JP2003344732A

JP2003344732A - 光ファイバ集合体被覆装置及び光ファイバリボン製造方法

Info

Publication number: JP2003344732A
Application number: JP2002149822A
Authority: JP
Inventors: Koji Saito; 孝司齋藤; Shigeki Yasui; 繁騎安井; Hideaki Sato; 英明佐藤; Masahiro Araida; 雅浩新井田
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 2002-05-23
Filing date: 2002-05-23
Publication date: 2003-12-03

Abstract

(57)【要約】【課題】複数本の光ファイバ素線を平面状に並べた光
ファイバ集合体を被覆して光ファイバリボンを製造する
際に、紫外線硬化樹脂を塗布する部分のニップルへダス
トを堆積させず、紫外線塗布部分への悪影響を回避し品
質を安定化させる。【解決手段】光ファイバ集合体被覆装置１０は、ニッ
プル１２、樹脂溜部１４、及び成形ダイス１５を備え、
ニップル１２の前段にサブニップル１１を配設してい
る。サブニップル１１は、ニップル１２の貫通孔である
ニップル孔１２ａと同程度のクリアランスをもつ貫通孔
であるサブニップル孔１１ａをもち、サブニップル孔１
１ａにて、光ファイバ集合体１の光ファイバ素線１ａ〜
１ｄに付着するダスト２を取り除く。装置１０にて光フ
ァイバ集合体１に紫外線硬化樹脂を塗布し、その後、紫
外線硬化ランプで樹脂を硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ集合体
被覆装置及び光ファイバリボン製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ファイバリボンは、複数本の光ファイ
バ素線を平面状に並べた光ファイバ集合体を、紫外線硬
化樹脂からなる被覆層で一体化してテープ状にしたもの
で、光ファイバテープ心線とも呼ばれている。図１０
は、光ファイバリボンの形状を示す断面図で、図中、１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄは光ファイバ素線、３は光ファイ
バリボン、３ａは紫外線硬化樹脂である。光ファイバリ
ボン３は、ガラスの棹ファイバを保護層で覆った光ファ
イバ素線１ａ〜１ｄ（心線数を４本として図示）を平面
状に並べ、それらを紫外線硬化樹脂３ａで一体的に被覆
してなる。

【０００３】図１１は光ファイバリボン製造装置の一例
を示す概略図で、図中、４０は光ファイバリボン製造装
置、４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄは光ファイバ素線
供給リール、４２は集線ローラ、５０は光ファイバ集合
体被覆装置（以下、クロスヘッドという）、４３は紫外
線硬化ランプなどで構成される紫外線照射炉、４４はリ
ボン巻取リール（巻取機）である。

【０００４】光ファイバリボン製造装置４０において
は、光ファイバ素線供給リール４１ａ〜４１ｄにて夫々
供給された光ファイバ素線１ａ〜１ｄを、集線ローラ４
２で集線し、クロスヘッド５０にて紫外線硬化樹脂の被
覆を施し、紫外線照射炉４３で紫外線を照射して硬化さ
せ光ファイバリボン３を生成し、生成した光ファイバリ
ボン３をリボン巻取リール４４で巻き取っている。

【０００５】図１２は図１１の光ファイバリボン製造装
置におけるクロスヘッドを示す断面図で、図１２（Ａ）
はその概略図、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）の点線で囲
む部分Ｂの拡大図である。また、図１３は図１２のクロ
スヘッドにおいて光ファイバ素線を通す穴の一例を示す
図で、図１３（Ａ）はニップルの形状を、図１３（Ｂ）
は成形ダイスの形状を夫々示している。図１２，図１３
中、１は光ファイバ集合体、２はダスト、５２はニップ
ル、５２ａはニップル孔、５３は紫外線硬化樹脂供給路
（以下、樹脂供給路と略す）、５４は紫外線硬化樹脂溜
部（以下、樹脂溜部と略す）、５５は成形ダイス、５５
ａは成形孔、５６，５７はスリーブである。

