JP2001091941A - 液晶表示装置およびこれを用いた電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有効表示領域端部での画像の視認性に優れた
液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、互いに対向す
る素子基板１０、対向基板１３の間に液晶８が挟持さ
れ、素子基板１０上に、有効表示領域Ｌの外周に沿って
従来用いられていたクロムよりも高い光反射率を有する
金属、例えばアルミニウムからなる遮光部１５が設けら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びこれを用いた電子機器に関し、特に有効表示領域端部
の視認性に優れた液晶表示装置の構造に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】図１１、図１２は、スイッチング素子と
して２端子型非線形素子の一種である薄膜ダイオード
（Thin Film Diode,以下、ＴＦＤと記す）素子を用いた
従来の液晶表示装置の一構成例を示している。

【０００３】この液晶表示装置１００は、複数の配線
（図示略）が互いに平行にストライプ状に形成されると
ともに、複数の画素電極５９およびＴＦＤ素子（図示
略）がマトリクス状に形成された素子基板６０と、対向
電極６１およびカラーフィルター６２が形成された対向
基板６３と、これら基板６０、６３間に封入された液晶
５８とから概略構成されている。素子基板６０と対向基
板６３とは、両基板の外周縁に沿って形成されたシール
材６４によって所定の間隔を開けて貼り合わされ、シー
ル材６４の内側の部分に液晶５８が封入されている。そ
して、素子基板６０の周辺部分が対向基板６３の外周縁
よりはみ出した状態に貼り合わされ、この周辺部分に駆
動回路（走査線駆動回路９０やデータ線駆動回路９１）
や入出力端子９２が設けられている。この入出力端子９
２は、例えばＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）基板
（図示略）を介して、前述の駆動回路に駆動用信号を供
給する制御回路基板（図示略）と接続されている。さら
に、対向基板６３のコーナー部には、素子基板６０と対
向基板６３との間で電気的導通をとるための上下導通材
９３が形成されている。

【０００４】素子基板６０上に、シール材６４の内側に
おいて額縁状に形成された遮光膜６５が設けられてい
る。この遮光膜６５は、液晶パネルにおける有効表示領
域Ｌを区画するとともに、透過型液晶表示装置とした場
合に素子基板６０の方向から照射される照明光が有効表
示領域Ｌ外で反対側へ漏れ出ることを防止するためのも
のであり、通常、クロム等の非反射性金属が用いられ
る。さらに、画素電極５９、ＴＦＤ素子、配線、遮光膜
６５を覆うように配向膜６６が形成されている。

【０００５】一方、対向基板６３上には、カラーフィル
ター６２が形成されている。このカラーフィルター６２
は、各画素電極５９に対応するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の各色透光部７５ｒ、７５ｇ、７５ｂと、各色透
光部の間を埋め、素子基板６０側のＴＦＤ素子および配
線と平面的に重なる部分に配置されるブラックマトリク
ス７６とから構成されている。そして、カラーフィルタ
ー６２の上には、絶縁性および平坦性を確保するために
オーバーコート層７７が積層され、その上にストライプ
状の対向電極６１が形成され、さらにその上に配向膜７
８が形成されている。

【０００６】また、２枚の基板６０、６３の外面側には
偏光板７９、８０がそれぞれ貼着されている。また、対
向基板６３の端部には液晶駆動用ＩＣ８１が実装されて
いる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の液晶表示装置には以下のような問題点があった。

【０００８】上述したように、素子基板の周縁部には額
縁状の遮光膜が形成されており、文字、絵柄等の画像を
実際に表示する領域、いわゆる有効表示領域はこの遮光
膜によって区画されている。ところが、遮光膜が形成さ
れた領域を目視すると、図１３に示すように、この領域
Ｇが画面において黒く縁取られたように見えることか
ら、例えば有効表示領域Ｌの端部に「Ｅ」の文字を表示
した場合など、文字の一部が遮光膜６５の部分と重なっ
てつぶれてしまい、文字の視認性が非常に悪くなるとい
う問題があった。

【０００９】ここでは、特にＴＦＤ型液晶表示装置の場
合を例に挙げて説明したが、その他、スイッチング素子
として薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor, 以
下、ＴＦＴと略記する）を用いたＴＦＴ型液晶表示装置
やパッシブマトリクス型液晶表示装置では、カラーフィ
ルターを構成するブラックマトリクス等により有効表示
領域の外周を遮光している。これらの液晶表示装置で
も、上記と同様の問題が発生していた。

