JP4681179B2 - ゴーストビーム効果の影響を低減した干渉計 - Google Patents

Description

【０００１】
（発明の背景）
本発明は、概して、置換測定干渉法に関し、より詳細には、測定信号へのゴーストイメージの望ましくない影響が実質的に低減され得る装置に関する。
【０００２】
ゴーストビームが信号ビームに重なって著しいエラーを発生させるような方法で、内部素子からの反射によってゴーストビームが置換測定干渉計内で形成され得る。ゴーストビームの本質について、より具体的には、ステージ計測に対する置換干渉計の共通のタイプである高安定性平面ミラー干渉計（ＨＳＰＭＩ）の例を示す（さらなる例は、例えば、Ｄｒ．Ｃ．Ｚａｎｏｎｉ、Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ Ａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｄｉｓｔａｎｃｅ ａｎｄ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ：Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ、Ａｄｖａｎｔａｇｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，ＶＤＩ ＢＥＲＩＣＨＴＥ ＮＲ．７４９、１９８９を参照のこと）。偶発的な反射を生成するための多くの機会が存在し、これにより「ゴースト」ビームを生じることが図１から明らかである。これらの反射のいくつかは、干渉計内でコヒーレントに混合し、非線形性を導入する。特に図１に示される測定波長板ｗ_Rの前面および後面が、所望の測定ビームを完全に重ね合わせ得るゴーストビームを生成する。多くのガラス素子からの反射とは異なり、波長板の偏光特性は、ゴーストビームの偏光状態によって、ゴーストビームの分離を妨げる。その結果非線形性は、潜在的に、偏光混合のような一般的に公知のエラー源よりもさらに深刻である。
【０００３】
ほとんどの単一面での反射は、干渉計の様々な光学素子を互いに対しておよびステージミラーに対して傾けることによって打ち消され得る。これらのチルトは、ゴーストビームとメインビームとの間にチルトを導入することによってゴーストビームの影響を低減する。言い換えれば、これらのビーム内に多くのチルト縞が存在し、強い干渉信号を生成する。しかし、図１に示されるように測定ビームおよび基準ビームの両方に対する２０の面反射が存在するため、２つの偶発的な反射を含む４００の可能なゴーストビーム経路が存在する。単一面反射の場合のように、光学素子を意図的に傾けることは、２つの表面がチルトを相殺するような角度を有さない場合、多くの最も面倒な２つの表面反射の多くを除去する。不幸にも、多くの２つの表面反射は、同じ光学素子が２つの平面間で逆反射することを伴う。２つの反射角が打ち消され、その結果、メインビームにコヒーレントに与えられるゴーストビームとなる。
【０００４】
図２および図３は、測定波長板からの２つの表面反射を含むゴーストビーム経路の２つの例を示す。これらのゴーストビームの経路は分離されて示されているが、実際には、これらの経路は、主要な干渉計ビームに重なることが理解される。逆反射のため、波長板を傾けることによってこれらの経路を避ける試みは、干渉計がステージミラー内のチップおよびチルトを調整するという同じ理由のため失敗する。どんなに波長板が傾けられても、ゴーストビームは、検出器までの経路を見出す。
【０００５】
定量的には、相対電界振幅εのゴーストビームから得られる平面ミラー干渉計内のピーク−谷（ＰＶ）エラーδｘは、以下の式によって与えられる。
【０００６】
δｘ＝ελ／４π （１）
０．５％の反射率を有する石英波長板は、２回の反射後、０．００５の値εを得る。その結果、図２および３に示される寄与のそれぞれに対してδｘ＝０．２５ｎｍを得る。比較して、高品位ビームスプリッタ（＜０．１％減光）におけるＨＳＰＭＩ偏光混合からの寄与は、より小さな（０．０５ｎｍ）オーダーである。
【０００７】
