JP3733233B2 - 液晶パネル、電子機器および液晶パネルの製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネル、それを利用した電子機器、および液晶パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
従来より、携帯電話やパソコン等の電子機器では、液晶パネルを用いた液晶表示装置が利用され、液晶表示装置を用いれば、画像、文字等の表示部分を軽量、薄型化することができるので、電子機器の小型化、軽量化を図ることができる。
このような液晶表示装置に用いられる液晶パネルは、所定の隙間を設けて対向配置される一対の透明なガラス基板と、このガラス基板に挟まれた間隙に密閉封入される液晶物質とを含んで構成される。
【０００３】
一対のガラス基板の相対向する面の少なくとも一方の面には、画素単位で液晶物質に電圧を印加して画面制御を行うために、金属配線パターンが形成される。
例えば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）型の液晶パネルであれば、金属配線パターンは、一方のガラス基板上に格子状に配置される走査線およびデータ線と、走査線およびデータ線により区画される画素単位に形成される薄膜トランジスタとを備え、この薄膜トランジスタをスイッチング素子として、液晶物質が電気的に制御される。
【０００４】
また、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）型の液晶パネルであれば、金属配線パターンは、一方のガラス基板の対向面に複数本平行配置されるデータ線と、他方のガラス基板の対向面にデータ線と直交する方向に複数本平行配置される走査線と、データ線および走査線により区画される画素単位に形成されるダイオードとを備え、このダイオードをスイッチング素子として、液晶物質が電気的に制御される。
【０００５】
そして、これらＴＦＴ、ＴＦＤ型の液晶パネルの金属配線パターンは、タンタル（Ｔａ）等の金属により構成され、ガラス基板とこの金属配線パターンとの間には、金属酸化物の下地膜、タンタルであれば、タンタルの酸化膜（ＴａＯｘ）が介在し、両者の接着性を確保している。
【０００６】
一方、このような液晶パネルのガラス基板の端部には、液晶パネルを駆動するために、ドライバＩＣが直接実装されたり（ＣＯＧ）、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）が接続される。
【０００７】
このドライバＩＣは、上述した走査線やデータ線に電気信号を送るものであるから、ガラス基板上の所定の位置に精度よく取り付ける必要がある。
【０００８】
このため、通常は、ガラス基板上に位置決めマークを設け、ガラス基板に光を照射し、この位置決めマークを透過光や反射光で検出することにより、ガラス基板とドライバＩＣ等との位置合わせを行っている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した液晶パネルを構成するガラス基板上に位置決めマークを設ける場合、ガラス基板上にはＴａＯｘ等の金属酸化膜が形成されているので、透過光により位置決めマークの位置を正確に検出することが困難であるという問題がある。
【００１０】
すなわち、ガラス基板上の金属配線パターンは、複数回のスパッタ、エッチング等を経て形成され、ＴａＯｘ等の金属酸化膜の膜厚が不均一になり易い。従って、位置決めマークの透過光または反射光が屈折、乱反射して位置決めマークとそうでない部分の境界がぼやけてしまい、位置決めマークの位置を正確に検出できないという問題がある。
【００１１】
特に、金属酸化膜をＴａＯｘとした場合、ＴａＯｘ膜自体の屈折率が大きいので、位置決めマークを精度よく検出することが困難であるという問題がある。
【００１２】
本発明の目的は、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板と前記部材との位置合わせを高精度に行うことができる液晶パネル、それを利用した電子機器、および液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る液晶パネルは、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板には、タンタルの酸化物（ＴａＯｘ）からなる下地膜が形成されており、前記下地膜上には、前記タンタルの酸化物に含まれる金属（タンタル）により構成される複数の金属配線パターン、及び、前記ガラス基板と前記部材との位置を合わせるための位置決めマークが形成されており、前記位置決めマークは、前記タンタルとは異なる金属により構成されているとともに、前記位置決めマークの周縁部においては、前記下地膜が選択的に除去されていることを特徴とする。
【００１４】
ここで、前記位置決めマークは金属より構成されることが考えられ、その金属としては、例えば、タンタル（Ｔａ）が考えられ、前記金属酸化物としては、タンタルの化合物（ＴａＯｘ）が考えられる。
【００１５】
また、位置決めマークとしては、例えば、透過光を利用して検出するものであれば、要するに透過光を遮断するようなものから構成される位置決めマークを採用するのが好ましく、例えば、タンタル等の金属薄膜によって形成することが考えられ、その形状も円形、矩形等種々のものが考えられる。
【００１６】
このような発明によれば、位置決めマークの周縁近傍で下地膜が除去されているので、位置決めマークとそうでない部分の境界を正確に把握することができ、ガラス基板と前記ガラス基板に接続された部材との位置合わせの高精度化が図られる。
【００１７】
以上において、上述した位置決めマークとしては、金属酸化膜に含まれる金属とは異なる金属により構成された位置決めマークを採用するのが好ましく、例えば、金属酸化膜がＴａＯｘから構成されている場合、クロム（Ｃｒ）により位置決めマークを構成するのが好ましい。
【００１８】
すなわち、位置決めマークが下地膜に含まれる金属とは異なる金属から構成されているので、位置決めマークをフォトレジスト等で覆うことなく、周縁近傍の下地膜を除去することができ、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、ガラス基板の表面を露出させる工程により位置決めマークが侵食されることもない。従って、境界部分の輪郭が明瞭な位置決めマークを工程の複雑化を招くことなく形成することができる。
【００１９】
また、本発明に係る液晶パネルの製造方法は、ガラス基板と、該ガラス基板に部材を接続する液晶パネルの製造方法において、金属酸化物からなる下地膜を前記ガラス基板上に形成する工程と、前記下地膜上に複数の金属配線パターンを設ける工程と、前記下地膜上に、位置決めマークを設ける工程と、前記位置決めマークの周縁部の前記下地膜を除去し、前記ガラス基板を露出させる工程と、前記位置決めマークを透過光又は反射光により検出し、前記ガラス基板と前記部材との位置合わせを行う工程と、を含むことを特徴とする。
【００２０】