【００１０】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、特に有効表示領域端部での画像の
視認性に優れた液晶表示装置、およびこの液晶表示装置
を表示部として用いた電子機器を提供することを目的と
する。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第１の液晶表示装置は、互いに対向する
２枚の基板間に液晶層が挟持された液晶表示装置であっ
て、前記２枚の基板のうちの少なくとも一方の基板上
に、有効表示領域の外周に沿ってクロムよりも高い光反
射率を有する金属からなる遮光部が設けられたことを特
徴とするものである。

【００１２】従来の液晶表示装置の場合、有効表示領域
を区画する遮光膜の材料として、クロムがよく用いられ
ていたが、クロムは光反射率が比較的低い、いわゆる非
反射性金属であるため、使用者の目にはクロム遮光膜で
形成される額縁部分が黒く視認されていた。この現象
は、従来のＴＦＤ型液晶表示装置のみならず、ブラック
マトリクスで遮光を行っていたＴＦＴ型液晶表示装置や
パッシブマトリクス型液晶表示装置でも同様であった。

【００１３】これに対して、本発明の液晶表示装置の場
合、有効表示領域の外周に沿う部分、すなわち額縁部分
にクロムよりも高い光反射率を有する金属からなる遮光
部を設けているため、入射した外光が遮光部で反射して
額縁部分が従来より明るくなり、偏光板等、液晶表示装
置の他の構成部材を通して見ると、この部分の色が従来
よりもグレーがかって見えることになる。

【００１４】その結果、有効表示領域の端部に文字を表
示した場合でも、文字の一部が遮光膜の部分と重なって
つぶれるようなことがなく、有効表示領域端部での画像
の視認性を従来に比べて向上することができる。

【００１５】また、一方の基板上に外光を反射させる反
射層を兼ねる画素電極を設け、この画素電極と同一の金
属材料によって遮光部を形成しても良い。

【００１６】この構成によれば、画素電極の形成と遮光
部の形成とを同時に行うことができ、製造プロセスが複
雑化することがない。

【００１７】もしくは、反射型あるいは半透過型の液晶
表示装置とする場合に、一方の基板上に反射層を設け、
その反射層を有効表示領域の外周に沿う部分にまで延在
させ、この部分を前記の遮光部として機能させる構成と
してもよい。

【００１８】この構成とした場合でも、上記と同様の作
用、効果により有効表示領域端部での画像の視認性を向
上することができる。さらに、反射層とは別個に遮光部
を形成する必要がないため、製造上有利である。

【００１９】前記遮光部を構成する金属として、具体的
には例えばアルミニウムを用いることができる。アルミ
ニウムで遮光部を構成した場合、アルミニウムの色と偏
光板の作用によって、額縁部分の色がグレーとなって見
える。

【００２０】本発明の第２の液晶表示装置は、互いに対
向する２枚の基板間に液晶層が挟持された液晶表示装置
であって、前記２枚の基板の有効表示領域の外周に沿う
部分が光透過性を有する材料のみで構成されていること
を特徴とするものである。

【００２１】本発明の第１の液晶表示装置が、光反射率
の高い遮光部を用いることによって従来よりもグレーが
かった色の額縁部分を実現しているのに対し、本発明の
第２の液晶表示装置では、２枚の基板の有効表示領域の
外周に沿う部分を光透過性を有する材料のみで構成し、
遮光部を設けない構成である。

【００２２】この構成によれば、有効表示領域の外周に
沿う部分で光が透過するため、この部分が白く見え、有
効表示領域の端部に文字を表示した場合でもその文字の
視認性を従来に比べて向上することができる。

【００２３】本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表
示装置を用いたことを特徴とするものである。

【００２４】この構成によれば、画面端部の画像の視認
性に優れた液晶表示部を有する電子機器を実現すること
ができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】［第１の実施の形態］以下、本発
明の第１の実施の形態を図１ないし図６を参照して説明
する。

