JP2003501425A - 10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体の製造方法 - Google Patents
10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2003501425A JP2003501425A JP2001502415A JP2001502415A JP2003501425A JP 2003501425 A JP2003501425 A JP 2003501425A JP 2001502415 A JP2001502415 A JP 2001502415A JP 2001502415 A JP2001502415 A JP 2001502415A JP 2003501425 A JP2003501425 A JP 2003501425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- acid
- compound
- iii
- give
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/06—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by halogen atoms or nitro radicals
- C07D295/073—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by halogen atoms or nitro radicals with the ring nitrogen atoms and the substituents separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
Abstract
Description
利益を請求するものであり、該出願は全体を参考文献として本発明に援用される
。
:
ベンゾスベル−5−イル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒドロキシプロポキシ]
キノリン・トリヒドロクロリド塩の製造方法に関する。
。特定の薬物または薬物群に対して最初はよく応答していた腫瘍が、しばしば、
その薬物に対する耐性を発達させる。 マルチ薬物耐性と呼ばれるこの疾患状態は、KuzmichおよびTewの“抗ガン剤に
対する毒性緩和メカニズムおよび腫瘍細胞耐性”(特に、セクションVII“マルチ
薬物耐性現象(MDR)”において)、Medical Research Reviews、Vol.11、No.2
、185−217(特に208−213)(1991);およびGeorges、Sharomお
よびLingの“マルチ薬物耐性および化学感作:ガン化学療法のための治療上の掛
り合い”、Advences Pharmacology、Vol.21、185−220(1990)にお
いて、非常に詳細に論じられている。
明に援用される)は、現行のガンの化学療法の効力の増強およびマルチ薬物耐性
の処置において有用な一連の10,11−メタノベンゾスベラン誘導体を開示し
ている。それらに開示されている(2R)−アンチ−5−[3−[4−(10,11
−ジフルオロメタノジベンゾスベル−5−イル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒ
ドロキシプロポキシ]キノリン・トリヒドロクロリドが、目下、医薬製剤として
開発中である。本発明は、需要の発展を見越して、化学的により効率がよく、大
規模な製造に適合させうる、(2R)−アンチ−5−[3−[4−(10,11−ジ
フルオロメタノジベンゾスベル−5−イル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒドロ
キシプロポキシ]キノリン・トリヒドロクロリド(式(I)の化合物)の改良され
た製造方法に関する。
文献として本発明に援用される)およびPCT特許出願(WO94/24107
および98・22112)は、1−ホルミルピペラジンを使用して、式(II):
syn)異性体(III):
明に援用される)に開示されている製造方法は、(a)ホルミルピペラジン化合物
のクロマトグラフィーによる分離;および(b)ホルミルピペラジン化合物の脱ホ
ルミル化から化合物(IV)を得ることを含んでいる。 反応工程式A
α,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テト
ラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン化合物または誘導体
と反応させる。米国特許5643909に用いられた1−ホルミルピペラジンが
市販量を容易に入手できないことが多いのに対し、ピペラジンは市販量を容易に
入手できるので、本発明方法は都合がよい。さらに、ピペラジンは1−ホルミル
ピペラジンよりも安価であるという重要な費用的利点をもつ。 1−ホルミルピペラジンの代わりにピペラジンを用いることは、脱ホルミル化
またはホルミル基の加水分解(反応工程式Aのステップ6)の必要がなくなり、
そのために操作ステップが少なくなるので、先行技術を凌ぐ重要な利点をもつ。
米国特許5643909は、クロマトグラフィーまたは繰り返し結晶化による1
−ホルミルピペラジン化合物の分離を教示している。本発明は、ホルミルピペラ
ジンジアステレオマー付加化合物のクロマトグラフィー分離(反応工程式Aのス
テップ4)の必要もなくする。
ら選ばれる溶媒を該富んだ混合物に加え;次いで (e)式(IVa)のアンチ立体異性体化合物を結晶化する; ステップを含む方法を提供する。
(iii):
−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテンを形成し; (c)溶媒中、(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1
a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン(
iii)をピラジンと反応させて、シン(III):
の化合物の製造方法であって、 (a)遊離塩基としてのアンチ立体異性体(IVa)を(R)−1−(5−キノリニ
ルオキシ)−2,3−エポキシプロパンと反応させて、式(V):
に許容しうる塩の製造方法を提供する。
。たとえば、℃は摂氏の温度を意味し、Nは正常または標準性を意味し、mmolは
ミリモルを意味し、gはグラムを意味し、dは密度を意味し、min.は分を意味し
、mLはミリリットルを意味し、Mはモルを意味し、HPLCは高性能液体クロ
マトグラフィーを意味し、mmはミリメーターを意味し、cmはセンチメーター