これらの干渉計の内のエラーの原因として周波数混合および偏光混合に関してかなり注目されてきたが、ゴースト反射に属する問題のいかなる処置の顕著な欠如があった。例えば、Ｉｎ Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．３７（２８），６６９６−６７００（１９９８）では、ＷｕおよびＤｅｓｌａｔｔｅｓは、ゴーストの原因および影響を簡単に議論し、マイカおよび方解石等のいくつかの材料がＡＲコーティングに対して弱い基質であることに留意されたい。しかし、これらのゴーストを低減するための任意の手段を説明していない。
【０００８】
結果的に、本発明の第１の目的は、変位干渉計において生成される望ましくないゴーストビームの影響が低減され得る装置を提供することである。本発明主な目的は、高安定平面ミラー干渉計（ＨＳＰＭＩ）および他の平面ミラー干渉計型の構成の測定波長板からのコヒーレント２次ゴースト反射の可能性を除去することである。
【０００９】
本発明の他の目的は、以下の詳細な説明を、図面とともに読む場合に部分的に明らかであり、以後部分的に明確になる。
【００１０】
（発明の要旨）
本発明は、概して置換干渉計、特に偏光干渉計の構成に関し、好ましくは第１および第２の測定区間（ｌｅｇ）を有する平面ミラー型であり、１つは、好ましくは基準区間として固定され、そして機能し、もう１つは、測定置換に対して移動可能である（線形、角度またはその両方）。偏光リターデーション素子は、好ましくは、分割波長板のセットの形態であり、互いに対して反対方向わずかに傾いた（例えば、２ｍｒａｄ）２つのセグメントから構成され、望ましくないゴーストビームの影響を低減するように測定区間内に存在し、そうでなければ、主ビーム（ｍａｉｎ ｂｅａｍ）と同じ経路に沿って進み、著しい循環エラーを生成する。このような分割波長板の第２のセットは、基準区間内に有利に使用され得る。分割波長板の使用によって、２重反射ゴーストビームが主測定ビームに対して正味のチルトを有し、従って、干渉影響に寄与しない。これは、エラーの原因として波長板ゴースト反射を効率的に除去する。本発明の精神を使用して、傾いた波長板は、これらに限定されないが、非補償平面ミラー、高安定性平面ミラー、差動平面ミラー、２重差動平面ミラー、およびデュアル線形／角度状型を含む、様々な偏光干渉計において作製される。
【００１１】
本発明の他の目的および利点とともに、本発明の構造、動作、および方法論は、図面とともに詳細な説明を読むことによって最良に理解され得る。各要素は、様々な図面において出現する場合はいつでもそれを識別する、割り当てられた数を有する。
【００１２】
（発明の詳細な説明）
ここで図４を参照する。図４は、出力信号に関する望ましくないゴースト反射の影響を低減するために、好ましくは、その測定区間内に、２つの対向して傾けた１／４波長板を使用する高安定平面ミラー干渉計１０の透視図である。図１で理解されるように、干渉計１０は入力ビーム１４を生成するための光源１２を備え、好適には、点線（ｓ−偏光）および隣接する垂直な両頭矢印（ｐ−偏光）によって記号を用いて示される２つの直交偏向された同延の成分を含む。光源１２は、好ましくはレーザまたはコヒーレントな照射源等であり、好ましくは偏光され、波長λ₁を有する。ヘテロダイン検出の目的のために、変調器は、例えば、音響光学デバイスまたはビーム１４の偏光成分を選択的に変調するための追加の光学素子を有する音響光学デバイスの組み合わせの形態で設けられ得る。好ましくは、このような変調器は、ビーム１４の直線偏光された成分の１つの発振周波数をシフトする。直交に、直線偏向された成分に関する周波数ｆ₁の量、その成分の偏光の方向が図示される。ビーム１４が、例えば分散干渉法を実施するために２つ以上の波長を有し、これらの波長は、調和振動で関連付けられ得る。
【００１３】
ビーム１４が、１以上の波長を出射する単一のレーザ光源によって、および周波数二重化、周波数三重化、周波数四重化等を達成する光の周波数二重化手段に組み合わされた単一のレーザ光源によって、和周波数生成または差周波数生成を組み合わせた異なる波長の２つのレーザ光源、あるいは１以上の波長の光を生成可能な任意の等価な光源構成によって代替的に与えられ得ることを当業者は理解する。
【００１４】
