JP2003344653A - 偏光層、偏光層の製造方法、液晶表示装置、電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐湿性に優れ、耐久性の高い偏向層を提供す
る。 【解決手段】 偏向層１は、偏光主体層１０の表層に不
溶性層２０が形成される一方、内部にも不溶性領域たる
不溶性薄膜層２５，２６が形成されているため高い耐湿
性を示すものとなり、表層の不溶性層２０が一部破損し
た場合にも、内部に不溶性領域が形成されているため、
十分な耐湿性ないし耐久性を示すこととなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、偏向層、偏向層の
製造方法、液晶表示装置、並びに電子機器に係り、特に
耐久性に優れた偏向層に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、透明電極を表面に具備する一対の
基板間に液晶層を挟持させた構成の液晶表示装置が知ら
れており、透明電極間における電圧印加状態に基づいて
液晶の配向状態を変化させ、光を変調し、階調表示を可
能にしている。このような液晶表示装置においては、一
定方向の偏光面を有する光のみを通す偏向層が設けら
れ、液晶の配向変化を可視化する役割を担っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような偏向層とし
ては、例えば二色性染料等の偏光素子を含む高分子フィ
ルムを主体としてなるものが知られているが、二色性染
料等の偏光素子は水溶性成分を含んで構成されているた
め、耐湿性ないし耐久性が低くなる場合があり、当該偏
向層の耐湿性および耐久性を向上させる技術が望まれて
いる。

【０００４】本発明の課題は、耐湿性ないし耐久性の高
い偏向層とその製造方法、並びに該偏向層を備えた信頼
性の高い液晶表示装置、さらには該液晶表示装置を備え
た電子機器を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の偏向層は、水溶性成分を含んで構成される
偏光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対し
て不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表
層に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層と
を備えることを特徴とする。

【０００６】この場合、偏光主体層の表層に不溶性層が
形成される一方、内部にも不溶性領域が形成されている
ため、当該偏向層の耐湿性ないし耐久性が向上する。特
に、表層の不溶性層が一部破損した場合にも、内部に不
溶性領域が形成されているため、十分な不溶性若しくは
難溶性を示すこととなる。例えば、当該偏向層を液晶表
示装置等に適用する場合、その製造工程ではミクロなゴ
ミや有機物を排除するため水洗浄を行うことが多いが、
このような水洗浄により当該偏向層の表層に剥がれ等が
生じた場合にも、偏向層の耐湿性ないし耐久性が低下す
る等の不具合が生じ難くなる。

【０００７】上記水溶性成分としては解離基を備えてな
るものを例示することができ、不溶性領域及び不溶性層
において、解離基が対イオン成分との間で水に対して不
溶若しくは難溶の結合を形成してなるものとすることが
できる。このように解離基を備える水溶性成分を備えた
偏光主体層内部に、その解離基に対して対イオン成分に
より水に対して不溶若しくは難溶の結合を生じさせてな
る不溶性領域を形成するとともに、偏光主体層表層にも
同様の対イオンにより結合を生じさせて不溶性層を形成
することで、耐湿性に優れ耐久性の高い偏向層を提供可
能となる。なお、本発明の偏向層において偏光主体層が
含む水溶性成分は、例えば下記に示す化学式（１）〜
（１０）で示される化合物を含むものとすることができ
る。

【０００８】

【化１】

【０００９】

【化２】

【００１０】

【化３】

【００１１】具体的に上記水溶性成分としては解離基を
有する二色性染料（二色性色素）を例示することがで
き、さらに具体的には酸性染料を例示することができ
る。このような解離基を有する二色性染料は水溶性を示
し、これを用いた従来の偏向層は耐湿性が劣るものが多
いが、本発明では二色性染料を含んで構成される偏光主
体層内部に不溶性領域を形成するとともに、該偏光主体
層表層に不溶性層を形成したため耐湿性および耐久性に
優れた偏向層を提供可能となる。

【００１２】また、これら水溶性成分に対する対イオン
成分としては、各種カチオン成分、例えばアルカリ金属
若しくはアルカリ土類金属等を例示することができ、具
体的に２価のバリウム（Ｂａ²⁺）を用いた場合、該バリ
ウムと１価のスルホン基（ＳＯ₃ ^-）との間の結合により
例えば分子間架橋が形成され、不溶性領域若しくは不溶
性層が形成されている。

