JP2003338378A - インドール三量体系高分子を用いた有機電界発光素子 - Google Patents

インドール三量体系高分子を用いた有機電界発光素子

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JP2003338378A
JP2003338378A JP2002146097A JP2002146097A JP2003338378A JP 2003338378 A JP2003338378 A JP 2003338378A JP 2002146097 A JP2002146097 A JP 2002146097A JP 2002146097 A JP2002146097 A JP 2002146097A JP 2003338378 A JP2003338378 A JP 2003338378A
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Shinichi Maeda
晋一 前田
Takashi Saito
隆司 齋藤
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発光性の均一性、高輝度、安定性、低消費電
力性に優れた特性を有し、バックライトとしての面上光
源やフラットパネルディスプレイ等の表示材料として使
用することができる高性能な有機電界発光素子の提供。 【解決手段】 対向する陽極と陰極の間に有機層を有す
る一層以上の有機電界発光素子において、該有機層のう
ち少なくとも一層がインドール三量体系高分子(インド
ール三量体骨格内にある三個の窒素原子のうち、少なく
とも一つ以上の窒素原子部分が高分子主鎖と結合してい
るインドール三量体系高分子が好ましい。)を含有する
有機層であることを特徴とする有機電界発光素子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インドール三量体
系高分子を含有する有機層を有する有機電界発光素子に
関する。
【0002】
【従来の技術】硫化亜鉛などの無機化合物を用いた無機
エレクトロルミネッセンス素子は、自発光型のため液晶
ディスプレイ(LCD)に比べて視野角が広く、高コン
トラストなどの利点を持っているが、フルカラー化が困
難、製造工程が複雑、駆動電位も高いという課題があ
る。
【0003】そこで近年、上記課題点を克服すべく、有
機薄膜を用いた電界発光素子の開発が行われるようにな
った。1987年には米国イーストマンが8−ヒドロキ
シキノリンのアルミニウム錯体から成る有機発光層と芳
香族ジアミンから成る有機正孔輸送層の2層積層型構造
の有機電界発光素子(有機EL素子)を開発し(App
l.Phys.Lett.,51,913,1987
年)、従来のアントラセン等の単結晶を用いたEL素子
と比較して発光効率の改善をはかったが、なお安定性
(駆動寿命)などに課題を残している。
【0004】上記の様な低分子有機化合物を用いた電界
発光素子の他にも、有機発光層の材料として、ポリ(p
−フェニレンビニレン)(Nature,347,53
9,1990年他)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−
エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレ
ン](Appl.Phys.Lett.,58,198
2,1991年他)、ポリ(3−アルキルチオフェン)
(Jpn.J.Appl.Phys,30,L193
8,1991年他)等の高分子材料を用いた有機EL素
子の開発や、ポリビニルカルバゾール等の高分子に低分
子の発光材料と電子移動材料を混合した素子(応用物
理,61,1044,1992年)の開発も報告されて
いるが、高輝度化、高効率化、長寿命化、低コスト化な
どをはかった実用的な材料は少ない。
【0005】一方、低分子系正孔輸送材料としては、
1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シ
クロヘキサン等の3級芳香族アミンユニットを連結した
芳香族ジアミン化合物(特開昭59−194393号公
報)、4,4’−ビス[(N−1−ナフチル)−N−フ
ェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級
アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換
した芳香族アミン(特開平5−234681号公報)、
トリフェニルベンゼンの誘導体でスターバースト構造を
有する芳香族トリアミン(米国特許第4,923,77
4号)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−
メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,
4’−ジアミン等の芳香族ジアミン(米国特許第4,7
64,625号)、α,α,α’,α’−テトラメチル
−α,α’−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)−p−キシレン(特開平3−269084号公
報)、分子全体として立体的に非対称なトリフェニルア
ミン誘導体(特開平4−129271号公報)、ピレニ
ル基に芳香族ジアミノ基が複数個置換した化合物(特開
平4−175395号公報)、エチレン基で3級芳香族
アミンユニットを連結した芳香族ジアミン(特開平4−
264189号公報)、スチリル構造を有する芳香族ジ
アミン(特開平4−290851号公報)、チオフェン
基で芳香族3級アミンユニットを連結したもの(特開平
4−304466号公報)、スターバースト型芳香族ト
リアミン(特開平4−308688号公報)、ベンジル
フェニル化合物(特開平4−364153号公報)、フ
ルオレン基で3級アミンを連結したもの(特開平5−2
5473号公報)、トリアミン化合物(特開平5−23
9455号公報)、ビスジピリジルアミノビフェニル