【０００６】光ファイバ被覆用のクロスヘッド５０は、
光ファイバ素線１ａ〜１ｄの集合体である光ファイバ集
合体１に紫外線硬化樹脂を塗布する手段であり、ニップ
ル５２、成形ダイス５５、及び紫外線硬化樹脂溜部（以
下、樹脂溜部と略す）５４をその主たる構成要素とす
る。ニップル５２は、光ファイバ集合体１を被覆するた
めに樹脂溜部５４に導入するトラック状の貫通孔である
ニップル孔５２ａを有し、成形ダイス５５も同程度の貫
通孔である成形孔５５ａ（ニップル孔５２ａと光ファイ
バ集合体１を通す方向に平行）を有している。樹脂溜部
５４では、ニップル５２を介して導入された光ファイバ
集合体１に対し一体的に紫外線硬化樹脂を塗布する。成
形孔５５ａでは、樹脂溜部５４で光ファイバ集合体１に
塗布された紫外線硬化樹脂を成形して、成形後の光ファ
イバ集合体３（樹脂部分を３ａで示す）を導出する。成
形ダイス５５及びニップル５２は、スリーブ５６，５７
などから構成された基台に配設され、成形ダイス５５と
ニップル５２の間に樹脂溜部５４が形成されている。な
お、樹脂供給路５３は樹脂溜部５４に紫外線硬化樹脂を
供給する流路である。成形ダイス５５により導出された
成形後の光ファイバ集合体３の周りの紫外線硬化樹脂３
ａは、後段の紫外線照射炉４３で紫外線を照射すること
で硬化し、結果として、光ファイバ素線１ａ〜１ｄを平
面状に並べた光ファイバ集合体１を一体的に被覆して光
ファイバリボンを製造することが可能となる。

【０００７】以下に、上述のごとき光ファイバリボンの
製造方法を踏襲した他の従来技術を例示する。本出願人
による特開昭６３−２１６０１２号公報には、偏肉調整
を不要とし、さらにファイバ素線の配列の乱れを抑える
ことが可能な光テープ型ユニット（光ファイバリボン）
の製造方法が記載されている。同公報においては、図１
１のように、クロスヘッド５０と紫外線照射炉４３とを
縦方向に配置し、被覆層の被覆・硬化工程を鉛直のパス
ラインで行うことで、光ファイバ素線がパスライン走行
中に懸垂状態を描くことを防止している。

【０００８】また、特許第３０２５０４５号公報には、
光ファイバ素線の径にバラツキがある場合にも配列不良
などを生じることのない光ファイバテープ心線の製造方
法が記載されている。同公報においては、ダイス孔の巾
寸法を常時可変としうるダイススポットを用いて光ファ
イバテープ心線を製造している。

【０００９】また、特開平０５−２２１６９４号公報に
は、光ファイバ素線間に存在する空気に起因して生ずる
気泡が被覆層中に残ることを極少にし、温度特性の優れ
た光ファイバテープ心線を得られるようにした光ファイ
バテープ心線の製造方法が記載されている。同公報にお
いては、コーティングダイスに複数の方形状のニップル
孔を形成し、これらニップル孔のそれぞれに、平行かつ
一列に並べた複数本の光ファイバ素線を単心入線してコ
ーティングダイス内に導入し、このコーティングダイス
内に供給される被覆材で上記光ファイバ素線をテープ状
に一括被覆した後、硬化装置にて上記被覆材を硬化させ
て光ファイバテープ心線としている。

【００１０】さらに、特開平０６−６３４８３号公報に
は、多芯、特に５芯以上の光ファイバテープ心線を一括
被覆して製造する際に、複数本の光ファイバ素線の配列
状態に乱れがなく、正しい、整列状態が保持された光フ
ァイバテープ心線が製造できる樹脂被覆用ダイスが記載
されている。同公報においては、樹脂溜部とダイス部と
から構成されるコート部を２以上直列に設け、光ファイ
バ素線の入線側のダイス部の開口寸法を出線側のダイス
部の開口寸法よりも小さくしている。

【００１１】上述のごとく、光ファイバリボンの製造に
ついては、所定寸法のニップルと成形ダイスを組み合わ
せたクロスヘッドで紫外線硬化樹脂を塗布し、硬化ラン
プで硬化させる製造方法が主となっている。しかしなが
ら、光ファイバ及び光ファイバリボン製造の工程中、光
ファイバは高速で製造ラインを走ることからその動摩擦
による静電気で大気中のダスト（塵，埃，ゴミ等）を自
身の表面へ吸着させる特性があるため、光ファイバがニ
ップルを通過する際、静電気でファイバ表面に吸着した
大気中のダストがニップル部に堆積し、光ファイバリボ
ンの寸法異常や伝送特性を悪化させることがしばしばあ
る。