【００２６】図１は、本実施の形態のアクティブマトリ
クス方式の液晶表示装置の等価回路を示しており、特に
スイッチング素子としてＴＦＤを用いた例を示してい
る。

【００２７】この液晶表示装置１の液晶パネル２は、走
査線駆動回路３とデータ線駆動回路４とを含んでいる。
液晶パネル２には、複数の走査線５および複数のデータ
線６が設けられ、走査線５は走査線駆動回路３により駆
動され、データ線６はデータ線駆動回路４により駆動さ
れる。そして、各画素領域において、走査線５とデータ
線６との間にＴＦＤ素子７と液晶８とが直列に接続され
ている。

【００２８】図２は、本実施の形態の液晶表示装置にお
ける液晶パネルの断面構造を示している。なお、この図
においては、液晶パネルの特徴部分をわかりやすく示す
ために模式的に示しており、各構成要素の寸法比率は実
際の液晶パネルとは異なっている。

【００２９】本実施の形態の液晶パネル２は、図２に示
すように、ストライプ状に形成された複数の配線（走査
線５、図２においては図示を省略する）、マトリクス状
に形成された複数の画素電極９およびＴＦＤ素子（図２
においては図示を省略する）を有する素子基板１０と、
対向電極１１（データ線６）およびカラーフィルター１
２が形成された対向基板１３と、これら基板１０、１３
間に封入された液晶８とから概略構成されている。素子
基板１０と対向基板１３とは、対向基板１３の外周縁に
沿って形成されたシール材１４によって所定の間隔を開
けて貼り合わされ、シール材１４の内側の部分に液晶８
が封入されている。

【００３０】図２においては、下側の基板がその表面に
ＴＦＤ素子が形成された素子基板１０であり、上側の基
板が対向電極１１が形成された対向基板１３である。こ
れら素子基板１０および対向基板１３は、例えば石英、
ガラス、プラスチック等によって形成されている。詳細
は後述するが、本実施の形態における液晶パネル２の画
素電極９は、対向基板１３側から入射された外光の反射
層として機能するとともに、スリットが形成されたこと
によって素子基板１０側に設置されたバックライトの照
明光を透過させる機能も有し、反射型、透過型双方の液
晶パネルを兼ねる、いわゆる半透過型液晶パネルを構成
している。

【００３１】素子基板１０の内面には、互いに平行に配
置されたストライプ状の配線が形成され、それらの配線
間に複数の画素電極９がマトリクス状に形成され、さら
に各画素電極９がＴＦＤ素子を介して各配線に接続され
ている。素子基板１０上の画素電極９やＴＦＤ素子が形
成された領域は、平面視して矩形の額縁状に形成された
遮光部１５によって取り囲まれており、この領域が有効
表示領域Ｌとして区画されている。この遮光部１５は、
素子基板１０の方向から照射されるバックライトの照明
光が反対側へ漏れ出ることを防止するためのものであ
り、後述する画素電極９と同様、アルミニウム等の反射
率の高い金属から形成されている。さらに、素子基板１
０の内面側には、画素電極９、ＴＦＤ素子、配線、遮光
部１５を覆うようにポリイミド等からなる配向膜１６が
形成されている。

【００３２】次に、素子基板１０の１画素分のレイアウ
トについて図３を用いて説明する。

【００３３】図３（ａ）は、液晶パネル２において、Ｔ
ＦＤ素子を含む１画素分のレイアウトを示す平面図であ
り、図３（ｂ）は、そのＡ−Ａ’線に沿う断面図であ
る。

【００３４】これらの図に示されるように、ＴＦＤ素子
７は、第１のＴＦＤ１７、第２のＴＦＤ１８の２つのＴ
ＦＤからなる、いわゆるバック・トゥー・バック型と呼
ばれるものであり、素子基板１０の表面に形成された絶
縁膜１９上において、第１金属膜２０と、この第１金属
膜２０の表面に陽極酸化によって形成された陽極酸化膜
２１と、この表面に形成されて相互に離間した第２金属
膜２２、２３とから構成されている。また、一方の第２
金属膜２２はそのまま延在して配線２４（走査線５）と
なり、他方の第２金属膜２３は画素電極９に接続されて
いる。

【００３５】第１金属膜２０は例えばＴａ（タンタル）
によって形成され、その場合、陽極酸化膜２１はＴａＯ
_ｘ（タンタル酸化物）によって形成される。また、第２
金属膜２２、２３は例えばＡｌ（アルミニウム）によっ
て形成される。