【００１３】一方、不溶性領域が薄膜の不溶性薄膜層と
して構成されるとともに、偏光主体層と不溶性薄膜層と
が複数積層され、複数の偏光主体層の間に不溶性薄膜層
が構成されてなるものとすることができる。この場合、
多層の偏光主体層を巨視的な偏光主体層とみなし、その
内部に不溶性薄膜層（不溶性領域）が形成されることと
なり、上述した内部及び表層に不溶性領域及び不溶性層
を有する偏光主体層を備える耐湿性ないし耐久性に優れ
た偏向層を提供可能となる。なお、不溶性領域は偏光主
体層の中で散在した構成とすることもできる。

【００１４】次に、上記のような偏向層は以下のような
方法により製造することができる。すなわち、本発明の
偏向層の製造方法は、水溶性成分を主体として構成され
る偏光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対
して不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の
表層に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層
とを備える偏向層の製造方法であって、基材に対して偏
光主体層を形成する偏光主体層形成工程と、形成した偏
光主体層の表層に対して不溶化処理を行う不溶化工程
と、該表層を不溶化した偏光主体層に対して更に偏光主
体層を積層し、積層した偏光主体層の表層に対して更に
不溶化処理を行う工程を少なくとも１回以上行う積層工
程と、を含むことを特徴とする。

【００１５】このような製造方法によると、偏光主体層
と不溶性薄膜層（不溶性領域）が積層して形成され、複
数形成された偏光主体層の内部に不溶性薄膜層（不溶性
領域）が形成された構成となり、さらに偏光主体層の表
層には不溶性層が形成されることになるため、上述した
本発明の偏向層を製造可能となる。

【００１６】また、本発明の偏向層の製造方法としてそ
の異なる態様は、水溶性成分を主体として構成される偏
光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して
不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層
に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを
備える偏向層の製造方法であって、水溶性成分を不溶化
若しくは難溶化する不溶化処理剤を基材に対して散布す
る不溶化処理剤散布工程と、該不溶化処理剤を散布した
基材に対して偏光主体層を湿式にて形成する偏光主体層
形成工程と、形成した偏光主体層の表層に対して不溶化
処理を行う不溶化工程と、を含むことを特徴とする。

【００１７】この場合、不溶化処理剤が散布された基材
に、偏光主体層を例えば溶液塗布等により湿式形成する
際、不溶化処理剤が偏光主体層の内部に溶け込むことと
なり、該内部において不溶化反応が生じることなる。し
たがって、偏光主体層内部に不溶性領域が形成されるこ
ととなり、さらに形成した偏光主体層の表層に対して不
溶化処理を行うため、不溶性層が表面にも形成され、上
述した本発明の偏向層を製造可能となる。

【００１８】なお、上記不溶化処理は、水溶性成分を不
溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を偏光主体層に反
応させることにより、該不溶化処理剤の構成成分と偏光
主体層の水溶性成分との間で、水に対して不溶若しくは
難溶の結合を形成する処理とすることができる。このよ
うな不溶化処理により確実に不溶性領域ないし不溶性層
を形成可能となるが、不溶化処理剤としては、例えば水
溶性成分と反応活性な成分を備えるもの、具体的には解
離基を有する水溶性成分に対して対イオンの解離基を備
えるもの等を例示することができる。

【００１９】次に、本発明の液晶表示装置は上記偏向層
を備えることを特徴とし、この場合、耐湿性ないし耐久
性に優れた信頼性の高い液晶表示装置を提供可能とな
る。また、上記偏向層は、以下のような態様で液晶表示
装置に具備させることもできる。すなわち、本発明の液
晶表示装置は、互いに対向する上基板と下基板との間に
液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含
む液晶表示装置であって、上基板の外面側に上偏向層が
設けられるとともに、下基板の外面側に下偏向層が設け
られ、該下基板の外面側から透過表示用光源光が入射す
る構成とされる一方、下基板と液晶層との間に、反射層
と、上記本発明の偏向層とが該下基板側から設けられ、
反射層が開口部を備えてなることを特徴とする。本発明
の偏向層は上述のような方法により得ることが可能であ
るが、不溶化処理前の偏光主体層は水溶性を示すため、
これを基板内面に塗布形成することが可能となる一方、
基板と液晶層との間に設ける内面偏向層は塗布形成が好
ましいため、本発明の偏向層を上記のような内面用偏向
層として用いるのが適している。なお、塗布形成は簡便
なため、製造コスト低減に繋がる他、薄膜化も容易とな
る。

