JP2003505381A - 置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類および除草剤としてのそれらの使用 - Google Patents

置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類および除草剤としてのそれらの使用

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JP2003505381A JP2001511438A JP2001511438A JP2003505381A JP 2003505381 A JP2003505381 A JP 2003505381A JP 2001511438 A JP2001511438 A JP 2001511438A JP 2001511438 A JP2001511438 A JP 2001511438A JP 2003505381 A JP2003505381 A JP 2003505381A
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フオイヒト,デイーター
ポンツエン,ロルフ
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Abstract

(57)【要約】 本発明は式(I)[式中、Xnは水素または定義された置換基を表し、Rはs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニルまたは1−エチル−2−ブチニルを表し、そしてZは場合により置換されていてもよくそしてオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリルの群から選択されるヘテロアリールを表す]の化合物に関する。本発明の物質はそれらの除草特性により特徴づけられる。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は新規な置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類、それらの
製造のための方法および中間体並びに除草剤としてのそれらの使用に関する。
【0002】 ある種の置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類が除草特性を有す
ることは既知である(EP−A−037524参照、並びにEP−A−0055
01、EP−A−18497、EP−A−37526、EP−A−37527、
EP−A−94541、EP−A−100044、EP−A−148501、E
P−A−300344、EP−A−348734、EP−A−348737、U
S−A−4509971、US−A−4585471、US−A−464552
5、US−A−4708731、US−A−4968342、US−A−498
8380参照)。しかしながら、これらの先行技術の化合物の活性は、特に低い
適用割合および濃度においては、全ての使用領域で完全に満足のいくものではな
い。
【0003】 本発明は、従って、一般式(I)
【0004】
【化4】
【0005】 [式中、 nは数0、1、2または3を表し、 Rはs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピニル、1−メ
チル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチ
ル−2−ブチニルまたは1−エチル−2−ブチニルを表し、 Xはニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合とも場合によりシ
アノ−、弗素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい
メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブ
チル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチル
チオ、n−もしくはi−プロピルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニ
ル、n−もしくはi−プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルを表し、そして Zはオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキ
サジアゾリル、チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それら
の各々は場合によりニトロ、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、
塩素、臭素により、または(各場合とも場合によりシアノ−、弗素−、塩素−、
メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい)メチル、エチル、n−も
しくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブチル、メトキシ、エトキ
シ、n−もしくはi−プロポキシ、n−、i−、s−もしくはt−ブトキシ、メ
チルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、n−、i−、s−もし
くはt−ブチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−もしくは
i−プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしく
はi−プロピルスルホニルにより置換されていてもよい] の新規な置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類を提供する。
【0006】 以上および以下で挙げる式に存在する好ましい置換基または基の範囲を以下に
記載する。
【0007】 nは好ましくは数0、1または2を表す。
【0008】 Rは好ましくはs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピ
ニルまたは1−メチル−2−プロピニルを表す。
【0009】 Xは好ましくはニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合とも
場合によりシアノ−、弗素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換され
ていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ
、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチル
スルホニルまたはエチルスルホニルを表す。
【0010】 Zは好ましくはオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチア
ゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,4
−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリール
を表し、それらの各々は場合によりニトロ、シアノ、カルバモイル、チオカルバ
モイル、弗素、塩素、臭素により、または(各場合とも場合によりシアノ−、弗
素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい)メチル、
エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プ
ロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、メチルス
ルフィニル、エチルスルフィニル、n−もしくはi−プロピルスルフィニル、メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルによ
り置換されていてもよい。
【0011】 nは特に好ましくは数0、1または2を表す。
【0012】 Rは特に好ましくはs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プ
ロピニルまたは1−メチル−2−プロピニルを表す。
【0013】 Xは特に好ましくはニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合
とも場合により弗素−および/もしくは塩素−置換されていてもよいメチル、エ
チル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニルまたはエチル
スルホニルを表す。
【0014】 Zは特に好ましくはオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾ
チアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,
4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それらの各々は場
合によりニトロ、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、塩素、臭素
