JP2003507840A - 外部トリガーによるリーク検出及び修復方法 - Google Patents

外部トリガーによるリーク検出及び修復方法

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Abstract

(57)【要約】 外部からトリガーされるフラッシュメモリデバイスのリーク検知及び修復。本発明の実施例によると、実施例の方法は、多数のフラッシュセルにデータを記憶するようにフラッシュメモリを作動し、フラッシュメモリデバイスの外部の発生源から1またはそれ以上の選択された信号をフラッシュメモリデバイスに結合することによりフラッシュメモリデバイスのフラッシュセルのリークを検知しまたはリークのあるセルの修復を行う動作を開始させるステップを含む。本発明の別の実施例のシステムは、多数のフラッシュセルと、インターフェイス信号、アドレス信号及びデータ信号を交換するように結合された多数のピンとを有するフラッシュメモリデバイスを有する。このシステムはまた、インターフェイス信号、アドレス信号及びデータ信号をフラッシュメモリデバイスと交換するようにフラッシュメモリデバイスのピンに結合されたコントローラを含む。このコントローラはフラッシュセルにデータを記憶させ、フラッシュメモリデバイスのピンに1またはそれ以上の選択された信号を結合してそのフラッシュメモリデバイスのフラッシュセルのリークを検知しあるいはリークのあるフラッシュセルを修復する動作を開始させる命令を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】
本発明は、一般的に、メモリデバイスに関し、さらに詳細には、外部トリガー
によるフラッシュメモリデバイスのリーク検知及びその修復に関する。
【0002】
【背景】
フラッシュセルのアレイを有する電気的消去及び書き込み可能なリードオンリ
ーメモリデバイス(フラッシュEEPROMまたはフラッシュメモリデバイスと
も呼ばれる)は、多種多様な電気装置に用いられている。フラッシュメモリデバ
イスは、集積回路として形成されるのが一般的である。フローティングゲート・
トランジスタメモリセルとも呼ばれる従来のフラッシュセルは、電界効果トラン
ジスタと同様に、基板のソース・ドレイン間にチャンネル領域があり、そのチャ
ンネル領域の上方にはコントロールゲートがある。このフラッシュセルはさらに
、コントロールゲートとチャンネル領域の間にフローティングゲートを有する。
フローティングゲートは、チャンネル領域からゲート酸化物層により分離されて
おり、また、コントロールゲートは、インターポリ誘電体層によりフローティン
グゲートから分離されている。コントロールゲートとフローティングゲートは共
に、ドープトポリシリコンにより形成されている。フローティングゲートは、浮
動状態または電気的隔離状態にある。フラッシュメモリデバイスは多数のフラッ
シュセルのアレイより成り、各フラッシュセルの制御ゲートはワード線に、また
ドレインはビット線に接続されて、これらのフラッシュセルはワード線とビット
線の交点に格子状に配置されている。
【0003】 フラッシュセルは、コントロールゲートに約10ボルト、ドレインに5乃至7
ボルトの電圧を印加し、ソースと基板をアースに接続して、ホットエレクトロン
をチャンネル領域からゲート酸化物を介してフローティングゲートへ注入するこ
とにより書き込みを行う。コントロールゲートの電圧は、書き込み後フローティ
ングゲートに存在する電荷の量を決定する。この電荷は、フラッシュセルがソー
ス・ドレイン間に電流を導通させるためにコントロールゲートに印加しなければ
ならない電圧を決定することにより、チャンネル領域の電流に影響を与える。こ
の電圧は、フラッシュセルのしきい電圧と呼ばれ、フラッシュセルに記憶される
データを物理的に表わすものである。フローティングゲートの電荷が増加すると
、しきい電圧が増加する。
【0004】 フラッシュメモリデバイスの1種に、マルチビットまたはマルチステートフラ
ッシュセルのアレイより成るものがある。マルチステートフラッシュセルは、普
通のフラッシュセルと同じ構造を有し、単一セル内に複数ビットのデータを記憶
できる。マルチビットまたはマルチステートフラッシュセルは、ある電圧範囲に
亘る複数の異なるしきい電圧レベルを有する。これらのしきい電圧レベルはそれ
ぞれ一組のデータビットに対応し、ビット数はマルチステートフラッシュセルに
記憶可能なデータ量を表わす。
【0005】 従来型フラッシュメモリデバイスへのデータの記憶は、それ以前に消去したフ
ラッシュセルに書き込むことにより行う。フラッシュセルの消去は、コントロー
ルゲートに約−10ボルト、ソースに5ボルトの電圧を印加し、基板をアースに
接続して、ドレインを浮動状態にすることにより行う。別の消去方法として、コ
ントロールゲートをアースに接続し、ソースに12ボルトの電圧を印加する。フ
ローティングゲートの電子は、ファウラ−ノードハイム・トンネリング効果によ
りゲート酸化物を通ってソースへ誘導されるため、フローティングゲートの電荷
が減少し、フラッシュセルのしきい電圧が減少する。フラッシュメモリデバイス
のアレイ状のフラッシュセルは複数のブロックに分けられているが、各ブロック
のセルは一括消去できる。
【0006】 フラッシュセルの読み出しは、コントロールゲートに約5ボルト、ドレインに
約1ボルトの電圧を印加し、ソースと基板をアースに接続することにより行う。
フラッシュセルは導通状態となり、フラッシュセルに記憶されたデータを知るた
めにセルを流れる電流が検知される。この電流は電圧に変換され、この電圧がセ
ンスアンプにおいて1またはそれ以上の基準電圧と比較されて、フラッシュセル
の状態が判定される。読み出し中にフラッシュセルを流れる電流は、フローティ
ングゲートに蓄積された電荷量により異なる。
【0007】 データを記憶するフラッシュメモリデバイスの容量は、各集積回路のフラッシ
ュセルのサイズを減少し、フラッシュセルの数を増加することにより、徐々に増
加する。フラッシュセルのサイズを減少すると、これらのセルはリークに弱くな
る。リークは、フラッシュセルのフローティングゲートから電荷が失われる望ま
しくない現象であり、幾つかの理由のうちの1つで生じる。データ保持能力は、
フラッシュメモリデバイスの10年乃至100年の動作寿命の間、電荷がフロー
ティングゲートから徐々にドリフトするため劣化する。例えば温度のようなフラ
ッシュメモリデバイスの動作環境条件は、リークに影響を与える。このリークは
、フラッシュセルが以下の態様でじょう乱を受けると生じることがある。フラッ
シュセルは、書き込み、消去または読み出し中に、ワード線またはビット線もし
くはその両方が正または負の方向に増加する電圧に結合されることがある。同じ
ワード線またはビット線に接続された隣接のフラッシュセルもその増加する電圧
を受けるが、この電圧が隣接のフラッシュセルのコントロールゲート、ドレイン