このような本発明によれば、位置決めマークを形成した後に、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、前記ガラス基板の表面を露出させる工程によりその周縁近傍の下地膜を除去しているので、位置合わせの高精度化を図ることのできる位置決めマークを、下地膜を必要最小限除去するだけで設けることができる。以上において、上述した液晶パネルの製造方法は、位置決めマークを設ける工程の後、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、前記ガラス基板の表面を露出させる工程の前に、位置決めマークの位置、形状に応じたマスキング処理を行う工程を含み構成されているのが好ましい。
【００２１】
すなわち、マスキング処理を行う工程を含んでいるので、位置決めマーク形成後、マスキング処理により位置決めマークを被覆保護することができ、位置決めマークの周縁部の前記下地膜を除去し、前記ガラス基板を露出させる工程により位置決めマークが侵食されることを防止できる。従って、位置決めマークと他の部分の境界を明瞭にすることができ、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材との位置合わせの高精度化が一層図られる。
【００２２】
また、上述した位置決めマークとしては、金属酸化膜に含まれる金属とが異なる金属により構成される位置決めマークを採用するのが好ましい。
【００２３】
すなわち、金属酸化膜がＴａＯｘから構成され、位置決めマークがＴａから構成されている場合、そのままでＴａＯｘを除去するエッチングを行うと、同時に位置決めマークも侵食されてしまう。一方、ＴａＯｘにより金属酸化膜を構成し、Ｃｒにより位置決めマークを構成した場合、ＴａＯｘを除去するエッチングを行っても、位置決めマークが侵食されることはない。
【００２４】
従って、位置決めマークとそうでない部分の境界が明瞭な液晶パネルを、マスキング処理を行う工程を設けることなく、製造することができ、液晶パネル製造工程の簡素化が図られる。特に、ＴＦＤ型の液晶パネルの場合、金属Ｃｒは画素単位に形成されるダイオードの一部であり、当該ダイオードの形成とともに、位置決めマークをガラス基板上に設けることができ、工程の簡素化が著しい。
【００２５】
さらに、本発明に係る液晶パネルは、上述した液晶パネルのいずれかと、この液晶パネルを制御する半導体素子とを備えていることを特徴とし、例えば、透明基板上に直接ドライバＩＣを実装したＣＯＧ型の液晶パネルや、透明基板の端部にＴＣＰが接続された液晶パネルが考えられる。
【００２６】
そして、本発明に係る電子機器は、上述した液晶パネルと、この液晶パネルが収納される筐体とを備えていることを特徴とするものであり、例えば、携帯電話、腕時計、ノートパソコン等である。
【００２７】
このような電子機器では、前記液晶パネルを採用し、液晶パネルの組立精度の高精度化が図られているので、液晶パネルを含む電子機器の不良品の発生率を低減できて製造コストを低減することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の一形態を図面に基づいて説明する。
【００２９】
図１には、第１実施形態に係るＴＦＤ型の液晶パネル１０の分解斜視図が示されている。
【００３０】
この液晶パネル１０は、所定の隙間を設けて対向配置される一対の透明なガラス基板１１、１２と、この一対のガラス基板１１、１２に挟まれた間隙に密閉封入される液晶物質１３と、前記一対のガラス基板１１、１２の外側に配置され、互いに偏光方向を直交させた偏光板１４、１５とを含んで構成される。
【００３１】
そして、バックライト等からの白色光Ｗは、図１中の下側の偏光板１４、ガラス基板１１を介して液晶物質１３内に進入し、当該液晶物質１３の配向状態に応じてねじ曲げられて、上側のガラス基板１２、偏光板１５を介して出射される。上側のガラス基板１２と対向する下側のガラス基板１１の対向面上には、液晶物質１３の配向状態を変化させるために、後述するＴＦＤ素子部３２を含む金属配線パターン３０が形成されている。
【００３２】
この金属配線パターン３０は、図２に示すように、ガラス基板１１上に複数本平行配置されるデータ線３１と、このデータ線３１からの信号に応じてスイッチ動作するＴＦＤ素子部３２と、このＴＦＤ素子部３２のスイッチ動作に応じて前記液晶物質１３に電圧を印加するＩＴＯ膜からなる画素電極３３とを含んで構成される。
【００３３】
ＴＦＤ素子部３２は、図３の断面詳細図に示すように、金属配線となるＴａ層３２１、このＴａ層３２１の上に形成されるＴａ２Ｏ５層３２２、このＴａ２Ｏ５層３２２の上に形成されるＣｒ層３２３からなる急峻な閾値特性を有する双方向ダイオードであり、Ｃｒ層３２３は、前記画素電極３３と電気的に接続されている。
【００３４】
そして、このＴＦＤ素子部３２のＴａ層３２１とガラス基板１１との間には、金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４が介在し、このＴａ２Ｏ５膜３４により、Ｔａ層３２１とガラス基板１１との接着性が確保されている。
【００３５】
尚、前記データ線３１もＴａ層から構成されているので、ガラス基板１１との接着性を確保するために、上述と同様にＴａ層とガラス基板１１との間に、
Ｔａ２Ｏ５層が介在している。
【００３６】
一方、下側のガラス基板１１と対向する上側のガラス基板１２の対向面上には、図１に示すように、ガラス基板１２上にＣｒをスパッタして形成される格子状のブラックマスク４１と、このブラックマスク４１により区画された画素単位に配置されるＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ４２と、これらブラックマスク４１、カラーフィルタ４２を覆うように配置され、下側ガラス基板１１上のデータ線３１と直交する方向に複数本平行配置されるＩＴＯ膜からなる走査線４３とを含んで構成される。
【００３７】
このようなＴＦＤ型構造の液晶パネル１０には、図４に示すように、データ線３１信号を出力し液晶物質１３を制御するために、半導体素子であるドライバＩＣ５０、８０が実装されて液晶表示装置６０が構成される。
【００３８】
すなわち、液晶表示装置６０は、上述した液晶パネル１０と、液晶パネル１０の表示部分１０Ａ以外のガラス基板１１、１２の端部実装辺１１Ａ、１２Ａ上に実装されるドライバＩＣ５０、８０とを含んで構成されている。尚、図４では図示を略したが、ドライバＩＣ５０の端子は、ガラス基板１１上に形成される前記データ線３１と接続され、データ線３１を構成するＴａ層とガラス基板１１との接着性を確保するために、ガラス基板１１の端部実装辺１１Ａ上にもＴａ２０５膜３４が形成されている。また、同様に図示を略したが、ガラス基板１２上のドライバＩＣ８０の各端子は上述した走査線４３と接続されている。
【００３９】
そして、ガラス基板１１の端部実装辺１１Ａ上には、ガラス基板１１とドライバＩＣ５０との位置合わせを行うために、円形状の位置決めマーク７１が形成されている。
【００４０】
尚、ＴＦＤ型の液晶パネル１０の場合、上述したように、上側のガラス基板１２にもドライバＩＣ８０を実装する必要があるので、ドライバＩＣ８０とガラス基板１２との位置合わせを行うために、位置決めマーク７１が形成されている。