レーザ光源は、例えば、ＨｅＮｅ等のガスレーザであり得る。当業者に公知の任意の様々な従来技術（例えば、Ｔ．Ｂａｅｒらによる、「Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ａ ０．６３３μｍ Ｈｅ−Ｎｅ−ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ Ｚｅｅｍａｎ Ｌａｓｅｒ」 Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１９、３１７３−３１７７（１９８０）と、Ｂｕｒｇｗａｌｄらによる、１９７５年６月１０日に発行された米国特許第３、８８９、２０７号と、Ｓａｎｄｓｔｏｒｍらによる１９７２年５月９日に発行された米国特許第３、６６２、２７９号を参照）によって安定化されたＨｅＮｅ等のガスレーザであり得る。あるいはレーザは、当業者に公知の様々な従来技術（例えば、Ｔ．Ｏｋｏｓｈｉ ａｎｄ Ｋ．Ｋｉｋｕｃｈｉ、「Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌａｓｅｒｓ ｆｏｒ Ｈｅｔｅｒｏｄｙｎｅ−ｔｙｐｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ」Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ、１６、１７９−１８１（１９８０）と、Ｓ．ＹａｍａｑｇｕｃｈｉおよびＭ．Ｓｕｚｕｋｉ、「Ｓｉｍｕｌｔａｎｅｏｕｓ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ａｎｄ Ｐｏｗｅｒ ｏｆ ａｎ ＡｌＧａＡｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌａｚｅｒ ｂｙ Ｕｓｅ ｏｆ ｔｈｅ Ｏｐｔｏｇａｌｖａｎｉｃ Ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ Ｋｒｙｐｔｏｎ、」ＩＥＥＥ Ｊ．Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ、ＱＥ−１９、１５１４−１５１９（１９８３）を参照）において安定化される
ダイオードレーザ周波数であり得る。
【００１５】
使用されるビーム１４の２つの光周波数は、任意の様々な周波数変調装置および／またはレーザによって生成され得ることが理解され得る。（１）ゼーマンスプリットレーザ（例えば、Ｂａｇｌｅｙらによる、１９６９年７月２９日に発行された米国特許第３、４５８、２５９号、Ｇ．Ｂｏｕｗｈｕｉｔｓによる「Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｅ Ｍｉｔ Ｇａｓｌａｓｅｒ」Ｎｅｄ．Ｔ．Ｎａｔｕｕｒｋ、３４、２２５−２３２（１９６８年８月）、Ｂａｇｌｅｙらによる、１９７２年４月１８日に発行された米国特許第３、６５６、８５３号、およびＨ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ、「Ｒｅｃｅｎｔ ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ ｕｓｉｎｇ ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ ｌａｓｅｒｓ」、Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、６（２）、８７−９４（１９８４））（２）音響光学ブラッグセルの対の使用（例えば、Ｙ．ＯｈｔｓｕｋａおよびＫ．Ｉｔｏｈによる、「Ｔｗｏ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｌａｓｅｒ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ ｆｏｒ Ｓｍａｌｌ Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ ｉｎ ａ Ｌｏｗ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｒａｎｇｅ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１８（２）、２１９−２２４（１９７９）、Ｎ．