及びソースの間の電圧差にじょう乱を与えることがある。このじょう乱により、
隣接するフラッシュセルの一部のフローティングゲートから電荷がリークする。
アレイ構造により、複数サイクルの書き込みまたは1つのブロックのフラッシュ
セルの消去がそのアレイの異なるブロックのセルにリークを発生させることがあ
る。書き込み済みフラッシュセルにその寿命に亘って十分なリークが発生すると
、そのセルは読み出しを行うと消去と指示される状態に徐々に移行する。これを
ビット不良と呼ぶ。フラッシュセルがますます小さくなり、シリコンチップの所
与の面積に配置されるフラッシュセルの数がさらに増加するにつれて、フラッシ
ュセルがじょう乱を受けてリークが発生する傾向がますます高くなる。
【0008】 従って、リークのあるフラッシュセルを検知し修復する改良式方法が必要とさ
れる。
【0009】
【発明の概要】
上記及び他の問題点は、以下において詳細に説明するように解消される。本発
明の実施例の方法は、フラッシュメモリデバイスを作動して多数のフラッシュセ
ルにデータを記憶させ、フラッシュメモリデバイスの外部の発生源からフラッシ
ュメモリデバイスに1またはそれ以上の選択された信号を結合することによりフ
ラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルを検知し修復する動作を
開始させるステップを含む。本発明の別の実施例のシステムは、多数のフラッシ
ュセルと、インターフェイス信号、アドレス信号及びデータ信号に結合された多
数のピンとを有するフラッシュメモリデバイスを有する。このシステムはまた、
フラッシュメモリデバイスとインターフェイス信号、アドレス信号及びデータ信
号を交換するようにフラッシュメモリデバイスのピンに結合されたコントローラ
を有する。このコントローラは、フラッシュセルにデータを記憶させ、フラッシ
ュメモリデバイスのピンに1またはそれ以上の選択された信号を結合することに
よりそのフラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルを検知または
修復する動作を開始させる命令を有する。
【0010】 本発明の利点は、以下の説明を読めば当業者に明らかになるであろう。
【0011】
【好ましい実施例の詳細な説明】
本発明の以下の詳細な説明において、本願の一部であり、本発明の特定の実施
例を例示する添付図面を参照する。これらの実施例は、当業者が本発明を実施で
きるように十分に詳しく記載されている。他の実施例も可能であり、本発明の範
囲から逸脱することなく論理的、機械的、電気的及び他の変形又は設計変更を行
うことができる。従って、以下の詳細の説明は限定的な意味でとらえるべきでは
ない。
【0012】 この説明において、フラッシュセルは、コントロールゲートの電圧がしきい電
圧を超えると導通状態となって、作動またはスイッチオンされ、また、コントロ
ールゲートの電圧がしきい電圧よりも低くなると、遮断状態となって、非作動ま
たはスイッチオフになると説明されている。1のデジタル信号を高レベル信号、
また0のデジタル信号を低レベル信号と呼ぶことがある。
【0013】 図1は、本発明の実施例によるフラッシュメモリシステム100の概略図であ
る。このメモリシステム100は、メモリコントローラ105と、フラッシュメ
モリ集積回路(IC)110とを有する。コントローラ105は、インターフェ
イス信号をIC110へ送るマイクロプロセッサのような制御デバイスを有する
。インターフェイス信号は、複数のアドレス線115を介してアドレスバッファ
・ラッチ116へ送られるアドレス信号と、複数のデータ線117を介して伝送
されるデータ信号とを含む。データ線117は入力バッファ118に結合されて
おり、このバッファは複数の内部データ線120を介して入力データラッチ11
0へ転送するためのデータ信号を記憶する。コントローラ105により供給され
る他のインターフェイス信号には、ノード121の書き込みイネーブル信号WE
*、ノード122のチップイネーブル信号CE*、ノード123のリセット/パワ
ーダウンRP*、ノード124の出力イネーブル信号OE*及びノード125の書
き込みプロテクト信号WP*があり、これらは全て作動状態で低レベルの信号で
ある。IC110は、内部ステートマシン130の状態を示すために、コントロ
ーラ105へノード128においてステータス信号RY/BY*を送る。IC1
10はまた、ノード132で正の電源電圧VCCを、ノード134で書き込み/消
去供給または書き込み電圧VPPを、またノード136で約0ボルトである基板接
地電圧VSSのような基準電圧を受ける。アドレス線115、データ線117及び
ノード121−128はそれぞれ、線によりコントローラ105に結合可能なI
C110のピンで終端されている。
【0014】 IC110は、32個のフラッシュセルブロックに分けられたフローティング
ゲート・トランジスタメモリセルまたはフラッシュセルのアレイ138を有する
。アレイ138の各ブロックは、64キロバイトのフラッシュセルより成る。各
ブロックのフラッシュセルは、同時に一括消去される。コマンド実行論理モジュ
ール140は、コントローラ105から上述のインターフェイス信号を受ける。
このモジュール140はステートマシン130を制御し、このマシンはアレイ1
38のフラッシュセルの書き込み、読み出し及び消去に必要な個々の作用を制御
する。さらに詳細には、このステートマシン130は、Xインターフェイス回路
140及びYインターフェイス回路150を介して書き込み及びブロック消去タ
イミング信号系列を与えるようなIC110の詳細な動作を制御する。
【0015】 Yインターフェイス回路150は、アレイ138のデータ線を介する個々のフ
ラッシュセルへのアクセスを可能にする。Yインターフェイス回路150のデー
タ線は、ビット線ドライバ回路(図示せず)に接続されている。Yインターフェ
イス回路150は、Yデコーダ回路152、Yセレクトゲート154、及びセン
スアンプ・書き込み/消去ビット比較・検証回路156を有する。Xインターフ
ェイス回路145は、アレイ138のフラッシュセルのコントロールゲートに電
気的に結合されたワード線を介するフラッシュセルの各行へのアクセスを可能に
する。Xインターフェイス回路145は、アレイ138のフラッシュセルブロッ
クを消去するためのデコード・制御回路を有する。書き込み/消去ビット比較・
検証回路156は、1組の内部データ線158を介して入力データをラッチ11
9とデータを交換するように結合されている。
【0016】 IC110は、アレイ138のフラッシュセルの書き込み、消去及びまたは読
み出しを行うための高い電圧Vpumpを発生させる電荷ポンプ回路160を有する
。このポンプ回路160は、ノード132から正の電源電圧VCCを受けるように
結合され、複数の線を介して電圧VpumpをXインターフェイス回路145、Yデ