【００２０】さらに、本発明の電子機器は、上記液晶表
示装置を備えたことを特徴とし、このような電子機器
は、耐湿性の高い表示部を備えた構成となり、その信頼
性が極めて高いものとなる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。 （偏向層の第１実施形態）図１は、本発明の偏向層の第
１実施形態を示す断面模式図である。なお、本実施の形
態においては、各図において各層や各部材を図面上で認
識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮
尺を異ならしめてある。

【００２２】図１に示した偏向層１は、ガラス基板等の
基材５上に形成された偏光主体層１０と不溶性層２０と
を備えてなり、当該偏向層１に入射する光に対し、一定
方向の偏光面の光だけを通す性質を具備している。偏光
主体層１０は、水溶性成分を含んで構成される二色性染
料層と、該二色性染料層の表層を不溶化処理してなる不
溶性薄膜層とが積層した構成を含んでなり、具体的には
基材５側から順に第１二色性染料層１０ａ、第１不溶性
薄膜層２５、第２二色性染料層１０ｂ、第２不溶性薄膜
層２６、第３二色性染料層１０ｃが積層して構成されて
いる。したがって、偏向層１は、偏光主体層１０の内部
に不溶性領域としての不溶性薄膜層２５，２６が形成さ
れた構成を有している。

【００２３】各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃは
水溶性を示し、その膜厚は例えば１００〜１０００ｎｍ
（例えば３００ｎｍ）とされている。また、各不溶性薄
膜層２５，２６は水に対して不溶性若しくは難溶性を示
し、その層厚は例えば０．３〜５．０ｎｍ（例えば１．
０ｎｍ）とすることができる。さらに、不溶性層２０
は、偏光主体層１０の表層（詳しくは二色性染料層１０
ｃの表層）を上記と同様の不溶化処理をしてなり、水に
対して不溶性若しくは難溶性を示し、その層厚は例えば
０．３〜５．０ｎｍ（例えば１．０ｎｍ）にて構成され
ている。

【００２４】具体的に各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，
１０ｃは、下記化学式（１）〜（１０）の中から選択さ
れる１種若しくは２種以上の酸性染料を主体として構成
されるとともに、アニオン性の解離基を含んで構成さ
れ、リオトロピック液晶性を示すものとされている。

【００２５】

【化４】

【００２６】

【化５】

【００２７】

【化６】

【００２８】一方、各不溶性薄膜層２５，２６、及び不
溶性層２０は、各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
の表層を不溶化処理してなるものである。この場合、不
溶化処理は、二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃに含
まれるアニオン性解離基の対イオンたるカチオン性解離
基の成分を処理するものであって、各不溶性薄膜層２
５，２６、及び不溶性層２０においてはアニオン性解離
基とカチオン性解離基の結合が生じ、水に対して不溶性
若しくは難溶性を示すこととなる。カチオン性解離基と
しては例えばアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属等
を例示することができる。

【００２９】なお、本実施形態の二色性染料層に含まれ
るスルホン基のように１価の解離基に対して２価の解離
基を用いて不溶化処理を行うと、分子間架橋が形成さ
れ、水に対する溶解性が一層低いものとなり得る。この
ような２価の解離基を有する成分としては、例えばアル
カリ土類金属等を例示することができる。

【００３０】以上のような構成の偏向層１は、偏光主体
層１０の表層に不溶性層２０を形成してなる一方、内部
にも不溶性薄膜層２５，２６を形成してなるため、高い
耐湿性および耐久性を示し、例えば、表層の不溶性層２
０が一部破損した場合にも、内部の不溶性薄膜層２５，
２６により、十分な耐湿性を示すこととなる。

【００３１】（偏向層の第２実施形態）図２は、本発明
の偏向層の第２実施形態を示す断面模式図である。な
お、本実施の形態においては、各図において各層や各部
材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層
や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、上記第１
の実施形態と同じ構成の部材、要素については同じ符号
を付し、特に断り書きのない限り、同じ構成の部材、要
素を用いているものとして説明を省略する。