【００１２】図１４は、使用前後のニップルの内面の様
子を説明するための図で、図１４（Ａ）は使用前のニッ
プル内面の状態を、図１４（Ｂ）は使用後ニップル内面
の状態を夫々示している。なお、図１４（Ｂ）は、図１
２（Ｂ）で示すニップル部ダスト堆積の様子の上面図で
もある。光ファイバ素線１ａ〜１ｄをリボン化する工程
では光ファイバの断面配列を所定の範囲で整列させる必
要があり、ファイバの整列性を確保するためにニップル
孔５２ａとのクリアランスがより小さいことが望まし
く、一般的にそのような構成となっている。しかしなが
ら、クリアランスが小さいために、光ファイバ素線１ａ
〜１ｄ上に吸着したダスト２がニップル５２の入口部で
堆積してくる。ダスト２が堆積すると、光ファイバ素線
１ａ〜１ｄの通過抵抗が変化し、光ファイバ素線１ａ〜
１ｄの張力バランスを崩し、伝送特性の悪化を招くこと
がある。また、紫外線硬化樹脂の流れが変化し、気泡混
入も頻繁に発生し、気泡混入による伝送特性悪化をも招
く。さらに、ダストの堆積により光ファイバ素線１ａ〜
１ｄの断面配列が崩れることもある。

【００１３】ニップル部へのダスト堆積量が増大した場
合、若しくは鋭利なダストが堆積した場合には、光ファ
イバを傷つけ断心させることとなる。これは、光ファイ
バが伸び方向には強い剛性を示すが、ニップル内へ硬質
又は鋭利なダストが堆積し応力が集中するような径方向
への外力集中時には弱いためである。

【００１４】図１５は、ニップル部に堆積したダストが
流れ出て光ファイバリボン内に混入した様子を示す図
で、図中、２ａはニップルに堆積し流れ出たダスト（気
泡を含む）を示している。ニップル部５２へ堆積したダ
スト２は、その量が多くなった場合など、しばしばニッ
プル５２を通り抜け、ニップル孔５２ａより寸法が大き
い孔をもつ成形ダイス５５をも容易に通り抜け、成形後
の光ファイバ集合体３内、すなわち光ファイバリボン内
へ混入し、混入した状態でリボン化がなされることがあ
る。その混入ダスト２ａは、リボン寸法異常、外観の異
常、伝送特性の悪化を招き、さらには断線を発生させる
ことがある。

【００１５】上述した現象は、製造するリボン長が長く
なればなるほど多く生じ、堆積するダストは増加してリ
ボン内への混入頻度は増加する。そのため、現状では、
所定長で一時リボン化を中断し、ニップルの清掃を実施
しながらリボン化を実施しており、生産性悪化の原因と
もなっている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のごと
き実状に鑑みてなされたものであり、複数本の光ファイ
バ素線を平面状に並べた光ファイバ集合体を被覆して光
ファイバリボンを製造する際に、紫外線硬化樹脂を塗布
する部分のニップルへダストを堆積させず、紫外線塗布
部分への悪影響を回避し品質を安定化させ、従来方式に
よって生ずる伝送特性異常や形状異常、さらにはファイ
バ断心などの問題を大幅に改善することが可能な、光フ
ァイバ集合体被覆装置及び光ファイバリボン製造方法を
提供することをその目的とする。

【００１７】また、本発明は、所定長で一時リボン化を
中断することなく、ニップルの清掃を実施しながらリボ
ン化を実施して、生産性を向上させることが可能な、光
ファイバ集合体被覆装置及び光ファイバリボン製造方法
を提供することを他の目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の光ファイバ集合
体被覆装置は、複数本の光ファイバ素線を平面状に並べ
た光ファイバ集合体を被覆するために、光ファイバ集合
体を導入するニップル孔をもつニップルと、ニップルか
ら導入された光ファイバ集合体に対し一体的に紫外線硬
化樹脂を塗布するための樹脂溜部と、樹脂溜部で光ファ
イバ集合体に塗布された紫外線硬化樹脂を成形する成形
孔をもつ成形ダイスとを有し、さらに、ニップルの前段
に、光ファイバ集合体を導入し光ファイバ素線に付着す
るダストを取り除くダスト除去用のサブニップル孔をも
つサブニップルを１又は複数配設したことを特徴として
いる。