コーダ回路152及びステートマシン130へ供給する。本発明の別の実施例に
おいて、このポンプ回路160が図1に示す各線を介して異なる大きさの高い電
圧を供給するようにしてもよい。ステートマシン130はアドレスカウンタ16
2を制御するが、このカウンタはアドレスバッファ・ラッチ116、Xインター
フェイス回路145及びYデコーダ回路152の間に結合された内部アドレス線
164上にアドレス信号系列を供給できる。
【0017】 IC110は、ステートマシン130、モジュール140及びポンプ回路16
0から信号を受けるように結合されたステータスレジスタ170も備えている。
ステータスレジスタ170のビットはIC110の状態を示し、このステータス
レジスタ170はコントローラ105により読み出される。
【0018】 図2は、本発明の実施例によるアレイ138のフラッシュセル210A−21
0Sのブロック200を示す概略図である。ブロック200のフラッシュセルの
一部は、図示簡略化のために図2から省略されている。フラッシュセル210は
行列状である。特定の列のすべてのフラッシュセル210は、ドレインDが共通
のビット線BLに接続され、特定の行の全てのフラッシュセル210は、コント
ロールゲートが共通のワード線WLに接続されている。ビット線BLをBL0−
BLMで示し、ワード線WLをWL0−WLMで示す。ブロック200の全ての
フラッシュセル210は、ソースSが共通のソース線SLに接続されている。ア
レイ138の残りのフラッシュセルは、異なるソース線を有する別個のブロック
を形成するように配列されている。異なるブロックのフラッシュセルは、必要な
消去電流を減少させるために、独立して一括消去される。
【0019】 各列のフラッシュセル210は2つが対を成すように配列され、各対のフラッ
シュセル210はソースSを共有する。例えば、一対のフラッシュセル210J
及び210Kは共通のソースSを有し、このソースはソース線SLに接続されて
いる。フラッシュセル210のドレインDは、フラッシュセル210が位置する
列のビット線BLに接続されている。例えば、一対のフラッシュセル210Jと
210Kは、ドレインDが共通のビット線BL1に接続されている。
【0020】 ブロック200のフラッシュセル210A−210Sから選択された1つのセ
ルの書き込みは、ソース線SLをアースまたは0ボルトに保持し、フラッシュセ
ルに接続されたビット線BLを約5−7ボルトに結合し、約10ボルトの正の高
電圧書き込みパルスをそのフラッシュセルのワード線WLに印加することにより
行う。この説明において、書き込みパルスをフラッシュセルに印加するという記
載があれば、当業者は上述の方法によりフラッシュセルが書き込み中であること
がわかるであろう。
【0021】 ブロック200のフラッシュセル210A−210Sから選択された1つのセ
ルの読み出しは、ソース線SLをアースに保持し、フラッシュセルに接続された
ビット線BLを約1ボルトに結合し、フラッシュセルのワード線WLに約5.4
ボルトの電圧を印加し、ビット線BLを介してフラッシュセルに流れる電流を感
知することにより行う。この電流は、ビット線BLに結合されたセンスアンプ1
56のうちの1つにより感知される。感知された電流は、フラッシュセルのしき
い電圧に反比例するものである。しきい電圧が高ければ高いほど、フラッシュセ
ルにおいて感知される電流は小さく、またその逆も真である。
【0022】 ブロック200のフラッシュセル210A−210Sの消去は、ワード線WL
0−WLNをアースに接続し、ビット線BL0−BLMを浮動状態にし、約12
ボルトの正の高電圧消去パルスをソース線SLを介してソースSに印加すること
により行う。消去により、フラッシュセルのフローティングゲートから電荷が除
去される。
【0023】 用語「パルス」は、この説明では広義に用い、端子にある一定の時間の間選択
されたレベルの電圧を印加することを意味する。当業者は、この説明を読むと、
消去パルスのような単一パルスを定まった時間継続的に印加するか、または印加
時間の加算または合計時間がその定まった時間に等しい一連の短い別個のパルス
を逐次的に印加できることがわかるであろう。
【0024】 本明細書に述べる本発明の実施例において、フラッシュセルは、しきい電圧が
約3ボルト未満であれば、消去状態にあると見なされる。しきい電圧が約5ボル
トよりも高ければ、書き込まれた状態にあると見なされる。フラッシュセルの読
み出しは、コントロールゲートに5.4ボルトの電圧を印加してセルが確実にO
Nになるようにして行う。フラッシュセルのチャンネル領域を流れる電流の量は
、そのしきい電圧を示す。フローティングゲートから電荷がリークするかまたは
望ましくない電荷のロスまたはリークが発生しているフラッシュセルが、リーク
のあるフラッシュセルである。このリークのあるフラッシュセルは、書き込みパ
ルス(修復パルスとも呼ぶ)を印加してフローティングゲートへ電荷を付加する
ことにより修復する。修復済みフラッシュセルは、書き込み済みフラッシュセル
のしきい電圧を有する。書き込み済みフラッシュセルだけが、リークのあるセル
であると識別可能である。消去済みフラッシュセルは、フローティングゲートか
らの電荷の流出が続いてしきい電圧が約3ボルト未満となっても、蓄積している
データが変化しない限り、リークのあるフラッシュセルとして識別することがで
きない。
【0025】 本発明の実施例によると、コントローラのような外部信号発生源からフラッシ
ュメモリ集積回路へ1つのまたは1組の信号を結合することにより、リークのあ
るフラッシュセルの検知及び修復動作が開始またはトリガーされる。本発明の実
施例は、メモリシステムのユーザまたは設計者に、リークのあるフラッシュセル
の検知及び修復動作をいつ実行するかを選択できる柔軟性を与える。リークのあ
るフラッシュセルの検知及び修復する動作を実行する方法及び回路を説明した後
、その動作をトリガーする方法について述べる。
【0026】 図3は、アレイ138のフラッシュセルのリークをテストし、リークのあるフ
ラッシュセルを修復する方法300を示す。この方法300では、アレイ138
の各フラッシュセルのリークチェックを行い、リークのあるフラッシュセルへ修
復パルスを印加する。310において、IC100の外部信号発生源からリーク
検知及び修復動作をトリガーする。その後、312において、パルスカウンタを
リセットする。314において、アレイ138の第1列、第1行のフラッシュセ
ルを選択し、316において、以下にさらに詳述する態様で、選択されたフラッ
シュセルのリークテストを行う。この方法300は、318において、選択され
たフラッシュセルにリークがあるか否かチェックし、320において、もしリー
クがあれば、パルスカウンタを増分する。322において、パルスカウンタをチ
ェックした結果、その値が選択された限界値Nより大きくて、選択されたフラッ