【００３６】ここで、第１のＴＦＤ１７は、走査線５の
側からみると順番に、第２金属膜２２／陽極酸化膜２１
／第１金属膜２０となって、金属／絶縁体／金属のサン
ドイッチ構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双
方向にわたって非線形となる。一方、第２のＴＦＤ１８
は、走査線５の側からみると順番に、第１金属膜２０／
陽極酸化膜２１／第２金属膜２３となって、第１のＴＦ
Ｄ１７とは反対の電流−電圧特性を有することになる。
したがって、ＴＦＤ素子７は、２つの素子を互いに逆向
きに直列接続した形となるため、１つの素子を用いる場
合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負双方向に
わたって対称化されることになる。

【００３７】なお、素子基板１０の表面に絶縁膜１９を
設ける理由は、第２金属膜２２、２３の堆積後における
熱処理により、第１金属膜２０が下地から剥離しないよ
うにするため、および第１金属膜２０に不純物が拡散し
ないようにするためである。したがって、このような点
が問題にならないのであれば、絶縁膜１９を省略しても
良い。さらに、電流−電圧特性を正負双方向で厳密に対
称化する必要がないのであれば、１つのダイオードから
なるＴＦＤ素子を用いても良い。

【００３８】第２金属膜２３から延長して形成される画
素電極９は、アルミニウム等の反射率の大きな金属膜か
ら形成されており、反射型液晶表示装置として機能させ
る際には、画素電極９自体が、対向基板１３側から入射
する外光を反射させる反射層として機能する。また、画
素電極９には、図３（ａ）において斜め方向に開口する
スリット状の開口部９ａが複数設けられ、透過型液晶表
示装置として機能させる際には、これら開口部９ａを通
過する光が液晶８に進入する構成となっている。なお、
実際の画素電極９には、反射光が散乱するように微妙な
起伏が設けられている。

【００３９】一方、図２に示すように、対向基板１３上
には、カラーフィルター１２が形成されている。このカ
ラーフィルター１２は、各画素電極９に対応して設けら
れたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色透光部２５
ｒ、２５ｇ、２５ｂと、各色透光部の間を埋めるように
素子基板１０側のＴＦＤ素子７および配線２４と平面的
に重なる部分に配置されたブラックマトリクス２６とか
ら構成されている。そして、カラーフィルター１２の上
には、絶縁性および平坦性を確保するためにオーバーコ
ート層２７が積層され、その上にストライプ状の対向電
極１１が形成され、さらにその上に配向膜２８が形成さ
れている。

【００４０】また、素子基板１０、対向基板１３それぞ
れの外面側には偏光板２９、３０が貼着されている。対
向基板１３の端部には液晶駆動用ＩＣ３１が実装されて
いる。

【００４１】［製造プロセス］次に、素子基板１０の製
造プロセスについて説明する。

【００４２】まず、図４（１）に示すように、基板１０
上面に絶縁膜１９を形成する。この絶縁膜１９は、例え
ば、酸化タンタル（Ｔａ_２０_５）からなり、スパッタリ
ング法で堆積したタンタル（Ｔａ）膜を熱酸化する方法
や、酸化タンタルからなるターゲットを用いたスパッタ
リングあるいはコスパッタリング法等により形成され
る。また、この絶縁膜１９は、上述したように、第１金
属膜２０の密着性を向上させるとともに、基板１０から
の不純物拡散を防止することを主目的として設けられる
ので、その膜厚は例えば５０〜２００ｎｍ程度で十分で
ある。

【００４３】次いで、図４（２）に示すように、絶縁膜
１９上面に第１金属膜２０を成膜する。ここで、第１金
属膜２０の膜厚は、ＴＦＤ素子７の用途によって好適な
値が選択され、通常、１００〜５００ｎｍ程度である。
また、第１金属膜２０の組成は、例えばタンタル単体や
タンタル合金からなる。ここで、第１金属膜２０として
タンタル単体を用いる場合には、スパッタリング法や電
子ビーム蒸着法などで形成可能である。また、第１金属
膜２０としてタンタル合金を用いる場合には、主成分の
タンタルに、例えばタングステン、クロム、モリブデ
ン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプロリ
ウム等、周期律表において第６〜第８族に属する元素を
添加する。この際、添加元素としては、タングステンが
好ましく、その含有割合は、例えば０．１〜６重量％が
望ましい。また、タンタル合金からなる第１金属膜２０
を形成するには、混合ターゲットを用いたスパッタリン
グ法や、コスパッタリング法、電子ビーム蒸着法等が用
いられる。