【００４１】
位置決めマーク７１は、図５の断面詳細図に示すように、ガラス基板１１上のＴａ２Ｏ５膜３４の上に設けられるＴａ金属膜から構成され、この位置決めマーク７１の周縁近傍の領域Ａでは、前記Ｔａ２Ｏ５膜３４が除去され、ガラス基板１１の表面が露出している。
【００４２】
このような位置決めマーク７１は、金属配線パターン３０の形成工程において、スパッタ法等により形成され、具体的には、以下のような手順で形成される。▲１▼ ガラス基板１１の洗浄後、スパッタ法により金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４をガラス基板１１の上に形成する（酸化膜形成工程）。
【００４３】
▲２▼ さらに、スパッタ法により金属配線を構成するＴａ層３２１をこのＴａ２Ｏ５膜３４の上に形成する。
【００４４】
▲３▼ フォトリソグラフィ法により、ガラス基板１１上に金属配線パターン３０、位置決めマーク７１をフォトレジストで覆い、他の部分のＴａ膜をエッチングにより除去する（マーク形成工程）。
【００４５】
▲４▼ 陽極酸化法により、ＴＦＤ素子部３２のＴａ層３２１の表面にＴａ２Ｏ５層３２２を形成する。
【００４６】
▲５▼ 位置決めマーク７１の位置、形状に応じたマスキング処理を行った後（マスキング工程）、エッチングにより当該位置決めマーク７１の周縁近傍のＴａ２Ｏ５膜３４を除去する。
【００４７】
このようにして形成された位置決めマーク７１を備えた液晶パネル１０には、液晶を駆動させるドライバＩＣ５０が実装される。すなわち、位置決めマーク７１に透過光を照射し、液晶パネル１０の端部実装辺１１ＡとドライバＩＣ５０との相対位置を高精度に検出することにより、液晶パネル１０およびドライバＩＣ５０の位置合わせを行う。そして、両者を異方性導電シート（ＡＣＦ）により物理的、電気的に接続し、液晶パネル１０と、半導体素子となるドライバＩＣ５０とを備えたＣＯＧ型の液晶表示装置６０が完成する。
【００４８】
尚、カラーフィルタ４２が配置されるガラス基板１２にも、ドライバＩＣ８０が実装されるが、上述と略同様の手順、構造であるので、その説明は省略する。そして、液晶表示装置６０は、各種の電子機器の筐体に組み込まれ、情報、画像等の表示部分として利用され、例えば、図６に示す携帯電話４００の筐体４０１に組み込まれたり、図７に示すノートパソコン５００の筐体５０１に組み込まれる。
【００４９】
以上のような第１実施形態によれば、次のような効果がある。
【００５０】
▲１▼ すなわち、位置決めマーク７１の周縁近傍で金属酸化膜であるＴａ２Ｏ５層３２２が除去されてガラス基板１１の表面が露出しているので、位置決めマーク７１とそうでない部分の境界を正確に把握することができ、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１およびドライバＩＣ５０の位置合わせを高精度で行うことができる。特に、屈折率の大きなＴａ２Ｏ５層３２２が形成される液晶パネル１０において、その効果は著しい。
【００５１】
▲２▼ また、上述した液晶パネル１０の製造方法が位置決めマーク７１を形成した後、エッチング工程によりその周縁近傍のＴａ２Ｏ５層３２２を除去しているので、Ｔａ２Ｏ５層３２２を必要最小限除去するだけで、境界部分の明瞭な位置決めマーク７１を設けることができる。
【００５２】
▲３▼ さらに、エッチング工程により除去しているので、当該Ｔａ２Ｏ５層３２２の除去工程を金属配線パターン３０の形成工程と略同様の工程で行うことができる。
【００５３】
▲４▼ そして、マスキング工程を含んでいるので、位置決めマーク７１の周縁近傍のＴａ２Ｏ５層３２２をエッチングにより除去しても、位置決めマーク７１に外周部分が侵食されることもなく、位置決めマーク７１の境界部分の輪郭を明瞭にすることができ、位置決めマーク７１を利用してガラス基板１１の端部実装辺１１Ａの上にドライバＩＣ５０を実装するに際して、両者の位置合わせの高精度化を図ることができる。
【００５４】
▲５▼ そして、このような液晶パネル１０を含んで液晶表示装置６０が構成されているので、液晶表示装置６０の不良率を低減することができ、電子機器４００、５００の製造コストを大幅に低減することができる。
【００５５】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明した部分または部材と同一または類似の部分等については、その説明を簡略または省略する。
【００５６】
前述の第１実施形態では、液晶パネル１０に設けられる位置決めマーク７１は、金属酸化膜であるＴａ２Ｏ５膜３４に含まれる金属Ｔａによって形成されていた。
【００５７】
これに対して、第２実施形態に係る液晶パネル１１０に設けられる位置決めマーク１７１は、図８に示すように、Ｔａ２Ｏ５層３２２上にスパッタ法によりＣｒ金属膜により形成されている点が相違する。
【００５８】
このような位置決めマーク１７１は、上述と同様に、金属配線パターン３０とともに形成されるが、具体的には、以下のような手順で形成される。
【００５９】
▲１▼ ガラス基板１１の洗浄後、スパッタ法により金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４をガラス基板１１の上に形成する（酸化膜形成工程）。
【００６０】
▲２▼ さらに、スパッタ法により金属配線を構成するＴａ層３２１をこのＴａ２Ｏ５膜３４の上に形成する。
【００６１】
▲３▼ フォトリソグラフィ法により、ガラス基板１１上に金属配線パターン３０、をフォトレジストで覆い、他の部分のＴａ金属膜をエッチングにより除去する。
▲４▼ 陽極酸化法により、Ｔａ層３２１の表面にＴａ２Ｏ５層３２２を形成する。
【００６２】
▲５▼ Ｔａ２Ｏ５層３２２のＴＦＤ素子部３２に相当する部分、およびドライバＩＣ実装位置に応じた部分に、ＣｒをスパッタしてＣｒ層３２３、位置決めマーク１７１を形成する。
【００６３】
▲６▼ フォトリソグラフィ法により、ＴＦＤ素子部３２、位置決めマーク１７１の部分をフォトレジストで覆い、他の部分のＣｒ金属膜をエッチングにより除去する（マーク形成工程）。
【００６４】
▲７▼ 金属配線パターン３０表面に形成されたＴａ２Ｏ５層３２２をフォトレジストで覆い、位置決めマーク１７１の近傍領域のＴａ２Ｏ５膜３４をエッチングにより除去する（エッチング工程）。
【００６５】
以上のような液晶パネル１１０にドライバＩＣ等を実装する手順、液晶パネル１１０にドライバＩＣが実装された液晶表示装置の使用方法等については、前述の第１実施形態と略同様なので、その説明は省略する。
【００６６】
このような第２実施形態に係る液晶パネル１１０によれば、前述の第１実施形態で述べた▲１▼〜▲３▼の効果に加えて以下のような効果がある。
【００６７】
すなわち、位置決めマーク１７１が下地となるＴａ２Ｏ５膜３４に含まれる金属（Ｔａ）とは異なる金属（Ｃｒ）から構成されているので、位置決めマーク１７１をフォトレジストで覆うことなく、位置決めマーク１７１の周縁近傍の部分でＴａ２Ｏ５膜３４をエッチングにより除去することができ、当該エッチング工程により位置決めマーク１７１が侵食されることもない。従って、境界部分の輪郭が明瞭な位置決めマーク１７１を、工程の複雑化を招くことなく形成することができる。