【００３２】図２に示した偏向層１１は、ガラス基板等
の基材５上に形成された偏光主体層１５と不溶性層２０
とを備えてなり、当該偏向層１１に入射する光に対し、
一定方向の偏光面の光だけを通す性質を具備している。
偏光主体層１５は、水溶性成分を含んで構成される二色
性染料領域１６と、該二色性染料領域１６を部分的に不
溶化処理してなる複数の不溶性領域２８とを含んで構成
されている。したがって、偏向層１１は、偏光主体層１
５の内部に不溶性領域２８が散在した構成を有してい
る。

【００３３】二色性染料領域１６は水溶性を示す一方、
各不溶性領域２８は水に対して不溶性若しくは難溶性を
示し、二色性染料領域１６に対する不溶性領域２８の割
合は１０〜９０％（例えば５０％）程度とされている。
また、不溶性層２０は、上記第１の実施形態と同様、偏
光主体層１５の表層（詳しくは二色性染料領域１６の表
層）を上記と同様の不溶化処理をしてなり、水に対して
不溶性若しくは難溶性を示し、その層厚は例えば０．３
〜５．０ｎｍ（例えば１．０ｎｍ）にて構成されてい
る。

【００３４】具体的に二色性染料領域１６は、第１実施
形態と同様の化学式（１）〜（１０）の中から選択され
る１種若しくは２種以上の酸性染料を主体として構成さ
れ、アニオン性の解離基を含んで構成されている。一
方、不溶性領域２８は二色性染料領域２６の内部を部分
的に不溶化処理してなるもので、不溶性層２０は二色性
領域の表層を不溶化処理してなるものである。この場
合、不溶化処理は、二色性染料領域１６に含まれるアニ
オン性解離基の対イオンたるカチオン性解離基の成分を
処理するものであって、不溶性領域２８及び不溶性層２
０においてはアニオン性解離基とカチオン性解離基の結
合が生じ、水に対して不溶性若しくは難溶性を示すこと
となる。なお、本実施形態の二色性染料領域２８に含ま
れるスルホン基のように１価の解離基に対して２価の解
離基を用いて不溶化処理を行うと、分子間架橋が形成さ
れ、水に対する溶解性が一層低いものとなり得る。

【００３５】以上のような構成の偏向層１１は、偏光主
体層１５の表層に不溶性層２０を形成してなる一方、内
部にも不溶性領域２８を形成してなるため、高い耐湿性
ないし耐久性を示し、例えば、表層の不溶性層２０が一
部破損した場合にも、内部の不溶性領域２８により、十
分な耐湿性を示すこととなる。

【００３６】（第１実施形態の偏向層の製造方法）次
に、図１に示した第１実施形態の偏向層１の製造方法に
ついて、その一実施例を図３を参照しつつ説明する。ま
ず、図３（ａ）に示すように基材５に対して第１二色性
染料層１０ａを塗布形成する。具体的には、上記化学式
（１）〜（１０）に示した化合物を含む原料を、水等の
溶媒に溶解若しくは分散させ、この溶液若しくは分散液
をドクターブレード法等にて塗布形成することができ
る。なお、この塗布においては、一方向への応力印加に
基づき形成される膜（二色性染料層）に配向性が付与さ
れる。

【００３７】続いて、得られた第１二色性染料層１０ａ
の表層に不溶化処理を行って不溶性薄膜層２５を形成す
る。不溶化処理は、濃度１４ｗｔ％の塩化バリウム水溶
液に、図１（ａ）に示した第１二色性染料層１０ａ付き
基板５を浸漬することにより行われる。塩化バリウム溶
液に所定時間浸漬した後、乾燥を行うことで不溶性薄膜
層２５が形成される。

【００３８】その後、第２二色性染料層１０ｂを積層
し、さらに不溶化処理して不溶性薄膜層２６を形成する
とともに、再度第３二色性染料層１０ｃを積層し、この
第３二色性染料層１０ｃに不溶化処理を行うことで不溶
性層２０を形成し、図３（ｃ）に示した偏向層１を得
る。なお、本実施例では第１の実施形態に対応して、図
３（ｂ）の状態から積層、不溶化を２回繰り返したが、
少なくとも１回積層・不溶化処理を行うことで、本発明
に係る構成の偏向層を得ることが可能である。