を意味し、nmはナノメーターを意味し、rtは保持時間を意味する。語句「ハ
ロ」はフルオロ、ブロモ、クロロおよびヨードを意味する。
をハライドに変換することができる酸性基を意味する。ハロゲン化剤の例として
は、臭化水素、塩化水素、ヨウ化水素、塩化チオニル、塩化オキサリル、三塩化
リンまたは五塩化リンなどが挙げられる。 本明細書で用いる語句「医薬的に許容しうる塩」は、すべての非毒性の有機ま
たは無機塩を意味する。無機塩または塩を形成する酸性基の例としては、塩酸、
臭化水素酸、硫酸、リン酸およびオルトリン酸一水素ナトリウムならびに硫酸水
素カリウムなどの酸金属塩が挙げられる。酸または適当な塩を形成する酸性基の
例としては、モノ、ジおよびトリカルボン酸が挙げられる。このような酸の例と
しては、酢酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、スクシン酸、グル
タル酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、アスコルビン酸、マレイン酸、ヒドロキ
シマレイン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、桂皮酸、サリチ
ル酸、2−フェノキシ安息香酸およびp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、樟脳スルホン酸ならびに2−ヒドロキシエタンスルホン酸などのスルホン酸
が挙げられる。臭化水素酸、塩酸、樟脳スルホン酸、p−トルエンスルホン酸お
よび硫酸を含むグループから選ばれる酸が好ましい。特に好ましい酸性基は、塩
酸である。これらの酸から形成された酸付加塩は、水和物体または実質的無水体
のいずれかにおいて存在することができ、それらすべてが、本発明の範囲に包含
される。 語句「HX」、「酸性基」および「酸」は、本明細書において同義語である。
カル・カンパニーなどから市販されている5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテ
ン−5−オン(ジベンゾスベレノン)を出発物質として、反応工程式Bに示す以
下のステップにしたがって製造することができる。他の反応物も同様に市販のも
のをもちいるか、または当業者であれば容易に製造することができる。本は詰め
の特に好ましい具体例は、ステップ1とステップ2(下記反応工程式B参照)を
1つの操作ステップで合わせる操作を提供する。
ウムなどのハロジフルオロ酢酸アルカリの溶液を、ジベンゾスベレノンの溶液(
ジグリム溶液など)に、窒素下で攪拌しながら、反応温度を好ましくは160〜
165℃に維持し、約4〜約8時間、好ましくは約6時間かけて加える。Cigane
kらの“三環式抗鬱薬”、J.Med.Chem.、1981、24、336−41;または
CoyneおよびCusicの“アミノアルキルジベンゾ[a,e]シクロプロパ([c]シク
ロヘプテン誘導体;A Series of Potent Antidepressants”、J.Med.Chem.、1
974、Vol.17、No.1、72−75に記載されているように、使用した反応
物に応じて、他の反応温度を採用することができる。反応混合物を室温にし、次
いで水に注ぎ入れて、抽出する(ジエチルエーテルまたはペンタン)。1,1−
ジフルオロ−1a,10b−ジヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘ
プテン−6(1H)−オンを単離し、慣例の方法で精製する。たとえば、有機相を
水で洗浄し、乾燥(Na2SO4など)し、蒸発し、次いで残渣を再結晶させる(
エタノールなどから;必要に応じてアセトン/へキサンなどから再結晶)。
クロプロパ[c]シクロヘプテン−6(1H)−オンの溶液(THF/メタノールな
ど)を典型的には0℃〜25℃の間に冷却し、次いで、還元剤(水素化ホウ素リ
チウムまたは水素化ホウ素ナトリウム)を分割して加える。反応混合物を室温ま
で放冷し、1〜5時間、好ましくは2時間攪拌し、次いで、水に注ぎ入れる。生
成物を単離し(濾過など)、常套の手段で精製し(水洗および乾燥など)、対応
する、(1aα,6β,10bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テト
ラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール(ii)
を得る。
180℃〜210℃に加熱し、次いで、エチレングリコールジメチルエーテル中
のクロロジフルオロ酢酸リチウム塩の溶液をゆっくりと添加することにより、ス
テップ1とステップ2を1つの操作ステップで行うのが好ましい。塩添加を進め
ながら、エチレングリコールジメチルエーテルを蒸留する。アリコートをガスク
ロマトグラフィー分析することにより、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン
−5−オンの完全またはほぼ完全な消費を知ることができる。反応物を周囲温度
に冷却し、次いで、酢酸エチルと珪藻土の混合物と合わせる。固体を濾去し、酢
酸エチルで洗浄する。洗液と濾液を合わせ、酢酸エチルを減圧除去する。濃縮液
を冷却し、次いで、完全またはほぼ完全な還元が行われるのに十分な量の水素化
ホウ素ナトリウム溶液を添加する。1〜5時間、好ましくは2〜4時間攪拌した
後、メタノール性塩酸を注意深く加えて反応を停止する。懸濁液を30分攪拌し
、粗生成物を濾過して集め、メタノール:水(1:1)で洗浄し、乾燥して暗褐
色の固体を得る。粗生成物を塩化メチレンでスラリー化し、濾過し、乾燥して、
(1aα,6β,10bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒド
ロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール(ii)を得る
。
−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シク
ロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オールの溶液を冷却(氷浴など)し、次いで
、ハロゲン化剤を加える。好ましいハロゲン化剤は、臭化水素、塩化水素、ヨウ
化水素、塩化チオニル、塩化オキサリル、三塩化リンまたは五塩化リンなどであ
る。塩化水素および臭化水素が最も好ましい。反応物の温度を40℃〜70℃、
好ましくは50℃に、2〜5時間、好ましくは4時間維持する。反応混合物を蒸
発乾固し、(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,
6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテンと対