シュセルに印加された修復パルスの数が多すぎることが示されている場合、この
方法300は、324において、エラーで終了する。324におけるエラーは、
選択されたフラッシュセルが不良であることを示す。パルスカウンタの値がNよ
り小さいかそれに等しい場合、326において、選択されたフラッシュセルに修
復パルスを印加し、選択されたフラッシュセルのしきい電圧が十分に高くなるか
あるいは、324においてエラーが発生するまで、316−326の動作が繰り
返される。データのロスを防ぐため、修復パルスをリークのあるフラッシュセル
に印加する。318において、選択されたフラッシュセルにリークがないと判定
された場合、330において、その列の次の行の新しいフラッシュセルを選択し
、332においてパルスカウンタをリセットする。この方法300は、334に
おいて、新しく選択されたフラッシュセルの行がその列の最後の行を過ぎている
か否かを判定する。新しく選択されたフラッシュセルがその列の行にある場合、
新しく選択されたフラッシュセルについて316−326の動作を実行する。3
34において、新しく選択されたフラッシュセルの行がその列の最後の行を超え
ていると判定された場合、この方法300は、340において、その列がアレイ
138の最終列であるか否かを判定する。もしそうであれば、この方法300は
終了する。アレイ138にさらに別の列が存在する場合、314において、アレ
イ138の次の列の第1行のフラッシュセルを選択し、新しく選択されたフラッ
シュセルについて316−326の動作を実行する。このようにして、この方法
300は、アレイ138の全てのフラッシュセルをテストし、リークがあると判
定されたフラッシュセルを修復する。
【0027】 図4は、本発明の一実施例による、フラッシュセルのリークテスト方法400
を示す。この方法400は、方法300のうちフラッシュセルのリークをテスト
する316において使用できる。410におけるフラッシュセルの読み出しは、
コントロールゲートに約5.4ボルトの電圧を印加し、フラッシュセルに流れる
電流を感知することにより行う。412において、感知した電流を第1の基準電
流と比較するが、この電流は、しきい電圧が約4ボルトであればフラッシュセル
を流れるであろう。感知した電流が第1の基準電流より大きければ、414にお
いて、フラッシュセルのしきい電圧は4ボルト未満であり、消去状態と識別され
る。感知した電流が第1の基準電流未満であれば、そのフラッシュセルは書き込
み済みであり、しきい電圧は4ボルトより大きい。416において、感知した電
流を第2の基準電圧と比較するが、この電流は、しきい電圧が4.5ボルトであ
ればフラッシュセルを流れるであろう。しきい電圧は、フローティングゲートが
書き込み状態を維持するものの電荷の一部を失っているか否かを示すために、4
.5ボルトに選択する。感知した電流が第2の基準電流より大きければ、418
において、フラッシュセルをリークありとするが、その理由は、しきい電圧がフ
ローティングゲートからの電荷の望ましくないロスによる4.5ボルト未満に減
少しているからである。420において、このフラッシュセルについて修復パル
スをリクエストして、しきい電圧を回復させる。420における修復パルスのリ
クエストは、ステータスレジスタ170のビットをセットすることにより行う。
感知した電流が第2の基準電流未満であれば、422において、フラッシュセル
を書き込み状態で、リークはないとする。もちろん、当業者は、この説明を読め
ば、リークのあるフラッシュセルを同定するための基準点として他の異なる組み
合わせのしきい電圧を使用できることがわかるであろう。
【0028】 図5は、本発明の実施例による、フラッシュセルを読み出し、フラッシュセル
のリークをテストする回路500を示す。この回路500は、フラッシュセルの
リークをテストする方法300の316に使用可能である。この回路500は、
IC110内にあり、図1に示すセンスアンプ156内でもよい。読み出し中の
フラッシュセルからの電流Iをライン510上に受け、電流−電圧変換回路51
2により読み出し信号とも呼ばれる電圧信号に変換する。この電流―電圧変換回
路512は、電流Iが大きければ低レベルの読み出し信号を発生し、電流Iが小
さければ高レベルの読み出し信号を発生する。読み出し信号は、第1のセンスア
ンプ514と、第2のセンスアンプ516の反転入力に結合される。本発明のこ
の実施例では、第1及び第2のセンスアンプ514、516はコンパレータであ
る。第1の基準電流I1は、フラッシュセルのしきい電圧が4.0ボルトであれ
ば、それを流れる電流にほぼ等しいように第1の電流源520で発生させる。本
発明の1つの実施例において、I1は30マイクロアンペアである。I1は、第1
のセンスアンプ514の非反転入力に結合された第2の電流―電圧変換回路52
2により第1の基準信号に変換する。第2の基準電流I2は、しきい電圧が4.
5ボルトであれば、フラッシュセルを流れる電流にほぼ等しいように第2の電流
源524により発生させる。本発明の1つの実施例において、I2は20マイク
ロアンペアである。I2は、第2のセンスアンプ516の非反転入力に結合され
た第3の電流―電圧変換回路526により第2の基準信号により変換する。
【0029】 この読み出し信号は、第1のセンスアンプ514の第1の基準信号と比較して
、その第1のセンスアンプ514の出力にデータ信号を発生させる。このデータ
信号は第1のインバータ530により反転し、第2のインバータ532により再
び反転して、フラッシュセルが書き込み状態または消去状態であるかを示すデー
タ信号をIC110へ出力させる。読み出し信号は、第2のセンスアンプ516
の第2の基準信号と比較することにより、フラッシュセルにリークがあるか否か
を判定する。第2のセンスアンプ516の出力は、NANDゲート540の一方
の入力に結合され、このNANDゲート540の第2の入力は第1のインバータ
530の出力に接続されているため、NANDゲート540の出力には、第3の
インバータ542により反転されて、フラッシュセルにリークがあるか否かまた
修復パルスが必要であるか否かを示す修復信号が発生される。回路500の動作
を、表1を参照してさらに説明する。
【0030】 表 1 フラッシュセル電流I フラッシュセル データ信号 修復信号 (マイクロアンペア) の状態 I>I1 消去 0 1 I2<I<I1 低い書き込み 0 1 I<I2 書き込み 0 0 表1に示すように、この回路500は以下の態様で動作する。IがI1より大
きければ、フラッシュセルのしきい電圧は4ボルト未満であり、消去状態で、デ
ータ信号は高レベルである。修復信号が低レベルで、フラッシュセルが修復パル
スを受けないようにするために、低い反転信号をNANDゲート540の第2の
入力に印加する。IがI2より小さければ、フラッシュセルのしきい電圧は4.