【００３９】（第２実施形態の偏向層の製造方法）次
に、図２に示した第２実施形態の偏向層１１の製造方法
について、その一実施例を図４を参照しつつ説明する。
まず、図４（ａ）に示すように基材５に対して不溶化処
理剤としての塩化バリウム粒子５０を散布する。具体的
には、１４ｗｔ％の塩化バリウム水溶液に基材５を所定
時間浸漬し乾燥することで、塩化バリウムの結晶粒子が
基材５上に散布した状態となる。このとき基板５の濡れ
性の悪化を防止するために、シランカップリング剤等を
用いた表面処理を行うことが好ましい。

【００４０】続いて、塩化バリウム粒子５０が散布され
た基板５に対して、図４（ｂ）に示すように二色性染料
領域１６を塗布形成する。具体的には、上記化学式
（１）〜（１０）に示した化合物を含む原料を、水等の
溶媒に溶解若しくは分散させ、この溶液若しくは分散液
をドクターブレード法等にて塗布形成することができ
る。

【００４１】この場合、湿式にて二色性染料領域１６を
形成するものとしているため、その塗布形成と同時に、
若しくは塗布形成から所定時間後に塩化バリウム粒子５
０が二色性染料領域１６の内部に溶け込み、その内部で
不溶化反応が生じることとなる。したがって、図４
（ｃ）に示すように、二色性染料領域１６内部に分散し
た状態で不溶性領域２８が形成される。続いて、二色性
染料領域１６の表層部に不溶化処理を施すことで、不溶
性層２０を形成し、図４（ｄ）に示した偏向層１１を得
る。

【００４２】（液晶表示装置）次に、上記第１実施形態
の偏向層１、又は第２実施形態の偏向層１１を用いた液
晶表示装置について、その一実施形態を図５を参照しつ
つ説明する。図５の示した本実施形態の液晶表示装置２
００は、反射表示モードと透過表示モードとを兼備する
半透過反射型の液晶表示装置であって、図示上側から反
射表示用の照明光又は太陽光等の外光が入射し、図示下
側から透過表示用の光源光が入射するものとされてい
る。なお、本実施形態においては、各図において各層や
各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、
各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

【００４３】液晶表示装置２００は、対向して配置され
た上基板１０１と下基板１０２との間に液晶層１０４を
挟持してなり、該液晶層１０４をシール材１０５で封止
した液晶パネル１００と、この液晶パネル１００の背面
側（図示下側）に配設されたバックライト（照明装置）
１３０とを備えて構成されている。液晶パネル１００の
上基板１０１の内面側（液晶層１０４側）には、カラー
フィルタ層１１１と、平坦化膜１１２と、平面視ストラ
イプ状に配列された複数の電極１１３と、配向膜１１５
とが形成されており、上基板１０１の外面側（図示上面
側）には、前方散乱板１１７と、位相差板１１８と、偏
向層１１９とがこの順で積層されている。

【００４４】一方、液晶パネル１００の下基板１０２の
内面側（液晶層１０４側）には、反射層１２０と、図１
又は図２に示した構成の偏向層１又は偏向層１１を適用
してなる内面偏光層１２１と、平坦化膜１２２と、平面
視ストライプ状に配列された複数の電極１２３と、配向
膜１２５とが備えられている。また、下基板１０２の外
面側には、偏向層１２９が設けられており、この下基板
１０２の電極１２３の延在方向は、上記上基板１０１の
電極１１３の延在方向と互いに直交するように配置され
ている。そして、反射層１２０には、部分的に透孔１１
０が設けられており、この透孔１１０を介してバックラ
イト１３０の光を液晶層１０４に入射させるようになっ
ている。

【００４５】図６は、上記構成を備えた液晶表示装置２
００の表示原理を説明するための説明図であり、図５に
示した液晶表示装置２００の要部のみが図示されてい
る。また、図示左側は反射表示モードにおける動作を示
し、図示右側は透過表示モードにおける動作を示してい
る。本実施形態の液晶表示装置２００では、図６に示す
ように、液晶層１０４に電圧を印加した状態（オン状
態）とすると、反射モード、透過モードのいずれにおい
ても、そのドットは暗表示され、電圧を印加しない状態
（オフ状態）では、そのドットは明表示されるようにな
っている。

