JP2003340446A

JP2003340446A - フッ素含有排水の処理方法

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Publication number: JP2003340446A
Application number: JP2002154486A
Authority: JP
Inventors: Toshiko Shinmyo; 寿子新明; Ichiyo Yamada; 一陽山田
Original assignee: Organo Corp; Japan Organo Co Ltd
Current assignee: Organo Corp
Priority date: 2002-05-28
Filing date: 2002-05-28
Publication date: 2003-12-02
Anticipated expiration: 2022-05-28
Also published as: JP3888534B2

Abstract

(57)【要約】【課題】フッ素吸着剤の劣化を回避できるフッ素含有
排水の処理方法。【解決手段】フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整
し、該ｐＨを調整したフッ素含有排水をろ過処理し、該
ろ過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理し
て、フッ素が低減された最終処理水を生じさせる、フッ
素含有排水の処理方法。該方法により、従来法ではフッ
素吸着剤の劣化が著しい条件下であっても、フッ素吸着
剤を劣化させることなく、フッ素の吸着除去を行うこと
が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素含有排水の
処理方法に関する。より詳細には、フッ素含有排水のｐ
Ｈ調整後にろ過処理し、次いでフッ素吸着処理するフッ
素含有排水の処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】工場などからの排水の水質については厳
しい制限がなされているが、その規制は年々厳しくなる
傾向にあり、例えば、フッ素の排水基準値（暫定基準
値）は８ｍｇ／Ｌ以下と規定されている。電子産業（特
に半導体関連）、発電所、アルミニウム工業などから排
出される排水中にはフッ素が含まれている場合が多い。
例えば、半導体製造工程では、シリコンウエハーにフォ
トレジストを塗布し、マスクパターンを転写し、露光後
にエッチングを行って、半導体の回路パターンを形成し
ているが、この一連の工程においてリン酸やフッ酸など
の種々の薬品を使用し、特にエッチング時にフッ酸を使
用することが多く、この製造工程から生じる排水にはフ
ッ素が含まれる。このため、フッ素を排水から効率良く
除去することが求められており、従来技術として、カル
シウムがフッ素と反応して難溶性化合物を形成すること
を利用した、凝集沈殿法、晶析法、炭酸カルシウム充填
塔に通水する方法（特許第３２２７７６０号）などが知
られている。

【０００３】カルシウムによるフッ素の除去法として
は、フッ素を含む排水に、水酸化カルシウム（Ｃａ（Ｏ
Ｈ）_２）、塩化カルシウム（ＣａＣｌ_２）、炭酸カルシ
ウム（ＣａＣＯ_３）をはじめとするカルシウム化合物を
添加し、式（Ｉ）に示されるように、難溶性のフッ化カ
ルシウムを生じさせることを基本とする。Ｃａ^２＋＋２Ｆ⁻→ ＣａＦ_２↓ （Ｉ）また、フッ素およびリンが排水中に共存する場合には、
カルシウムの添加により、式（ＩＩ）に示されるよう
に、難溶性のフルオロアパタイトが生じる場合もある。５Ｃａ^２＋＋３ＰＯ_４ ^３−＋Ｆ⁻→ Ｃａ_５（ＰＯ_４）_３Ｆ↓ （ＩＩ）

【０００４】カルシウムを利用する凝集沈殿法において
は、排水にカルシウムを添加してフッ化カルシウムをは
じめとする難溶性化合物を生じさせ、次いで、アルミニ
ウム塩、鉄塩等の無機凝集剤を添加することによりフロ
ックを形成させる。次いで、沈殿分離等の固液分離処理
を行うことにより、難溶性化合物を汚泥として分離し、
フッ素が低減された処理水を得る。晶析法においては、
種晶を充填した反応槽に、フッ素を含む排水をカルシウ
ム剤と共に導入して、種晶上にフッ化カルシウムを析出
させることにより、フッ素が低減された処理水を得る。
また、炭酸カルシウム充填塔に通水する方法において
は、粒状炭酸カルシウムを充填した反応槽に、フッ素を
含む排水を導入して、置換反応を利用して、フッ素が低
減された処理水を得る。