【００６８】
特に、位置決めマーク１７１が金属Ｃｒにより形成されているので、ＴＦＤ素子部３２の金属Ｃｒ層３２３形成の工程において、同時に上述したマークを形成することができる。
【００６９】
尚、本発明は、前述の各実施形態に限定されるものではなく、次に示すような変形をも含むものである。
【００７０】
すなわち、前述の第１実施形態における位置決めマークの製造方法は、位置決めマーク７１をフォトレジストにより覆うマスキング工程を含んでいたが、これに限らず、位置決めマーク７１のマスキング処理を行うことなく、ガラス基板１１上のＴａ２Ｏ５膜３４を除去するエッチング工程を行ってもよい。この場合、図９に示すように、液晶パネル２１０に設けられる位置決めマーク２７１は、その外周部分にＴａ２Ｏ５膜３４が一部残ってしまう。しかしながら、ガラス基板とドライバＩＣ等他の電子部品との位置合わせ精度は、金属配線パターン等の配線の構造、緻密さにより決定されるものであり、単純な接続構造であれば、上述した位置決めマーク２７１であっても、十分高精度化を図ることができる。
【００７１】
さらに、前記第１実施形態に係る液晶表示装置６０は、ＣＯＧ型のものであったが、これに限らず、ガラス基板１１の実装辺にＴＣＰを接続するような場合に本発明を利用しても、上述と同様の効果を享受することができる。
【００７２】
そして、前述の各実施形態では、ＴＦＤ型の液晶パネル１０、１１０に本発明を利用していたが、ＴＦＴ型の液晶パネル、ＳＴＮ型の液晶パネルに本発明を利用してもよい。
【００７３】
また、前述の各実施形態では、金属配線パターン３０を構成する金属としてＴａを採用していたが、それ以外の金属を配線パターンの材料とする場合であっても、本発明を採用することができる。
【００７４】
さらに、前述の各実施形態では、位置決めマーク７１、１７１は、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１と、ドライバＩＣ５０、８０との位置合わせを行うために用いられていたが、これに限らず、例えば、互いに対向配置される一対のガラス基板の位置合わせを行う場合に、本発明を利用してもよい。
【００７５】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および形状等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
【００７６】
【発明の効果】
前述のような本発明の液晶パネルおよび液晶パネルの製造方法によれば、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板には、金属酸化物からなる下地膜が形成されており、前記下地膜上には、前記金属酸化物に含まれる金属により構成される複数の金属配線パターン、及び、前記ガラス基板と前記部材との位置を合わせるための位置決めマークが形成されており、前記位置決めマークは、前記下地膜に含まれる金属とは異なる金属により構成されているとともに、前記位置決めマークの周縁部においては、前記下地膜が選択的に除去されているので、位置決めマークの境界部分を正確に把握することができ、ガラス基板と他の部材等との位置合わせを高精度に行うことができる。従って、液晶パネルの製造において、不良率を低減することができ、電子機器の製造コストを大幅に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶パネルの構造を表す分解斜視図である。
【図２】前記実施形態における金属配線パターンの構造を表す平面図である。
【図３】前記実施形態におけるＴＦＤ素子部の構造を表す断面図である。
【図４】前記実施形態における液晶パネルにドライバＩＣを実装した液晶表示装置を表す平面図である。
【図５】前記実施形態の液晶パネルのガラス基板上に設けられる位置決めマークを表す断面図である。
【図６】前記実施形態の液晶パネルを含む液晶表示装置が用いられた携帯用電子機器を表す概略斜視図である。
【図７】前記実施形態の液晶パネルを含む液晶表示装置が用いられた他の携帯用電子機器を表す概略斜視図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る液晶パネルに設けられる位置決めマークを表す断面図である。
【図９】液晶パネル上に設けられる位置決めマークの変形を表す断面図である。
【符号の説明】
１０、１１０、２１０ 液晶パネル
１１、１２ 透明基板
１３ 液晶物質
３０ 金属配線パターン
３４ 金属酸化膜（Ｔａ２Ｏ５膜）
５０、８０ 他の電子部品、基板等
７１、１７１、２７１ 位置決めマーク
６０ 液晶表示装置
４００、６００ 電子機器
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネル、それを利用した電子機器、および液晶パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
従来より、携帯電話やパソコン等の電子機器では、液晶パネルを用いた液晶表示装置が利用され、液晶表示装置を用いれば、画像、文字等の表示部分を軽量、薄型化することができるので、電子機器の小型化、軽量化を図ることができる。
このような液晶表示装置に用いられる液晶パネルは、所定の隙間を設けて対向配置される一対の透明なガラス基板と、このガラス基板に挟まれた間隙に密閉封入される液晶物質とを含んで構成される。
【０００３】
一対のガラス基板の相対向する面の少なくとも一方の面には、画素単位で液晶物質に電圧を印加して画面制御を行うために、金属配線パターンが形成される。
例えば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）型の液晶パネルであれば、金属配線パターンは、一方のガラス基板上に格子状に配置される走査線およびデータ線と、走査線およびデータ線により区画される画素単位に形成される薄膜トランジスタとを備え、この薄膜トランジスタをスイッチング素子として、液晶物質が電気的に制御される。
【０００４】
また、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）型の液晶パネルであれば、金属配線パターンは、一方のガラス基板の対向面に複数本平行配置されるデータ線と、他方のガラス基板の対向面にデータ線と直交する方向に複数本平行配置される走査線と、データ線および走査線により区画される画素単位に形成されるダイオードとを備え、このダイオードをスイッチング素子として、液晶物質が電気的に制御される。
【０００５】
そして、これらＴＦＴ、ＴＦＤ型の液晶パネルの金属配線パターンは、タンタル（Ｔａ）等の金属により構成され、ガラス基板とこの金属配線パターンとの間には、金属酸化物の下地膜、タンタルであれば、タンタルの酸化膜（ＴａＯｘ）が介在し、両者の接着性を確保している。
【０００６】