【００１９】本発明の光ファイバリボン製造方法は、複
数本の光ファイバ素線を平面状に並べた光ファイバ集合
体をニップルのニップル孔に導入し、導入された光ファ
イバ集合体に対し一体的に紫外線硬化樹脂を塗布し、塗
布された紫外線硬化樹脂を成形ダイスで成形し、成形さ
れた光ファイバ集合体周りの紫外線硬化樹脂を紫外線硬
化炉で硬化させることで、光ファイバリボンを製造する
光ファイバリボン製造方法において、ニップルの前段に
配設されたダスト除去用のサブニップル孔をもつ１又は
複数のサブニップルに対し、光ファイバ集合体を導入
し、光ファイバ素線に付着するダストを取り除いた後
に、ニップル孔に光ファイバ集合体を導入することを特
徴としている。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る光ファイバ集合体被覆装置の一例を示す図である。図
２は図１のニップル及びサブニップルの孔形状を説明す
るための図で、図２（Ａ）はサブニップルの孔形状を示
す図、図２（Ｂ）はニップルの孔形状を示す図、図２
（Ｃ）はサブニップルの孔形状の他の例を示す図であ
る。図１，図２中、１０は光ファイバ集合体被覆装置
（以下、クロスヘッドという）、１１はサブニップル、
１１ａはサブニップル孔、１２はニップル、１２ａはニ
ップル孔、１３は紫外線硬化樹脂供給路（以下、樹脂供
給路と略す）、１４は紫外線硬化樹脂溜部（以下、樹脂
溜部と略す）、１５は成形ダイス、１５ａは成形孔であ
る。

【００２１】クロスヘッド１０は、紫外線硬化樹脂を塗
布するダイス・ニップルの前段に少なくとも１つ以上の
サブニップルを配設しており、複数段のニップルを用い
る方式を採用している。なお、クロスヘッド１０は、図
１１におけるクロスヘッド５０の代わりに備えられ、光
ファイバリボン製造装置を構成することが可能なもので
ある。

【００２２】クロスヘッド１０は、光ファイバ素線１ａ
〜１ｄの集合体である光ファイバ集合体１に紫外線硬化
樹脂を塗布する手段であり、ニップル１２、樹脂溜部１
４、及び成形ダイス１５を備え、ニップル１２の前段
に、サブニップル１１を配設している。ニップル１２
は、光ファイバ集合体１を被覆するために、光ファイバ
集合体１を樹脂溜部１４に導入するトラック状の貫通孔
であるニップル孔１２ａ（図２（Ｂ）参照）を有し、成
形ダイス１５も同程度の貫通孔である図１３（Ｂ）のご
とき成形孔１５ａを有している。サブニップル１１は、
光ファイバ集合体１をニップル１２に導入するための貫
通孔であるサブニップル孔１１ａ（図２（Ａ）参照）を
有している。サブニップル孔１１ａは、ニップル１２の
前段に設けることにより、光ファイバ集合体１の光ファ
イバ素線１ａ〜１ｄに付着するダストを取り除くための
ダスト除去用の孔として機能する。

【００２３】樹脂溜部１４では、サブニップル１１及び
ニップル１２を経て導入された光ファイバ集合体１に対
し紫外線硬化樹脂を塗布する。成形孔１５ａでは、樹脂
溜部１４で光ファイバ集合体１に塗布された紫外線硬化
樹脂を成形して、成形後の光ファイバ集合体３（樹脂成
形部分を３ａで示す）を導出する。成形ダイス１５、ニ
ップル１２、及びサブニップル１１は、図１２で示した
ものと同様のスリーブなどから構成された基台に配設さ
れ、成形ダイス１５とニップル１２の間に樹脂溜部１４
が形成され、それらの前段にサブニップル１１が配設さ
れている。なお、樹脂供給路１３は樹脂溜部１４に紫外
線硬化樹脂を供給する流路である。成形ダイス１５によ
り成形された光ファイバ集合体３の周りの紫外線硬化樹
脂３ａは、後段の紫外線照射炉で紫外線を照射すること
で硬化する。この結果、複数本の光ファイバ素線を平面
状に並べた光ファイバ集合体１は、紫外線硬化樹脂３ａ
により一体的に被覆され光ファイバリボンとなる。

【００２４】上述のクロスヘッドにより製造された光フ
ァイバリボンは、ニップルの前段に少なくとも１個以上
を設置したサブニップルにより、光ファイバ集合体上の
ダストが事前に捕捉され紫外線硬化樹脂を塗布する部分
のニップルへダストを堆積させずに済むため、紫外線塗
布部分への悪影響を回避し品質を安定化させたものとな
る。すなわち、この光ファイバリボンは、従来方式によ
って生ずる伝送特性異常や形状異常、さらにはファイバ
断心などの問題を大幅に改善したものとなる。