Ｍａｓｓｉｅらによる、「Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｌａｓｅｒ Ｆｌｏｗ Ｆｉｅｌｄ Ｗｉｔｈ ａ ６４−Ｃｈａｎｎｅｌ Ｈｅｔｅｒｏｄｙｎｅ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、２２（１４）２１４１−２１５１（１９８３）、Ｙ．ＯｈｔｓｕｋａおよびＭ．ｔｓｕｂｏｋａｗａによる、「Ｄｙｎａｍｉｃ Ｔｗｏ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ ｆｏｒ ｓｍａｌｌ Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ Ｍｅａｓｕｒｍｅｎｔ」、Ｏｐｔｉｃｓ ａｎｄ Ｌａｓｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、１６、２５−２９（１９８４）、Ｈ．Ｍａｔｕｍｏｔｏ、ｉｂｉｄ、Ｐ．Ｄｉｒｋｅｎらによる、１９９６年１月１６日に発行された米国特許第５、４８５、２７２号、Ｎ．Ａ．ＲｉｚａおよびＭ．Ｈ．Ｋ．Ｈｏｗｌａｄｅｒ、「Ａｃｏｕｓｔｏ−ｏｐｔｉｃ ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒ ｔｈｅ ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｃｏｎｔｒｏｌ ｏｆ ｔｕｎａｂｌｅ ｌｏｗ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｓｉｎｇｎａｌｓ」、Ｏｐｔ．Ｅｎｇ．、３５（４）、９２０−９２５（１９９６）（３）単一の音響光学ブラッグセルの使用（例えば、Ｇ．Ｅ．Ｓｏｍｍａｒｇｅｎによる同一出願人に譲受され、１９８７年８月４日に発行された米国特許第４、６８４、８２８号、Ｇ．Ｅ．Ｓｏｍｍａｒｇｅｎによる同一出願人に譲受され、１９８７年８月１８日に発行された米国特許第４、６８７、９５８号、Ｐ．Ｄｉｒｋｓｅｎらによる同書（４）ランダムに偏光されたＨｅＮｅレーザの２つの長手方向モードの使用（例えば、Ｊ．Ｂ．ＦｅｒｇｕｓｏｎおよびＲ．Ｈ．Ｍｏｒｒｉｓによる「Ｓｉｎｇｌｅ Ｍｏｄｅ Ｃｏｌｌａｐｓｅ ｉｎ ６３２８Å ＨｅＮｅ Ｌａｓｅｒｓ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１７（１８）、２９２４−２９２９（１９７８）または（５）レーザの複屈折成分またはレーザの内部成分の使用（例えば、Ｖ．ＥｖｔｕｈｏｖおよびＡ．Ｅ．Ｓｉｅｇｍａｎ、「Ａ ’Ｔｗｉｓｔｅｄ−Ｍｏｄｅ’Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｆｏｒ Ｏｂｔａｉｎｉｎｇ Ａｘｉａｌｌｙ Ｕｎｉｆｏｒｍ Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｅｎｓｉｔｙ ｉｎ ａ Ｌａｓｅｒ Ｃａｖｉｔｙ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、４（１）、１４２−１４３（１９６５）。
【００１６】
ビーム１４の光源のために使用される特定のデバイスは、ビームの直径および発散を決定する。いくつかの光源、例えばダイオードレーザでは、従来のビーム形成光学素子（例えば、従来の顕微ミラーの対物レンズ）を使用して以後の素子についての適切な直径および発散を有するビーム１４を供給することが必要である可能性がある。光源が、例えばＨｅＮｅレーザである場合、ビーム形成光学素子は必要とされ得ない。
【００１７】
干渉計１０の他の光学素子は、偏光ビームスプリッタ１６と、リターデーション手段（好ましくは、１／４波長板１８および２０の対の形態）ビームススプリッタ１６の出射切子面の右側にあり、互いに反対に傾いた（例えば、２ｍｒａｄ）リターデーション手段と、周知の方法の移動に適応する１／４波長板１８および２０の右側にある移動可能な平面ミラー２２と、ビームスプリッタ１６の上方に位置し、ビームスプリッタ１６の上部切子面に隣接する１／４波長板２４と、固定された基準平面ミラー２４（好ましくは、１／４波長板２４上方に固定され、配置される）と、ビームスプリッタ１６の下部切子面に対向して配置されれたキューブコーナー（ｃｕｂｅ ｃｏｒｎｅｒ）リトロリフレクタ２８とを備える。