一方、このような液晶パネルのガラス基板の端部には、液晶パネルを駆動するために、ドライバＩＣが直接実装されたり（ＣＯＧ）、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）が接続される。
【０００７】
このドライバＩＣは、上述した走査線やデータ線に電気信号を送るものであるから、ガラス基板上の所定の位置に精度よく取り付ける必要がある。
【０００８】
このため、通常は、ガラス基板上に位置決めマークを設け、ガラス基板に光を照射し、この位置決めマークを透過光や反射光で検出することにより、ガラス基板とドライバＩＣ等との位置合わせを行っている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した液晶パネルを構成するガラス基板上に位置決めマークを設ける場合、ガラス基板上にはＴａＯｘ等の金属酸化膜が形成されているので、透過光により位置決めマークの位置を正確に検出することが困難であるという問題がある。
【００１０】
すなわち、ガラス基板上の金属配線パターンは、複数回のスパッタ、エッチング等を経て形成され、ＴａＯｘ等の金属酸化膜の膜厚が不均一になり易い。従って、位置決めマークの透過光または反射光が屈折、乱反射して位置決めマークとそうでない部分の境界がぼやけてしまい、位置決めマークの位置を正確に検出できないという問題がある。
【００１１】
特に、金属酸化膜をＴａＯｘとした場合、ＴａＯｘ膜自体の屈折率が大きいので、位置決めマークを精度よく検出することが困難であるという問題がある。
【００１２】
本発明の目的は、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板と前記部材との位置合わせを高精度に行うことができる液晶パネル、それを利用した電子機器、および液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る液晶パネルは、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板には、タンタルの酸化物（ＴａＯｘ）からなる下地膜が形成されており、前記下地膜上には、前記タンタルの酸化物に含まれる金属（タンタル）により構成される複数の金属配線パターン、及び、前記ガラス基板と前記部材との位置を合わせるための位置決めマークが形成されており、前記位置決めマークは、前記タンタルとは異なる金属により構成されているとともに、前記位置決めマークの周縁部においては、前記下地膜が選択的に除去されていることを特徴とする。
【００１４】
ここで、前記位置決めマークは金属より構成されることが考えられ、その金属としては、例えば、タンタル（Ｔａ）が考えられ、前記金属酸化物としては、タンタルの化合物（ＴａＯｘ）が考えられる。
【００１５】
また、位置決めマークとしては、例えば、透過光を利用して検出するものであれば、要するに透過光を遮断するようなものから構成される位置決めマークを採用するのが好ましく、例えば、タンタル等の金属薄膜によって形成することが考えられ、その形状も円形、矩形等種々のものが考えられる。
【００１６】
このような発明によれば、位置決めマークの周縁近傍で下地膜が除去されているので、位置決めマークとそうでない部分の境界を正確に把握することができ、ガラス基板と前記ガラス基板に接続された部材との位置合わせの高精度化が図られる。
【００１７】
以上において、上述した位置決めマークとしては、金属酸化膜に含まれる金属とは異なる金属により構成された位置決めマークを採用するのが好ましく、例えば、金属酸化膜がＴａＯｘから構成されている場合、クロム（Ｃｒ）により位置決めマークを構成するのが好ましい。
【００１８】
すなわち、位置決めマークが下地膜に含まれる金属とは異なる金属から構成されているので、位置決めマークをフォトレジスト等で覆うことなく、周縁近傍の下地膜を除去することができ、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、ガラス基板の表面を露出させる工程により位置決めマークが侵食されることもない。従って、境界部分の輪郭が明瞭な位置決めマークを工程の複雑化を招くことなく形成することができる。
【００１９】
また、本発明に係る液晶パネルの製造方法は、ガラス基板と、該ガラス基板に部材を接続する液晶パネルの製造方法において、金属酸化物からなる下地膜を前記ガラス基板上に形成する工程と、前記下地膜上に複数の金属配線パターンを設ける工程と、前記下地膜上に、位置決めマークを設ける工程と、前記位置決めマークの周縁部の前記下地膜を除去し、前記ガラス基板を露出させる工程と、前記位置決めマークを透過光又は反射光により検出し、前記ガラス基板と前記部材との位置合わせを行う工程と、を含むことを特徴とする。
【００２０】
このような本発明によれば、位置決めマークを形成した後に、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、前記ガラス基板の表面を露出させる工程によりその周縁近傍の下地膜を除去しているので、位置合わせの高精度化を図ることのできる位置決めマークを、下地膜を必要最小限除去するだけで設けることができる。以上において、上述した液晶パネルの製造方法は、位置決めマークを設ける工程の後、位置決めマークの周縁部の下地膜を除去し、前記ガラス基板の表面を露出させる工程の前に、位置決めマークの位置、形状に応じたマスキング処理を行う工程を含み構成されているのが好ましい。
【００２１】
すなわち、マスキング処理を行う工程を含んでいるので、位置決めマーク形成後、マスキング処理により位置決めマークを被覆保護することができ、位置決めマークの周縁部の前記下地膜を除去し、前記ガラス基板を露出させる工程により位置決めマークが侵食されることを防止できる。従って、位置決めマークと他の部分の境界を明瞭にすることができ、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材との位置合わせの高精度化が一層図られる。
【００２２】
また、上述した位置決めマークとしては、金属酸化膜に含まれる金属とが異なる金属により構成される位置決めマークを採用するのが好ましい。
【００２３】
すなわち、金属酸化膜がＴａＯｘから構成され、位置決めマークがＴａから構成されている場合、そのままでＴａＯｘを除去するエッチングを行うと、同時に位置決めマークも侵食されてしまう。一方、ＴａＯｘにより金属酸化膜を構成し、Ｃｒにより位置決めマークを構成した場合、ＴａＯｘを除去するエッチングを行っても、位置決めマークが侵食されることはない。
【００２４】
従って、位置決めマークとそうでない部分の境界が明瞭な液晶パネルを、マスキング処理を行う工程を設けることなく、製造することができ、液晶パネル製造工程の簡素化が図られる。特に、ＴＦＤ型の液晶パネルの場合、金属Ｃｒは画素単位に形成されるダイオードの一部であり、当該ダイオードの形成とともに、位置決めマークをガラス基板上に設けることができ、工程の簡素化が著しい。
【００２５】
さらに、本発明に係る液晶パネルは、上述した液晶パネルのいずれかと、この液晶パネルを制御する半導体素子とを備えていることを特徴とし、例えば、透明基板上に直接ドライバＩＣを実装したＣＯＧ型の液晶パネルや、透明基板の端部にＴＣＰが接続された液晶パネルが考えられる。