5ボルトより大きく、書き込み状態で、データ信号は低レベルである。第2のセ
ンスアンプ516の出力も低レベルであるため、修復信号は低レベルで、フラッ
シュセルは修復パルスを受けない。IがI1とI2との間にある場合、フラッシュ
セルのしきい電圧は4ボルトと4.5ボルトの間にあり、リークが存在する。換
言すれば、このフラッシュセルは書き込み済みであるが、電荷ロスにより、しき
い電圧はわずかに減少している。データ信号は低レベルであるが、第2のセンス
アンプの出力は高レベルであるため、NANDゲート540は2つの高レベル入
力を受け、第3のインバータ542から高レベルの修復信号を発生させる。修復
信号が高レベルであると、フラッシュセルへの修復パルスの印加により、フロー
ティングゲートの電荷が復元され、フラッシュセルに記憶されたデータが保存さ
れる。
【0031】 当業者は、この説明を読めば、基準電流I1及びI2を、フラッシュセルの特定
の特性及びフラッシュセルを読み出し、リークテストを行う所望の基準点に応じ
て選択することがわかるであろう。
【0032】 方法300及び400は、コントローラ105に記憶され実行される一連のプ
ログラム可能な命令として実現できる。第1及び第2の基準信号は、IC110
のポンプ回路160のようなプログラム可能電圧発生器により発生可能である。
これらの方法300、400はまた、ステートマシン130でも実現できる。ス
テートマシン130は、ハードウェアで直接、アルゴリズムを実行するように設
計された論理ゲート及び記憶素子の両方を有するシーケンスロジック回路である
。ステートマシン130は、IC110の外部で行われるトリガー(310)を
除いて、方法300及び400の各動作を実行する論理ゲート及び記憶素子を含
むものでよい。IC110の他の部分により、方法300、400を実行するこ
ともできる。例えば、ポンプ160により、第1及び第2の基準信号と、フラッ
シュセルの読み出しに必要な任意の電圧を与えることができる。フラッシュセル
はセンスアンプ156により読み出し可能であり、読み出したデータは入力デー
タラッチ119に記憶することができる。フラッシュセルは、IC110内にあ
る図5に示すような回路500によってもリークテストすることができる。これ
らの方法300、400は、この説明を読む当業者に知られた他の方法により実
現することもできる。
【0033】 本発明の実施例によると、この方法300により実現される、リークのあるフ
ラッシュセルの検知及び修復動作は、コントローラ105のような外部信号発生
源からIC110に結合される1つの、または1組の信号により開始またはトリ
ガーされる。上述したように、このコントローラ105はマイクロプロセッサで
よい。この動作は、図3の方法300の310においてトリガーされる。
【0034】 本発明の1つの実施例によれば、コントローラ105は、例えば12ボルトの
超電圧を図1のIC110のノード121−125の1つまたはアドレス線11
5の1つに印加してこの方法300をトリガーまたは開始させるように構成され
記憶された命令を含む。この超電圧は、電源電圧VCC、書き込み電圧VPP及び方
法300のトリガーとして検知可能な基準電圧VSSのようなIC110へ供給さ
れる他の電圧よりも高い。
【0035】 本発明の別の実施例によると、この方法300を開始させるために、選択され
た組のインターフェイス信号が、コントローラ105により1度に印加される。
例えば、図1に示すように、ノード121の書き込みイネーブル信号WE*を、
ノード122のチップイネーブル信号CE*を、またノード124の出力イネー
ブル信号OE*を、この方法300のトリガーと同時に低レベルにする。 本発明の別の実施例によると、コントローラ105は、クロックに従って規則的
インターバルでこの方法300を開始させるように構成され記憶された命令を含
む。例えば、この方法300は、24時間毎にトリガーしてもよい。この方法3
00は、1またはそれ以上のインターフェイス信号を印加することにより、また
は上述した本発明の他の実施例の任意のものに従って、規則的なインターバルで
トリガーすることができる。
【0036】 本発明の別の実施例によると、この方法300は、IC110が命令により実
行する別の動作と同時並行的にトリガーすることができる。例えば、IC110
は、ノード123のリセット/パワーダウン信号RP*が低レベルにされると、
パワーダウンモードへ移行する。パワーダウンモードでは、書き込みまたは読み
出しは起こらず、IC110がわずかな量の電力を消費する。この方法300は
、パワーダウンモードの前にリセット/パワーダウン信号RP*が低レベルにな
るとトリガーすることができる。本発明の別の実施例において、この方法300
は、他のインターフェイス信号のうちの1つが印加されるとトリガーすることが
できる。
【0037】 本発明の別の実施例において、コントローラ105は、IC110の単一ノー
ドへ一連の電圧を印加することによりこの方法300をトリガーするように構成
され記憶された命令を含む。例えば、方法300をトリガーするために、モジュ
ール140により認識される特別シーケンスの高及び低電圧をノード124に結
合することができる。
【0038】 本発明の別の実施例において、コントローラ105は、データ線117を介し
てコマンドをIC110へ送ることによりこの方法300をトリガーするように
構成され記憶された命令を含む。コマンド及びそれらの使用は、フラッシュメモ
リデバイスについてのマイクロン・メモリデータブック1999に定義されてい
る。これらのコマンドはコマンドセットに体系的に分類され、各コマンドはIC
110に1組の信号として結合される8ビットの16進法値により表される。各
コマンドは、コントローラ105からデータ線117、入力バッファ118、内
部データ線120へ結合され、この命令を実行するモジュール140が受信する
。各コマンドは、ノード121に結合される書き込みイネーブル信号WE*の立
ち上がりエッジ、またはノード122に結合されるチップイネーブル信号CE*
の立ち上がりエッジでラッチされる。30Hのような新しいコマンドは、この方
法300をトリガーするように定義され、コマンドセットに加えられる。このコ
マンドセットでまだ定義されていない他の16進法値も、この方法300をトリ
ガーするために使用できる。
【0039】 図6は、本発明の別の実施例によるフラッシュメモリシステム600の概略図
である。このメモリシステム600は、図1に示すメモリシステム100と類似
である。同じ構成要素は同一参照番号により示すが、説明を簡略にするために、
ここでは説明しない。メモリシステム600は、それぞれリーク検知信号LD*
及び修復信号R*を受ける2つの新しいノード612、614を備えたフラッシ
ュメモリ集積回路(IC)610を有する。これらのノード612、614は、
コントローラ105と結合するためにIC610のピンで終端されている。リー
ク検知信号LD*は、リークのあるフラッシュセルを検知するが修復しない、リ
ーク検知動作をトリガーするために印加される。かかる動作には、修復パルスが
リークのある各フラッシュセルに加えられる動作320−326を除き、図3に
示す方法300の全ての動作が含まれる。リークのあるフラッシュセルが検知さ
れると、ステータスレジスタ170に1つのビットがセットされて、そのリーク
のあるフラッシュセルが修復を要することを示す。ステータスレジスタ170の
使用については、図4の動作420に関連して上述した。この修復動作は、リー
クのあるフラッシュセルへデータを再書き込みすることにより実行できる。本発
明の別の実施例では、修復信号R*の印加により、方法300に従ってリークの
あるフラッシュセルを検知し修復する修復動作がトリガーされる。
【0040】 図7は、本発明の別の実施例によるフラッシュメモリシステム700の概略図
である。このメモリシステム700は、図1に示すメモリシステム100と類似
である。同一の構成要素は同一の参照番号で示すが、それらについては説明を簡
略にするために、さらに説明しない。メモリシステム700は、リーク検知・修
復信号LD/R*を受ける新しいノード712を備えたフラッシュメモリ集積回
路(IC)710を有する。このノード712は、コントローラ105に結合さ
れるIC710のピンで終端している。リーク検知・修復信号LD/R*は、こ
の方法300に従ってリークのあるフラッシュセルが検知し修復するリーク検知
及び修復動作をトリガーするために印加される。
【0041】 上述の本発明の各実施例は、リーク検知動作、修復動作またはリーク検知及び
修復動作をIC110でトリガーするために使用される。
【0042】 図8は、本発明の実施例による集積回路チップ800を示す。このチップ80
0は、フラッシュメモリ集積回路110、610、670のような埋め込まれた
フラッシュメモリ810を有し、回路500を備え、また上述した本発明の実施
例に従って方法300、400を実行するようにしてもよい。埋め込まれたフラ
ッシュメモリ810は、プロセッサまたは恐らく幾つかのプロセッサのような別
の集積回路820、または恐らく幾つかの他の集積回路と共にチップ800を共
有する。埋め込まれたフラッシュメモリ810及びプロセッサ820を備えたチ
ップ800は、メモリシステム100、600または700のうちの1つを有す
る。埋め込まれたフラッシュメモリ810及び集積回路820は、適当な通信線
またはバス830により互いに結合されている。
【0043】 当業者は、この説明を読めば、上述の本発明の実施例による2以上のフラッシ
ュメモリ集積回路110、61、710を種々の実装部品に組み込めることがわ
かるであろう。例えば、図9は、本発明の実施例によるコンパクトフラッシュ( 登録商標)メモリカード900を示す。このカード900は、複数のフラッシュ メモリ集積回路910(1)−910(X)を有し、これらはそれぞれ図1、6 及び7に示すフラッシュメモリ集積回路110、610、710と同じである。 カード900は、フラッシュメモリ集積回路910(1)−910(X)が埋め 込まれた単一の集積回路でも良い。
【0044】 図10は、本発明の実施例による情報取扱いシステム1000のブロック図で
ある。この情報取扱いシステム1000は、メモリシステム1008、プロセッ
サ1010、ディスプレイユニット1020及び入出力(I/O)サブシステム
1030を有する。プロセッサ1010は、例えばマイクロプロセッサである。
メモリシステム1008は、フラッシュメモリ集積回路110、610、710
のうちの1つで構成され、回路500を備え、上述した本発明の実施例に従って
方法300及び400を実行することができる。プロセッサ1010及びメモリ
システム1008は、図8に示すチップ800のような単一の集積回路チップ上
に埋め込み可能である。プロセッサ1010、ディスプレイユニット1020、