【００４４】そして、図４（３）に示すように、第１金
属膜２０を、一般に用いられているフォトリソグラフィ
およびエッチング技術によってパターニングする。

【００４５】続いて、図４（４）に示すように、陽極酸
化膜２１を第１金属膜２０の表面に形成する。詳細に
は、第１金属膜２０の表面が陽極酸化法によって酸化さ
れて、酸化タンタル（Ｔａ_２０_５）が形成される。この
とき、走査線５の基礎となる部分の表面も同時に酸化さ
れて、同様に酸化タンタルからなる陽極酸化膜２１が形
成される。陽極酸化膜２１の膜厚は、その用途によって
好ましい値が選択され、例えば１０〜３５ｎｍ程度であ
り、１つの画素について１個のＴＦＤを用いる場合と比
べると半分である。陽極酸化に用いられる化成液は、特
に限定されないが、例えば０．０１〜０．１重量％のク
エン酸水溶液を用いることができる。

【００４６】そして、図４（５）に示すように、走査線
５から枝分かれした陽極酸化膜２１のうちの破線部分３
２を、その基礎となっている第１金属膜２０とともに除
去する。これにより、第１のＴＦＤ１７および第２のＴ
ＦＤ１８で共用する第１金属膜２０が、走査線５と電気
的に分離されることになる。さらに、破線部分３２の除
去の際には、走査線５およびＴＦＤ素子７の形成領域以
外に位置する絶縁膜１９についても除去される。ここ
で、絶縁膜１９を除去する理由は、第１に、上記目的か
らすると、絶縁膜１９はＴＦＤ素子７が形成される領域
以外では不要であるためであり、第２に、透過型として
機能する場合に、絶縁膜１９によって透過光が減衰する
のを少しでも防止するためである。なお、破線部３２お
よび不要な絶縁膜１９の除去については、一般に用いら
れているフォトリソグラフィおよびエッチング技術が用
いられる。

【００４７】次に、図４（６）に示すように、画素電極
９および遮光部１５を兼ねる第２金属膜３３を成膜す
る。この第２金属膜３３は、例えばアルミニウムなどが
好適であり、スパッタリング法などによって形成され
る。また、第２金属膜３３の膜厚は、例えば５０〜３０
０ｎｍ程度である。

【００４８】そして、図４（７）に示すように、第２金
属膜３３を、一般に用いられているフォトリソグラフィ
およびエッチング技術によってパターニングする。これ
により、素子部分においては、第１のＴＦＤ１７におけ
る第２金属膜２２と第２のＴＦＤ１８における第２金属
膜２３とが相互に離間して形成される一方、走査線５に
おける最上層が第２金属膜２２によって被覆されること
になる。また、画素電極９の部分においては、ラビング
方向に一致して開口するスリット状の開口部９ａが複数
形成されることとなる。また、有効表示領域Ｌの外周に
沿う部分においては、額縁状の遮光部１５が形成される
ことになる。さらに他の部分においては、液晶駆動用Ｉ
Ｃ３１を実装するための端子や、ＦＰＣ基板を接続する
ための端子なども、第２金属膜３３のパターニングによ
って形成される。このようなプロセスにより、素子基板
１０には、第１のＴＦＤ１７と第２のＴＦＤ１８とを互
いに逆向きに接続したＴＦＤ素子７が、開口部９ａが設
けられた画素電極９とともにマトリクス状に形成され、
さらに周辺部に遮光部１５が形成されることとなる。

【００４９】この後、特に図示はしないが、配向膜１６
としてポリイミド溶液を基板対向面に塗布した後、焼成
し、ラビング処理を行う。

【００５０】なお、この製造プロセスについては、上記
工程の順番に限られるものではない。例えば、図４
（４）における工程によって第１金属膜２０の表面に陽
極酸化膜２１を形成した直後に、図４（６）および
（７）の工程を実行し、最後に、図４（５）の工程によ
って、破線部分３２を除去する工程としても良い。ま
た、上述した製造プロセスにおいては、第２金属膜２
２、２３と画素電極９との組成を同一としたが、第２金
属膜２２、２３として、クロム、チタン、モリブデン等
の非反射性金属をパターニングして形成し、この後、画
素電極９として、アルミニウム等の反射性金属をパター
ニングして形成しても良い。