【００２６】
そして、本発明に係る電子機器は、上述した液晶パネルと、この液晶パネルが収納される筐体とを備えていることを特徴とするものであり、例えば、携帯電話、腕時計、ノートパソコン等である。
【００２７】
このような電子機器では、前記液晶パネルを採用し、液晶パネルの組立精度の高精度化が図られているので、液晶パネルを含む電子機器の不良品の発生率を低減できて製造コストを低減することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の一形態を図面に基づいて説明する。
【００２９】
図１には、第１実施形態に係るＴＦＤ型の液晶パネル１０の分解斜視図が示されている。
【００３０】
この液晶パネル１０は、所定の隙間を設けて対向配置される一対の透明なガラス基板１１、１２と、この一対のガラス基板１１、１２に挟まれた間隙に密閉封入される液晶物質１３と、前記一対のガラス基板１１、１２の外側に配置され、互いに偏光方向を直交させた偏光板１４、１５とを含んで構成される。
【００３１】
そして、バックライト等からの白色光Ｗは、図１中の下側の偏光板１４、ガラス基板１１を介して液晶物質１３内に進入し、当該液晶物質１３の配向状態に応じてねじ曲げられて、上側のガラス基板１２、偏光板１５を介して出射される。上側のガラス基板１２と対向する下側のガラス基板１１の対向面上には、液晶物質１３の配向状態を変化させるために、後述するＴＦＤ素子部３２を含む金属配線パターン３０が形成されている。
【００３２】
この金属配線パターン３０は、図２に示すように、ガラス基板１１上に複数本平行配置されるデータ線３１と、このデータ線３１からの信号に応じてスイッチ動作するＴＦＤ素子部３２と、このＴＦＤ素子部３２のスイッチ動作に応じて前記液晶物質１３に電圧を印加するＩＴＯ膜からなる画素電極３３とを含んで構成される。
【００３３】
ＴＦＤ素子部３２は、図３の断面詳細図に示すように、金属配線となるＴａ層３２１、このＴａ層３２１の上に形成されるＴａ２Ｏ５層３２２、このＴａ２Ｏ５層３２２の上に形成されるＣｒ層３２３からなる急峻な閾値特性を有する双方向ダイオードであり、Ｃｒ層３２３は、前記画素電極３３と電気的に接続されている。
【００３４】
そして、このＴＦＤ素子部３２のＴａ層３２１とガラス基板１１との間には、金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４が介在し、このＴａ２Ｏ５膜３４により、Ｔａ層３２１とガラス基板１１との接着性が確保されている。
【００３５】
尚、前記データ線３１もＴａ層から構成されているので、ガラス基板１１との接着性を確保するために、上述と同様にＴａ層とガラス基板１１との間に、
Ｔａ２Ｏ５層が介在している。
【００３６】
一方、下側のガラス基板１１と対向する上側のガラス基板１２の対向面上には、図１に示すように、ガラス基板１２上にＣｒをスパッタして形成される格子状のブラックマスク４１と、このブラックマスク４１により区画された画素単位に配置されるＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ４２と、これらブラックマスク４１、カラーフィルタ４２を覆うように配置され、下側ガラス基板１１上のデータ線３１と直交する方向に複数本平行配置されるＩＴＯ膜からなる走査線４３とを含んで構成される。
【００３７】
このようなＴＦＤ型構造の液晶パネル１０には、図４に示すように、データ線３１信号を出力し液晶物質１３を制御するために、半導体素子であるドライバＩＣ５０、８０が実装されて液晶表示装置６０が構成される。
【００３８】
すなわち、液晶表示装置６０は、上述した液晶パネル１０と、液晶パネル１０の表示部分１０Ａ以外のガラス基板１１、１２の端部実装辺１１Ａ、１２Ａ上に実装されるドライバＩＣ５０、８０とを含んで構成されている。尚、図４では図示を略したが、ドライバＩＣ５０の端子は、ガラス基板１１上に形成される前記データ線３１と接続され、データ線３１を構成するＴａ層とガラス基板１１との接着性を確保するために、ガラス基板１１の端部実装辺１１Ａ上にもＴａ２０５膜３４が形成されている。また、同様に図示を略したが、ガラス基板１２上のドライバＩＣ８０の各端子は上述した走査線４３と接続されている。
【００３９】
そして、ガラス基板１１の端部実装辺１１Ａ上には、ガラス基板１１とドライバＩＣ５０との位置合わせを行うために、円形状の位置決めマーク７１が形成されている。
【００４０】
尚、ＴＦＤ型の液晶パネル１０の場合、上述したように、上側のガラス基板１２にもドライバＩＣ８０を実装する必要があるので、ドライバＩＣ８０とガラス基板１２との位置合わせを行うために、位置決めマーク７１が形成されている。
【００４１】
位置決めマーク７１は、図５の断面詳細図に示すように、ガラス基板１１上のＴａ２Ｏ５膜３４の上に設けられるＴａ金属膜から構成され、この位置決めマーク７１の周縁近傍の領域Ａでは、前記Ｔａ２Ｏ５膜３４が除去され、ガラス基板１１の表面が露出している。
【００４２】
このような位置決めマーク７１は、金属配線パターン３０の形成工程において、スパッタ法等により形成され、具体的には、以下のような手順で形成される。▲１▼ ガラス基板１１の洗浄後、スパッタ法により金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４をガラス基板１１の上に形成する（酸化膜形成工程）。
【００４３】
▲２▼ さらに、スパッタ法により金属配線を構成するＴａ層３２１をこのＴａ２Ｏ５膜３４の上に形成する。
【００４４】
▲３▼ フォトリソグラフィ法により、ガラス基板１１上に金属配線パターン３０、位置決めマーク７１をフォトレジストで覆い、他の部分のＴａ膜をエッチングにより除去する（マーク形成工程）。
【００４５】
▲４▼ 陽極酸化法により、ＴＦＤ素子部３２のＴａ層３２１の表面にＴａ２Ｏ５層３２２を形成する。
【００４６】
▲５▼ 位置決めマーク７１の位置、形状に応じたマスキング処理を行った後（マスキング工程）、エッチングにより当該位置決めマーク７１の周縁近傍のＴａ２Ｏ５膜３４を除去する。
【００４７】
このようにして形成された位置決めマーク７１を備えた液晶パネル１０には、液晶を駆動させるドライバＩＣ５０が実装される。すなわち、位置決めマーク７１に透過光を照射し、液晶パネル１０の端部実装辺１１ＡとドライバＩＣ５０との相対位置を高精度に検出することにより、液晶パネル１０およびドライバＩＣ５０の位置合わせを行う。そして、両者を異方性導電シート（ＡＣＦ）により物理的、電気的に接続し、液晶パネル１０と、半導体素子となるドライバＩＣ５０とを備えたＣＯＧ型の液晶表示装置６０が完成する。
【００４８】
尚、カラーフィルタ４２が配置されるガラス基板１２にも、ドライバＩＣ８０が実装されるが、上述と略同様の手順、構造であるので、その説明は省略する。そして、液晶表示装置６０は、各種の電子機器の筐体に組み込まれ、情報、画像等の表示部分として利用され、例えば、図６に示す携帯電話４００の筐体４０１に組み込まれたり、図７に示すノートパソコン５００の筐体５０１に組み込まれる。