I/Oサブシステム1030及びメモリシステム1008は、適当な通信線また
はバス1040により互いに結合される。
【0045】 本発明の別の実施例によると、ユーザはI/Oサブシステム1030を介して
プロセッサ1010またはメモリシステム1008へ命令を入力することにより
、方法300をトリガーできる。I/Oサブシステム1030は、ユーザがシス
テム1000と通信できるようにするキーボードまたは他のデバイスでよい。
【0046】 本発明の種々の実施例において、この情報取扱いシステム1000は、コンピ
ュータシステム(例えば、ビデオゲーム、ハンドヘルド計算機、テレビジョン・
セットトップボックス、固定スクリーン電話、スマートモバイル電話、パーソナ
ルデジタルアシスタント(PDA)、ネットワークコンピュータ(NC)、ハン
ドヘルドコンピュータ、パソコン、またはマルチプロセッサ・スーパーコンピュ
ータ)、情報家電(例えば、セルラーホン、ページャまたは日程計画装置または
オーガナイザ)、情報関連コンポーネント(例えば、磁気ディスクドライブまた
は通信モデム)、または他の家電(例えば、補聴器、電子コントローラを有する
洗濯機またはマイクロ波オブン)である。
【0047】 上述した本発明の実施例によると、リークのあるフラッシュセルを検知し修復
する動作は、コントローラのような外部信号発生源からフラッシュメモリ集積回
路に結合される1つまたは1組の信号によりトリガーされる。本発明の実施例は
、メモリシステムのユーザまたは設計者に対して、リークのあるフラッシュメモ
リの検知及び修復動作をいつ実行するかについて柔軟性を与える。
【0048】 本発明を特定の実施例について図示説明したが、当業者は、本願の説明を読め
ば、図示説明した特定の実施例の代わりに任意の等価的構成を使用できることが
わかるであろう。従って、本発明は、頭書の特許請求の範囲及びその均等物によ
ってのみ限定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、本発明の実施例によるフラッシュメモリシステムの概略図である。
【図2】 図2は、図1のメモリシステムの1ブロックのフラッシュセルを示す概略図で
ある。
【図3】 図3は、本発明の実施例に従ってフラッシュセルのリークテストを行い、リー
クのあるフラッシュセルを修復する方法を示すフローチャートである。
【図4】 図4は、本発明の実施例に従ってフラッシュセルのリークテストを行う方法を
示すフローチャートである。
【図5】 図5は、本発明の実施例に従ってフラッシュセルのリークテストを行う回路の
電気的概略図である。
【図6】 図6は、本発明の実施例によるフラッシュメモリシステムの概略図である。
【図7】 図7は、本発明の実施例によるフラッシュメモリシステムの概略図である。
【図8】 図8は、本発明の実施例による集積回路チップのブロック図である。
【図9】 図9は、本発明の実施例によるコンパクトフラッシュメモリカードのブロック
図である。
【図10】 図10は、本発明の実施例による情報取扱いシステムのブロック図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM ,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH, GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K E,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS ,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN, MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM ,TR,TT,TZ,UA,UG,UZ,VN,YU, ZA,ZW Fターム(参考) 5B025 AA01 AD01 AD02 AD04 AD05 AD09 AD10 AE08 AE09 AF01 5L106 AA10 DD03 DD22 DD25 EE03 EE04 FF01 GG05 【要約の続き】 リークを検知しあるいはリークのあるフラッシュセルを 修復する動作を開始させる命令を含む。

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のフラッシュセルにデータを記憶させるためにフラッシ
    ュメモリデバイスを作動し、 1またはそれ以上の選択された信号をフラッシュメモリデバイスの外部信号発
    生源からフラッシュメモリデバイスへ結合することにより、フラッシュメモリデ
    バイスのリークのあるフラッシュセルを検知または修復する動作を開始させるス
    テップより成る方法。
  2. 【請求項2】 動作を開始させるステップは、超電圧をフラッシュメモリデ
    バイスの選択されたピンまたはアドレス線に結合することにより、フラッシュメ
    モリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる
    ステップより成る請求項1の方法。
  3. 【請求項3】 動作を開始させるステップは、選択された複数のインターフ
    ェイス信号をフラッシュメモリデバイスに結合することにより、フラッシュメモ
    リデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるス
    テップより成る請求項1の方法。
  4. 【請求項4】 動作を開始させるステップは、書き込みイネーブル信号、チ
    ップイネーブル信号及び出力イネーブル信号をフラッシュメモリデバイスに結合
    することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検
    知または修復動作を開始させるステップより成る請求項3の方法。
  5. 【請求項5】 動作を開始させるステップは、クロックに従って規則的イン
    ターバルでフラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知また
    は修復動作を開始させるステップより成る請求項1の方法。
  6. 【請求項6】 動作を開始させるステップは、クロックに従って24時間毎
    にフラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動
    作を開始させるステップより成る請求項5の方法。
  7. 【請求項7】 動作を開始させるステップは、インターフェイス信号をフラ
    ッシュメモリデバイスに結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリー
    クのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステップより成る請
    求項1の方法。
  8. 【請求項8】 動作を開始させるステップは、リセット/パワーダウン信号
    をフラッシュメモリデバイスに結合することにより、フラッシュメモリデバイス
    のリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステップより
    成る請求項7の方法。
  9. 【請求項9】 動作を開始させるステップは、フラッシュメモリデバイスの
    ピンに選択された時系列の電圧を印加することにより、フラッシュメモリデバイ
    スのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステップよ
    り成る請求項1の方法。
  10. 【請求項10】 動作を開始させるステップは、フラッシュメモリのデータ
    線にコマンドを結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのある
    フラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステップより成る請求項1の
    方法。
  11. 【請求項11】 動作を開始させるステップは、フラッシュメモリデバイス
    のデータ線にコマンドを結合し、フラッシュメモリデバイスに結合された書き込
    みイネーブル信号の立ち上がりエッジでそのコマンドをラッチすることにより、
    フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作
    を開始させるステップより成る請求項10の方法。
  12. 【請求項12】 動作を開始させるステップは、フラッシュメモリデバイス
    のリーク検知及び修復ピンにリーク検知及び修復信号を結合することにより、フ
    ラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を
    開始させるステップより成る請求項1の方法。
  13. 【請求項13】 動作を開始させるステップは、フラッシュメモリデバイス
    のリーク検知ピンにリーク検知信号を結合することにより、フラッシュメモリデ
    バイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステッ
    プより成る請求項1の方法。
  14. 【請求項14】 動作を開始させるステップはさらに、フラッシュメモリデ
    バイスのリークのある少なくとも1つのフラッシュセルにデータを再書き込みす
    るステップをさらに含む請求項13の方法。
  15. 【請求項15】 動作を開始させるステップはさらに、フラッシュメモリデ
    バイスの修復ピンに修復信号を結合することにより、フラッシュメモリデバイス
    のリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させるステップより
    成る請求項13の方法。
  16. 【請求項16】 動作を開始させるステップは、入出力サブシステムから受
    信する信号に応じてフラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの
    検知または修復動作を開始させるステップより成る請求項1の方法。
  17. 【請求項17】 動作を開始させるステップはさらに、 フラッシュメモリデバイスの各フラッシュセルについて、 フラッシュセルを読み出して読み出し信号を発生させ、 読み出した信号を第1の基準信号と比較してフラッシュセルに記憶されたデー
    タを指示させ、 読み出した信号を第2の基準信号と比較してフラッシュセルのリークの存否を
    指示させ、 フラッシュセルにリークがあれば修復信号を印加するステップより成る請求項
    1の方法。
  18. 【請求項18】 複数のフラッシュセルと、インターフェイス信号、アドレ
    ス信号及びデータ信号を交換するように結合された複数のピンとを有するフラッ
    シュメモリデバイスと、 フラッシュメモリデバイスのピンに結合されて、フラッシュメモリデバイスと
    インターフェイス信号、アドレス信号及びデータ信号を交換するコントローラと
    より成り、コントローラは、 フラッシュセルにデータを記憶させ、 1またはそれ以上の選択された信号をフラッシュメモリデバイスのピンに結合
    することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検
    知または修復動作を開始させる命令を有するシステム。
  19. 【請求項19】 コントローラは、フラッシュメモリデバイスの選択された
    ピンに超電圧を結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのある
    フラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項18のシ
    ステム。
  20. 【請求項20】 選択された複数のインターフェイス信号をフラッシュメモ
    リデバイスに結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフ
    ラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項18のシス
    テム。
  21. 【請求項21】 書き込みイネーブル信号、チップイネーブル信号及び出力
    イネーブル信号をフラッシュメモリデバイスに結合することにより、フラッシュ
    メモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させ
    る命令を有する請求項20のシステム。
  22. 【請求項22】 クロックに従って規則的インターバルでフラッシュメモリ
    デバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令
    を有する請求項18のシステム。
  23. 【請求項23】 クロックに従って24時間毎にフラッシュメモリデバイス
    のリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する
    請求項22のシステム。
  24. 【請求項24】 インターフェイス信号をフラッシュメモリデバイスに結合
    することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検
    知または修復動作を開始させる命令を有する請求項18のシステム。
  25. 【請求項25】 リセット/パワーダウン信号をフラッシュメモリデバイス
    に結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセ
    ルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項24のシステム。
  26. 【請求項26】 フラッシュメモリデバイスのピンに選択された時系列の電
    圧を印加することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュ
    セルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項18のシステム。
  27. 【請求項27】 フラッシュメモリのデータ線にコマンドを結合することに
    より、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修
    復動作を開始させる命令を有する請求項18のシステム。
  28. 【請求項28】 フラッシュメモリデバイスのデータ線にコマンドを結合し
    、フラッシュメモリデバイスに結合された書き込みイネーブル信号の立ち上がり
    エッジでそのコマンドをラッチすることにより、フラッシュメモリデバイスのリ
    ークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求
    項27のシステム。
  29. 【請求項29】 フラッシュメモリデバイスのリーク検知及び修復ピンにリ
    ーク検知及び修復信号を結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリー
    クのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項
    18のシステム。
  30. 【請求項30】 フラッシュメモリデバイスのリーク検知ピンにリーク検知
    信号を結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシ
    ュセルの検知または修復動作を開始させる命令を有する請求項18のシステム。
  31. 【請求項31】 フラッシュメモリデバイスのリークのある少なくとも1つ
    のフラッシュセルにデータを再書き込みする命令を有する請求項30のシステム
  32. 【請求項32】 フラッシュメモリデバイスの修復ピンに修復信号を結合す
    ることにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知
    または修復動作を開始させる命令を有する請求項30のシステム。
  33. 【請求項33】 入出力サブシステムから受信する信号に応じてフラッシュ
    メモリデバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させ
    る命令を有する請求項18のシステム。
  34. 【請求項34】 コントローラ及びフラッシュメモリデバイスは、 フラッシュメモリデバイスの各フラッシュセルについて、 フラッシュセルを読み出して読み出し信号を発生させ、 読み出した信号を第1の基準信号と比較してフラッシュセルに記憶されたデー
    タを指示させ、 読み出した信号を第2の基準信号と比較してフラッシュセルのリークの存否を
    指示させ、 フラッシュセルにリークがあれば修復信号を印加する命令を有する請求項18
    のシステム。
  35. 【請求項35】 複数のフラッシュセルにデータを記憶するフラッシュメモリ
    デバイスと、 フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッシュセルを検知または修復する
    動作を開始させる手段とより成るシステム。
  36. 【請求項36】 リークのあるフラッシュセルを検知または修復する動作を開
    始させる手段は、フラッシュメモリデバイスに結合されたコントローラより成る
    請求項35のシステム。
  37. 【請求項37】 リークのあるフラッシュセルを検知または修復する動作を開
    始させる手段は、1またはそれ以上の選択された信号をフラッシュメモリデバイ
    スの外部信号発生源からフラッシュメモリデバイスへ結合する手段より成る請求
    項35のシステム。
  38. 【請求項38】 リークのあるフラッシュセルを検知または修復する動作を開
    始させる手段は、選択された複数のインターフェイス信号をフラッシュメモリデ
    バイスに結合することにより、フラッシュメモリデバイスのリークのあるフラッ
    シュセルの検知または修復動作を開始させる手段より成る請求項35のシステム
  39. 【請求項39】 クロックに従って規則的インターバルでフラッシュメモリ
    デバイスのリークのあるフラッシュセルの検知または修復動作を開始させる手段
    より成る請求項35のシステム。
  40. 【請求項40】 リークのあるフラッシュセルを検知または修復する動作を
    開始させる手段は、 フラッシュメモリデバイスの各フラッシュセルについて、 フラッシュセルを読み出して読み出し信号を発生させる手段と、 読み出した信号を第1の基準信号と比較してフラッシュセルに記憶されたデー
    タを指示させる手段と、 読み出した信号を第2の基準信号と比較してフラッシュセルのリークの存否を
    指示させる手段と、 フラッシュセルにリークがあれば修復信号を印加する手段とより成る請求項3
    5のシステム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010135036A (ja) * 2008-12-08 2010-06-17 Fujitsu Ltd 不揮発性メモリ、メモリ制御装置、メモリ制御システムおよび不揮発性メモリの制御方法
JP2013513195A (ja) * 2009-12-02 2013-04-18 マイクロン テクノロジー, インク. 不揮発性メモリ用のリフレッシュアーキテクチャおよびアルゴリズム
JP2015001987A (ja) * 2013-06-13 2015-01-05 スパンション エルエルシー 半導体メモリおよび半導体メモリの試験方法

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7057935B2 (en) * 2001-08-30 2006-06-06 Micron Technology, Inc. Erase verify for non-volatile memory
EP1424700B1 (en) 2002-11-28 2005-08-03 STMicroelectronics S.r.l. Single cell erasing method for recovering cells under programming disturbs in non volatile semiconductor memory devices
US6925011B2 (en) * 2002-12-26 2005-08-02 Micron Technology, Inc. Programming flash memories
US20040209309A1 (en) * 2003-02-27 2004-10-21 Muldoon Mark Thomas Compositions and methods for the specific detection of mammalian muscle proteins
DE60306488D1 (de) * 2003-02-27 2006-08-10 St Microelectronics Srl Eingebautes Testverfahren in einem Flash Speicher
KR100830580B1 (ko) * 2006-10-20 2008-05-21 삼성전자주식회사 플래시 메모리 장치를 포함한 메모리 시스템의 데이터 복원방법
US7944747B2 (en) 2008-03-17 2011-05-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Flash memory device and method for programming flash memory device having leakage bit lines
KR102252692B1 (ko) 2014-07-15 2021-05-17 삼성전자주식회사 누설 전류 감지 장치 및 이를 포함하는 비휘발성 메모리 장치
US9330783B1 (en) 2014-12-17 2016-05-03 Apple Inc. Identifying word-line-to-substrate and word-line-to-word-line short-circuit events in a memory block
US9390809B1 (en) 2015-02-10 2016-07-12 Apple Inc. Data storage in a memory block following WL-WL short
US9529663B1 (en) 2015-12-20 2016-12-27 Apple Inc. Detection and localization of failures in 3D NAND flash memory
US9996417B2 (en) 2016-04-12 2018-06-12 Apple Inc. Data recovery in memory having multiple failure modes
US9711227B1 (en) 2016-04-28 2017-07-18 Sandisk Technologies Llc Non-volatile memory with in field failure prediction using leakage detection
US10446246B2 (en) * 2018-03-14 2019-10-15 Silicon Storage Technology, Inc. Method and apparatus for data refresh for analog non-volatile memory in deep learning neural network
US10762967B2 (en) 2018-06-28 2020-09-01 Apple Inc. Recovering from failure in programming a nonvolatile memory
US10755787B2 (en) 2018-06-28 2020-08-25 Apple Inc. Efficient post programming verification in a nonvolatile memory
US10936455B2 (en) 2019-02-11 2021-03-02 Apple Inc. Recovery of data failing due to impairment whose severity depends on bit-significance value
US10915394B1 (en) 2019-09-22 2021-02-09 Apple Inc. Schemes for protecting data in NVM device using small storage footprint
US11550657B1 (en) 2021-09-01 2023-01-10 Apple Inc. Efficient programming schemes in a nonvolatile memory

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4719598A (en) * 1985-05-31 1988-01-12 Harris Corporation Bit addressable programming arrangement
US5161159A (en) * 1990-08-17 1992-11-03 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Semiconductor memory with multiple clocking for test mode entry
US5682496A (en) * 1995-02-10 1997-10-28 Micron Quantum Devices, Inc. Filtered serial event controlled command port for memory
US5526364A (en) 1995-02-10 1996-06-11 Micron Quantum Devices, Inc. Apparatus for entering and executing test mode operations for memory
US5723990A (en) 1995-06-21 1998-03-03 Micron Quantum Devices, Inc. Integrated circuit having high voltage detection circuit
US5619453A (en) 1995-07-28 1997-04-08 Micron Quantum Devices, Inc. Memory system having programmable flow control register
US5751944A (en) 1995-07-28 1998-05-12 Micron Quantum Devices, Inc. Non-volatile memory system having automatic cycling test function
US5619461A (en) 1995-07-28 1997-04-08 Micron Quantum Devices, Inc. Memory system having internal state monitoring circuit
US5790459A (en) 1995-08-04 1998-08-04 Micron Quantum Devices, Inc. Memory circuit for performing threshold voltage tests on cells of a memory array
US5675540A (en) 1996-01-22 1997-10-07 Micron Quantum Devices, Inc. Non-volatile memory system having internal data verification test mode
US5793775A (en) 1996-01-26 1998-08-11 Micron Quantum Devices, Inc. Low voltage test mode operation enable scheme with hardware safeguard
FR2745114B1 (fr) * 1996-02-20 1998-04-17 Sgs Thomson Microelectronics Memoire non volatile multiniveau modifiable electriquement avec rafraichissement autonome
JP3596989B2 (ja) * 1996-10-03 2004-12-02 邦博 浅田 半導体記憶装置
JP2914346B2 (ja) * 1997-05-29 1999-06-28 日本電気株式会社 半導体装置
US6496027B1 (en) 1997-08-21 2002-12-17 Micron Technology, Inc. System for testing integrated circuit devices
US5909449A (en) 1997-09-08 1999-06-01 Invox Technology Multibit-per-cell non-volatile memory with error detection and correction
US6115291A (en) 1998-12-29 2000-09-05 Micron Technology, Inc. Healing cells in a memory device
US6108241A (en) 1999-07-01 2000-08-22 Micron Technology, Inc. Leakage detection in flash memory cell

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010135036A (ja) * 2008-12-08 2010-06-17 Fujitsu Ltd 不揮発性メモリ、メモリ制御装置、メモリ制御システムおよび不揮発性メモリの制御方法
US8391067B2 (en) 2008-12-08 2013-03-05 Fujitsu Limited Nonvolatile memory
JP2013513195A (ja) * 2009-12-02 2013-04-18 マイクロン テクノロジー, インク. 不揮発性メモリ用のリフレッシュアーキテクチャおよびアルゴリズム
US9070473B2 (en) 2009-12-02 2015-06-30 Micron Technology, Inc. Refresh architecture and algorithm for non-volatile memories
US9646689B2 (en) 2009-12-02 2017-05-09 Micron Technology, Inc. Refresh architecture and algorithm for non-volatile memories
US10074419B2 (en) 2009-12-02 2018-09-11 Micron Technology, Inc. Refresh architecture and algorithm for non-volatile memories
US10311951B2 (en) 2009-12-02 2019-06-04 Micron Technology, Inc. Refresh architecture and algorithm for non-volatile memories
JP2015001987A (ja) * 2013-06-13 2015-01-05 スパンション エルエルシー 半導体メモリおよび半導体メモリの試験方法

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