【０００５】凝集沈殿法、晶析法、もしくは炭酸カルシ
ウム充填塔に通水する方法をはじめとする、カルシウム
を用いた排水処理方法で、またはこれらを組み合わせて
排水処理を行う場合には、得られる処理水のフッ素濃度
は１０〜２０ｍｇ／Ｌ程度なので、排水基準である８ｍ
ｇ／Ｌ以下にする場合には、さらなるフッ素除去処理が
必要であり、この場合、フッ素吸着剤を用いたフッ素吸
着処理が行われる。凝集沈殿法など、カルシウムを用い
た排水処理方法により得られた前記処理水（以後、低濃
度フッ素含有処理水という）のｐＨは、通常、６〜１０
程度なので、フッ素吸着処理においては、低濃度フッ素
含有処理水のｐＨを３〜５に調整した後に、フッ素吸着
剤を充填したフッ素吸着装置に通水する。このとき、フ
ッ素吸着装置への懸濁物質（ＳＳ）の持ち込みを防ぐた
めに、フッ素吸着装置の前段にろ過装置を設け、フッ素
吸着処理前に、低濃度フッ素含有処理水をろ過処理して
ＳＳを除去する。従来の処理方法では、低濃度フッ素含
有処理水をろ過処理した後に、そのｐＨを３〜５に調整
していた。これは、ろ過処理前に低濃度フッ素含有処理
水のｐＨを５以下にした場合、ろ過装置の低濃度フッ素
含有処理水と接触する部分を耐酸性構造にしなければな
らず、コストが高くなるからである。例えば、ろ過装置
として砂ろ過装置が使用される場合には、ろ過塔の内面
は通常、鋼板製であるが、この内面を耐酸性被膜で被覆
する、または材質自体を鋼板以外の耐酸性の材質にする
などの必要があった。また別の理由として、従来の低濃
度フッ素含有処理水においては、ろ過処理後にｐＨを３
〜５に調整し、次いでフッ素吸着処理するという手順で
処理を行ったとしても、フッ素吸着装置には問題が生じ
ていなかったことが挙げられる。よって、従来は、低濃
度フッ素含有処理水をろ過処理した後にｐＨを３〜５に
調整し、これをフッ素吸着処理していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者ら
が、上記態様で低濃度フッ素含有処理水のフッ素吸着処
理を行ったところ、場合によって、フッ素吸着装置にお
いて差圧が上昇し、通水が不可能になる、またショート
パスが起こり処理水の水質が悪化する、さらにフッ素吸
着剤自体の性能低下により処理水の水質が悪化するとい
う不都合が生じ得ることが明らかとなった。このような
現象は、従来の低濃度フッ素含有処理水のフッ素吸着処
理においては、特に問題とはなっていなかったが、近
年、工場等から排出される排水を処理して得られる低濃
度フッ素含有処理水においてこのような問題が生じたこ
とは、全く予想外のことであった。