応するシン異性体(1aα,6β,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,
1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテ
ンの混合物を得る。ブロモ誘導体の場合、臭素化反応により、アンチ立体異性体
((1aα,6α,10bα)−6−ブロモ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10
b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン)(iii
)のみが得られる。(1aα,6α,10bα)−6−ブロモ−1,1−ジフルオロ
−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘ
プテン誘導体(iii)の製造は、(1aα,6β,10bα)−1,1−ジフルオ
ロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロ
ヘプテン−6−オール(ii)を臭化水素と反応させることにより行うのが好まし
い。
6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,
e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン生成物を、さらに精製するかまたはそのま
ま、アセトニトリルに溶解する。たとえば、好ましくは乾燥窒素下、攪拌しなが
らピペラジンを添加することにより、ハライドを求核置換してピペラジンを導入
する。反応温度を50℃〜100℃、好ましくは70℃〜90℃に、1〜6時間
、好ましくは2時間維持する。アセトニトリル反応混合物からシン立体異性体を
結晶化することにより、シンおよびアンチ立体異性体の混合物を分離するのが好
ましい。これに続いて、残っているアセトニトリルを除去し、臭化水素または他
の適当な酸および塩化メチレン、エタノールおよび酢酸エチルから選ばれる溶媒
で置換する。結晶化後、精製(1aα,6α,10bα)−1−(1,1−ジフルオロ
−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘ
プテン−6−イル)-ピペラジン・酸塩化合物(IVa)を得る。 単離したシン異性体生成物(III)を必要に応じて酸性化して医薬的に許容し
うる塩を形成する。
換する。 反応工程式C
トラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−イル)ピペラ
ジン・酸塩化合物(IVa)を中和して遊離塩基(IV)に変換した後、エタノール
またはイソプロパノールなどの溶媒中、エポキシド(R)−1−(5−キノリニル
オキシ)2,3−エポキシプロパン(式(8)の化合物)と反応させて、(2R)−ア
ンチ−5−[3−[4−(10,11−ジフルオロメタノジベンゾスベル−5−イ
ル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒドロキシプロポキシ]キノリン(V)を製造す
る。(V)の酸塩を当業者に公知の方法によって製造してもよい。好ましいトリヒ
ドロクロリド塩であるアンチ−5−[3−[4−(10,11−ジフルオロメタノ
ジベンゾスベル−5−イル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒドロキシプロポキシ
]キノリン・トリヒドロクロリド(I)は、0〜15℃にて、ジエチルエーテル中
の塩化水素(たとえば、トリヒドロクロリド(塩)を形成するために3モル当量)を
添加し、次いで、エタノールから再結晶することによって製造することができる
。
Ia):
ついての記載にしたがって、式(III)のシン異性体化合物を用いて、式(XI
I):
ル−5−イル)ピペラジン−1−イル]−2−ヒドロキシプロポキシ]キノリン・
トリヒドロクロリドを製造することができる。
本発明の範囲を限定することを企図するものではない。製造例1 R−1−(5−キノリニルオキシ)−2,3−エポキシプロパン
ノシレート(10.0g、38.6ミリモル)、粉末炭酸カリウム(11.7g、
84.9ミリモル)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100ml)の混合
物を、HPLC分析(アセトニトリル40%/0.5%水性酢酸アンモニウム溶
液60%、1ml/分、波長=230nm、Zorbax RX−C8 25c
m×4.6mmカラム)がグリシジルノシレートの完全消失を指示するまで、周
囲温度で攪拌する(およそ6時間)。反応混合物をろ紙で濾過し、フィルターケ
ーキをMTBEと塩化メチレンの混合物(3:1)200mlで洗浄する。濾液
を水200mlで洗浄し、水相をMTBE/塩化メチレン(3:1)100ml
で4回抽出する。有機層を合わせ、硫酸マグネシウム(30g)で乾燥し、次い
で、無水溶液を塩基性アルミナ50gとともに30分間攪拌する。アルミナを濾
去し、フィルターケーキをMTBE/塩化メチレン(3:1)200mlで洗浄
する。ろ液を100mlまで濃縮し、MTBE300mlを加え、溶液を再度8
0mlに濃縮する。50℃に加熱した後、溶液をヘプタン150mlで15分に
わたって滴下処理し、40℃に放冷し、種晶を入れ、結晶性沈澱を形成させる。
混合物を周囲温度で2時間攪拌し、次いで、0〜5℃にてさらに2時間攪拌する
。結晶を濾過し、冷ヘプタンで洗浄し、乾燥して(2R)−1−(5−キノリニル
オキシ)−2,3−エポキシプロパンを白色針状物(5.68g、収率73.2%
)で得る。
ヒドロ−5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−イル)ピペラジン−1−
イル]−3−キノリン−5−イルオキシ)−プロパン−2−オール・トリヒドロ
クロリド
]シクロヘプテン−6(1H)−オン
400ml)中のクロロジフルオロ酢酸ナトリウム(350g)の溶液を、ジグリ
ム(500ml)中の5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−オン(25g
)の溶液に、4〜8時間、好ましくは6時間にわたって滴下する。反応混合物を
冷却し、水(1.8リットル)に注ぎ入れ、エーテル(1.8リットル)で抽出する
。有機相を水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、蒸発させる。残渣をエタノー
ルから再結晶し、次いで、アセトン/へキサンから再結晶して、1,1−ジフル
オロ−1a,10b−ジヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン
−6(1H)−オン(14g)を得る。mp149.6℃。母液を合わせ、20%