(特開平5−320634号公報)、N,N,N−トリ
フェニルアミン誘導体(特開平6−1972号公報)、
フェノキサジン構造を有する芳香族ジアミン(特願平5
−290728号)、ジアミノフェニルフェナントリジ
ン誘導体(特願平6−45669号)に示される芳香族
アミン系化合物、ヒドラゾン化合物(特開平2−311
591号公報)、シラザン化合物(米国特許第4,95
0,950号公報)、シラナミン誘導体(特開平6−4
9079号公報)、ホスファミン誘導体(特開平6−2
5659号公報)、キナクリドン化合物等が挙げられ
る。
【0006】これらの多くの低分子系正孔輸送材料を、
真空蒸着法によって基板上にアモルファス状態で薄膜形
成し、正孔輸送層を有する有機電界素子として駆動した
場合、発生するジュール熱で素子温度が上昇し、薄膜層
内の分子構造の変化や結晶化によって薄膜が破壊される
傾向にある。
【0007】また、高分子系正孔輸送材料としては、ポ
リビニルカルバゾールやポリシラン(Appl.Phy
s.Lett.,59,2760,1995年)、ポリ
フォスファゼン(特開平5−310949号公報)、ポ
リアミド(特開平5−310949号公報)、ポリビニ
ルトリフェニルアミン(特願平5−205377)、ト
リフェニルアミン骨格を有する高分子(特開平4−13
3065号公報)、トリフェニルアミン単位をメチレン
基等で連結した高分子(SyntheticMetal
s,55−57,4163,1993年)、芳香族アミ
ンを含有するポリメタクリレート(J.Polym.S
ci.,Polym.Chem.Ed.,21,96
9,1983年)、ポリアニリンやポリチオフェン等の
導電性高分子等が挙げられる。
【0008】これらの高分子系正孔輸送材料は、Tg
(ガラス転位点)が高く、膜強度が強く、湿式塗布でき
成膜プロセスが簡便である等、低分子系と比較して優位
点が多い。しかしながら、未だ正孔輸送能力、基板への
密着性、薄膜の安定性等に課題を残し、工業材料として
は不充分であった。
【0009】一方、インドール三量体は、蛍光性を有す
ることが報告されており(Phys.Chem.Che
m.Phys.,2,1241−1248,2000
年)、応用例として有機電界素子への適用も記載されて
いるが、具体的な素子、その構成及び製造方法について
の記載はない。また、低分子化合物であるため成膜性に
も問題があった。
【0010】また、インドールがすべて同一方向を向い
て結合している対称型トリインドール誘導体(特開20
01−261680号公報)やそれらからなるポリマー
(特開2001−288239号公報)が提案されてい
る。これらの化合物の応用例として有機エレクトロルミ
ネッセンスへの適用も記載されているが、具体的な素
子、その構成及び製造方法についての記載はない。ま
た、低分子化合物であるため成膜性にも問題があった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の諸々の問題を解決するためになされたものであ
り、密着性の高い薄膜を容易に成膜することが可能で、
正孔輸送性に優れたインドール三量体系高分子を用いる
ことで、発光の均一性、安定性、高輝度、及び低消費電
力性に優れる有機電界発光素子を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決するため鋭意研究をした結果、インドール三
量体系高分子がこの目的に適することを見出して、本発
明に到達した。すなわち、本発明は、対向する陽極と陰
極の間に一層以上の有機層を有する有機電界発光素子に
おいて、該有機層のうち少なくとも一層がインドール三
量体系高分子を含有する有機層であることを特徴とする
有機電界発光素子である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の有機電界発光素子
について詳細に説明する。
【0014】本発明は、対向する陽極と陰極の間に一層
以上の有機層を有する有機電界発光素子において、該有
機層のうち少なくとも一層がインドール三量体系高分子
を含有する有機層であることを特徴とする有機電界発光
素子に関する。
【0015】特に、前記インドール三量体系高分子を含
有する有機層を、正孔輸送層として用いることにより有
機電界発光素子の性能向上が図れる。
【0016】本発明で使用するインドール三量体系高分
子は、インドール三量体骨格を含有する高分子であれば
特に限定されないが、インドール三量体骨格内にある三
個の窒素原子のうち、少なくとも一つ以上の窒素原子部
分が高分子主鎖と結合しているインドール三量体系高分
子が好ましく用いられる。
【0017】好ましい例としては、インドール三量体系
高分子が、下記一般式(1)
【化5】 (上記式中、R〜R12、R15〜R17は、水素、
炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数
1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜
24の直鎖または分岐のアシル基、アルデヒド基、カル
ボン酸基、炭素数2〜24の直鎖または分岐のカルボン
酸エステル基、スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖ま
たは分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、
ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル基、ア
ルキル(炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)
オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニルシア
ノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立
に選ばれた置換基であり、またR13とR14は、水
素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基より