【００１８】
ビーム１４は、ビームスプリッタ１６を偏光することによって遮られる。干渉計１０の測定区間に沿って進む、ビーム３４のようなｐ−偏光成分を伝達することによってビーム１４の直交偏光された成分を分離するように動作し、干渉計１０の測定区間に沿って進む、ビーム３６のようなｓ−偏光成分を反射する。
【００１９】
ビーム３４は、傾けられた１／４波長板１８を通過して円偏光になり、移動可能ミラー２２で反射する。このプロセスではビーム３４の左右像が変化し、そして１／４波長板１８に再度進み、その後、ｓ−偏光として出射する。そのビームは次いで、コーティングされたビームスプリッタ１６の斜辺面で反射され、その後、キューブコーナーリトロリフレクタ２８に入射し、そこからビーム３８として出射しビームスプリッタ１６に向って再度進む。ビーム３８は、ビームスプリッタ１６で反射し、移動可能な平面ミラー２２に向ってビーム４０として再度進む。ビーム４０は、傾けられた１／４波長板２０を通過し、そこから円偏光として出射し、移動可能ミラー２２で反射する。このプロセスでは、光の左右像が反転し、そして傾けられた１／４波長板２０からｐ−偏光として出射し、出力ビーム成分４２としてビームスプリッタ１６を介して伝達される。
【００２０】
ビーム３６は、ビームスプリッタ１６から出射し、ビームスプリッタ１６から上方に進み、１／４波長板２４を通過し、１／４波長板２４から円偏光として出射する。その円偏光は固定された平面ミラー２６で反射し、１／４波長板２４に戻る。その円偏光の左右像は、平面ミラー２６からの反射前の左右像と比較して反転された左右像を有する。その後、その円偏光は、１／４波長板２４からｐ−偏光として出射し、ｐ−偏光は、ビームスプリッタ１６によって伝達され、キューブコーナーリトロリフレクタ２８に進む。ｐ−偏光は、キューブコーナーリトロリフレクタ２８から出射し、再び上方に移動してビームスプリッタ１６からｐ−偏光４４のビームとしてビームスプリッタ１６から出射する。ビーム４４は、１／４波長板２４を通過し、１／４波長板２４から円偏光として出射し、平面ミラー２６から反射する。このプロセスでは、その円偏光は左右像が変化され、１／４波長板２４を介して進み、１／４波長板２４からｓ−偏光として出射する。ビーム４４は、ビームスプリッタ１６の対角表面で反射し、ビーム４４は、出力ビーム４２と結合し出力ビーム４５として反射する。ビーム４２および４４は、偏光ミキサ３０によって結合され、偏光ミキサ３０は、光検出器３２に送られる出力ビーム４６を生成する。光検出器３２は、干渉計１０の基準区間および測定区間との間の光路差を表す信号を生成かつ出力するように動作する。次いで、光検出器３２の出力は、この目的のために設計されたオンボードソフトウエアの使用による周知の様式で信号処理および信号解析するコンピュータ３３に供給される。あるいは、このような処理および解析は、特定用途集積回路（ＡＳＩＣ）のような適切な機能性を有する専用チップによって達成され得る。
図４では、測定区間波長板１８および２０は、測定区間波長板１８および２０を介して移動可能ミラー２２への２重光通過伝達が主光に平行な２つの反射ゴーストビームを生成しないように分割する。これは、測定１／４波長板に対して最も重要であるが、図５に理解されるのと同様に基準波長板に対して有用で有り得る。理解されるように、波長板セグメント１８および２０は、従来の単一波長板と同様に正確に配向された自身の偏光軸を有する。このような波長板は入手可能であり、調和的に関連付けられ得る２以上の波長で動作する。
このようにして、２つの直交偏光されたビームを受け取り、それぞれ第１および第２の測定区間に沿って進む２つのビームを分離し、第１および第２の測定区間を進む際に各ビームが受け取る光路内のそれぞれの差に関する情報を含む出射ビームを生成するための干渉計手段が設けられる。第１および第２の測定区間は、第１および第２の測定区間の少なくとも１つが様々な物理長（すなわち、第１および第２の測定区間の光路の各物理長の間の差に従って変化する第１および第２の測定区間の間の光路長）を有するように構成かつ配置され、少なくとも１つの第１および第２の測定区間は、出射ビームに対するゴースト反射の影響を低減する一方で、ビームの偏光状態を制御するための１対の対向して傾けられた１／４波長板を備える。この配置は、ガラス素子の同一の光路長を通して基準ビームおよび測定ビームが進むために、かなり安定り、それによって、干渉計１０を熱の影響に対して敏感でないようにすることが明らかである。また、２重光通過幾何構成の結果として、平面ミラーのこのチルトの効果が打ち消される。