アセトン/へキサンで溶離するフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーに付し
、さらに標的化合物(6.5g)を得る。
ドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール
b−ジヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6(1H)−オ
ン(20.4g)の溶液を氷浴で冷却する。水素化ホウ素ナトリウム(12g)を
分割して加える。冷却浴を取り外し、反応混合物を周囲温度で2時間攪拌し、水
に注ぐ。生成物を濾過し、水で洗浄し、乾燥して(1aα,6β,10bα)−1,
1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロ
パ[c]シクロヘプテン−6−オール(ii)を得る。mp230.1−230.
6℃。
ドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール
5ml)中の5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−オン(2)(0.50
0モル)の溶液に、クロロジフルオロ酢酸リチウム塩(293.3g、2.15
モル)(エチレングリコールジメチルエーテル中の53重量%溶液として)を7
時間にわたって加える。塩添加を始めると同時に、エチレングリコールジメチル
エーテルを反応物から留去する。アリコートのGC分析により、すべての5H−
ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−オンが消費されたことがわかる。反応物
を周囲温度まで冷却し、次いで、酢酸エチル(400ml)および珪藻土(75g
)と合わせる。固体を濾去し、酢酸エチル300mlで洗浄する。洗液と濾液を
合わせ、減圧濃縮して酢酸エチルを除去し、暗色の液体(635g)を得る。暗
色の液体を18℃に冷却し、これに水素化ホウ素ナトリウム(6.62g、0.
175モル)(14MのNaOH中の12重量%溶液として)を15分かけて加
える。2時間攪拌後、反応物に濃塩酸:メタノール:水(1:3.5:4.5)
の溶液(900ml)を注意深く加えて反応を停止する。懸濁液を30分攪拌し
、粗生成物を濾過により集め、メタノール:水(1:1)(600ml)で洗浄
し、乾燥して暗茶色固体(126.4g)を得る。粗生成物を塩化メチレン(60
0ml)でスラリー化し、塩化メチレン(150ml部)で2回洗浄し、乾燥し
て、(1aα,6β,10bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラ
ヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール(91.6
g、収率71%)を得る。 ガスクロマトグラフィー(GC)条件:JWサイエンティフィックDB−1、開
始温度150℃で5分間、10℃/分で昇温、最終温度250℃で5分間、tR :中間体11.5分;所望生成物(アルコール)11.9分;出発物質12.3
分。
b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテンの製造
1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテ
ン−6−オール(3.0g、11.6ミリモル、1.0当量)のスラリーを48
%HBr(1.58ml、14.0ミリモル、1.2当量)で処理し、反応物を
激しく攪拌しながら2.5時間加熱還流する。次いで、およそ9mlの蒸留液が
得られるまで、溶媒を大気蒸留にて除去する(bp95−98℃)。反応物を冷
却し、EtOAc(15ml)、Na2SO4および活性炭で処理する。混合物
を室温にて15分間攪拌し、ハイフロで濾過する。フィルターケーキをEtOA
c:ヘプタン(50:50)で洗浄し、濾液を減圧濃縮して標記生成物を結晶性
固体で得る。 mp119℃(3.46g corr.、93%)
b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテンの製造
α)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シ
クロプロパ[c]シクロヘプテン−6−オール(18.4g、71.2ミリモル)
の攪拌懸濁液に、三臭化リン(9.6g、35.6ミリモル)を15分にわたっ
て滴下する。冷却浴を取り外し、反応物を周囲温度で2時間攪拌する。ガスクロ
マトグラフィー分析により、出発物質の完全消費がわかる。冷水(92ml)お
よび活性炭(1.84g)を加え、得られる混合物を30分攪拌する。活性炭をハ
イフロブランドフィルターで濾去し、2相を分離する。有機相を水(2×184
ml)、食塩水(184ml)で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧濃縮
乾固して、(1aα,6α,10bα)−6−ブロモ−1,1−ジフルオロ−1,1a
,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン(2
1.7g、収率94.8%)を得る。
ドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−イル)ピペラジン・
ヒドロブロミド塩
1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロ
パ[c]シクロヘプテン(237.5g、0.739モル)の溶液に、ピペラジン(
207.7g、2.41モル)を加え、混合物を2時間加熱還流し、ガスクロマ
トグラフィー分析により(1aα,6α,10bα)−6−ブロモ−1,1−ジフル
オロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シク
ロヘプテン(iii)の完全消費ならびにシンおよびアンチピペラジン化合物(I
IIおよびIV)の混合物(アンチ:シン比=55:45である)の形成を確認
する。 反応物を約7℃に冷却し、その温度で30分攪拌する。反応混合物を濾過して、
沈澱したシン異性体(III)を除去し、フィルターケーキをアセトニトリル(2
50ml)で洗浄する。濾液と洗液を合わせ、減圧濃縮し、得られる泡状物(2
62.4g)をアセトニトリル(450ml)に加熱しながら溶解する。溶液を
氷浴にて約12℃に冷却し、その温度で1時間攪拌する。沈澱した式(III)の
シンピペラジン化合物を濾過し、アセトニトリル(125ml)で洗浄する。濾
液と洗液を合わせ、減圧濃縮して194.1を得、酢酸エチル(1.19L)に
溶解する。有機溶液を1N水酸化ナトリウム、水および飽和塩化ナトリウムそれ