により、または(各場合とも場合により弗素−および/もしくは塩素−置換され
ていてもよい)メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキ
シ、n−もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−
プロピルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−もしくはi−プ
ロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−
プロピルスルホニルにより置換されていてもよい。
【0015】 nは非常に特に好ましくは数0または1を表す。
【0016】 Rは非常に特に好ましくはt−ブチル、1−エチル−プロピルまたは2−プロ
ピニルを表す。
【0017】 Xは非常に特に好ましくはシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、トリフルオ
ロメチル、メトキシまたはトリフルオロメトキシを表す。
【0018】 Zは非常に特に好ましくはオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
ベンゾチアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、
1,3,4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それらの各
々は場合によりニトロ、弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−
プロピル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、
フルオロジクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、メチルチオ、エ
チルチオ、n−もしくはi−プロピルチオにより置換されていてもよい。
【0019】 上記の一般的なまたは好ましい基の定義は式(I)の最終生成物並びに対応し
て各場合とも製造に必要な出発物質または中間体の両方に適用される。これらの
基の定義を所望するなら互いに組み合わせることができ、すなわち示された好ま
しい範囲の間の組み合わせを包含する。
【0020】 以上で好ましいとして挙げた意味の組み合わせを含む式(I)の化合物が本発
明によると好ましい。
【0021】 以上で特に好ましいとして挙げた意味の組み合わせを含む式(I)の化合物が
本発明によると特に好ましい。
【0022】 以上で非常に特に好ましいとして挙げた意味の組み合わせを含む式(I)の化
合物が本発明によると非常に特に好ましい。
【0023】 場合により置換されていてもよい基はモノ−またはポリ置換されていることが
でき、ポリ置換の場合には置換基は同一もしくは相異なりうる。
【0024】 非常に特に好ましい群は、 nが数0または1を表し、 Rがt−ブチルを表し、 Xがシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまた
はトリフルオロメトキシを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロア
リールを表し、それらの各々が場合により弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、
ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロメチルまたはトリクロロメチ
ルにより置換されていてもよい 式(I)の化合物である。
【0025】 さらに非常に特に好ましい群は、 nが数0または1を表し、 Rが2−プロピニルを表し、 Xがシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまた
はトリフルオロメトキシを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロア
リールを表し、それらの各々が場合により弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、
ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロメチルまたはトリクロロメチ
ルにより置換されていてもよい 式(I)の化合物である。
【0026】 一般式(I)の新規な置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類は興
味ある生物学的性質を有する。特に、それらは強力で且つ選択的な除草活性を有
する。
【0027】 一般式(I)の新規な置換されたヘテロアリールオキシアセトアニリド類は、
一般式(II) Z−X1 (II) [式中、 Zは以上で定義された通りでありそして X1は弗素、塩素、臭素、メチルチオ、メチルスルフィニルまたはメチルスルホ
ニルを表す] のヘテロアレン類を、適宜酸結合剤の存在下でそして適宜希釈剤の存在下で、一
般式(III)
【0028】
【化5】
【0029】 [式中、 n、RおよびXは各々以上で定義された通りである] のヒドロキシアセトアニリド類と反応させる場合に得られる。
【0030】 例えば、2−クロロ−ベンゾオキサゾールおよびN−(t−ブチル)−N−(3
−フルオロ−フェニル)−2−ヒドロキシアセトアミドを出発物質として使用す
ると、本発明に従う方法における反応工程は下記の反応式により示すことができ
る:
【0031】
【化6】
【0032】 式(II)は一般式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法において
出発物質として使用されるヘテロアレン類の一般的な定義を与える。一般式(II
)において、Zは好ましくはまたは特に本発明に従う一般式(I)の化合物の記
述に関してZに対して好ましいとしてまたは特に好ましいとして以上で挙げた意
味を有し、X1は好ましくは塩素またはメチルスルホニルを表す。
【0033】 一般式(II)の出発物質は既知の合成のための有機化学物質である。
【0034】 式(III)は一般式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法におい
て出発物質としてさらに使用されるヒドロキシアセトアニリド類の一般的な定義
を与える。一般式(III)において、n、RおよびXは各々好ましくはまたは特
に本発明に従う一般式(I)の化合物の記述に関してn、RおよびXに対して好
ましいとしてまたは特に好ましいとして以上で挙げた意味を有する。 化合物N−(s−ブチル)−N−(4−エトキシ−フェニル)−2−ヒドロキシア
セトアミド、N−(s−ブチル)−N−(4−メチル−フェニル)−2−ヒドロキシ
アセトアミド、N−(t−ブチル)−N−フェニル−2−ヒドロキシアセトアミド
、N−フェニル−N−(2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミドおよびN
−フェニル−N−(1−メチル−2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミド
(DE−A−2160380、DE−A−2201432、DE−A−3038
608、EP−A−753507、US−A−3954827参照)を除く、一
般式(III)の出発物質はこれまでに文献に開示されていない。それらはまた、
化合物N−(s−ブチル)−N−(4−エトキシ−フェニル)−2−ヒドロキシアセ
トアミド、N−(s−ブチル)−N−(4−メチル−フェニル)−2−ヒドロキシア
セトアミド、N−(t−ブチル)−N−フェニル−2−ヒドロキシアセトアミド、
N−フェニル−N−(2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミドおよびN−
フェニル−N−(1−メチル−2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミドを
除いて、新規物質として、本出願の主題の一部を形成する。
【0035】 一般式(III)のヒドロキシアセトアニリド類は一般式(IV)
【0036】
【化7】
【0037】 [式中、 n、RおよびXは各々以上で定義された通りでありそして X2は弗素、塩素または臭素(特に塩素)を表す] のハロゲノアセトアニリド類を、適宜反応助剤、例えば、炭酸カリウムおよびト
リエチルアミンの存在下で、そして適宜希釈剤、例えば、N,N−ジメチルホル
ムアミドまたはN,N−ジメチル−アセトアミドの存在下で、50℃〜150℃
の間の温度においてアルカリ金属酢酸塩、例えば酢酸ナトリウムまたは酢酸カリ
ウムと反応させ、そして生ずる一般式(V)
【0038】
【化8】
【0039】 [式中、 n、RおよびXは各々以上で定義された通りである] のアセトキシアセトアニリド類を−適宜中間体単離後にまたは「その場で」−、
適宜酸受容体、例えば、ナトリウムメトキシドの存在下で、20℃〜100℃の
間の温度においてメタノールと反応させ、そして通常の方法により処理する場合
に得られる(製造実施例参照)。
【0040】 前駆体として必要な一般式(IV)のハロゲノアセトアニリド類は既知でありお
よび/またはそれ自体既知である方法により製造することができる(DE−A−
2362743、DE−A−2633159、US−A−3345151参照)