【００４６】まず、反射表示モードでは、図６左側に示
すように、液晶パネル１００に入射した外光は、紙面に
平行な透過軸を有する偏向層１１９により紙面に平行な
直線偏光に変換されて液晶層１０４に入射する。ここ
で、液晶層１０４がオン状態の場合には、この入射光
は、紙面に平行な直線偏光のまま内面偏光層１２１に入
射し、紙面に垂直な透過軸を有する内面偏光層１２１に
より吸収されるので、ドットが暗表示される。一方、液
晶層１０４がオフ状態の場合には、液晶層１０４の作用
により紙面に垂直な直線偏光に変換されて内面偏光層１
２１へ入射し、この内面偏光層１２１を透過した後、反
射層１２０により反射され、再び内面偏光層１２１を透
過して液晶層１０４に入射する。そして、液晶層１０４
の作用により紙面に平行な直線偏光に変換され、偏向層
１１９を透過して上基板１０１の外側へ出射される。こ
のようにして、ドットが明表示される。

【００４７】次に、透過表示モードでは、図６右側に示
すように、バックライト１３０から出射された光は、偏
向層１２９により紙面に垂直な直線偏光に変換された
後、反射層１２０に設けられた透孔１１０を通過して内
面偏光層１２１に入射し、紙面に垂直な透過軸を有する
内面偏光層１２１を透過して液晶層１０４に入射する。
ここで、液晶層１０４がオン状態の場合には、この入射
光は液晶層１０４による作用を受けずに、紙面に垂直な
直線偏光のまま上基板１０１の偏向層１１９に入射し、
紙面に平行な透過軸を有するこの偏向層１１９に吸収さ
れ、ドットが暗表示される。一方、液晶層１０４がオフ
状態の場合には、入射光は液晶層１０４の作用により紙
面に平行な直線偏光に変換されて偏向層１１９に入射す
る。そして、偏向層１１９を透過して外側へ出射され、
ドットが明表示される。

【００４８】このように、図５に示す内面偏光層１２１
を基板１０１，１０２の内側に備えた液晶表示装置２０
０においては、透過表示モードの明表示時に液晶層１０
４から偏向層１１９に入射する光が直線偏光とされてい
ることで、偏向層１１９による光の吸収がほとんど無
く、透過表示モードにおいても明るい表示を得ることが
できる。また、下基板１０２と液晶層１０４との間に設
ける内面偏光層１２１は塗布形成が好ましいところ、該
内面偏光層１２１として図１又は図２に示した偏向層
１，１１を適用したため、その製造工程において塗布形
成が可能となる一方、これら偏向層１，１１は高い耐湿
性ないし耐久性を備えているため、当該液晶表示装置２
００についても耐湿性が向上し、信頼性の高い装置を提
供することができるようになる。なお、本実施形態では
内面偏光層１２１に上記実施形態の偏向層１，１１の構
成を適用したが、外面側の偏向層１１９，１２９にこれ
ら偏向層１，１１の構成を適用することも可能である。

【００４９】（電子機器）次に、上記実施の形態の液晶
表示装置２００を備えた電子機器の例について説明す
る。図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図であ
る。図７（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を
示し、符号５０１は上記の液晶表示装置２００を用いた
液晶表示部を示している。

【００５０】図７（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図７
（ｂ）において、符号６００は情報処理装置、符号６０
１はキーボードなどの入力部、符号６０３は情報処理装
置本体、符号６０２は上記の液晶表示装置２００を用い
た液晶表示部を示している。

【００５１】図７（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を
示した斜視図である。図７（ｃ）において、符号７００
は時計本体を示し、符号７０１は上記の液晶表示装置２
００を用いた液晶表示部を示している。

【００５２】このように図７に示す電子機器は、上記実
施の形態の液晶表示装置２００を用いた液晶表示部を備
えているので、耐湿性ないし耐久性に優れた表示部を有
する電子機器を実現することができる。

【００５３】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
偏向層は、偏光主体層の表層に不溶性層が形成される一
方、内部にも不溶性領域が形成されているため高い耐湿
性ないし耐久性を示すものとなる。特に、表層の不溶性
層が一部破損した場合にも、内部に不溶性領域が形成さ
れているため、十分な不溶性若しくは難溶性を示すこと
となる。また、この偏向層を備えた本発明の液晶表示装
置は耐湿性ないし耐久性が高くなる一方、液晶表示装置
の製造工程では水洗浄を行うことが多いが、このような
水洗浄に対しても高い耐久性を示すものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明に係る偏向層の一実施の形態
を示す断面模式図である。