ぞれ500mlにて連続して洗浄する。酢酸エチル溶液を乾燥(Na2SO4)
し、濃縮して、残渣(137.0g)を得、塩化メチレン(1.37L)に溶解し、
(1aα,6α,10bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒド
ロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−イル)ピペラジン・ヒ
ドロブロミド塩の種晶を入れ、次いで、臭化水素酸48%水溶液70.8gを加
える。混合物を約45分攪拌し、アンチ異性体をそのヒドロブロミド塩として結
晶化させる。結晶を濾過し、塩化メチレンで洗浄し、次いで、乾燥して、化合物
(IVa)の精製ヒドロブロミド塩(HPLCによるアンチ−シン比は99.3:
0.7)を得る。単離した化合物(IVa)のヒドロブロミド塩を水酸化ナトリウ
ム水溶液で処理し、塩化メチレンで抽出し、水層を分離し、濃縮乾固して、(1
aα,6α,10bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロ
ジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−イル)ピペラジン(80
.1g、出発物質からの収率33.2%)を遊離塩基として得る。前述の48%
臭化水素酸41.2を添加して、塩化メチレン(800ml)中の遊離塩基の溶
液を酸性化し、純粋なヒドロブロミド塩(標記化合物)(96.4g)(HPLC
によるアンチ−シン比は99.8:0.2)を得る。mp282−284℃。
ヒドロ−5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン−5−イル)ピペラジン−1−
イル]−3−キノリン−5−イルオキシ)−プロパン−2−オール・トリヒドロ
クロリドの製造 3Aエタノール(54ml)中の、(1aα,6α,10bα)−1,1−ジフル
オロ−6−[1−ピペラジニル]−1,1aa,6a,10ba−テトラヒドロジ
ベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン・ヒドロクロリド(5.41g
、14.9ミリモル)および粉末炭酸ナトリウム(3.16g、29.8ミリモ
ル)の懸濁液を周囲温度で1時間攪拌する。R−1−(5−キノリニルオキシ)−
2,3−エポキシプロパン(3.00g、14.9ミリモル)を1度に加え、反
応混合物を65℃で19時間加熱する。HPLC分析[溶媒A(アセトニトリル
)および溶媒B(0.1%トリエチルアミンを含む0.02Mのモノリン酸ナト
リウム緩衝液、リン酸でpH3.5に調節)を用いた以下の勾配システム:0〜
12分、溶媒A30%/溶媒B70%;12〜30分、溶媒A30〜55%/溶
媒B70〜45%の直線勾配;30〜35分、溶媒A55%/溶媒B45%;1
ml/分、l=240nm、Synchropak SCD−100 25cm
×4.6mmカラム]により、ピペラジニル化合物(IV)の全消費が示される。
混合物を室温まで冷却し、シリカゲルプラグを通して濾過し、さらにエタノール
(90ml)で溶離する。溶出液を濃縮して、約60mlの体積にし、攪拌しな
がら65℃に加熱する。HClのエタノール溶液(0.135g/gの溶液で1
6.1g、59.6ミリモル)を10分かけて滴下し、得られる生成物溶液に種
晶を入れ、トリヒドロクロリド塩を沈澱させる。混合物を周囲温度まで冷却し、
ゆっくりと(100rpm以下)2時間攪拌する。沈澱を濾過し、エタノールで
洗浄し、50℃で減圧乾燥して、粗トリヒドロクロリド塩を得、これをメタノー
ル/酢酸エチルから再結晶してさらに精製し、(2R)−アンチ−1−[4−(10
,11−ジフルオロメタノ−10,11−ジヒドロ−5H−ジベンゾ[a,d]シ
クロヘプテン−5−イル)ピペラジン−1−イル]−3−キノリン−5−イルオキ
シ)−プロパン−2−オール・トリヒドロクロリド(7.45g、収率78.4
%)を得る。
ン異性体化合物を用いて、以下に示すように本質的にステップ6のアンチ異性体
(IVa)の遊離塩基についての記載にしたがって、対応するシン−5−[3−[4
−(10,11−ジフルオロメタノジベンゾスベル−5−イル)ピペラジン−1−
イル]−2−ヒドロキシプロポキシ]キノリン・トリヒドロクロリド(III)を製
造することができる。
について得られた実験結果の代表的サンプルを以下の表1に示す。 表1
ン酸である。 **)混合物から回収されたシン異性体塩の収率。シンメシレート塩のエタノ
ールへの溶解度がより小さいために、メタンスルホン酸(メシレート)塩は逆の
溶解度を示した。
,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン−
6−オール化合物および式(iii)のアンチ異性体(1aα,6α,10bα)−6
−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e
]シクロプロパ[c]シクロヘプテン化合物の使用を上記に説明したが、本発明は
これらによって限定されるものではない。当業者であれば、(1aα,6α,10
bα)−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]
シクロプロパ[c]シクロヘプテン−6−イル)ピペラジン化合物(II)の形成を
、式(iii)のシン異性体(1aα,6β,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフル
オロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シク
ロヘプテンまたはトランス異性体(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−
ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[
c]シクロヘプテン化合物のいずれかを用いて可能であることを承知している。
このことは、式(iii)の化合物から式(II)の化合物の形成における、ジフル
オロメタノジベンゾスベラントロピリウムイオン中間体によって可能となる。
ール化合物の使用が、本発明の実施において決定的なものではないことを承知し
ている。対応するアンチ−ジフルオロメタノジベンゾスベロール化合物も同等に
有効である。このことは、アンチ異性体(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1
,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプ
ロパ[c]シクロヘプテン(iii)およびシン異性体(1aα,6β,10bα)−6
−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e
]シクロプロパ[c]シクロヘプテンの形成が、本発明方法によって、ブロミドの
場合、好ましくは式(iii)のアンチ異性体化合物を提供する対応するトロピリ
ウムイオン中間体を介して進行するからである。
Claims (9)
- 【請求項1】 式(IVa): 【化1】 [式中、HXは酸である] の化合物の製造方法であって、 (a)式(II): 【化2】 の化合物をアセトニトリルに溶解して、溶液を形成し; (b)(II)の溶液から式(III): 【化3】 のシン立体異性体化合物を結晶化し; (c)濾液からアセトニトリルを除去して、式(IV): 【化4】 のアンチ立体異性体化合物に富んだ混合物を得; (d)酸および塩化メチレン、エタノールおよび酢酸エチルからなるグループか
ら選ばれる溶媒を該富んだ混合物に加え;次いで (e)式(IVa)のアンチ立体異性体化合物を結晶化する; ステップを含む方法。 - 【請求項2】 HXが、塩酸、臭化水素酸、樟脳スルホン酸、p−トルエン
スルホン酸および硫酸からなるグループから選ばれる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 HXが、塩酸である請求項1記載の方法。
- 【請求項4】 (a)遊離塩基としてのアンチ立体異性体(IVa)を(R)−1
−(5−キノリニルオキシ)−2,3−エポキシプロパンと反応させて、式(V): 【化5】 の化合物を得;次いで (b)必要に応じて、塩化水素を化合物(V)と反応させて、式(I): 【化6】 の化合物を形成する; ステップをさらに含む請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 式(IIIa): 【化7】 [式中、HXは酸である] の化合物の製造方法であって、 (a)式(II): 【化8】 の化合物をアセトニトリルに溶解して、溶液を形成し; (b)式(III): 【化9】 のシン立体異性体化合物を結晶化し; (c)酸および塩化メチレン、エタノールおよび酢酸エチルからなるグループか
ら選ばれる溶媒をシン立体異性体(III)に加え;次いで (d)式(IIIa)のシン立体異性体化合物を結晶化する; ステップを含む方法。 - 【請求項6】 (a)シン立体異性体(III)を(R)−1−(5−キノリニル
オキシ)−2,3−エポキシプロパンと反応させて、シン立体異性体(XI): 【化10】 の化合物を得;次いで (b)必要に応じて、塩化水素を化合物(XI)と反応させて、式(XII): 【化11】 の化合物を形成する; ステップをさらに含む請求項5記載の方法。 - 【請求項7】 式(IVa): 【化12】 [式中、HXは、塩酸、臭化水素酸、樟脳スルホン酸、p−トルエンスルホン酸
および硫酸からなるグループから選ばれる酸である] の化合物。 - 【請求項8】 式(IIIa): 【化13】 [式中、HXは、塩酸、臭化水素酸、樟脳スルホン酸、p−トルエンスルホン酸
および硫酸からなるグループから選ばれる酸である] の化合物。 - 【請求項9】 式(IVa): 【化14】 の製造方法であって、 (a)式: 【化15】 の10,11−ジベンゾスベレノンを1つの操作ステップで式(ii): 【化16】 のアルコールに変換し; (b)アルコール(ii)をハロゲン化剤と反応させて、式(iii): 【化17】 [式中、Xは、I、BrまたはCl] の(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1a,6,10b
−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテンを形成し; (c)溶媒中、(1aα,6α,10bα)−6−ハロ−1,1−ジフルオロ−1,1
a,6,10b−テトラヒドロジベンゾ[a,e]シクロプロパ[c]シクロヘプテン(
iii)をピラジンと反応させて、シン(III): 【化18】 とアンチ(IV): 【化19】 ピペラジン化合物の混合物を形成し;次いで (d)式(IV)の化合物から式(III)の化合物を分離する; ステップを含む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13728499P | 1999-06-03 | 1999-06-03 | |
US60/137,284 | 1999-06-03 | ||
PCT/US2000/011863 WO2000075132A1 (en) | 1999-06-03 | 2000-05-30 | Process for preparing a 10,11-methanodibenzosuberane derivative |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003501425A true JP2003501425A (ja) | 2003-01-14 |
JP2003501425A5 JP2003501425A5 (ja) | 2006-08-17 |
Family
ID=22476646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001502415A Pending JP2003501425A (ja) | 1999-06-03 | 2000-05-30 | 10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体の製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6570016B1 (ja) |
EP (1) | EP1198462B1 (ja) |
JP (1) | JP2003501425A (ja) |
AT (1) | ATE277922T1 (ja) |
AU (1) | AU5125200A (ja) |
CA (1) | CA2375283A1 (ja) |
DE (1) | DE60014386T2 (ja) |
ES (1) | ES2228534T3 (ja) |
PE (1) | PE20010291A1 (ja) |
WO (1) | WO2000075132A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6207392B1 (en) * | 1997-11-25 | 2001-03-27 | The Regents Of The University Of California | Semiconductor nanocrystal probes for biological applications and process for making and using such probes |
US6570016B1 (en) * | 1999-06-03 | 2003-05-27 | Eli Lilly And Company | Process for preparing a 10,11-methanodibenzosuberane derivative |
WO2002087581A1 (en) * | 2001-04-25 | 2002-11-07 | Eli Lilly And Company | Novel salt and crystalline forms of (2r)-anti-5-{3-[4-(10,11-difluoromethanodibenzosuber-5-yl)piperazin-1-yl]-2-hydroxypropoxy}quinoline |
ATE489482T1 (de) * | 2005-08-19 | 2010-12-15 | Nanosphere Inc | Verfahren zur herstellung von hybridsubstraten mit dna und antikörpern sowie verwendungen davon |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157472A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-06-03 | Bristol Myers Squibb Co | ジフェニルオキサゾール、チアゾールおよびイミダゾールのアデノシン再吸収阻害誘導体 |
JPH08509223A (ja) * | 1993-04-19 | 1996-10-01 | シンテックス(ユー・エス・エイ)・インコーポレイテッド | 化学的鋭敏化剤として使用される10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体類 |
WO1997048689A1 (en) * | 1996-06-17 | 1997-12-24 | Eli Lilly And Company | Drug resistance and multidrug resistance modulators |
JPH10504324A (ja) * | 1995-06-07 | 1998-04-28 | デイド、ケミストリー、システムズ、インコーポレイテッド | 薬物の免疫原その他の接合体の製造 |
WO1998022112A1 (en) * | 1996-11-22 | 1998-05-28 | Eli Lilly And Company | Drug resistance and multidrug resistance modulators |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI267511B (en) * | 1999-06-03 | 2006-12-01 | Lilly Co Eli | Process for preparing 10,11-methanobenzosuberane derivatives |
US6570016B1 (en) * | 1999-06-03 | 2003-05-27 | Eli Lilly And Company | Process for preparing a 10,11-methanodibenzosuberane derivative |
-
2000
- 2000-05-30 US US09/979,598 patent/US6570016B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-30 JP JP2001502415A patent/JP2003501425A/ja active Pending
- 2000-05-30 CA CA002375283A patent/CA2375283A1/en not_active Abandoned
- 2000-05-30 EP EP00935852A patent/EP1198462B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-30 AT AT00935852T patent/ATE277922T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-05-30 WO PCT/US2000/011863 patent/WO2000075132A1/en active IP Right Grant
- 2000-05-30 AU AU51252/00A patent/AU5125200A/en not_active Abandoned
- 2000-05-30 DE DE60014386T patent/DE60014386T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-30 ES ES00935852T patent/ES2228534T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-01 PE PE2000000540A patent/PE20010291A1/es not_active Application Discontinuation
-
2003
- 2003-03-03 US US10/378,436 patent/US6624304B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157472A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-06-03 | Bristol Myers Squibb Co | ジフェニルオキサゾール、チアゾールおよびイミダゾールのアデノシン再吸収阻害誘導体 |
JPH08509223A (ja) * | 1993-04-19 | 1996-10-01 | シンテックス(ユー・エス・エイ)・インコーポレイテッド | 化学的鋭敏化剤として使用される10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体類 |
JPH10504324A (ja) * | 1995-06-07 | 1998-04-28 | デイド、ケミストリー、システムズ、インコーポレイテッド | 薬物の免疫原その他の接合体の製造 |
WO1997048689A1 (en) * | 1996-06-17 | 1997-12-24 | Eli Lilly And Company | Drug resistance and multidrug resistance modulators |
WO1998022112A1 (en) * | 1996-11-22 | 1998-05-28 | Eli Lilly And Company | Drug resistance and multidrug resistance modulators |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
JPN6009057967, Erzsedet Zara−Kaczian, "Synthesis of 1−Aryl−1,4−Dihydro−3(2H)−IsoQuinolines with Piperazine Ring in the Side Chain Having Po", Acta Chim. Hung., 1990, Vol.127, p.607−627 * |
JPN6009057969, Hana Hulinska, "Experimental Antiulcer Agents: N−Substituted 2−(4−Methyl−1−Piperazinyl)Acetamides as Pirenzepine Mod", Collection Czechoslovak Chem. Commun., 1988, Vol.53, p.1820−1844 * |
JPN6009066435, J. R. Pfister, "Methanodibenzosuberarylpiperazines as Potent Multidrug Resistance Reversal Agents", Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 1995, Vol.5(21), p.2473−2476 * |
JPN6009066436, 社団法人 日本化学会, 第4版 実験化学講座 基本操作I, 1990, p.184−186, 丸善株式会社 * |
JPN6009066438, 中西 香爾, モリソンボイド 有機化学(上) 第6版, 1994, p.204−207, 東京化学同人 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6570016B1 (en) | 2003-05-27 |
WO2000075132A1 (en) | 2000-12-14 |
AU5125200A (en) | 2000-12-28 |
DE60014386T2 (de) | 2005-10-13 |
ES2228534T3 (es) | 2005-04-16 |
EP1198462A1 (en) | 2002-04-24 |
US6624304B1 (en) | 2003-09-23 |
EP1198462B1 (en) | 2004-09-29 |
DE60014386D1 (de) | 2004-11-04 |
CA2375283A1 (en) | 2000-12-14 |
PE20010291A1 (es) | 2001-03-07 |
ATE277922T1 (de) | 2004-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7977337B2 (en) | Quinoline derivatives and their use as 5-HT6 ligands | |
US6087365A (en) | 10,11-methanodibenzosuberane derivatives | |
EP0315828B1 (en) | Quinolinecarboxylic acid derivatives | |
IL182439A (en) | Intermediates useful for the preparation of aripiprazole and methods for the preparation of the intermediates and aripiprazole | |
CA2679059A1 (en) | Process for preparing isomers of carmoterol | |
JP2003501425A (ja) | 10,11−メタノジベンゾスベラン誘導体の製造方法 | |
JPS6243992B2 (ja) | ||
JPS60248672A (ja) | ロイコトリエンおよびリポキシゲナーゼ抑制剤としての5,6,7,8‐テトラヒドロキノリン類および5,6‐ジヒドロピリンジン類の使用法およびそれらの新規3位置換化合物 | |
CA1088059A (en) | Piperazinyl and homopiperazinyl quinazolines | |
EP2081907B1 (en) | Aryl piperazine derivatives useful for the treatment of neuropsychiatry disorders | |
NZ248343A (en) | Quinolin-2-yl-methoxyphenylacetic acid derivatives and medicaments | |
JPS6368568A (ja) | p−アミノフエノ−ル誘導体 | |
KR100692351B1 (ko) | 10,11-메타노벤조수베란 유도체의 제조 방법 | |
CA2084162A1 (en) | Quinolylmethoxyphenyl-acetamides | |
WO1997006145A1 (fr) | Derives de fusion de l'indane et leurs sels | |
WO2021208850A1 (zh) | 硝基咪唑类衍生物及其制备方法和用途 | |
JP2024012261A (ja) | ヘキサン酸、6-(ニトロオキシ)-、(1s,2e)-3-[(1r,2r,3s,5r)-2-[(2z)-7-(エチルアミノ)-7-オキソ-2-ヘプテン-1-イル]-3,5-ジヒドロキシシクロペンチル]-1-(2-フェニルエチル)-2-プロペン-1-イル エステルの調製のための工業的方法及び高純度生成物 | |
JPH05339234A (ja) | ヘキサヒドロインデノ〔1,2−b〕ピロール誘導体 | |
JPH09278773A (ja) | オキセピノール誘導体の製造方法 | |
WO2019073481A1 (en) | PROCESS FOR THE PREPARATION OF BREXPIPRAZOLE AND ITS INTERMEDIATES | |
JPS628114B2 (ja) | ||
JPH05247008A (ja) | ナフトキノン誘導体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060530 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060627 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100615 |