【００４９】
以上のような第１実施形態によれば、次のような効果がある。
【００５０】
▲１▼ すなわち、位置決めマーク７１の周縁近傍で金属酸化膜であるＴａ２Ｏ５層３２２が除去されてガラス基板１１の表面が露出しているので、位置決めマーク７１とそうでない部分の境界を正確に把握することができ、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１およびドライバＩＣ５０の位置合わせを高精度で行うことができる。特に、屈折率の大きなＴａ２Ｏ５層３２２が形成される液晶パネル１０において、その効果は著しい。
【００５１】
▲２▼ また、上述した液晶パネル１０の製造方法が位置決めマーク７１を形成した後、エッチング工程によりその周縁近傍のＴａ２Ｏ５層３２２を除去しているので、Ｔａ２Ｏ５層３２２を必要最小限除去するだけで、境界部分の明瞭な位置決めマーク７１を設けることができる。
【００５２】
▲３▼ さらに、エッチング工程により除去しているので、当該Ｔａ２Ｏ５層３２２の除去工程を金属配線パターン３０の形成工程と略同様の工程で行うことができる。
【００５３】
▲４▼ そして、マスキング工程を含んでいるので、位置決めマーク７１の周縁近傍のＴａ２Ｏ５層３２２をエッチングにより除去しても、位置決めマーク７１に外周部分が侵食されることもなく、位置決めマーク７１の境界部分の輪郭を明瞭にすることができ、位置決めマーク７１を利用してガラス基板１１の端部実装辺１１Ａの上にドライバＩＣ５０を実装するに際して、両者の位置合わせの高精度化を図ることができる。
【００５４】
▲５▼ そして、このような液晶パネル１０を含んで液晶表示装置６０が構成されているので、液晶表示装置６０の不良率を低減することができ、電子機器４００、５００の製造コストを大幅に低減することができる。
【００５５】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明した部分または部材と同一または類似の部分等については、その説明を簡略または省略する。
【００５６】
前述の第１実施形態では、液晶パネル１０に設けられる位置決めマーク７１は、金属酸化膜であるＴａ２Ｏ５膜３４に含まれる金属Ｔａによって形成されていた。
【００５７】
これに対して、第２実施形態に係る液晶パネル１１０に設けられる位置決めマーク１７１は、図８に示すように、Ｔａ２Ｏ５層３２２上にスパッタ法によりＣｒ金属膜により形成されている点が相違する。
【００５８】
このような位置決めマーク１７１は、上述と同様に、金属配線パターン３０とともに形成されるが、具体的には、以下のような手順で形成される。
【００５９】
▲１▼ ガラス基板１１の洗浄後、スパッタ法により金属酸化膜となるＴａ２Ｏ５膜３４をガラス基板１１の上に形成する（酸化膜形成工程）。
【００６０】
▲２▼ さらに、スパッタ法により金属配線を構成するＴａ層３２１をこのＴａ２Ｏ５膜３４の上に形成する。
【００６１】
▲３▼ フォトリソグラフィ法により、ガラス基板１１上に金属配線パターン３０、をフォトレジストで覆い、他の部分のＴａ金属膜をエッチングにより除去する。
▲４▼ 陽極酸化法により、Ｔａ層３２１の表面にＴａ２Ｏ５層３２２を形成する。
【００６２】
▲５▼ Ｔａ２Ｏ５層３２２のＴＦＤ素子部３２に相当する部分、およびドライバＩＣ実装位置に応じた部分に、ＣｒをスパッタしてＣｒ層３２３、位置決めマーク１７１を形成する。
【００６３】
▲６▼ フォトリソグラフィ法により、ＴＦＤ素子部３２、位置決めマーク１７１の部分をフォトレジストで覆い、他の部分のＣｒ金属膜をエッチングにより除去する（マーク形成工程）。
【００６４】
▲７▼ 金属配線パターン３０表面に形成されたＴａ２Ｏ５層３２２をフォトレジストで覆い、位置決めマーク１７１の近傍領域のＴａ２Ｏ５膜３４をエッチングにより除去する（エッチング工程）。
【００６５】
以上のような液晶パネル１１０にドライバＩＣ等を実装する手順、液晶パネル１１０にドライバＩＣが実装された液晶表示装置の使用方法等については、前述の第１実施形態と略同様なので、その説明は省略する。
【００６６】
このような第２実施形態に係る液晶パネル１１０によれば、前述の第１実施形態で述べた▲１▼〜▲３▼の効果に加えて以下のような効果がある。
【００６７】
すなわち、位置決めマーク１７１が下地となるＴａ２Ｏ５膜３４に含まれる金属（Ｔａ）とは異なる金属（Ｃｒ）から構成されているので、位置決めマーク１７１をフォトレジストで覆うことなく、位置決めマーク１７１の周縁近傍の部分でＴａ２Ｏ５膜３４をエッチングにより除去することができ、当該エッチング工程により位置決めマーク１７１が侵食されることもない。従って、境界部分の輪郭が明瞭な位置決めマーク１７１を、工程の複雑化を招くことなく形成することができる。
【００６８】
特に、位置決めマーク１７１が金属Ｃｒにより形成されているので、ＴＦＤ素子部３２の金属Ｃｒ層３２３形成の工程において、同時に上述したマークを形成することができる。
【００６９】
尚、本発明は、前述の各実施形態に限定されるものではなく、次に示すような変形をも含むものである。
【００７０】
すなわち、前述の第１実施形態における位置決めマークの製造方法は、位置決めマーク７１をフォトレジストにより覆うマスキング工程を含んでいたが、これに限らず、位置決めマーク７１のマスキング処理を行うことなく、ガラス基板１１上のＴａ２Ｏ５膜３４を除去するエッチング工程を行ってもよい。この場合、図９に示すように、液晶パネル２１０に設けられる位置決めマーク２７１は、その外周部分にＴａ２Ｏ５膜３４が一部残ってしまう。しかしながら、ガラス基板とドライバＩＣ等他の電子部品との位置合わせ精度は、金属配線パターン等の配線の構造、緻密さにより決定されるものであり、単純な接続構造であれば、上述した位置決めマーク２７１であっても、十分高精度化を図ることができる。
【００７１】
さらに、前記第１実施形態に係る液晶表示装置６０は、ＣＯＧ型のものであったが、これに限らず、ガラス基板１１の実装辺にＴＣＰを接続するような場合に本発明を利用しても、上述と同様の効果を享受することができる。
【００７２】
そして、前述の各実施形態では、ＴＦＤ型の液晶パネル１０、１１０に本発明を利用していたが、ＴＦＴ型の液晶パネル、ＳＴＮ型の液晶パネルに本発明を利用してもよい。
【００７３】
また、前述の各実施形態では、金属配線パターン３０を構成する金属としてＴａを採用していたが、それ以外の金属を配線パターンの材料とする場合であっても、本発明を採用することができる。
【００７４】
さらに、前述の各実施形態では、位置決めマーク７１、１７１は、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１と、ドライバＩＣ５０、８０との位置合わせを行うために用いられていたが、これに限らず、例えば、互いに対向配置される一対のガラス基板の位置合わせを行う場合に、本発明を利用してもよい。
【００７５】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および形状等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