【０００７】本発明者らは、ろ過処理後、フッ素吸着処
理前に、低濃度フッ素含有処理水のｐＨを３〜５に調整
することで、難溶性化合物のＳＳが生成し、該ＳＳがフ
ッ素吸着装置に流入すること、およびフッ素吸着剤表面
に難溶性化合物が析出することが上記問題の原因である
ことを見出し、これに基づいて本願発明を完成するに至
った。理論に拘束されるものではないが、本発明者ら
は、前記難溶性化合物生成の原因の１つが、低濃度フッ
素含有処理水に含まれるカルシウム量の増加にあり、こ
のカルシウム量の増加の原因の１つは、凝集沈殿処理を
はじめとする排水処理において処理される、排水中に含
まれる分散剤等の量が増加したために、該排水処理にお
いて使用されるカルシウムの量が増大したことにあると
推定するに至った。すなわち、例えば半導体製造工場で
は、洗浄などのために大量の水が必要となる。しかし、
近年、環境保全のために取水量が制限されたり、また工
場内における環境への配慮から、一度使用した水を再度
回収し、再利用する方法によって、必要な水を確保する
ケースが多くなっている。この再利用の際、例えば、膜
処理によって水を回収する場合、膜面へのスケーリング
防止のために分散剤などの薬品が多量に使用されるケー
スが多い。このため、添加された多量の分散剤が排水中
に含まれることとなる。そして、この多量の分散剤が、
凝集沈殿処理をはじめとする排水処理において、フッ素
をはじめとする除去対象成分と、カルシウムとの反応に
よる難溶性化合物の形成、および／または形成された難
溶性化合物の除去を妨げており、その結果、当該排水処
理に使用されるカルシウムの量が増大し、それに伴っ
て、低濃度フッ素含有処理水に含まれるカルシウム量も
増加するものと推察された。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、フッ素吸着装置を用いてフッ素含有排
水を処理する際に、難溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装
置に流入するのを防止し、また、フッ素吸着剤上での難
溶性化合物の析出を抑制できる、フッ素含有排水の処理
方法を提供することを目的とする。特に、高濃度のカル
シウムを含むフッ素含有排水がフッ素吸着処理された場
合であっても、難溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装置に
流入するのを防止し、また、フッ素吸着剤上での難溶性
化合物の析出を抑制できる、フッ素含有排水の処理方法
を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は請求項１とし
て、フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整し、該ｐＨを
調整したフッ素含有排水をろ過処理し、該ろ過処理によ
り生じたろ過処理水をフッ素吸着処理して、フッ素が低
減された最終処理水を生じさせる、フッ素含有排水の処
理方法を提供する。本発明は請求項２として、フッ素含
有排水が、カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減さ
せる排水処理方法により生じた、低濃度フッ素含有処理
水を含む、請求項１記載のフッ素含有排水の処理方法を
提供する。本発明は請求項３として、フッ素含有排水
が、３００ｍｇ／Ｌ以上のカルシウムを含む請求項１ま
たは２記載のフッ素含有排水の処理方法を提供する。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明のフッ素含有排水の処理方
法においては、まず、フッ素含有排水のｐＨが３〜５に
調整される。本発明において処理されるフッ素含有排水
としては、フッ素を含んでいれば良く、また、フッ素以
外の任意の他の成分を、任意の量で含んでいても良い。
フッ素含有排水に含まれるフッ素の量は、特に限定され
るものではないが、好ましくは、５０ｍｇ／Ｌ以下、よ
り好ましくは、２０ｍｇ／Ｌ以下である。また、フッ素
含有排水は如何なる由来の排水であっても良い。例え
ば、半導体関連産業をはじめとする電子産業、発電所、
アルミニウム工業などから排出されるフッ素含有排水が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００１１】本発明者らは、フッ素含有排水に含まれる
カルシウム量が多くなれば、フッ素含有排水のｐＨを３
〜５に調整する場合に発生する難溶性化合物の量が増加
することを見出した。よって、本発明のフッ素含有排水
の処理方法は、フッ素含有排水がカルシウムを含む場合
に適用されるのが好ましい。この場合、フッ素含有排水
中のカルシウム濃度としては、好ましくは、３００ｍｇ
／Ｌ以上、より好ましくは、４００ｍｇ／Ｌ以上であ
る。カルシウムを含むフッ素含有排水としては、カルシ
ウムを含んでいる排水であれば特に限定されるものでは
ないが、好ましくは、フッ素含有排水は、カルシウムを
用いて排水中のフッ素を低減させる排水処理方法により
生じた低濃度フッ素含有処理水を含むものであり、より
好ましくは、フッ素含有排水は低濃度フッ素含有処理水
である。カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減させ
る排水処理方法としては、排水中のフッ素をカルシウム
と反応させてフッ化カルシウムとして析出させ、これを
除去する方法であれば任意の、公知の方法が可能であ
り、例えば、凝集沈殿処理法、晶析処理法、炭酸カルシ
ウム充填塔に通水する方法等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。カルシウムを用いた排水処理
方法で得られる、低濃度フッ素含有処理水中のフッ素濃
度は、好ましくは、２０ｍｇ／Ｌ以下である。