【0041】 一般式(IV)のハロゲノアセトアニリド類は一般式(VI)
【0042】
【化9】
【0043】 [式中、 n、RおよびXは各々以上で定義された通りである] のN−置換されたアニリン類を、適宜反応助剤、例えば、ピリジンの存在下で、
そして適宜希釈剤、例えば、トルエンの存在下で、0℃〜100℃の間の温度に
おいて一般式(VII)
【0044】
【化10】
【0045】 [式中、 X2およびX3は各々弗素、塩素または臭素(特に塩素)を表す] のハロゲノアセチルハライド類と反応させる場合に得られる(製造実施例参照)
【0046】 一般式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法を実施するために適
する希釈剤は、水の他に、特に不活性有機溶媒である。これらは、特に、脂肪族
、脂環式もしくは芳香族の場合によりハロゲン化されていてもよい炭化水素類、
例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素;エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチルエー
テルもしくはエチレングリコールジエチルエーテル;ケトン類、例えばアセトン
、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトン;ニトリル類、例えば、アセトニト
リル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリル;アミド類、例えば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−ホルムア
ニリド、N−メチル−ピロリドンもしくはヘキサメチル燐酸トリアミド;エステ
ル類、例えば酢酸メチルもしくは酢酸エチル、スルホキシド類、例えばジメチル
スルホキシド、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、n−もしくはi
−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、それらと水または純水との混合物を包含する。
【0047】 本発明に従う方法に適する酸結合剤は、一般的には、通常の無機もしくは有機
塩基または酸受容体である。これらは好ましくはアルカリ金属もしくはアルカリ
土類金属の酢酸塩、アミド類、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物、水酸化物または
アルコキシド類、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムもしくは酢酸カルシウ
ム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドもしくはカルシウムア
ミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムもしくは炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウムもしくは炭酸水素カルシウム、水素化リチウム、水素化
ナトリウム、水素化カリウムもしくは水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムもしくは水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシ
ド、エトキシド、n−もしくはi−プロポキシド、n−、i−、s−もしくはt
−ブトキシドまたはカリウムメトキシド、エトキシド、n−もしくはi−プロポ
キシド、n−、i−、s−もしくはt−ブトキシド;並びに塩基性有機窒素化合
物、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリ
ブチルアミン、エチル−ジイソプロピルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、N,N
−ジメチル−アニリン、N,N−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、2−メ
チル−、3−メチル−、4−メチル−、2,4−ジメチル−、2,6−ジメチル−
、3,4−ジメチル−および3,5−ジメチル−ピリジン、5−エチル−2−メチ
ル−ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジン、N−メチル−ピペリジン、1,
4−ジアザビシクロ[2.2.2]−オクタン(DABCO)、1,5−ジアザビシ
クロ[4.3.0]−ノン−5−エン(DBN)または1,8−ジアザビシクロ−[5
.4.0]−ウンデク−7−エン(DBU)を包含する。
【0048】 本発明に従う方法を実施する場合には、反応温度は比較的広い範囲内で変える
ことができる。一般的には、これらの方法は−20℃〜100℃の間、好ましく
は0℃〜60℃の間の温度で実施される。
【0049】 本発明に従う方法は一般的には大気圧で実施される。しかしながら、本発明に
従う方法はまた加圧下または減圧下−一般的には0.1バール〜10バールの間
で操作することも可能である。
【0050】 本発明に従う方法を実施するためには、出発物質は一般的にはほぼ等モル量で
使用される。しかしながら、成分の一方を比較的大過剰で使用することも可能で
ある。反応は一般的には適当な希釈剤中で酸結合剤の存在下で実施され、そして
反応混合物を要求される温度で数時間にわたり撹拌する。処理は一般的な方法に
より実施される(製造実施例参照)。
【0051】 本発明に従う活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、殺茎剤(haulm kill
ers)および、特に殺雑草剤として使用することができる。雑草とは、最も広
い意味において、植物を望まない場所に成長する全ての植物であると理解すべき
である。本発明に従う物質が完全または選択的除草剤として作用するかどうかは
、本質的に使用量に依存する。
【0052】 本発明に従う活性化合物は、例えば、次の植物に関連して使用することができ
る:次の属の双子葉雑草 :イチビ属(Abutilon)、ヒユ属(Amaranthus)、ブタクサ属
(Ambrosia)、アノダ属(Anoda)、カミツレモドキ属(Anthemis)、アファネス属
(Aphanes)、アトリプレックス属(Atriplex)、ベリス属(Bellis)、ビデンス属
(Bidens)、カプセラ(Capsella)属、ヒレアザミ属(Carduus)、カシア属(Cass
ia)、センタウレア属(Centaurea)、アカザ属(Chenopodium)、アザミ属(Cirsi
um)、ヒルガオ属(Convolvulus)、チヨウセンアサガオ属(Datura)、デスモジウ
ム属(Desmodium)、エメクス属(Emex)、エリシムム属(Erysimum)、ユーフォル
ビア属(Euphorbia)、チシマオドリコ属(Galeopsis)、ガリンソガ属(Galinsog
a)、ヤエムグラ属(Galium)、ヒビスクス属(Hibiscus)、サツマイモ属(Ipomoe
a)、コチア属(Kochia)、ラミウム属(Lamium)、マメグンバイナズナ属(Lepidi
um)、アゼナ属(Lindernia)、シカギク属(Matricaria)、メンタ属(Mentha)、
メルクリアリス属(Mercurialis)、ムルゴ属(Mullugo)、ミオソチス属(Myosot
is)、ケシ属(Papaver)、ファルビチス属(Pharbitis)、プランタゴ属(Plantag
o)、タデ属(Polygonum)、スベリヒユ属(Portulaca)、ラヌンクルス属(Ranunc
ulus)、ラファヌス属(Raphanus)、イヌガラシ属(Rorippa)、キカシグサ属(Ro
tala)、ルメックス属(Rumex)、サルソラ属(Salsola)、キオン属(Senecio)、
セスバニア属(Sesbania)、シダ属(Sida)、カラシ属(Sinapis)、ナス属(Sola
num)、ノゲシ属(Sonchus)、スフェノクレア属(Sphenoclea)、ハコベ属(Stell
aria)、タラキサクム属(Taraxacum)、スラスピ属(Thlaspi)、トリフォリウム
属(Trifolium)、イラクサ属(Urtica)、クワガタソウ属(Veronica)、スミレ属
(Viola)、オナモミ属(Xanthium)。次の属の双子葉栽培植物 :ラツカセイ属(Arachis)、フダンソウ属(Beta)、ア
ブラナ属(Brassica)、キユウリ属(Cucumis)、ウリ属(Cucurbita)、ヘリアン
スス属(Helianthus)、ニンジン属(Daucus)、ダイズ属(Glycine)、ワタ属(Go
ssypium)、サツマイモ属(Ipomoea)、アキノノゲシ属(Lactuca)、アマ属(Linu
m)、トマト属(Lycopersicon)、タバコ属(Nicotiana)、インゲンマメ属(Phase
olus)、エンドウ属(Pisum)、ナス属(Solanum)、ソラマメ属(Vicia)。次の属の単子葉雑草 :アエギロプス属(Aegilopus)、カモジグサ属(Agropyron)
、ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテツポウ属(Alopecurus)、アペラ属(Apera)
、カラスムギ属(Avena)、ブラキアリア属(Brachiaria)、スズメノチヤヒキ属(