【００５１】次に、対向基板１３の製造プロセスについ
て簡単に説明する。対向基板１３には、ＴＦＤ素子７の
ようなスイッチング素子を形成しないため、素子基板１
０と比較するとその製造プロセスは極めて簡易である。
すなわち、基板の一方の面の画素電極９と対向する領域
において、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色透光部２５ｒ、２５ｇ、２
５ｂを所定の配列で形成するとともに、それ以外の表示
領域においてはブラックマトリクス２６を形成してカラ
ーフィルター１２を形成し、次いで、カラーフィルター
１２の保護を兼ねてオーバーコート層２７をコーティン
グする。その後、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）のような
透明導電膜を成膜した後、これをパターニングして、対
向電極１１を形成する。

【００５２】この後、素子基板１０と同様に、配向膜２
８としてポリイミド溶液を基板対向面に塗布した後、焼
成し、ラビング処理を行う。

【００５３】［液晶パネルの全体構成］次に、上述した
液晶パネル２を含む液晶表示装置１の全体構成について
図５および図６を参照して説明する。

【００５４】ここで、図５は、液晶パネル２の構成を示
す斜視図であり、図６は、図５におけるＢ−Ｂ’線の断
面図である。なお、図６については、図５では省略して
いるバックライトユニットについても、液晶パネル２と
併せて示している。

【００５５】これらの図に示すように、液晶パネル２
は、配線２４や画素電極９等が形成された素子基板１０
と、対向電極１１等が形成された対向基板１３とが、ス
ぺーサ３４を混入したシール材１４により一定の間隙を
保って、互いに電極形成面が対向するように貼付される
とともに、この間隙に液晶１０５が封入された構造とな
っている。また、素子基板２００の背面側および対向基
板３００の手前側にはそれぞれ偏光板２０６、３０６が
設けられ、その偏光軸はラビング方向に応じて設定され
る。

【００５６】図５に示すように、素子基板１０の対向面
であって、対向基板１３から張り出した端子部分には、
データ信号を各データ線５に供給する液晶駆動用ＩＣ３
１がＣＯＧ実装されるとともに、外部制御基板（図示省
略）から液晶駆動用ＩＣ３１に制御信号を供給するため
のＦＰＣ基板３５が接続される。また、対向基板１３の
対向面であって、素子基板１０から張り出した端子部分
には、走査信号を各走査線５に供給するＩＣチップ３６
がＣＯＧ実装されるとともに、外部制御基板からＩＣチ
ップ３６に制御信号を供給するためのＦＰＣ基板３７が
接続される。ここで、ＩＣチップ３１、３６におけるＣ
ＯＧ実装は、それぞれ、第１に、基板との所定位置にお
いて、接着材中に導電性微粒子を均一に分散させたフィ
ルム状の異方性導電膜を挟持し、第２に、ＩＣチップ３
１、３６を基板に加圧・加熱することにより行われる。
ＦＰＣ基板３５、３７の接続も同様にして行われる。

【００５７】図６に示すように、素子基板１３の背面に
は、バックライトユニット３８がシリコンゴム等の緩衝
材３９を介して設けられている。このバックライトユニ
ット３８は、光を照射する線状の蛍光管４０と、この蛍
光管４０による光を反射して導光板４１に導く反射板４
２と、導光板４１に導かれた光を液晶パネル２に一様に
拡散させる拡散板４３と、導光板４１から液晶パネル２
とは反対方向に出射される光を液晶パネル２側へ反射さ
せる反射板４４とから構成されている。ここで、蛍光管
４０は、常に点灯するのではなく、外光がほとんどない
ような場合にだけ、ユーザあるいはセンサの指示によっ
て点灯するものである。したがって、蛍光管４０が点灯
している場合には、バックライトユニット３８からの光
が画素電極９の開口部９ａを通過することによって、透
過型として機能する一方、蛍光管４０が消灯している場
合には、対向基板１３の側から入射した光が画素電極９
で反射することによって、反射型として機能することに
なる。

【００５８】また、蛍光管４０に代えて、発光ダイオー
ド（ＬＥＤ）を複数個、棒状に並べたものを導光板４１
のサイドに取り付けるようにしてもよい。

【００５９】本実施の形態の液晶表示装置１において
は、液晶パネル２の有効表示領域Ｌの外周に沿う部分、
すなわち額縁部分Ｇに、従来用いられていたクロムより
も高い光反射率を有するアルミニウムからなる遮光部１
５を設けているため、入射した外光が遮光部１５で反射
して額縁部分Ｇが従来より明るくなり、偏光板２９、３
０を通して見ると、この額縁部分Ｇの色が従来よりもグ
レーがかって見えることになる。

【００６０】その結果、有効表示領域Ｌの端部に文字を
表示した場合でも、図１３に示したように文字の一部が
遮光膜の部分と重なってつぶれるようなことがなく、有
効表示領域端部での画像の視認性を従来に比べて向上す
ることができる。

【００６１】また、本実施の形態では、遮光部１５の構
成材料に画素電極９と同一のアルミニウムを用いている
ため、画素電極９の形成と遮光部１５の形成とを同時に
行うことができ、製造プロセスが複雑化することがな
い。

【００６２】なお、本実施の形態では画素電極にスリッ
トを設け、バックライトを備えて半透過型液晶パネルを
構成したが、スリットやバックライトを設けずに単なる
反射型液晶パネルとしても良い。また、画素電極をアル
ミニウムで形成し、これを反射層とするよう構成した
が、この構成に代えて、画素電極とは別個に反射層を設
ける場合には、その反射層を有効表示領域の外周に沿う
部分にまで延在させ、この部分を額縁部分の遮光部とし
て機能させる構成としてもよい。この構成とした場合で
も、上記と同様の作用、効果により有効表示領域端部で
の画像の視認性を向上することができる。この構成の場
合、反射層とは別個に遮光部を形成する必要がないた
め、製造上も有利である。

【００６３】さらに、本実施の形態では素子基板側に反
射層がある例について説明したが、本発明は対向基板側
に反射層がある構成の液晶パネルにも適用可能である。
例えば対向基板の表面にまずアルミニウムからなる反射
層が形成され、その上にカラーフィルター、オーバーコ
ート層、対向電極が順次形成されている場合、その反射
層を有効表示領域の外周に沿う部分にまで延在させ、こ
の部分を額縁部分の遮光部として機能させればよい。こ
の場合、遮光部となるアルミニウム反射層の上方にはオ
ーバーコート層も延在させ、オーバーコート層によって
アルミニウム反射層と対向電極とを絶縁する必要があ
る。

【００６４】［第２の実施の形態］以下、本発明の第２
の実施の形態を図７を参照して説明する。

【００６５】図７は本実施の形態の液晶表示装置を構成
する液晶パネルの断面構造を示すものである。本実施の
形態の液晶表示装置は、その全体構成、基本構成は第１
の実施の形態と全く同様であり、有効表示領域の外周部
分の構成が異なるのみである。したがって、図７におい
て、第１の実施の形態で用いた図２と共通の構成要素に
ついては同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

【００６６】第１の実施の形態では、素子基板１０上の
有効表示領域Ｌの外周部分にあたる額縁部分Ｇに、アル
ミニウムからなる額縁状の遮光部１５を設けたが、本実
施の形態の液晶パネル５０では、図７に示すように、素
子基板１０上の有効表示領域Ｌの外周部分にあたる額縁
部分Ｇに遮光部が存在せず、この領域には有効表示領域
Ｌ内の配線、ＴＦＤ素子、画素電極９等を覆う配向膜１
６のみが延在している。

【００６７】また、対向基板１３側は、有効表示領域Ｌ
の外周部分にあたる額縁部分Ｇにオーバーコート膜２
７、ＩＴＯからなる対向電極１１、配向膜２８が設けら
れている。

【００６８】したがって、２枚の基板１０、１３間で有
効表示領域Ｌの外周部分にあたる額縁部分Ｇには、上か
らオーバーコート膜２７、対向電極１１、配向膜２８、
配向膜１６が存在することになり、これらは全て光透過
性を有する材料である。

【００６９】本実施の形態の液晶パネル５０によれば、
有効表示領域Ｌの外周に沿う部分では光が透過するた
め、額縁部分Ｇが白く見え、有効表示領域の端部に文字
を表示した場合でもその文字の視認性を従来に比べて向
上することができる。

【００７０】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態で用いた液晶パネルを構成する各層
の具体的な材料、寸法等に関してはほんの一例に過ぎ
ず、適宜変更が可能である。例えば額縁部分の遮光部に
用いる材料としてアルミニウム以外の金属を用いてもよ
い。また、上記実施の形態ではＴＦＤ型液晶パネルに本
発明を適用したが、その他、ＴＦＴ型液晶パネル、パッ
シブマトリクス型液晶パネルに本発明を適用することも
勿論可能である。