【００２５】図１及び図２で示したようにニップル孔を
光ファイバ集合体に対して１つとした場合、すなわちニ
ップル１２のニップル孔が１つのものについては、次の
条件を満たすサブニップルの孔形状を採用することが好
ましい。すなわち、サブニップル孔１１ａの厚み方向
（光ファイバ集合体の厚み方向、すなわち生成する光フ
ァイバリボンの厚み方向）の寸法Ｔｓをニップル孔１２
ａの厚み方向寸法Ｔｍの１.０〜１.１倍とし、且つ、サ
ブニップル孔１１ａの幅方向（光ファイバ集合体の幅方
向、すなわち生成する光ファイバリボンの幅方向）の寸
法Ｗｓをニップル孔１２ａの幅方向寸法Ｗｍの１.０〜
１.１倍とする。

【００２６】ニップル１２のニップル孔１２ａが一つの
場合に、上述のごとき条件を満たすサブニップル１１を
採用することにより、サブニップル１１にてメインとな
るニップル１２の前段で事前により多くのダストを捕捉
することが可能であり、紫外線硬化樹脂を塗布する部分
への直接的なダスト堆積がさらに改善される。

【００２７】また、サブニップルの孔形状の例として、
図２（Ｃ）に示すように、サブニップル１１′のサブニ
ップル孔１１ａ′が、光ファイバ集合体１における各光
ファイバ素線間に相当する部分を突出させた形状（突出
部１１ｂ′）をもつようにしてもよい。各突出部１１
ｂ′は光ファイバ集合体１の各凹部に対峙することとな
る。

【００２８】図３は、本発明の他の実施形態に係る光フ
ァイバ集合体被覆装置の一例を示す図である。図４は図
３のニップル及びサブニップルの孔形状を説明するため
の図で、図４（Ａ）はサブニップルの孔形状を示す図、
図４（Ｂ）はニップルの孔形状を示す図である。図３，
図４中、２０はクロスヘッド、２１はサブニップル、２
１ａはサブニップル孔、２２はニップル、２２ａ，２２
ｂはニップル孔、２３は樹脂供給路、２４は樹脂溜部、
２５は成形ダイス、２５ａ，２５ｂは成形孔である。

【００２９】図３及び図４で例示する実施形態は、ニッ
プル孔を光ファイバ集合体に対して複数とした場合、す
なわちニップル２２のニップル孔が複数のものについて
も、前段でダスト２を捕捉するためのものである。図３
及び図４では光ファイバ集合体１を光ファイバ素線１
ａ，１ｂのグループと光ファイバ素線１ｃ，１ｄのグル
ープの２グループのに分けて被覆する場合を例として示
している。本実施形態に係るサブニップル孔の条件とし
て、サブニップル孔２１ａの厚み方向の寸法Ｔｓをニッ
プル孔２２ａ，２２ｂの厚み方向寸法Ｔｍの１.０〜１.
１倍とし、且つ、サブニップル孔２１ａの幅方向の寸法
Ｗｓを複数（ここでは２つ）のニップル孔２２ａ，２２
ｂの全体の幅方向寸法（Ｗｍ＋Ｐ＋Ｗｍとして図示）の
１.０〜１.１倍とする。後者の条件は、図４（Ｂ）で示
すような同じ形状をもつ複数のニップル孔（図では２つ
の孔２２ａ，２２ｂ）に対しては、ニップル孔一つあた
りの幅方向寸法をＷｍ、孔間のピッチをＰ、孔数をｎと
して、｛ｎ×Ｗｍ＋Ｐ（ｎ−１）｝の１.０〜１.１倍の
幅寸法であるともいえる。なお、成形ダイス２５もニッ
プル２２と同様の孔２５ａ，２５ｂをもつものとする。
また、ニップル孔が複数の場合にも、サブニップルに図
２（Ｃ）に示すような突出部をもたせてもよい。

【００３０】ニップル１２のニップル孔が複数の場合に
も、上述のごとき条件を満たすサブニップル１１を採用
することにより、サブニップル１１にてメインとなるニ
ップルの前段で事前により多くのダストを捕捉すること
が可能であり、紫外線硬化樹脂を塗布する部分への直接
的なダスト堆積がさらに改善される。なお、図４（Ｂ）
のニップル２２の形状と同様の２孔をもつサブニップル
を採用してもよいことは言及するまでもない。