Bromus)、センクルス属(Cenchrus)、コメリナ属(Commelina)、シノドン属(C
ynodon)、カヤツリグサ属(Cyperus)、ダクチロクテニウム属(Dactyloctenium)
、メヒシバ属(Digitaria)、ヒエ属(Echinochloa)、ハリイ属(Eleocharis)、
オヒシバ属(Eleusine)、エラグロスチス属(Eragrostis)、エリオクロア属(Er
iochloa)、ウシノケグサ属(Festuca)、テンツキ属(Fimbristylis)、ヘテラン
テラ属(Heteranthera)、インペラタ属(Imperata)、カモノハシ属(Ischaemum)
、レプトクロア属(Leptochloa)、ドクムギ属(Lolium)、ミズアオイ属(Monoch
oria)、キビ属(Panicum)、パスパルム属(Paspalum)、ファラリス属(Phalaris
)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ属(Poa)、ロットベーリア属(Ro
ttboellia)、オモダカ属(Sagittaria)、ホタルイ属(Scirpus)、エノコログサ
属(Setaria)、モロコシ属(Sorghum)。次の属の単子葉栽培植物 :ネギ属(Allium)、アナナス属(Ananas)、クサスギカ
ズラ属(Asparagus)、カラスムギ属(Avena)、オオムギ属(Hordeum)、イネ属(
Oryza)、キビ属(Panicum)、サトウキビ属(Saccharum)、ライムギ属(Secale)
、モロコシ属(Sorghum)、トリチケレ属(Triticale)、コムギ属(Triticum)、
トウモロコシ属(Zea)。
【0053】 しかしながら、本発明に従う活性化合物の使用はこれらの属に何ら限定される
ものではなく、同じ方法で他の植物にも及ぶ。
【0054】 濃度に依存して、本発明に従う活性化合物は例えば工業地域および鉄道線路上
、並びに樹木が存在するかあるいは存在しない道路および広場上の雑草の完全抑
制に適している。同等に、本発明に従う化合物は多年生栽培植物、例えば森林、
装飾樹木の植え付け、果樹園、ブドウ園、柑橘類果樹園、ナッツ果樹園、バナナ
プランテーション、コーヒープランテーション、茶プランテーション、ゴムの木
プランテーション、油ヤシプランテーション、カカオプランテーション、小果樹
の植え付けおよびホツプ畑、芝生(lawns)および芝土(turf)および牧草地の中の
雑草の抑制に、そして一年生栽培植物中の雑草の選択的抑制に使用することがで
きる。
【0055】 本発明に従う式(I)の化合物は土壌および植物の地上部分に適用される場合
に強い除草活性および広い活性範囲を有する。ある程度までは、それらは単子葉
および双子葉栽培植物中の単子葉および双子葉雑草の選択的抑制にも、発芽前お
よび発芽後方法の両方により適する。
【0056】 活性化合物は通常の調合物、例えば液剤、乳剤、水和剤、懸濁剤、粉末、散剤
、ペースト剤、可溶性粉末、粒剤、濃厚懸濁乳剤、活性化合物を含浸させた天然
および合成材料、並びに重合体物質中の極小カプセルに転化することができる。
【0057】 これらの調合物は既知の方法で、例えば活性化合物を展開剤すなわち液体溶媒
および/または固体の担体と、場合により界面活性剤すなわち乳化剤および/ま
たは分散剤および/または発泡剤を用いて混合することにより製造される。
【0058】 使用される展開剤が水である場合、例えば、補助溶媒として有機溶媒を用いる
ことも可能である。主として適する液体溶媒は芳香族、例えばキシレン、トルエ
ンもしくはアルキルナフタレン類、塩素化された芳香族および塩素化された脂肪
族炭化水素類、例えばクロロベンゼン類、クロロエチレン類もしくは塩化メチレ
ン、脂肪族炭化水素類、例えばシクロヘキサン、またはパラフイン類、例えば石
油画分、鉱油および植物油、アルコール類、例えばブタノールもしくはグリコー
ル並びにそれらのエーテル類およびエステル類、ケトン類、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強極性
溶媒、例えばジメチルホルムアミドおよびジメチルスルホキシド、並びに水であ
る。
【0059】 適する固体の担体は例えばアンモニウム塩および粉砕した天然鉱物、例えばカ
オリン、クレイ、タルク、チヨーク、石英、アタパルジヤイト、モンモリロナイ
トまたは珪藻土、並びに粉砕した合成鉱物、例えば高度分散性シリカ、アルミナ
およびシリケート類であり、適する粒剤用の固体担体は例えば粉砕し且つ分別し
た天然石、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石、並びに無機および有
機のひきわりの合成顆粒、および有機物質、例えばおがくず、やしがら、トウモ
ロコシ穂軸およびタバコ茎の顆粒であり、適する乳化剤および/または発泡剤は
例えば非イオン性およびアニオン性乳化剤、例えばポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル類、ポリオキシエチレン脂肪アルコールエーテル類、例えばアルキルアリ
ールポリグリコールエーテル類、アルキルスルホネート類、アルキルスルフエー
ト類、アリールスルホネート類および蛋白質加水分解生成物であり、適する分散
剤は例えばリグニン−スルフアイト廃液およびメチルセルロースである。
【0060】 粘着付与剤、例えばカルボキシルメチルセルロース、粉状、粒状またはラテツ
クス状の天然および合成重合体、例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコールお
よびポリビニルアセテート、並びに天然燐脂質、例えばセファリン類およびレシ
チン類、並びに合成燐脂質を調合物中で用いることができる。他の可能な添加剤
は鉱油および植物油である。
【0061】 染色剤、例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルー、並
びに有機染料、例えばアリザリン染料、アゾ染料および金属フタロシアニン染料
、並びに微量の栄養素、例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブデ
ンおよび亜鉛の塩を用いることができる。
【0062】 調合物は一般的には0.1〜95重量%の間、好ましくは0.5〜90重量%の
間の活性化合物を含んでなる。
【0063】 雑草の抑制用には、本発明に従う活性化合物は、そのままで或いはそれらの調
合物の形態で、既知の除草剤との混合物として用いることもでき、仕上げた調合
物または槽混合が可能である。
【0064】 混合物用に使用できる成分は既知の除草剤、例えば下記のものである: アセトクロル(acetochlor)、アシフルオルフェン(−ナトリウム)(acifluorfen
(-sodium))、アクロニフェン(aclonifen)、アラクロル(alachlor)、アロキシジ
ム(−ナトリウム)(alloxydim(-sodium))、アメトリン(ametryne)、アミドクロ
ル(amidochlor)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、アニロフォス(anilofos)
、アスラム(asulam)、アトラジン(atrazine)、アザフェニジン(azafenidin)、ア
ジムスルフロン(azimsulfuron)、ベナゾリン(−エチル)(benazolin(-ethyl))
、ベンフレサート(benfuresate)、ベンスルフロン(−メチル)(bensulfuron(-m
ethyl))、ベンタゾン(bentazone)、ベンゾビシクロン(benzobicyclone)、ベンゾ
フェナップ(benzofenap)、ベンゾイルプロップ(−エチル)(benzoylprop(-ethy
l))、ビアラフォス(bialaphos)、ビフェノックス(bifenox)、ビスピリバック(
−ナトリウム)(bispyribac(-sodium))、ブロモブチド(bromobutide)、ブロモフ
ェノキシム(bromofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)、ブタクロル(butachl
or)、ブトロキシジム(butroxydim)、ブチレート(butylate)、カフェンストロー
ル(cafenstrole)、カロキシジム(caloxydim)、カルベタミド(carbetamide)、カ
ルフェントラゾン(−エチル)(carfentrazone(-ethyl)、クロメトキシフェン(c
hlomethoxyfen)、クロランベン(chloramben)、クロリダゾン(chloridazone)、ク
ロリムロン(−エチル)(chlorimuron(-ethyl))、クロルニトロフェン(chlornit
rofen)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロルトルロン(chlortoluron)、
シニドン(−エチル)(cinidon(-ethyl))、シンメスリン(cinmethylin)、シノス
ルフロン(cinosulfuron)、クレフォキシジム(clefoxydim)、クレトジム(clethod
im)、クロジナフォップ(−プロパルギル)(clodinafop(-propargyl))、クロマ
ゾン(clomazone)、クロメプロップ(clomeprop)、クロピラリド(clopyralid)、ク