【００７１】［電子機器］以下、本発明の液晶表示装置
を備えた電子機器の具体例について説明する。

【００７２】図８は、携帯電話の一例を示した斜視図で
ある。

【００７３】図８において、符号１０００は携帯電話本
体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた
液晶表示部を示している。

【００７４】図９は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。

【００７５】図９において、符号１１００は時計本体を
示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた液晶
表示部を示している。

【００７６】図１０は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。

【００７７】図１０において、符号１２００は情報処理
装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１
２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶
表示装置を用いた液晶表示部を示している。

【００７８】図８から図１０に示す電子機器は、上記の
液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えたものであるの
で、画面端部における画像の視認性に優れた電子機器を
実現することができる。

【００７９】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、液晶パネルの有効表示領域の外周に沿う部分、
すなわち額縁部分が従来より明るく見えるようになるた
め、有効表示領域の端部に文字を表示したような場合で
も、文字の一部が遮光膜と重なってつぶれることがな
く、有効表示領域端部での画像の視認性を従来に比べて
向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態である液晶表示装
置の等価回路を示す図である。

【図２】 同、液晶表示装置における液晶パネルの構造
を示す断面図である。

【図３】 図３（ａ）は同、液晶パネルにおける１画素
分のレイアウトを示す平面図であり、図３（ｂ）は図３
（ａ）のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。

【図４】 同、液晶パネルを構成する素子基板の製造プ
ロセスを示す工程断面図である。

【図５】 同、液晶パネルを含む液晶表示装置の全体構
成を示す斜視図である。

【図６】 図５のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

【図７】 本発明の第２の実施の形態である液晶表示装
置における液晶パネルの構造を示す断面図である。

【図８】 本発明の液晶表示装置を備えた電子機器の一
例を示す斜視図である。

【図９】 本発明の液晶表示装置を備えた電子機器の他
の例を示す斜視図である。

【図１０】 本発明の液晶表示装置を備えた電子機器の
さらに他の例を示す斜視図である。

【図１１】 ＴＦＤ素子を用いた従来の液晶表示装置の
一構成例を示す平面図である。

【図１２】 同、断面図である。

【図１３】 従来の問題点を説明するための図である。

【符号の説明】

１ 液晶表示装置 ２，５０ 液晶パネル ５ 走査線 ６ データ線 ７ ＴＦＤ素子 ８ 液晶 ９ 画素電極 １０ 素子基板 １１ 対向電極 １２ カラーフィルター １３ 対向基板 １５ 遮光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H091 FA34Y FB08 FC02 FC10 FC26 FD04 FD13 FD23 GA13 LA03 LA11 LA16 2H092 JA03 JA07 JA12 JB12 JB23 JB32 JB42 JB51 KA16 KA18 KB14 MA05 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA24 MA32 MA35 MA41 NA01 NA25 PA08 PA09 PA13 QA07 5C094 AA02 AA55 BA02 BA43 CA19 EA04 EA06 EB02 ED11 ED15 FB02 FB12

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 互いに対向する２枚の基板間に液晶層が
   挟持された液晶表示装置であって、 前記２枚の基板のうちの少なくとも一方の基板上に、有
   効表示領域の外周に沿ってクロムよりも高い光反射率を
   有する金属からなる遮光部が設けられたことを特徴とす
   る液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記一方の基板上に外光を反射させる反
   射層を兼ねる画素電極が設けられ、該画素電極と同一の
   金属材料によって前記遮光部が形成されたことを特徴と
   する請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 【請求項３】 前記一方の基板上に反射層が設けられ、
   該反射層が、前記有効表示領域の外周に沿う部分にまで
   延在して前記遮光部として機能することを特徴とする請
   求項１に記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記金属がアルミニウムであることを特
   徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液晶表示
   装置。
5. 【請求項５】 互いに対向する２枚の基板間に液晶層が
   挟持された液晶表示装置であって、 前記２枚の基板の有効表示領域の外周に沿う部分が、と
   もに光透過性を有する材料のみで構成されていることを
   特徴とする液晶表示装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の液
   晶表示装置を用いたことを特徴とする電子機器。