【００１２】排水処理方法の１態様である凝集沈殿処理
法としては、排水からフッ素を凝集沈殿させることによ
り低減できる装置であれば、本発明の目的に反しない限
り、任意の、公知の装置を用いて行うことが可能であ
り、特に限定されるものではない。例えば、凝集沈殿処
理法においては、フッ素を含む排水にカルシウムを添加
し、カルシウムを含む難溶性化合物を形成させ、これが
凝集沈殿により除去され、低濃度フッ素含有処理水を生
じさせる。凝集沈殿処理の際には、カルシウムの添加
前、添加後または添加と同時に凝集剤を添加するのが好
ましく、これにより、難溶性化合物が凝集剤から形成さ
れるフロックと共沈して、凝集沈殿が促進され分離効率
が向上する。凝集剤の例としては、ポリ塩化アルミニウ
ム（ＰＡＣ）、硫酸バンド、塩化第２鉄、硫酸第１鉄、
硫酸第２鉄をはじめとする無機凝集剤、およびカチオン
系高分子凝集剤、アニオン系高分子凝集剤、ノニオン系
高分子凝集剤をはじめとする有機高分子凝集剤が挙げら
れるがこれらに限定されるものではない。

【００１３】排水処理方法の他の態様である晶析処理法
としては、排水からフッ素を晶析させることにより低減
できる装置であれば、本発明の目的に反しない限り、任
意の、公知の装置を用いて行うことが可能であり、特に
限定されるものではない。例えば、晶析処理法において
は、種晶が充填された晶析反応槽に、フッ素を含む排水
とカルシウム含有液とを供給し、該種晶上にフッ素とカ
ルシウムとを含む難溶性化合物を晶析させ、低濃度フッ
素含有処理水を生じさせる。また、他の態様である炭酸
カルシウム充填塔に通水する方法においては、粒状炭酸
カルシウムを充填した反応槽に、フッ素を含む排水を導
入して、置換反応を利用して対象成分とカルシウムとの
難溶性化合物を形成させ、低濃度フッ素含有処理水を生
じさせる。

【００１４】フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整する
場合におけるＳＳ発生の原因の１つはカルシウムである
と考えられるが、フッ素含有排水中には種々の物質が含
まれ得るため、ＳＳ発生の原因は完全には明らかではな
い。しかし、理論に拘束されるものではないが、例え
ば、ケイフッ酸イオンに由来する現象、ｐＨによる物質
の溶解度の違いに由来する現象、およびｐＨによる物質
の反応速度の違いによる現象などが原因として考えられ
る。ケイフッ酸イオンに由来する現象としては、ケイフ
ッ酸は中性〜弱アルカリ性領域で存在するので、弱酸性
にしてケイ酸イオンとフッ酸に解離させることで、排水
中に含まれるカルシウムイオンと反応し、フッ化カルシ
ウムとして析出することが考えられる。ｐＨによる物質
の溶解度の違いに由来する現象としては、酸性領域で溶
解度が低くなる物質は、ｐＨを３〜５とすることで析出
することが考えられる。ｐＨによる物質の反応速度の違
いに由来する現象としては、難溶性物質を生じさせる反
応であって、当該反応の反応速度が酸性領域で増大する
場合に、ｐＨを３〜５とすることで難溶性物質が析出す
ることが考えられる。

【００１５】半導体製造工場等から排出される排水に
は、二酸化ケイ素、ケイフッ酸等の形態でケイ素が含ま
れることが知られており、このような排水においては、
ケイ素に起因するＳＳの発生が考えられ、本発明の処理
方法が有用であると考えられる。よって、本発明の処理
方法は、フッ素含有排水が二酸化ケイ素、ケイフッ酸を
はじめとする形態でケイ素を含んでいる場合に適用され
るのが好ましく、含まれるケイ素の量としては、ＳｉＯ
_２として２０ｍｇ／Ｌ以上が好ましく、４０ｍｇ／Ｌ以
上がより好ましい。また、フッ素含有排水がカルシウム
および硫酸を含む場合には、硫酸はカルシウムと反応し
て難溶性の硫酸カルシウムを形成し得るので、このよう
な排水においては、硫酸カルシウムに起因するＳＳの発
生が考えられ、本発明の処理方法が有用であると考えら
れる。よって、本発明の処理方法は、フッ素含有排水が
硫酸を含んでいる場合に適用されるのが好ましく、含ま
れる硫酸イオンの量としては、２０００ｍｇ／Ｌ以上が
好ましい。

【００１６】ｐＨを調整するためのｐＨ調整剤として
は、フッ素含有排水のｐＨを３〜５の範囲に調整できる
ものであれば特に限定されるものではなく、例えば、硫
酸、硝酸、塩酸等任意の酸、水酸化ナトリウムなどの塩
基が挙げられるが、塩酸がｐＨの調整のために使用され
るのが好ましい。フッ素含有排水のｐＨの調整は任意の
態様で行うことができ、例えば、フッ素含有排水貯留槽
に貯留されたフッ素含有排水にｐＨ調整剤を添加して、
バッチでｐＨの調整を行う態様でも良いし、ろ過装置へ
フッ素含有排水を供給するフッ素含有排水供給ライン上
でｐＨ調整剤を混合して、連続的にｐＨの調整を行う態
様でも良く、特に限定されるものではない。

【００１７】本発明においては、上記操作に続いて、ｐ
Ｈが３〜５に調整されたフッ素含有排水をろ過処理し
て、ろ過処理水を生じさせる。ろ過処理は、フッ素含有
排水中に存在するＳＳ成分を低減、除去できるのであれ
ば、本発明の目的に反しない限りは、任意の態様で行う
ことが可能である。ろ過処理に使用可能なろ過装置とし
ては、例えば、砂ろ過装置をはじめとする充填材が塔内
に充填された充填塔式ろ過装置、膜ろ過装置が挙げられ
るがこれらに限定されるものではない。好ましくは、ろ
過装置は砂ろ過装置である。また、ろ過装置の運転条件
としては、本発明の目的に反しない限りは、任意の態様
で運転することが可能である。充填塔式ろ過装置に使用
されるろ材としては、ろ過砂、アンスラサイト、活性
炭、イオン交換樹脂、樹脂繊維等が挙げられるがこれら
に限定されるものではない。また、ろ材の粒径、充填
量、ろ過面積、ろ過能力等は、特に限定されるものでは
なく、任意の、公知の態様のろ過装置を使用可能であ
る。膜ろ過装置に使用されるろ過膜としては、精密ろ過
膜、限外ろ過膜などが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。また、膜ろ過装置におけるろ過膜の材
質、ろ過面積、ろ過能力等は、特に限定されるものでは
なく、任意の、公知の態様の膜ろ過装置を使用可能であ
る。

【００１８】本発明においては、上記操作に続いて、ろ
過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理して、
フッ素が低減された最終処理水を生じさせる。フッ素吸
着処理は、ろ過処理水中のフッ素をフッ素吸着剤に吸着
させることにより行われる。本発明の方法に使用される
フッ素吸着剤は、ろ過処理水中のフッ素を吸着すること
ができ、特に、フッ素を特異的に吸着することができる
吸着剤である。該フッ素吸着剤は、フッ素を吸着できる
ものであれば、任意の材質から構成されることができ、
例えば、金属元素を金属として、および／または金属酸
化物などの化合物として、母体上に吸着または担持した
吸着剤であっても良く、この場合にフッ素吸着剤に含ま
れる金属元素としては、フッ素を吸着できる金属元素で
あれば特に限定されるものではないが、好ましくは、ハ
フニウム、チタン、ジルコニウム、鉄、アルミニウム、
並びに、セリウム等のランタノイド類が挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。また、フッ素吸着剤の
母体としては、上記金属元素を担持、吸着等できるもの
であれば特に限定されるものではない。理論に拘束され
るのは望まないが、金属元素を含むフッ素吸着剤におい
ては、含まれる金属および／または金属化合物等が被処
理水中のフッ素と錯化化合物を形成することにより、フ
ッ素を吸着するものと考えられている。フッ素吸着剤と
しては、任意の、市販のフッ素吸着剤を使用することが
でき、例えば、ジルコニウム系吸着剤、セリウム系吸着
剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。