【図２】 図２は、本発明に係る偏向層の異なる実施の
形態を示す断面模式図である。

【図３】 図３は、本発明に係る偏向層の第１の製造方
法を示す工程模式図である。

【図４】 図４は、本発明に係る偏向層の第１の製造方
法を示す工程模式図である。

【図５】 図５は、基板の内面側に偏光層を備えた液晶
表示装置の一例を示す部分断面図である。

【図６】 図６は、図５に示す液晶表示装置の動作原理
を説明するための説明図である。

【図７】 図７は、本発明に係る電子機器の構成例を示
す斜視構成図である。

【符号の説明】

１，１１ 偏向層 ５ 基材 １０，１５ 偏光主体層 ２０ 不溶性層 ２５，２６，２８ 不溶性領域（不溶性薄膜層） ２００ 液晶表示装置

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水溶性成分を含んで構成される偏光主体
   層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不溶若
   しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に形成
   され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備える
   ことを特徴とする偏向層。
2. 【請求項２】 前記水溶性成分が解離基を備えてなり、
   前記不溶性領域及び不溶性層において、前記解離基が対
   イオン成分との間で水に対して不溶若しくは難溶の結合
   を形成してなることを特徴とする請求項１に記載の偏向
   層。
3. 【請求項３】 前記水溶性成分が解離基を有する二色性
   染料であることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏
   向層。
4. 【請求項４】 前記不溶性領域が薄膜の不溶性薄膜層と
   して構成されるとともに、前記偏光主体層と当該不溶性
   薄膜層とが複数積層され、複数の偏光主体層の間に不溶
   性薄膜層が構成されてなることを特徴とする請求項１な
   いし３のいずれか１項に記載の偏向層。
5. 【請求項５】 前記不溶性領域が前記偏光主体層の中で
   散在していることを特徴とする請求項１ないし３のいず
   れか１項に記載の偏向層。
6. 【請求項６】 水溶性成分を主体として構成される偏光
   主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不
   溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に
   形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備
   える偏向層の製造方法であって、 基材に対して前記偏光主体層を形成する偏光主体層形成
   工程と、 形成した偏光主体層の表層に対して不溶化処理を行う不
   溶化工程と、 該表層を不溶化した偏光主体層に対して更に偏光主体層
   を積層し、積層した偏光主体層の表層に対して更に不溶
   化処理を行う工程を少なくとも１回以上行う積層工程
   と、 を含むことを特徴とする偏向層の製造方法。
7. 【請求項７】 水溶性成分を主体として構成される偏光
   主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不
   溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に
   形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備
   える偏向層の製造方法であって、 前記水溶性成分を不溶化若しくは難溶化する不溶化処理
   剤を基材に対して散布する不溶化処理剤散布工程と、 該不溶化処理剤を散布した基材に対して前記偏光主体層
   を湿式にて形成する偏光主体層形成工程と、 形成した偏光主体層の表層に対して不溶化処理を行う不
   溶化工程と、 を含むことを特徴とする偏向層の製造方法。
8. 【請求項８】 前記不溶化処理は、前記水溶性成分を不
   溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を前記偏光主体層
   に反応させることにより、該不溶化処理剤の構成成分と
   前記偏光主体層の水溶性成分との間で、水に対して不溶
   若しくは難溶の結合を形成する処理であることを特徴と
   する請求項６又は７に記載の偏向層の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし５のいずれか１項に記載
   の偏向層を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
10. 【請求項１０】 互いに対向する上基板と下基板との間
    に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを
    含む液晶表示装置であって、前記上基板の外面側に上偏
    向層が設けられるとともに、前記下基板の外面側に下偏
    向層が設けられ、該下基板の外面側から透過表示用光源
    光が入射する構成とされる一方、前記下基板と前記液晶
    層との間に、反射層と、請求項１ないし５のいずれか１
    項に記載の偏向層とが該下基板側から設けられ、前記反
    射層が開口部を備えてなることを特徴とする液晶表示装
    置。
11. 【請求項１１】 請求項９又は１０に記載の液晶表示装
    置を備えたことを特徴とする電子機器。