【００７６】
【発明の効果】
前述のような本発明の液晶パネルおよび液晶パネルの製造方法によれば、ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、前記ガラス基板には、金属酸化物からなる下地膜が形成されており、前記下地膜上には、前記金属酸化物に含まれる金属により構成される複数の金属配線パターン、及び、前記ガラス基板と前記部材との位置を合わせるための位置決めマークが形成されており、前記位置決めマークは、前記下地膜に含まれる金属とは異なる金属により構成されているとともに、前記位置決めマークの周縁部においては、前記下地膜が選択的に除去されているので、位置決めマークの境界部分を正確に把握することができ、ガラス基板と他の部材等との位置合わせを高精度に行うことができる。従って、液晶パネルの製造において、不良率を低減することができ、電子機器の製造コストを大幅に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶パネルの構造を表す分解斜視図である。
【図２】前記実施形態における金属配線パターンの構造を表す平面図である。
【図３】前記実施形態におけるＴＦＤ素子部の構造を表す断面図である。
【図４】前記実施形態における液晶パネルにドライバＩＣを実装した液晶表示装置を表す平面図である。
【図５】前記実施形態の液晶パネルのガラス基板上に設けられる位置決めマークを表す断面図である。
【図６】前記実施形態の液晶パネルを含む液晶表示装置が用いられた携帯用電子機器を表す概略斜視図である。
【図７】前記実施形態の液晶パネルを含む液晶表示装置が用いられた他の携帯用電子機器を表す概略斜視図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る液晶パネルに設けられる位置決めマークを表す断面図である。
【図９】液晶パネル上に設けられる位置決めマークの変形を表す断面図である。
【符号の説明】
１０、１１０、２１０ 液晶パネル
１１、１２ 透明基板
１３ 液晶物質
３０ 金属配線パターン
３４ 金属酸化膜（Ｔａ２Ｏ５膜）
５０、８０ 他の電子部品、基板等
７１、１７１、２７１ 位置決めマーク
６０ 液晶表示装置
４００、６００ 電子機器
Claims (5)
- ガラス基板と、前記ガラス基板に接続された部材とを有する液晶パネルにおいて、
前記ガラス基板には、タンタルの酸化物（ＴａＯｘ）からなる下地膜が形成されており、
前記下地膜上には、前記タンタルの酸化物に含まれる金属（タンタル）により構成される複数の金属配線パターン、及び、前記ガラス基板と前記部材との位置を合わせるための位置決めマークが形成されており、
前記位置決めマークは、前記金属とは異なる金属により構成されているとともに、
前記位置決めマークの周縁部においては、前記下地膜が選択的に除去されていることを特徴とする液晶パネル。 - 請求項１に記載の液晶パネルにおいて、
前記位置決めマークは、クロム（Ｃｒ）から構成されていることを特徴とする液晶パネル。 - 請求項１乃至請求項２のうちいずれかに記載の液晶パネルにおいて、
前記部材が半導体素子であることを特徴とする液晶パネル。 - 請求項１乃至請求項３のうちいずれかに記載の液晶パネルと、その液晶パネルを収納する筐体と、を備えていることを特徴とする電子機器。
- ガラス基板と、該ガラス基板に部材を接続する液晶パネルの製造方法において、
タンタルの酸化物（ＴａＯｘ）からなる下地膜を前記ガラス基板上に形成する工程と、
前記下地膜上に前記タンタルの酸化物に含まれる金属（タンタル）により構成される複数の金属配線パターンを設ける工程と、
前記下地膜上に、前記金属とは異なる金属により構成される位置決めマークを設ける工程と、
前記位置決めマークの周縁部の前記下地膜を除去し、前記ガラス基板を露出させる工程と、
前記位置決めマークを透過光又は反射光により検出し、前記ガラス基板と前記部材との位置合わせを行う工程と
を含むことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3647898A JP3733233B2 (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 液晶パネル、電子機器および液晶パネルの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3647898A JP3733233B2 (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 液晶パネル、電子機器および液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11231336A JPH11231336A (ja) | 1999-08-27 |
| JP3733233B2 true JP3733233B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=12470932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3647898A Expired - Fee Related JP3733233B2 (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 液晶パネル、電子機器および液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3733233B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101223098B1 (ko) * | 2004-09-09 | 2013-01-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 이의 제조방법 |
-
1998
- 1998-02-18 JP JP3647898A patent/JP3733233B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11231336A (ja) | 1999-08-27 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030520 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050905 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051017 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021 Year of fee payment: 4 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021 Year of fee payment: 5 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |