置される、請求項6に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項14】 少なくとも2つの前記直交偏光ビームが異なる波長を有す
る、請求項1に記載の偏光干渉計装置。 - 【請求項15】 前記直交偏光されたビームの異なる波長は、調和的に関係
付けられる、請求項14に記載の偏光干渉計装置。
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