【００１９】本発明においては、ろ過処理水をフッ素吸
着剤でフッ素吸着処理することにより、該ろ過処理水中
のフッ素がフッ素吸着剤に吸着され、フッ素が低減され
た最終処理水が得られる。本発明の方法においては、最
終処理水中のフッ素濃度は、好ましくは、８ｍｇＦ／Ｌ
以下、より好ましくは、３ｍｇＦ／Ｌ以下、さらにより
好ましくは、１ｍｇＦ／Ｌ以下まで低減可能である。フ
ッ素吸着処理の態様としては、ろ過処理水に含まれるフ
ッ素が、フッ素吸着剤に吸着されるのであれば、任意の
方法でろ過処理水とフッ素吸着剤とを接触させ、フッ素
吸着処理を行うことが可能である。例えば、フッ素吸着
剤をフッ素吸着塔に充填して、該フッ素吸着塔にろ過処
理水を連続的に、または断続的に通水する態様であって
も良いし、吸着処理槽にろ過処理水を貯留し、そこにフ
ッ素吸着剤を添加することにより、バッチでフッ素吸着
処理するような態様も可能であって、特に限定されるも
のではない。連続的に処理可能であるとの観点から、フ
ッ素吸着処理としては、フッ素吸着剤が充填されたフッ
素吸着塔にろ過処理水を通水する態様が好ましい。以
下、実施例で本発明をより具体的に説明するが、本発明
は実施例に限定されるものではない。

【００２０】

【実施例】本実施例においては、フッ素含有排水とし
て、半導体製造工場からの凝集沈殿処理して得た処理水
を使用した。すなわち、半導体工場からのｐＨ２．５の
排水を、Ｃａ（ＯＨ）_２をｐＨ１０となるように添加し
た後、１５０ｒｐｍで１５分間撹拌し、次いで、ＦｅＣ
ｌ_３を２００ｍｇ／Ｌ添加してｐＨ６に調整した後、１
５０ｒｐｍで１５分間撹拌し、さらに高分子凝集剤オル
フロックＡＸ−５００Ｓを２ｍｇ／Ｌ添加した後、４０
ｒｐｍで１５分間撹拌し、これを１時間静置してその上
澄水をフッ素含有排水とした。フッ素含有排水中の成分
は以下の通りである。ｐＨ＝７．０ＳＳ：０．８ｍｇ／ＬＦ：２０ｍｇ／ＬＰＯ_４：２ｍｇ（リン重量）／ＬＣａ：６５０ｍｇ／ＬＳＯ_４：２５００ｍｇ／Ｌフッ素含有排水（実施例１）またはろ過処理水（比較例
１）のｐＨの調整には、１０％塩酸を使用した。ろ過装
置としては、内径６５ｍｍであって、アンスラサイト、
平均粒径０．６ｍｍのろ過砂（株式会社トーケミ製）、
砂利から成る、高さ１ｍのろ材充填層を有する砂ろ過装
置を使用した。該砂ろ過装置に、上記フッ素含有排水を
ＬＶ１０ｍ^３／ｍ^２／時間となるように通水した。フッ
素吸着装置としては、内径２０ｍｍ、フッ素吸着剤充填
層高１ｍのフッ素吸着剤充填層を有するフッ素吸着装置
を使用し、該装置にろ過処理液をＬＶ３０ｍ^３／ｍ^２／
時間となるように通水した。使用したフッ素吸着剤は酸
化ジルコニウムを基質とした、平均粒径０．７ｍｍのも
のを使用した。

【００２１】実施例１実施例１においては、本発明の方法として、上記フッ素
含有排水のｐＨをｐＨ４に調整した後、上記ろ過装置で
ろ過処理を行い、得られたろ過処理水を上記フッ素吸着
装置でフッ素吸着処理して最終処理水を得た。比較例１比較例１においては、従来法として、上記フッ素含有排
水を上記ろ過装置でろ過処理し、得られたろ過処理水の
ｐＨをｐＨ４に調整した後、上記フッ素吸着装置でフッ
素吸着処理して最終処理水を得た。

【００２２】実施例１および比較例１共に、２４時間連
続してフッ素含有排水の処理を行い、処理開始から２４
時間後における、フッ素吸着装置の入口水でのＳＳ濃
度、最終処理水のフッ素濃度、フッ素吸着装置の差圧、
フッ素吸着剤のカルシウム含有量、フッ素吸着剤の外観
を測定した。結果を表１に示す。

【００２３】

【表１】

【００２４】表１に示されるように、ろ過処理後、フッ
素吸着処理前にｐＨの調整を行う比較例１においては、
ｐＨの調整によるフッ素吸着装置入口水でのＳＳの発生
が認められた。また、フッ素吸着装置の差圧の上昇、フ
ッ素吸着剤におけるカルシウム含有量の増加、目視によ
るフッ素吸着剤の白色化が認められ、フッ素吸着剤上へ
の難溶性カルシウム化合物の析出および／またはＳＳの
堆積が認められた。これに対して、ｐＨ調整後にろ過処
理、次いでフッ素吸着処理を行う実施例１においては、
フッ素吸着装置入口水でのＳＳの存在は認められず、フ
ッ素吸着装置の差圧の上昇、フッ素吸着剤におけるカル
シウム含有量の増加もほぼ認められず、フッ素吸着剤の
白色化も認められなかった。これにより、本発明の方法
は、フッ素吸着剤上への難溶性カルシウム化合物の析出
および／またはＳＳの堆積を抑制できることが明らかと
なった。また、最終処理水のフッ素濃度は、従来法であ
る比較例１よりも、本発明の方法である実施例１におい
て低く、フッ素含有排水からのフッ素濃度の低減という
点でも本発明は優れていることが明らかとなった。以
上、本発明の方法は、高濃度でカルシウムおよび硫酸を
含むフッ素含有排水を処理するという、従来法ではフッ
素吸着剤の劣化が著しい場合であっても、フッ素吸着剤
を劣化させることなく、フッ素の吸着除去が可能である
ことが明らかとなった。

【００２５】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明は、フッ
素吸着装置を用いてフッ素含有排水を処理する際に、難
溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装置に流入するのを防止
し、また、フッ素吸着剤上での難溶性化合物の析出を抑
制することにより、フッ素吸着剤の劣化を防止できると
いう有利な効果を有する。また、本発明は、フッ素含有
排水が高濃度でカルシウムを含むという、従来法では、
フッ素吸着剤の劣化が著しい条件下であっても、フッ素
吸着剤を劣化させることなく、フッ素の吸着除去を行う
ことができるという有利な効果を有する。さらに、本発
明は、フッ素含有排水が高濃度でカルシウムおよび硫酸
を含むという、従来法では、フッ素吸着剤の劣化が著し
い条件下であっても、フッ素吸着剤を劣化させることな
く、フッ素の吸着除去を行うことができるという有利な
効果を有する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整
し、該ｐＨを調整したフッ素含有排水をろ過処理し、該
ろ過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理し
て、フッ素が低減された最終処理水を生じさせる、フッ
素含有排水の処理方法。
【請求項２】フッ素含有排水が、カルシウムを用いて
排水中のフッ素を低減させる排水処理方法により生じ
た、低濃度フッ素含有処理水を含む、請求項１記載のフ
ッ素含有排水の処理方法。
【請求項３】フッ素含有排水が、３００ｍｇ／Ｌ以上
のカルシウムを含む請求項１または２記載のフッ素含有
排水の処理方法。