ロピラスルフロン(−メチル)(clopyrasulfuron(-methyl))、クロランスラム(
−メチル)(cloransulam(-methyl))、クミルロン(cumyluron)、シアナジン(cyan
azine)、シブツリン(cybtryne)、シクロエート(cycloate)、シクロスルファムロ
ン(cyclosulfamuron)、シクロキシジム(cycloxydim)、シハロフォップ(−ブチ
ル)(cyhalofop(-butyl))、2,4−D、2,4−DB、2,4−DP、デスメジフ
ァム(desmedipham)、ジアラート(diallate)、ジカンバ(dicamba)、ジクロフォッ
プ(−メチル)(diclofop(-methyl))、ジクロスラム(diclosulam)、ジエタチル
(−エチル)(diethatyl(-ethyl))、ジフェンゾクアート(difenzoquat)、ジフル
フェニカン(diflufenican)、ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、ジメフロン(
dimefuron)、ジメピペレート(dimepiperate)、ジメタクロル(dimethachlor)、ジ
メタメトリン(dimethametryn)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメキシフラム(
dimexyflam)、ジニトラミン(dinitramine)、ジフェナミド(diphenamid)、ジクア
ート(diquat)、ジチオピル(dithiopyr)、ジウロン(diuron)、ジムロン(dymron)
、エポプロダン(epoprodan)、EPTC、エスプロカルブ(esprocarb)、エタルフ
ルラリン(ethalfluralin)、エタメトスルフロン(−メチル)(ethametsulfuron(
-methyl))、エトフメセート(ethofumesate)、エトキシフェン(ethoxyfen)、エ
トキシスルフロン(ethoxysulfuron)、エトベンザニド(etobenzanid)、フェノキ
サプロップ−(−P−エチル)(fenoxaprop-(-P-ethyl))、フェントラザミド(fe
ntrazamide)、フラムプロップ(−イソプロピル)(flamprop(-isopropyl))、フ
ラムプロップ(−イソプロピル−L)(flamprop(-isopropyl-L))、フラムプロッ
プ(−メチル)(flamprop(-methyl))、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フロ
ラスラム(florasulam)、フルアジフォップ(−P−ブチル)(fluazifop(-P-buty
l))、フルアゾレート(fluazolate)、フルカルバゾン(flucarbazone)、フルフェ
ナセット(flufenacet)、フルメツラム(flumetsulam)、フルミクロラック(−ペ
ンチル)(flumiclorac(-pentyl))、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミプ
ロピン(flumipropyn)、フルメツラム(flumetsulam)、フルオメツロン(fluometur
on)、フルオロクロリドン(fluorochloridone)、フルオログリコフェン(−エチ
ル)(fruoroglycofen(-ethyl))、フルポキサム(flupoxam)、フルプロパシル(flu
propacil)、フルルピルスルフロン(−メチル、−ナトリウム)(flurpyrsulfuro
n(-methyl, -sodium))、フルレノール(−ブチル)(flurenol(-butyl))、フルリ
ドン(fluridone)、フルロキシピル(−メプチル)(fluroxypyr(-meptyl))、フル
ルプリミドール(frurprimidol)、フルルタモン(flurtamone)、フルチアセット(
−メチル)(fluthiacet(-methyl))、フルチアミド(fluthiamide)、フォメサフェ
ン(fomesafen)、グルホシネート(−アンモニウム)(glufosinate(-ammonium))
、グリホセート−(−イソプロピルアンモニウム)(glyphosate-(-isopropylammo
nium))、ハロサフェン(halosafen)、ハロキシフォップ(−エトキシエチル)(ha
loxyfop(-ethoxyethyl))、ハロキシフォップ(−P−メチル)(haloxyfop(-P-me
thyl))、ヘキサジノン(hexazinone)、イマザメタベンズ−(−メチル)(imazame
thabenz-(-methyl))、イマザメタピル(imazamethapyr)、イマザモックス(imazam
ox)、イマザピック(imazapic)、イマザピル(imazapyr)、イマザクイン(imazaqui
n)、イマゼタピル(imazethapyr)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、ヨードス
ルフロン(−メチル、−ナトリウム)(iodosulfuron(-methyl, -sodium))、イオ
キシニル(ioxynil)、イソプロパリン(isopropalin)、イソプロツロン(isoprotur
on)、イソウロン(isouron)、イソキサベン(isoxaben)、イソキサクロルトール(i
soxachlortole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサピリフォップ(i
soxapyrifop)、ラクトフェン(lactofen)、レナシル(lenacil)、リヌロン(linuro
n)、MCPA、MCPP、メフェナセット(mefenacet)、メソトリオン(mesotrio
ne)、メタミトロン(metamitron)、メタザクロル(metazachlor)、メタベンズチア
ズロン(methabenzthiazuron)、メトベンズロン(metobenzuron)、メトブロムロン
(metobromuron)、(アルファ−)メトラクロル((alpha-)metalachlor)、メトス
ラム(metosulam)、メトクスロン(metoxuron)、メトリブジン(metribuzin)、メツ
ルフロン(−メチル)(metsulfuron(-methyl))、モリネート(molinate)、モノリ
ヌロン(monolinuron)、ナプロアニリド(naproanilide)、ナプロパミド(napropam
ide)、ネブロン(neburon)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、ノルフルラゾン(no
rflurazon)、オルベンカルブ(orbencarb)、オリザリン(oryzalin)、オキサジア
ルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサスルフロン(oxasulfu
ron)、オキサジクロメフォン(oxaziclomefone)、オキシフルオルフェン(oxyfluo
rfen)、パラクアート(paraquat)、ペラルゴン酸(pelargonic acid)、ペンジメタ
リン(pendimethalin)、ペンドラリン(pendralin)、ペントキサゾン(pentoxazone
)、フェンメジファム(phenmedipham)、ピペロフォス(piperophos)、プレチラク
ロル(pretilachlor)、プリミスルフロン(−メチル)(primisulfuron(-methyl))
、プロメトリン(prometryn)、プロパクロル(propachlor)、プロパニル(propanil
)、プロパキザフォップ(propaquizafop)、プロプイソクロル(propisochlor)、プ
ロピザミド(propyzamide)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、プロスルフロン(
prosulfuron)、ピラフルフェン(−エチル)(pyraflufen(-ethyl))、ピラゾレー
ト(pyrazolate)、ピラゾスルフロン(−エチル)(pyrazosulfuron(-ethyl))、ピ
ラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ビリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリブチカ
ルブ(pyributicarb)、ピリデート(pyridate)、ピリミノバック−(−メチル)(p
yriminobac-(-methyl))、ピリチオバック(−ナトリウム)(pyrithiobac(-sodiu
m))、キンクロラック(quinchlorac)、キンメラック(quinmerac)、キノクラミン(
quinoclamine)、キザロフォップ(−P−エチル)(quizalofop(-P-ethyl))、キ
ザロフォップ(−P−テフリル)(quizalofop(-P-tefuryl))、リムスルフロン(r
imsulfuron)、セトキシジム(sethoxydim)、シマジン(simazine)、シメトリン(si
metryn)、スルコトリオン(sulcotrione)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)
、スルホメツロン(−メチル)(sulfometuron(-methyl))、スルホセート(sulfos
ate)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、テブタム(tebutam)、テブチウロン(t
ebuthiuron)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、テルブチルアジン(terbuthyla
zine)、テルブトリン(terbutryn) 、テニルクロル(thenylchlor)、チアフルアミ
ド(thiafluamide)、チアゾピル(thiazopyr)、チジアジミン(thidiazimin)、チフ
ェンスルフロン(−メチル)(thifensulfuron(-methyl))、チオベンカルブ(thio
bencarb)、チオカルバジル(thiocarbazil)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、
トリアラート(triallate)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベヌロン(
−メチル)(tribenuron(-methyl))、トリクロピル(triclopyr)、トリジファン(t
ridiphane)、トリフルラリン(trifluralin)およびトリフルスルフロン(triflusu
lfuron)。
【0065】 他の既知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、殺昆虫剤、殺ダニ剤、殺線虫
剤、小鳥忌避剤、植物栄養剤および土壌改良剤との混合物も可能である。
【0066】 活性化合物はそのままで、それらの調合物の形態またはそれらからさらに希釈
して調製された使用形態、例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉末、ペースト剤
および粒剤で使用することができる。それらは普通の方法で、例えば、液剤散布
、噴霧、アトマイジング、粒剤散布によって施用される。
【0067】 本発明に従う活性化合物は植物の発芽の前および後の両方に適用することがで
きる。それらは種蒔き前に土壌中に加えることもできる。
【0068】 活性化合物の使用量は比較的広い範囲内で変えることができる。それは本質的
には所望する効果の性質に依存する。一般的に、使用量は1ヘクタールの土壌表
面当り1g〜10kgの間、好ましくは1ha当たり5g〜5kgの間の活性化
合物である。
【0069】 本発明に従う活性化合物の製造および使用は以下の実施例から理解されうる。
製造実施例 実施例1
【0070】
【化11】
【0071】 5.0g(21ミリモル)のN−(t−ブチル)−N−(4−クロロフェニル)−
2−ヒドロキシアセトアミド、4.9g(21ミリモル)の2−メチルスルホニ
ル−5−トリフルオロメチル−1,3,4−チアジアゾールおよび50mlのアセ
トンの混合物を−15℃に冷却しそして、この温度において、撹拌しながら1.
4g(35ミリモル)の水酸化ナトリウムの7mlの水中溶液と滴々混合する。
反応混合物を−15℃において3時間にわたり撹拌し、次に酢酸を用いてpH5
に調節しそして引き続き500mlの氷水中に注ぐ。溶媒を傾斜しそして残存す
る油状生成物を石油エーテルでの温浸により結晶化させそして次に吸引濾過によ
り単離する。
【0072】 これが6.5g(理論値の79%)の融点82℃のN−(t−ブチル)−N−(4
−クロロフェニル)−2−(5−トリフルオロメチル−1,3,4−チアジアゾール
−2−イル−オキシ)−アセトアミドを与える。実施例2
【0073】
【化12】
【0074】 室温(約20℃)において、2.1g(10ミリモル)の2,6−ジクロロ−ベ
ンゾチアゾールを撹拌しながら2.1g(10ミリモル)のN−(4−フルオロフ
ェニル)−N−(2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミド、0.15g(1
2.5ミリモル)の水酸化ナトリウム、2mlの水および30mlのアセトンの
混合物に加え、そして反応混合物を室温において15時間にわたり撹拌する。混
合物を次に150mlの塩化メチレンと共に充分振りそして有機相を分離し、水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして濾過する。濾液を水流ポンプ真空下で
濃縮し、残渣をジイソプロピルエーテルで温浸しそして結晶性生成物を吸引濾過
により単離する。
【0075】 これが2.0g(理論値の97%)の融点126℃のN−(4−フルオロフェニ
ル)−N−(2−プロピニル)−2−(6−クロロ−ベンゾチアゾール−2−イル−
オキシ)−アセトアミドを与える。
【0076】 実施例1および2と同様にして、そして本発明に従う製造方法の一般的な記述
に従い、例えば、以下の表1に挙げる一般式(I)の化合物を製造することも可
能である。
【0077】
【表1】
【0078】
【表2】
【0079】
【表3】
【0080】
【表4】
【0081】
【表5】
【0082】
【表6】
【0083】
【表7】
【0084】
【表8】
【0085】 表1に示されたlogP値は EEC directive 79/831 Annex V.A8 に従いHP
LC(高性能液体クロマトグラフィー)により逆相カラム(C8)上で測定され
た。温度:43℃。 (a)酸性範囲内の測定用の移動相:0.1%水性燐酸、アセトニトリル;10
%アセトニトリルないし90%アセトニトリルの線状勾配−表1中の対応するデ
ータは標識a)が付けられている。 (b)中性範囲内の測定用の移動相:0.01モル燐酸塩緩衝水溶液、アセトニ
トリル;10%アセトニトリルないし90%アセトニトリルの線状勾配−表1中
の対応するデータは標識b)が付けられている。
【0086】 目盛り付けは、logP値(2種の連続するアルカノン類の間の線状内挿法を
用いる保持時間によるlogPの測定)が既知である非分枝鎖状アルカン−2−
オン類(炭素数3〜16)を用いて行われた。
【0087】 ラムダ最大値は200nm〜400nmの紫外線スペクトルを用いてクロマト
グラフィー信号の最大値で測定された。式(III)の出発物質: 実施例(III−1)
【0088】
【化13】
【0089】 22g(85ミリモル)のN−(t−ブチル)−N−(4−クロロフェニル)−2
−クロロ−アセトアミド、3.3gの炭酸カリウムおよび0.3gのトリエチルア
ミンの混合物を120℃に加熱し、そして10.5gの酢酸ナトリウムを撹拌し
ながら且つ一回に少しずつこの混合物に2時間の期間にわたり加える。混合物を
次に120℃においてさらに2時間にわたり撹拌しそして引き続き50℃に冷却
する。200mlのメタノールを加え、そして混合物を次に4時間にわたり加熱
還流する。水流ポンプ真空下での濃縮後に、残渣を300mlの水/300ml
の塩化メチレンと共に振り、そして有機相を分離し、水、1N塩酸および次に再
び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして濾過する。濾液から、溶媒を減圧
下で注意深く蒸留除去する。
【0090】 これが20.8g(理論値の100%)のN−(t−ブチル)−N−(4−クロロ
フェニル)−2−ヒドロキシアセトアミドを与える。 logP(pH=2.3):2.54。実施例(III−2)
【0091】
【化14】
【0092】 20g(80ミリモル)のN−(4−フルオロフェニル)−N−(2−プロピニ
ル)−2−アセトキシ−アセトアミド、0.22g(4ミリモル)の水酸化カリウ
ムおよび200mlのメタノールの混合物を4時間にわたり加熱還流しそして次
に水流ポンプ真空下で濃縮する。残渣を塩化メチレン/水と共に振りそして有機
相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして濾過する。濾液から、溶媒を減圧下
で注意深く蒸留除去する。
【0093】 これが14.9g(理論値の90%)の融点57℃のN−(4−フルオロフェニ
ル)−N−(2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセトアミドを与える。
【0094】 実施例(III−1)および(III−2)と同様にして、例えば、以下の表2に挙
げる一般式(III)の化合物を製造することも可能である。
【0095】
【表9】
【0096】
【表10】
【0097】
【表11】
【0098】式(V)の中間体: 実施例(V−1)
【0099】
【化15】
【0100】 20g(88.5ミリモル)のN−(4−フルオロフェニル)−N−(2−プロピ
ニル)−2−クロロアセトアミド、8.7g(106ミリモル)の酢酸ナトリウム
、1gの塩化ベンジルトリエチルアンモニウムおよび200mlのトルエンの混
合物を7時間にわたり加熱還流する。室温に冷却した後に、混合物を1N塩酸お
よび次に水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして濾過する。濾液から、溶媒
を減圧下で注意深く蒸留除去する。
【0101】 これが21.3g(理論値の96%)のN−(4−フルオロフェニル)−N−(2
−プロピニル)−2−アセトキシ−アセトアミドを与える。
【0102】 実施例(V−1)と同様にして、例えば、以下の表3に挙げる一般式(V)の
化合物を製造することも可能である。
【0103】
【表12】
【0104】
【表13】