【００３１】図５は、本発明における光ファイバ集合体
被覆装置に用いるサブニップルの一例を示す概略図で、
図５（Ａ）はその上面図、図５（Ｂ）はその分割方向で
の断面図である。図中、３１はサブニップル、３１ａは
サブニップル孔、３１ｂは半割部分である。

【００３２】図１乃至図４で示した各実施形態における
サブニップルは、ダスト捕捉を主目的として設置するも
のであり、リボンの形状を制御する樹脂圧力やファイバ
配列を整列させる精度には直接関与するものではないた
め一体型である必要はない。このため、図５に示すよう
にサブニップル３１を半割部分３１ｂでニ分割しサブニ
ップル孔３１ａを開放できる半割構造とすることが好ま
しい。ニップルの前段に配置するサブニップルでダスト
を捕捉し紫外線塗布部分への悪影響を回避し品質を安定
化させることに加えて、そのサブニップルを半割型とす
ることでファイバを切断せずにサブニップルを定期的に
清掃し再セットすることが可能で、清掃に要する設備停
止時間を最小限とし段取りを比較的短時間にできる。す
なわち、捕捉したダストを定期的に確実に除去すること
及びファイバを無切断で連続運転することが可能とな
る。

【００３３】図６はサブニップルの分割方向の違いによ
る光ファイバ素線の外傷具合の差を説明するための図
で、図６（Ａ）はサブニップル厚み方向半割の場合、図
６（Ｂ）はサブニップル幅方向半割の場合の夫々ズレが
ないときの様子を説明するための図である。また、図７
はサブニップルの半割部分のズレによる光ファイバ素線
の外傷具合を図６と比較して説明するための図で、図７
（Ａ）はサブニップル厚み方向半割の場合、図７（Ｂ）
はサブニップル幅方向半割の場合の夫々半割部分のズレ
による光ファイバ素線の外傷具合を説明するための図で
ある。

【００３４】サブニップル３１は、サブニップル孔３１
ａの厚み方向に沿って（半割部分３１ｂに沿って）半割
された半割構造をもつようにすることが好ましい。半割
する方向を半割部分がファイバに当たりにくい厚み側と
することで、半割部分がズレてもファイバ外傷が入らな
いようにすることができる。図６（Ａ），図７（Ａ）の
ように半割部分３１ｂがサブニップル孔３１ａの厚み方
向にあった場合には、半割部分３１ｂがズレても（ズレ
量Ｌｔ）、Ｌｔの僅かなズレではその鋭部３１ｃが中央
側の光ファイバ素線１ｂ，１ｃに接触する可能性が低
く、光ファイバが外傷する可能性も小さい。これに対
し、図６（Ｂ）、図７（Ｂ）のように半割部分３１ｂ′
がサブニップル孔３１ａの幅方向にあった場合には、半
割部分３１ｂ′が僅かなズレ（ズレ量Ｌｗ）でも、その
鋭部３１ｃ′が両側の光ファイバ素線１ａ，１ｄに接触
する可能性が非常に高く、光ファイバが外傷する可能性
が大きい。

【００３５】上述のごとく、サブニップルの半割方向は
ファイバへの外傷を考慮し、厚み方向が好ましい。しか
しながら厚み方向においても図７（Ａ）で示すような半
割部分３１ｂの過度なズレ（段差）は、鋭部３１ｃによ
るファイバ外傷を発生させる可能性がある。なお、この
ズレ量Ｌｔは、厚み方向を半割としたサブニップルを接
合した際の突き合わせ部分のズレ量（段差）である。確
実にリボン化時のファイバ外傷を防止するためには、厚
み方向に半割したサブニップル３１の使用においても半
割部分のズレ量（ファイバ径、サブニップルの幅方向寸
法、厚み方向寸法、心線数に対して定まるズレ量）を規
定しておく必要がある。ただし、図２（Ｃ）で説明した
ような突出部をもたせた場合には、この突出部分を考慮
してズレ量を制限する必要がある。

【００３６】ここで、現在流通しているファイバ径０.
２４，０.２５，０.２６ｍｍの着色光ファイバ素線に対
し、厚み方向分割時のズレ量Ｌｔとファイバ外傷との関
係を説明する。図８は、心線数が４本の場合の厚み方向
に分割したサブニップルのズレ量とズレによる光ファイ
バ素線の外傷具合との関係を説明するための図で、図８
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）はファイバ径φを夫々０.２４
ｍｍ，０.２５ｍｍ，０.２６ｍｍとした場合の図であ
る。また、図９は、心線数が８本の場合の厚み方向に分
割したサブニップルのズレ量とズレによる光ファイバ素
線の外傷具合との関係を説明するための図で、図９
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）はファイバ径φを夫々０.２４
ｍｍ，０.２５ｍｍ，０.２６ｍｍとした場合の図であ
る。図８ではサブニップル孔の幅方向寸法をＷ＝１.１
０ｍｍ、厚み方向寸法をＴ＝０.２８ｍｍとして、図９
ではサブニップル孔の幅方向寸法をＷ＝２.５０ｍｍ、
厚み方向寸法をＴ＝０.２８ｍｍとして、各ファイバ径
における外傷が入るサブニップルのズレ量を表１に示
す。ただし、図９の例では、ニップルとサブニップルの
位置関係から決まる光ファイバ素線の導入角度に従っ
て、サブニップル孔の左側に光ファイバ素線が寄って導
入される場合に対する値を示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】なお、実際には、全ての光ファイバ素線を
図８（Ａ）で示す条件のものとすると現状のファイバで
は径が細くて弱く、現実的ではない。また、図８（Ｃ）
で示す径の条件のものはあまり採用されていない。一
方、全ての光ファイバ素線を図８（Ｂ）で示す条件のも
のとすると径の強度分布は径φが０.２５０〜０.２５５
ｍｍ近辺でピークをもつので、現実的である。

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、複数本の光ファイバ素
線を平面状に並べた光ファイバ集合体を被覆して光ファ
イバリボンとする際に、紫外線硬化樹脂を塗布する部分
のニップルへダストを堆積させず、紫外線塗布部分への
悪影響を回避し品質を安定化させ、従来方式によって生
ずる伝送特性異常や形状異常、さらにはファイバ断線な
どの問題を大幅に改善することが可能となる。

【００４０】また、本発明によれば、所定長で一時リボ
ン化を中断することなく、ニップルの清掃を実施しなが
らリボン化を実施して、生産性を向上させることが可能
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る光ファイバ集合体被
覆装置の一例を示す図である。

【図２】図１のニップル及びサブニップルの孔形状を説
明するための図である。

【図３】本発明の他の実施形態に係る光ファイバ集合体
被覆装置の一例を示す図である。

【図４】図３のニップル及びサブニップルの孔形状を説
明するための図である。

【図５】本発明における光ファイバ集合体被覆装置に用
いるサブニップルの一例を示す概略図である。

【図６】サブニップルの分割方向の違いによる光ファイ
バ素線の外傷具合の差を説明するための図である。

【図７】サブニップルの半割部分のズレによる光ファイ
バ素線の外傷具合を図６と比較して説明するための図で
ある。

【図８】心線数が４本の場合の厚み方向に分割したサブ
ニップルのズレ量とズレによる光ファイバ素線の外傷具
合との関係を説明するための図である。

【図９】心線数が８本の場合の厚み方向に分割したサブ
ニップルのズレ量とズレによる光ファイバ素線の外傷具
合との関係を説明するための図である。

【図１０】光ファイバリボンの形状を示す断面図であ
る。

【図１１】光ファイバリボン製造装置の一例を示す概略
図である。

【図１２】図１１の光ファイバリボン製造装置における
クロスヘッドを示す断面図である。

【図１３】図１２のクロスヘッドにおいて光ファイバ素
線を通す穴の一例を示す図である。

【図１４】使用前後のニップルの内面の様子を説明する
ための図である。

【図１５】ニップル部に堆積したダストが流れ出て光フ
ァイバリボン内に混入した様子を示す図である。

【符号の説明】

１…光ファイバ集合体、１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ…光フ
ァイバ素線、２…ダスト、２ａ…混入ダスト、３…光フ
ァイバリボン、３ａ…紫外線硬化樹脂、１０，２０，５
０…光ファイバ集合体被覆装置（クロスヘッド）、１
１，２１，３１…サブニップル、１１ａ，２１ａ，３１
ａ…サブニップル孔、１１ｂ…突出部、１２，２２，５
２…ニップル、１２ａ，２２ａ，２２ｂ，５２ａ…ニッ
プル孔、１３，２３，５３…樹脂供給路、１４，２４，
５４…樹脂溜部、１５，２５，５５…成形ダイス、１５
ａ，２５ａ，２５ｂ，５５ａ…成形孔、３１ｂ…半割部
分、３１ｃ…鋭部、４０…光ファイバリボン製造装置、
４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄ…光ファイバ素線供給
リール、４２…集線ローラ、４３…紫外線照射炉、４４
…リボン巻取リール（巻取機）、５６，５７…スリー
ブ。

フロントページの続き (72)発明者佐藤英明神奈川県横浜市栄区田谷町１番地住友電気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者新井田雅浩神奈川県横浜市栄区田谷町１番地住友電気工業株式会社横浜製作所内Ｆターム(参考） 2H001 BB15 BB19 KK17 MM02 MM04 PP01 2H050 AC71 AC83 BA23 BB33Q

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数本の光ファイバ素線を平面状に並べ
た光ファイバ集合体を被覆するために、前記光ファイバ
集合体を導入するニップル孔をもつニップルと、前記ニ
ップルから導入された光ファイバ集合体に対し一体的に
紫外線硬化樹脂を塗布するための樹脂溜部と、前記樹脂
溜部で光ファイバ集合体に塗布された紫外線硬化樹脂を
成形する成形孔をもつ成形ダイスと、を有する光ファイ
バ集合体被覆装置において、前記ニップルの前段に、前記光ファイバ集合体を導入し
前記光ファイバ素線に付着するダストを取り除くダスト
除去用のサブニップル孔をもつサブニップルを１又は複
数配設したことを特徴とする光ファイバ集合体被覆装
置。
【請求項２】前記ニップル孔を前記光ファイバ集合体
に対して１つとし、前記サブニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向の寸法、幅方向の寸法を、それぞれ、前記
ニップル孔の光ファイバ集合体厚み方向の寸法の１.０
〜１.１倍、前記ニップル孔の光ファイバ集合体幅方向
の寸法の１.０〜１.１倍とすることを特徴とする請求項
１記載の光ファイバ集合体被覆装置。
【請求項３】前記ニップル孔を前記光ファイバ集合体
に対して複数とし、前記サブニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向の寸法を、前記ニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向寸法の１.０〜１.１倍、前記サブニップル
孔の光ファイバ集合体幅方向の寸法を、前記複数のニッ
プル孔全体の光ファイバ集合体幅方向寸法の１.０〜１.
１倍とすることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ
集合体被覆装置。
【請求項４】前記サブニップル孔は、前記光ファイバ
集合体における各光ファイバ素線間に相当する部分を突
出させた形状をもつことを特徴とする請求項１〜３のい
ずれか１項記載の光ファイバ集合体被覆装置。
【請求項５】前記サブニップルは、前記サブニップル
孔の厚み方向に沿って半割された半割構造をもつことを
特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の光ファイ
バ集合体被覆装置。
【請求項６】光ファイバ素線を複数本平面状に並べた
光ファイバ集合体をニップルのニップル孔に導入し、導
入された光ファイバ集合体に対し一体的に紫外線硬化樹
脂を塗布し、塗布された紫外線硬化樹脂を成形ダイスで
成形し、成形された光ファイバ集合体周りの紫外線硬化
樹脂を紫外線硬化炉で硬化させることで、光ファイバリ
ボンを製造する光ファイバリボン製造方法において、前記ニップルの前段に配設されたダスト除去用のサブニ
ップル孔をもつ１又は複数のサブニップルに対し、前記
光ファイバ集合体を導入し、前記光ファイバ素線に付着
するダストを取り除いた後に、前記ニップル孔に前記光
ファイバ集合体を導入することを特徴とする光ファイバ
リボン製造方法。
【請求項７】前記ニップル孔を前記光ファイバ集合体
に対して１つとし、前記サブニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向の寸法、幅方向の寸法を、それぞれ、前記
ニップル孔の光ファイバ集合体厚み方向の寸法の１.０
〜１.１倍、前記ニップル孔の光ファイバ集合体幅方向
の寸法の１.０〜１.１倍とすることを特徴とする請求項
６記載の光ファイバリボン製造方法。
【請求項８】前記ニップル孔を前記光ファイバ集合体
に対して複数とし、前記サブニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向の寸法を、前記ニップル孔の光ファイバ集
合体厚み方向寸法の１.０〜１.１倍、前記サブニップル
孔の光ファイバ集合体幅方向の寸法を、前記複数のニッ
プル孔全体の光ファイバ集合体幅方向寸法の１.０〜１.
１倍とすることを特徴とする請求項６記載の光ファイバ
リボン製造方法。