【００２１】
直交偏光入力ビーム素子が、偏光混合をさらに低減する、空間的に分離されたビームとして設けられ得ることが明らかである。これは、例えば、偏光ビームスプリッタコーティングを処理する偏光ビームスプリッタおよび平面ミラーあるいはせん断板の使用のような周知の様式によって達成され得る。空間的に分離された入力ビームが使用される場合、同様に組み合わされた出力ビームに一致する。
【００２２】
図５は、高安定性平面ミラー干渉計５０の概略的透視図である。高安定性平面ミラー干渉計５０は、２セット（１セットは測定区間にあり、他の１セットは干渉計内にある）対向して傾けられた１／４波長板を使用し、出力信号に関する望ましくないゴースト反射の影響を低減する。従って、干渉計５０は、２つの対向するように傾けられた１／４波長板５２および５４の追加によって干渉計１０とは異なる。さらに、干渉計１０および５０の両方に共通な素子は、上述の干渉計と同一の数および同一の動作であるとみなされる。しかし、ビーム光源１４、偏光ミキサ３０、光検出器３２、およびコンピュータ３３は、図面を簡略化するために省略されるが、実際にはこれらは含まれる。１／４波長板５２および５４は、ここでは干渉計５０の基準区間内ではなく、干渉計１０において、１／４波長板１８および２０と同一の動作を行う。
【００２３】
本発明は上述の構成とは異なる構成を有する他の偏光干渉計において使用され得ることが理解される。例えば、本発明は、Ｄｒ．Ｃ．Ｚａｎｏｎｉの上記の論文（この論文全体を本明細書中で参考として援用する）に記載されるような熱効果を補償しない平面ミラー干渉計、異なる平面ミラー干渉計、２つの差分平面ミラー干渉計、および２重線形／角度置換干渉計において使用され得る。あるいは、２重線形／角度置換干渉計のさらなる例は、米国特許第４，８８１、８１６号、第４、８５９、０６６号、第４、８８３，３５７号、および４、８８３、３５７号に記載され得、これらの特許もまた本明細書中で参考として援用する。
【００２４】
他の改変が、上記の本発明の教示および実施形態に基づく関連分野の当業者に明白であり、請求の範囲における本発明の範囲内にあることが意図される
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、周知の従来技術の高安定性平面ミラー干渉計の概略的な平面図である。
【図２】 図２は、干渉計の測定区間内に配置された１／４波長板から２つの偏光回転表面反射によって引き起こされる望ましくないゴースト反射の原因の１つを示す、図１の干渉計の選択された素子の概略的な平面図である。
【図３】 図３は、ゴーストビームが、１／４波長板から表面反射を保持する２つの単純な偏光によって引き起こされる干渉計を通して４回通過する場合に発生する望ましくないゴースト反射についての別の原因を示す、図２と同様の概略的な平面図である。
【図４】 図４は、出力信号に関して望ましくないゴースト反射の効果を低減するように、干渉計の測定区間において２つの対向して傾いた１／４波長板を使用する高安定性平面ミラー干渉計の概略的な透視図である。
【図５】 図５は、出力信号に関して望ましくないゴースト反射の効果を低減するように、２つのセットの対向して傾いた１／４波長板（干渉計の測定区間内の１つのセット、基準区間内の１つのセット）を使用する高安定性平面ミラー干渉計の概略的な透視図である。

Claims (15)

1. 偏光干渉装置であって、
   該装置は、干渉計手段を含み、
   該干渉計手段は、
   少なくとも２つのビームを受信し、第１の測定レグおよび第２の測定レグを提供することと、
   該第１の測定レグおよび該第２の測定レグのそれぞれに沿って進むように該少なくとも２つのビームを分離することと、
   該第１の測定レグおよび第２の測定レグに沿って進む際に各ビームが受けるそれぞれの光路の差に関する情報を含む出射ビームを生成することと
   を行い、
   該第１の測定レグおよび該第２の測定レグは、該第１の測定レグおよび第２の測定レグのうちの少なくとも１つが可変の物理長を有するように構造化され配置された光路を有し、
   該第１の測定レグと第２の測定レグとの間の光路長の差が、該第１の測定レグの光路の物理長と該第２の測定レグの光路の物理長との間の差に従って変動し、
   該第１の測定レグおよび該第２の測定レグのうちの少なくとも１つは、該出射ビームに対するゴースト反射の影響を低減しつつ、該出射ビームの偏光の状態を制御するために、第１の傾けられた波長板と、該第１の傾けられた波長板とは反対に傾けられた波長板とを含む、偏光干渉装置。
2. 前記出射ビームを組み合わせて混合された光信号を生成する手段をさらに含み、該混合された光信号は、前記第１の測定レグおよび前記第２の測定レグの所定の光路のうちの対応する光路からの該出射ビームのそれぞれの間の位相差に対応する情報を含む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
3. 前記混合された光信号を検出し、電気干渉信号を生成する手段をさらに含み、該電気干渉信号は、前記測定レグの物理経路長の差およびその相対変化率に対応する情報を含む、請求項２に記載の偏光干渉装置。
4. 前記電気干渉信号を解析する電気手段をさらに含む、請求項３に記載の偏光干渉装置。
5. 前記波長板が、反対に傾けられた一対の１／４波長板を含む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
6. 直交偏光状態を有する少なくとも２つのビームを生成する手段をさらに含む、請求項５に記載の偏光干渉装置。
7. 前記干渉計手段は、前記第１の測定レグおよび前記第２の測定レグのうちの対応するレグに沿って進むように前記直交偏光されたビームを分離する少なくとも１つの偏光ビームスプリッタを含む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
8. 前記干渉計手段は、前記測定レグのうちの１つにおいて、少なくとも１つの平面ミラーを含む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
9. 前記干渉計手段は、前記第１の測定レグおよび前記第２の測定レグのうちの対応するレグに沿って進むように前記直交偏光されたビームを分離する少なくとも１つの偏光ビームスプリッタを含む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
10. 前記干渉計手段は、複数の光学素子を含み、該複数の光学素子は、前記波長板を含み、該波長板は、ガラスから構成され、前記第１の測定レグおよび前記第２の測定レグに沿って進む前記分離されたビームが、熱効果を補償するために、実質的に等しい光路長にわたって、ガラスから構成される該光学素子を通って進むように構成されている、請求項１に記載の偏光干渉装置。
11. 前記複数の光学素子は、
    入射切子面と出射切子面と上部切子面と下部切子面とを有する偏光ビームスプリッタと、
    該上部切子面の上方に実質的に平行に配置された第１の固定された平面ミラーと、
    該第１の平面ミラーと該上部切子面との中間に配置された第１の１／４波長板と、
    該出射切子面に実質的に平行かつ対向して配置された第２の移動可能な平面ミラーと
    を含み、
    前記反対に傾けられた一対の１／４波長板は、該第２の平面ミラーと該出射切子面との中間に固定して配置されている、請求項１０に記載の偏光干渉装置。
12. 前記直交偏光ビームは、同延の経路に沿って進む、請求項１に記載の偏光干渉装置。
13. 前記干渉計は、前記直交偏光されたビームが、該干渉計を２重通過するように配置されている、請求項６に記載の偏光干渉装置。
14. 前記直交偏光されたビームのうちの少なくとも２つは、異なる波長を有する、請求項１に記載の偏光干渉装置。
15. 前記直交偏光されたビームの異なる波長は、調和的に関係付けられている、請求項１４に記載の偏光干渉装置。

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