【0105】式(IV)の前駆体: 実施例(IV−1)
【0106】
【化16】
【0107】 18.4g(100ミリモル)のN−(t−ブチル)−N−(4−クロロフェニル
)−アミン、6.2g(55ミリモル)の塩化クロロアセチルおよび50mlのト
ルエンの混合物を透明溶液が生成するまで加熱還流する。さらに6.2g(55
ミリモル)の塩化クロロアセチルを次に加え、そして気体(HCl)の発生が止
むまで混合物を加熱還流する。混合物を次に水流ポンプ真空下で濃縮しそして残
渣を減圧下で蒸留する。
【0108】 これが22g(理論値の89%)のN−(t−ブチル)−N−(4−クロロフェ
ニル)−2−クロロアセトアミドを与える。 logP(pH=2.5):3.34。実施例(IV−2)
【0109】
【化17】
【0110】 室温(約20℃)において、11.3g(0.1モル)の塩化クロロアセチルの
30mlのトルエン中溶液を撹拌しながら15g(0.1モル)のN−(4−フル
オロフェニル)−N−(2−プロピニル)−アミン、8.4gのピリジンおよび20
0mlのトルエンの混合物に滴下し、そして反応混合物を室温において15時間
にわたり撹拌する。混合物を次に飽和塩化ナトリウム水溶液および水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥しそして濾過する。濾液を水流ポンプ真空下で濃縮し、残
渣をジイソプロピルエーテルで温浸しそして生じた結晶性生成物を吸引濾過によ
り単離する。
【0111】 これが20.5g(理論値の90%)の融点115℃のN−(4−フルオロフェ
ニル)−N−(2−プロピニル)−2−クロロアセトアミドを与える。
【0112】 実施例(IV−1)および(IV−2)と同様にして、例えば、以下の表4に挙げ
る一般式(IV)の化合物を製造することも可能である。
【0113】
【表14】
【0114】
【表15】
【0115】
【表16】
【0116】
【表17】
【0117】使用実施例: 実施例A 発芽前試験 溶媒: 5重量部のアセトン 乳化剤:1重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適当な調合物を製造するために、1重量部の活性化合物を上記量
の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、そして濃厚物を水で希釈して所望する
濃度にする。
【0118】 試験植物の種子を普通の土壌中にまく。約24時間後に、土壌に活性化合物の
調合物を単位面積当たり特定量の所望する活性化合物が適用されるように液剤散
布する。散布液の濃度は1ヘクタール当たり1000リットルの水中の特定量の
所望する活性化合物が適用されるように選択される。
【0119】 3週間後に、植物の被害度を無処理の対照用の発育と比較して%被害率で評価
する。
【0120】 数値は、 0%=効果なし(無処理の対照用と同様) 100%=完全死滅 を示す。
【0121】 この試験では、例えば、製造実施例1、3、4、6、7、9および11の化合
物は雑草に対する強力な活性を示し、そしてそれらの一部は栽培植物、例えば、
綿、トウモロコシ、小麦およびサトウダイコンによる良好な耐性がある。
【0122】
【表18】
【0123】
【表19】
【0124】
【表20】
【0125】
【表21】
【0126】
【表22】
【0127】
【表23】
【0128】
【表24】
【0129】実施例B 発芽後試験 溶媒: 5重量部のアセトン 乳化剤:1重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適当な調合物を製造するために、1重量部の活性化合物を上記量
の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、そして濃厚物を水で希釈して所望する
濃度にする。
【0130】 5−15cmの高さの試験植物に活性化合物の調合物を、単位面積当たり所望
する特定量の活性化合物が適用されるような方法で液剤散布する。散布液の濃度
は1000リットルの水/ha中の所望する特定量の活性化合物が適用されるよ
うに選択される。
【0131】 3週間後に、植物の被害度を無処理の対照用の発育と比較して%被害率で評価
する。
【0132】 数値は、 0%=効果なし(無処理の対照用と同様) 100%=完全死滅 を示す。
【0133】 この試験では、例えば、製造実施例1、2、3、4、6、7および9の化合物
は雑草に対する強力な活性を示す。
【0134】
【表25】
【0135】
【表26】
【0136】
【表27】
【0137】
【表28】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 271/06 C07D 277/68 277/58 285/08 277/68 A01N 43/82 101B 285/08 104 285/13 C07D 285/12 C (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM ,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH, GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K E,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS ,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN, MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM ,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN, YU,ZA,ZW (72)発明者 クルト,ヨアヒム ドイツ・デー−40764ランゲンフエルト・ フイルネブルクシユトラーセ69 (72)発明者 ドリユーズ,マーク・ビルヘルム ドイツ・デー−40764ランゲンフエルト・ ゲーテシユトラーセ38 (72)発明者 ダーメン,ペーター ドイツ・デー−41470ノイス・アルテブリ ユツカーシユトラーセ63 (72)発明者 フオイヒト,デイーター ドイツ・デー−40789モンハイム・アカー ベーク9 (72)発明者 ポンツエン,ロルフ ドイツ・デー−42799ライヒリンゲン・ア ムクロスター69 Fターム(参考) 4C033 AE04 AE05 AE08 AE17 AE18 4C036 AD05 AD08 AD19 AD21 AD26 AD27 AD28 4C056 AA01 AB01 AB02 AC02 AC05 AD01 AD03 AE03 AF05 CA17 CC01 CD01 CD10 FB04 FC01 4H011 AB01 BA01 BB10 BC03 BC05 DA16 DC05 DD03 DD04 DE15

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 nが数0、1、2または3を表し、 Rがs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピニル、1−メ
    チル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチ
    ル−2−ブチニルまたは1−エチル−2−ブチニルを表し、 Xがニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合とも場合によりシ
    アノ−、弗素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい
    メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブ
    チル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチル
    チオ、n−もしくはi−プロピルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニ
    ル、n−もしくはi−プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホ
    ニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキ
    サジアゾリル、チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それら
    の各々が場合によりニトロ、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、
    塩素、臭素により、または(各場合とも場合によりシアノ−、弗素−、塩素−、
    メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい)メチル、エチル、n−も
    しくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブチル、メトキシ、エトキ
    シ、n−もしくはi−プロポキシ、n−、i−、s−もしくはt−ブトキシ、メ
    チルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、n−、i−、s−もし
    くはt−ブチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−もしくは
    i−プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしく
    はi−プロピルスルホニルにより置換されていてもよい ことを特徴とする一般式(I) 【化1】 の化合物。
  2. 【請求項2】 nが数0、1または2を表し、 Rがs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピニルまたは1
    −メチル−2−プロピニルを表し、 Xがニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合とも場合によりシ
    アノ−、弗素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい
    メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ
    、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニルま
    たはエチルスルホニルを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
    2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジア
    ゾリル、1,3,4−チアジアゾリルよりなる群からのヘテロアリールを表し、そ
    れらの各々が場合によりニトロ、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗
    素、塩素、臭素により、または(各場合とも場合によりシアノ−、弗素−、塩素
    −、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていてもよい)メチル、エチル、n
    −もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、
    メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、メチルスルフィニル
    、エチルスルフィニル、n−もしくはi−プロピルスルフィニル、メチルスルホ
    ニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルにより置換され
    ていてもよい ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  3. 【請求項3】 nが数0、1または2を表し、 Rがs−ブチル、t−ブチル、1−エチル−プロピル、2−プロピニルまたは1
    −メチル−2−プロピニルを表し、 Xがニトロ、シアノ、弗素、塩素、臭素を表すか或いは各場合とも場合により弗
    素−および/もしくは塩素−置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしく
    はi−プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフ
    ィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニルまたはエチルスルホニルを表し
    、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
    2,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾ
    リルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それらの各々が場合によりニトロ
    、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、塩素、臭素により、または
    (各場合とも場合により弗素−および/もしくは塩素−置換されていてもよい)
    メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしく
    はi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、
    メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−もしくはi−プロピルスルフィ
    ニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホ
    ニルにより置換されていてもよい ことを特徴とする請求項1または2に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 nが数0または1を表し、 Rがt−ブチル、1−エチル−プロピルまたは2−プロピニルを表し、 Xがシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまた
    はトリフルオロメトキシを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
    2,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾ
    リルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それらの各々が場合によりニトロ
    、弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、ジフルオロ
    メチル、トリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、フルオロジクロロメチ
    ル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、メチルチオ、エチルチオ、n−もしく
    はi−プロピルチオにより置換されていてもよい ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。
  5. 【請求項5】 nが数0または1を表し、 Rがt−ブチル、1−エチルプロピルを表すか或いは2−プロピニルを表し、 Xがシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまた
    はトリフルオロメトキシを表し、そして Zがオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、1,
    2,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾ
    リルよりなる群からのヘテロアリールを表し、それらの各々が場合により弗素、
    塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、ジフルオロメチル、
    トリフルオロメチル、ジクロロメチル、ジフルオロクロロメチル、フルオロジク
    ロロメチル、トリクロロメチル、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プ
    ロピルチオにより置換されていてもよい ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
  6. 【請求項6】 一般式(II) Z−X1 (II) [式中、 Zは請求項1〜5のいずれかで定義された通りでありそして X1は弗素、塩素、臭素、メチルチオ、メチルスルフィニルまたはメチルスルホ
    ニルを表す] のヘテロアレン類を、適宜酸結合剤の存在下でそして適宜希釈剤の存在下で、一
    般式(III) 【化2】 [式中、 n、RおよびXは各々請求項1〜5のいずれかで定義された通りである] のヒドロキシアセトアニリド類と反応させる ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】 化合物N−(s−ブチル)−N−(4−エトキシ−フェニル)−
    2−ヒドロキシアセトアミド、N−(s−ブチル)−N−(4−メチル−フェニル)
    −2−ヒドロキシアセトアミド、N−(t−ブチル)−N−フェニル−2−ヒドロ
    キシアセトアミド、N−フェニル−N−(2−プロピニル)−2−ヒドロキシアセ
    トアミドおよびN−フェニル−N−(1−メチル−2−プロピニル)−2−ヒドロ
    キシアセトアミドを除く、n、RおよびXが各々請求項1〜5のいずれかで定義
    された通りであることを特徴とする一般式(III) 【化3】 の化合物。
  8. 【請求項8】 請求項1〜5のいずれかに記載の化合物の少なくとも1種を
    望ましくない植物および/またはそれらの生息地に作用させることを特徴とする
    望ましくない植生を抑制する方法。
  9. 【請求項9】 望ましくない植物を抑制するための請求項1〜5のいずれか
    に記載の化合物の少なくとも1種の使用。
  10. 【請求項10】 請求項1〜5のいずれかに記載の化合物並びに通常の展開
    剤および/または界面活性剤を含んでなることを特徴とする除草剤組成物。
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