なる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基である。Y
は、なしか、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキ
ル基、ケトン基、アリール基、複素環基である。また、
a−は陰イオンであり、aはXのイオン価数を表し、
mは0〜2である。nは重合度を表す。)で表されるイ
ンドール三量体系高分子。
【0018】あるいは、インドール三量体系高分子が、
下記一般式(2)
【化6】 (上記式中、R18〜R29、R32〜R34は、水
素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭
素数1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数
2〜24の直鎖または分岐のアシル基、アルデヒド基、
カルボン酸基、炭素数2〜24の直鎖または分岐のカル
ボン酸エステル基、スルホン酸基、炭素数1〜24の直
鎖または分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸
基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル
基、アルキル(炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキ
ル基)オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニ
ルシアノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞ
れ独立に選ばれた置換基であり、またR30とR
31は、水素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアル
キル基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基で
ある。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または分岐
のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基であ
る。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン価
数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)で
表されるインドール三量体系高分子。
【0019】あるいは、インドール三量体系高分子が、
下記一般式(3)
【化7】 (上記式中、R35〜R49は、水素、炭素数1〜24
の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖
または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜24の直鎖また
は分岐のアシル基、アルデヒド基、カルボン酸基、炭素
数2〜24の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、
スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のスル
ホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル(炭素数
1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)オキシカルボニ
ルシアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及び
ハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換
基である。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または
分岐のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基で
ある。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン
価数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)
で表されるインドール三量体系高分子。
【0020】あるいは、インドール三量体系高分子が、
下記一般式(4)
【化8】 (上記式中、R50〜R64は、水素、炭素数1〜24
の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖
または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜24の直鎖また
は分岐のアシル基、アルデヒド基、カルボン酸基、炭素
数2〜24の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、
スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のスル
ホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル(炭素数
1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)オキシカルボニ
ルシアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及び
ハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換
基である。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または
分岐のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基で
ある。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン
価数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)
で表されるインドール三量体系高分子である。
【0021】より好ましい例としては、インドール三量
体系高分子が、一般式(1)〜(4)において、Yがな
しの場合である、N−ビニルインドール三量体系高分子
が挙げられる。
【0022】このようなインドール三量体系高分子は、
電荷輸送層、有機発光層として適用可能であるが、特に
正孔輸送層に非常に適していることを見出した。インド
ール三量体系高分子を構成するインドール三量体の具体
例は、インドール、4―メチルインドール、5―メチル
インドール、6―メチルインドール、7―メチルインド
ール、4―エチルインドール、5―エチルインドール、
6―エチルインドール、7―エチルインドール、4―n
−プロピルインドール、5―n−プロピルインドール、
6―n−プロピルインドール、7―n−プロピルインド
ール、4―iso−プロピルインドール、5―iso−
プロピルインドール、6―iso−プロピルインドー
ル、7―iso−プロピルインドール、4―n−ブチル
インドール、5―n−ブチルインドール、6―n−ブチ
ルインドール、7―n−ブチルインドール、4―sec
−ブチルインドール、5―sec−ブチルインドール、
6―sec−ブチルインドール、7―sec−ブチルイ
ンドール、4―t−ブチルインドール、5―t−ブチル
インドール、6―t−ブチルインドール、7―t−ブチ
ルインドールなどのアルキル基置換インドール三量体
類、4―メトキシインドール、5―メトキシインドー
ル、6―メトキシインドール、7―メトキシインドー
ル、4―エトキシインドール、5―エトキシインドー
ル、6―エトキシインドール、7―エトキシインドー
ル、4―n−プロポキシインドール、5―n−プロポキ
シインドール、6―n−プロポキシインドール、7―n
−プロポキシインドール、4―iso−プロポキシイン
ドール、5―iso−プロポキシインドール、6―is
o−プロポキシインドール、7―iso−プロポキシイ
ンドール、4―n−ブトキシインドール、5―n−ブト
キシインドール、6―n−ブトキシインドール、7―n
−ブトキシインドール、4―sec−ブトキシインドー
ル、5―sec−ブトキシインドール、6―sec−ブ
トキシインドール、7―sec−ブトキシインドール、
4―t−ブトキシインドール、5―t−ブトキシインド
ール、6―t−ブトキシインドール、7―t−ブトキシ
インドールなどのアルコキシ基置換インドール三量体
類、4―アセチルインドール、5―アセチルインドー
ル、6―アセチルインドール、7―アセチルインドール
などのアシル基置換インドール三量体類、インドール―
4―カルバルデヒド、インドール―5―カルバルデヒ
ド、インドール―6―カルバルデヒド、インドール―7
―カルバルデヒドなどのアルデヒド基置換インドール三
量体類、インドール―4―カルボン酸、インドール―5
―カルボン酸、インドール―6―カルボン酸、インドー
ル―7―カルボン酸などのカルボン酸基置換インドール
三量体類、インドール―4―カルボン酸メチル、インド
ール―5―カルボン酸メチル、インドール―6―カルボ
ン酸メチル、インドール―7―カルボン酸メチルなどの
カルボン酸エステル基置換インドール三量体類、インド
ール―4―スルホン酸、インドール―5―スルホン酸、
インドール―6―スルホン酸、インドール―7―スルホ
ン酸などのスルホン酸基置換インドール三量体類、イン
ドール―4―スルホン酸メチル、インドール―5―スル
ホン酸メチル、インドール―6―スルホン酸メチル、イ
ンドール―7―スルホン酸メチルなどのスルホン酸エス
テル基置換インドール三量体類、インドール―4―カル
ボニトリル、インドール―5―カルボニトリル、インド
ール―6―カルボニトリル、インドール―7―カルボニ
トリルなどのシアノ基置換インドール三量体類、4―ヒ
ドロキシインドール、5―ヒドロキシインドール、6―
ヒドロキシインドール、7―ヒドロキシインドールなど
のヒドロキシ基置換インドール三量体類、4―ニトロイ
ンドール、5―ニトロインドール、6―ニトロインドー
ル、7―ニトロインドールなどのニトロ基置換インドー
ル三量体類、4―アミノインドール、5―アミノインド
ール、6―アミノインドール、7―アミノインドールな
どのアミノ基置換インドール三量体類、4―フルオロイ
ンドール、5―フルオロインドール、6―フルオロイン
ドール、7―フルオロインドール、4―クロロインドー
ル、5―クロロインドール、6―クロロインドール、7
―クロロインドール、4―ブロモインドール、5―ブロ
モインドール、6―ブロモインドール、7―ブロモイン
ドール、4―ヨードインドール、5―ヨードインドー
ル、6―ヨードインドール、7―ヨードインドールなど
のハロゲン基置換インドール三量体類などを挙げること
ができる。
【0023】これらのインドール三量体のうち、無置換
インドール三量体、アシル基置換インドール三量体類、
ヒドロキシ基置換インドール三量体類、アミノ基置換イ
ンドール三量体類、ハロゲン基置換インドール三量体類
などが実用上好ましい。
【0024】本発明で用いられる前記インドール三量体
は、化学的合成(WO02/32903公報、J.Me
d.Chem.,38,16,3094,1995年
他)及び電気化学的合成(J.Electroana
l.Chem.,414,197,1996年他)など
の各種合成法によって得られるインドール三量体を用い
ることができる。
【0025】インドール三量体は、溶媒への溶解性をよ
り向上する目的で酸化処理をしたもの(以下、酸化型イ
ンドール三量体と称す)を用いることもできる。ここで
いう酸化型インドール三量体とは、インドール三量体骨
格内の窒素原子上の水素原子が脱水素された化合物のこ
とをいう。酸化方法としては特に限定されるものではな
いが、各種酸化剤による酸化処理や、アンモニア水、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなど
のアルカリ性溶液中にインドール三量体を懸濁させて酸
化処理することより酸化型インドール三量体を得ること
ができる。
【0026】このようにして得られたインドール三量体
あるいは、酸化型インドール三量体と、高分子主鎖の構
成元であるモノマーを結合したインドール三量体系単量
体を、ラジカル重合、イオン重合、フォトカチオン重
合、Ziegler−Natta触媒重合等の重合反応
を行うことで、目的物であるインドール三量体系高分子
を得ることができる。
【0027】また、二種類以上のインドール三量体系単
量体を共重合することで、インドール三量体系高分子共
重合体を得ることもできるし、非インドール系の通常の
ビニル単量体と共重合することによってもインドール三
量体系高分子共重合体を得ることもできる。これらの共
重合体も同様に本発明の目的である有機電界発光素子に
用いることができる。
【0028】本発明で用いられるインドール三量体系高
分子中のXa−は、ドーパントであり、インドール三量
体の合成時に使用した酸化剤等に由来する陰イオン、あ
るいはN−ビニルインドール三量体もしくはインドール
三量体系高分子の合成後に行う後ドープ工程に由来する
陰イオンである。具体的には、塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イ
オン、硫酸水素イオン、リン酸イオン、テトラフルオロ
ほう酸イオン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、
酢酸イオン、プロピオン酸イオン、p−トルエンスルホ
ン酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、トリフルオロメ
タンスルホン酸イオン等の1〜3価の陰イオンであり、
これらの陰イオンは、一種でも二種以上が混在していも
特に差し支えない。例えば、酸化剤として無水塩化第二
鉄を選んで重合を行った場合、インドール三量体中のド
ーパントXa−は塩素イオンとなり、トリフルオロ酢酸
第二銅を用いて酸化を行った場合、ドーパントXa−
トリフルオロ酢酸イオンとなる。
【0029】インドール三量体系高分子の好ましい分子
量は、Mw=2000〜100000である。好ましく
は、Mw=5000〜50000である。Mw=200
0未満であると成膜性が悪くなり、分子量がMw=10
0000より大きいと、溶媒への溶解度が悪くなり、薄
膜の均一性が低下する傾向にある。
【0030】インドール三量体系高分子を有機電界発光
素子として用いる場合、その純度が電荷輸送特性や発光
特性に影響を与えるため、合成後、再結晶、再沈精製、
昇華精製等の精製方法を用いて高純度化をすることが好
ましい。
【0031】本発明の有機電界発光素子の構造について
以下に述べる。素子の構造は公知の構造をとることがで
きる。例えば、基板/陽極/有機発光層/陰極(/は層
を積層したことを示す)、基板/陽極/正孔輸送層/有
機発光層/陰極、基板/陽極/(電荷輸送材料と発光材
料との混合物層)/陰極、あるいは基板/陽極/正孔輸
送層/(電荷輸送材料と発光材料との混合物層)/陰極
の構造をとることができる。また、基板/陽極と正孔輸
送層との間に導電性高分子層を有する組み合わせの構造
をとることもできるし、有機発光層と陰極との間に電子
輸送層を有する組み合わせの構造をとることもできる。
更に、基板/陽極/導電性高分子層/正孔輸送層/有機
発光層/電子輸送層/陰極の構造をとることもできる。
【0032】本発明の有機電界発光素子の基板は、石英
やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルム
やシートなどが用いられる。特にガラス板や、ポリエス
テル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリス
ルホンなどの透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂
基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要が
ある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過
した外気により有機電界発光素子が劣化することがある
ので好ましくない。このため、合成樹脂基板の上に緻密
なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を付与する方
法も好ましい方法の一つである。
【0033】本発明の有機電界発光素子の電極について
述べる。陽極は、基板上に設けられ、有機発光層への正
孔注入の役割を果たすものである。陽極としての具体例
は、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白
金等の金属、インジウム及び/またはスズの酸化物など
の金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボ
ンブラック、あるいは、ポリ(3−メチルチオフェ
ン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子な
どにより構成される。陽極の形成は、スパッタリング
法、真空蒸着法などにより行われることが多い。また、
銀などの金属微粒子、ヨウ化銅などの微粒子、カーボン
ブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微
粉末などの場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散
し、基板上に塗布することにより陽極を形成することも
できる。さらに、導電性高分子の場合は電解重合により
直接基板上に薄膜を形成したり、基板上に導電性高分子
を塗布して陽極を形成することもできる(Appl.P
hys.Lett.,60巻,2711頁,1992
年)。陽極は異なる物質で積層して形成することも可能
である。陽極の厚みは、必要とする透明性により異な
る。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、
通常、60%以上、好ましくは80%以上とすることが
望ましく、この場合、厚みは、通常、5〜1000n
m、好ましくは10〜500nm程度である。不透明で
よい場合は陽極は基板と同一でもよい。また、さらには
上記の陽極の上に異なる導電材料を積層することも可能
である。
【0034】一方、陰極は、有機発光層への電子の注入
が行われる。陰極として用いられる材料は、前記陽極に
使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく
電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、
スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミ
ニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いら
れる。陰極4の膜厚は通常、陽極と同様である。低仕事
関数金属から成る陰極を保護する目的で、この上にさら
に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層す
ることは素子の安定性を増す。この目的のために、アル
ミニウム、銀、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が
用いられる。
【0035】一般的に発光効率の向上を目的に、陽極か
ら注入された正孔と陰極から注入された電子を効率よく
輸送して再結合させるために、有機発光層の両界面に正
孔輸送層や電子輸送層を積層した多層分離型素子にする
ことが行われる(Appl.Phys.Lett.,5
1,913,1987年)。
【0036】多層分離型素子において、正孔輸送層に使
用する正孔輸送材料としては、陽極からの正孔注入効率
が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送すること
ができる材料であることが必要である。そのためには、
イオン化ポテンシャルが小さく、しかも正孔移動度が大
きく、さらに安定性にすぐれ、トラップとなる不純物が
製造時や使用時に発生しにくいことが要求される。
【0037】本発明においてはインドール三量体系高分
子を含有する有機物層は、(I) インドール三量体系高
分子のみからなる層、(II)インドール三量体系高分
子と他の正孔輸送層や電子輸送層などの電荷輸送材料と
が混合された層、(III)インドール三量体系高分子
と発光材料とが混合された層、(IV)インドール三量
体系高分子と他の電荷輸送材料および他の発光材料とが
混合された層、あるいは、(V)これら4つのいずれか
1つに更に少なくとも1種類以上の高分子化合物を混合
した層、のいずれであってもよい。ここで、他の電荷輸
送材料、発光材料を用いるのは、それぞれ電荷輸送特
性、発光特性の改善であり、高分子化合物の混合は、成
膜性及び膜の強度を改善する効果がある。
【0038】また、インドール三量体系高分子を含有す
る有機層は、単独で用いてもよいし、これと別の正孔輸
送層や電子輸送層などの電荷輸送層、別の発光層、また
はその両方と積層してもよい。更にバッファ層などの他
の特性を有する有機層を積層して用いることができる。
【0039】インドール三量体系高分子と混合あるいは
有機発光層として積層されるのに用いられる発光材料と
しては固体状態で蛍光を示すものであれば特に限定され
るものではない。具体的には、低分子化合物としてはナ
フタレン誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ピレ
ン誘導体、ペリレンおよびその誘導体、ポリメチン系、
キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、
8−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体のアルミニウ
ムなどの金属錯体、芳香族アミン類、テトラフェニルシ
クロペンタジエンおよびその誘導体、テトラフェニルブ
タジエンおよびその誘導体などが挙げられる。また、高
分子化合物としては、ポリ(p−フェニレンビニレン)
(Nature,347,539,1990年他)、ポ
リ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)
−1,4−フェニレンビニレン]、ポリ(3−アルキル
チオフェン)などが挙げられる。
【0040】具体的な材料としては、テトラフェニルブ
タジエンなどの芳香族化合物(特開昭57−51781
号公報)、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体
などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、
10- ヒドロキシベンゾ[h] キノリンの金属錯体(特開平
6−322362号公報)、混合配位子アルミニウムキ
レート錯体(特開平5−198377号公報、特開平5
−198378号公報、特開平5−214332号公
報、特開平6−172751号公報シクロペンタジエン
誘導体(特開平2−289675号公報)、ペリノン誘
導体(特開平2−289676号公報)、オキサジアゾ
ール誘導体(特開平2−216791号公報)、ビスス
チリルベンゼン誘導体(特開平1−245087号公
報、同2−222484号公報)、ペリレン誘導体(特
開平2−189890号公報、同3−791号公報)、
クマリン化合物(特開平2−191694号公報、同3
−792号公報)、希土類錯体(特開平1−25658
4号公報)、ジスチリルピラジン誘導体(特開平2−2
52793号公報)、p−フェニレン化合物(特開平3
− 33183号公報)、チアジアゾロピリジン誘導体
(特開平3−37292号公報)、ピロロピリジン誘導
体(特開平3−37293号公報)、ナフチリジン誘導
体(特開平3−203982号公報)、シロール誘導体
(日本化学会第70春季年会,2D1 02及び2D1
03,1986年)などが挙げられる。これらの化合
物は、単独で用いてもよいし、必要に応じて各々混合し
て用いてもよい。
【0041】インドール三量体系高分子と混合あるいは
別の正孔輸送層として積層されるのに用いられる正孔輸
送材料としては特に限定されるものではない。このよう
な正孔輸送材料としては、例えば、1,1−ビス(4−
ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン等の3
級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン化合
物(特開昭59−194393号公報)、4,4’−ビ
ス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフ
ェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以
上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族アミン
(特開平5−234681号公報)、トリフェニルベン
ゼンの誘導体でスターバースト構造を有する芳香族トリ
アミン(米国特許第4,923,774号)、N,N’
−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)
ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族ジアミン
(米国特許第4,764,625号)、α,α,α’,
α’−テトラメチル−α,α’−ビス(4−ジ−p−ト
リルアミノフェニル)−p−キシレン(特開平3−26
9084号公報)、分子全体として立体的に非対称なト
リフェニルアミン誘導体(特開平4−129271号公
報)、ピレニル基に芳香族ジアミノ基が複数個置換した
化合物(特開平4−175395号公報)、エチレン基
で3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン
(特開平4−264189号公報)、スチリル構造を有
する芳香族ジアミン(特開平4−290851号公
報)、チオフェン基で芳香族3級アミンユニットを連結
したもの(特開平4−304466号公報)、スターバ
ースト型芳香族トリアミン(特開平4−308688号
公報)、ベンジルフェニル化合物(特開平4−3641
53号公報)、フルオレン基で3級アミンを連結したも
の(特開平5−25473号公報)、トリアミン化合物
(特開平5−239455号公報)、ビスジピリジルア
ミノビフェニル(特開平5−320634号公報)、
N,N,N−トリフェニルアミン誘導体(特開平6−1
972号公報)、フェノキサジン構造を有する芳香族ジ
アミン(特願平5−290728号)、ジアミノフェニ
ルフェナントリジン誘導体(特願平6−45669
号)、ヒドラゾン化合物(特開平2−311591号公
報)、シラザン化合物(米国特許第4,950,950
号公報)、シラナミン誘導体(特開平6−49079号
公報)、ホスファミン誘導体(特開平6−25659号
公報)、キナクリドン化合物、ポリビニルカルバゾール
やポリシラン(Appl.Phys.Lett.,5
9,2760,1991年)、ポリフォスファゼン(特
開平5−310949号公報)、ポリアミド(特開平5
−310949号公報)、ポリビニルトリフェニルアミ
ン(特願平5−205377)、トリフェニルアミン骨
格を有する高分子(特開平4−133065号公報)、
トリフェニルアミン単位をメチレン基等で連結した高分
子(SyntheticMetals,55−57,4
163,1993年)、芳香族アミンを含有するポリメ
タクリレート(J.Polym.Sci.,Poly
m.Chem.Ed.,21,969,1983年)等
が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよい
し、必要に応じて、各々、混合して用いてもよい。
【0042】インドール三量体系高分子と混合あるいは
電子輸送層として積層されるのに用いられる電子輸送材
料としては特に限定されるものではない。このような電
子輸送材料としては、テトラフェニルブタジエンなどの
芳香族化合物(特開昭57−51781号公報)、8−
ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体
(特開昭59−194393号公報)、シクロペンタジ
エン誘導体(特開平2−289675号公報)、ペリノ
ン誘導体(特開平2−289676号公報)、オキサジ
アゾール誘導体(特開平2−216791号公報)、ビ
ススチリルベンゼン誘導体(特開平1−245087号
公報、同2−222484号公報)、ペリレン誘導体
(特開平2−189890号公報、同3−791号公
報)、クマリン化合物(特開平2−191694号公
報、同3−792号公報)、希土類錯体(特開平1−2
56584)、ジスチリルピラジン誘導体(特開平2−
252793号公報)、p−フェニレン化合物(特開平
3−33183号公報)、チアジアゾロピリジン誘導体
(特開平3−37292号公報)、ピロロピリジン誘導
体(特開平3−37293号公報)、ナフチリジン誘導
体(特開平3−203982号公報)などが挙げられ
る。これらの化合物は、単独で用いてもよいし、必要に
応じて、各々、混合して用いてもよい。
【0043】また、インドール三量体系高分子、インド
ール三量体系高分子及び前記発光材料との混合物、イン
ドール三量体系高分子及び前記正孔輸送材料との混合
物、あるいはインドール三量体系高分子及び前記電子輸
送材料との混合物とともに用いられる高分子化合物は特
に限定されないが、電荷輸送性、発光性を極度に阻害し
ないものが好ましく、例えば、ポリ(N−ビニルカルバ
ゾール)、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフ
ェンおよびその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレ
ン)およびその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニ
レン)およびその誘導体、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラールなどのポリビ
ニルアルコール類、ポリアクリルアマイド、ポリ(N−
t−ブチルアクリルアマイド)、ポリアクリルアマイド
メチルプロパンスルホン酸などのポリアクリルアマイド
類、ポリビニルピロリドン類、アルキド樹脂、メラミン
樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ビニル
エステル樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、マレイン
酸樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩素
化ポリエチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、アク
リル/スチレン共重合樹脂、酢酸ビニル/アクリル共重
合樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン/マレイン酸共重
合樹脂、フッ素樹脂及びこれらの共重合体などが用いら
れる。またこれらの高分子化合物(G)は2種以上を任
意の割合で混合したものであってもよい。
【0044】なお、ここでポリ(N−ビニルカルバゾー
ル)、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェン
およびその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)お
よびその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)
およびその誘導体は上記の電荷輸送性化合物としての作
用も有する。
【0045】高分子化合物の使用割合は、特に限定され
るものではないが前記の(A)、あるいは前記(A)及
び電荷輸送材料との混合物、100質量部に対して、
0.01〜100000質量部、好ましくは1〜100
000質量部が用いられる。
【0046】インドール三量体系高分子を含有する有機
層は、真空蒸着法あるいはインドール三量体系高分子と
溶媒などからなる組成物から形成する方法が用いられ
る。溶液から形成する場合は、スピンコーティング法、
キャスティング法、バーコート法、ロールコート法、グ
ラビアコート法、カーテンフローコート法、リバースコ
ート法、キスコート法、ファンテンコート法、ロッドコ
ート法、エアドクターコート法、ナイフコート法、ブレ
ードコート法、スクリーンコート法などの塗布法、スプ
レーコート法、インクジェット法などの噴霧法、ディッ
プなどの浸漬法などの公知の方法を用いることができ
る。他の発光材料、電荷輸送材料あるいは高分子化合物
と混合する場合は、予め混合しておいて上記の方法で成
膜してもよいし、真空蒸着法の場合は、別々の蒸着源か
ら共蒸着してもよい。なお、塗布法により薄膜化した場
合には、溶媒を除去するため、常温〜250℃、さらに
40〜150℃の温度で熱処理することが好ましい。ま
た、熱処理する場合は、減圧下あるいは不活性雰囲気下
で行うことが好ましい。
【0047】本発明のインドール三量体系高分子を含有
する有機層を塗布法によって、成膜する場合に用いる組
成物の溶媒は、インドール三量体系高分子、インドール
三量体系高分子及び発光材料の混合物、インドール三量
体系高分子及び電荷輸送材料の混合物あるいはこれらに
高分子化合物を混合したものを溶解あるいは分散させる
ものであれば特に限定されず、水や有機溶媒が用いられ
る。有機溶剤としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセ
トン、メチルイソブチルケトン、などのケトン類、イソ
プロピルエーテル、メチル―t―ブチルエーテルなどの
エーテル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど
のセロソルブ類、メチルプロピレングリコール、エチル
プロピレングリコールなどのプロピレングリコール類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン
などのピロリドン類、ジメチルスルオキシドなどが好ま
しく用いられる。特にインドール誘導体三量体への溶解
性の点で水、メタノール、イソプロパノール、アセト
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドンがより好ましい。なお、これらの溶
媒はそれぞれ単独で用いても、また任意の割合で混合し
て用いてもよい。
【0048】インドール三量体系高分子、前記インドー
ル三量体系高分子及び発光材料の混合物、前記インドー
ル三量体系高分子及び電荷輸送材料の混合物、あるいは
これらに高分子化合物を混合した混合物の使用割合は、
溶媒100質量部に対して0.01〜20質量部、好ま
しくは0.1〜10質量部である。インドール三量体系
高分子の割合が20質量部以上では溶解性低く、膜の平
滑性が低く、0.01質量部以下では成膜性が低下して
発光特性が低下する傾向にある。
【0049】本発明の組成物は、必要に応じて、シラン
カップリング剤等の架橋剤、コロイダルシリカ、界面活
性剤、保存安定剤、接着助剤、染料、顔料などを添加す
ることができる。
【0050】本発明のインドール三量体系高分子を含む
有機層の膜は、膜厚1nm〜10000nm、好ましく
は5nm〜1000nm、さらに好ましくは10nm〜
500nmに成膜が可能である
【0051】
【実施例】以下実施例により本発明を更に具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0052】合成例1(6−フルオロインドール三量体
の合成) 200mlの三ツ口フラスコにアセトニトリル10ml
を入れ、6−フルオロインドール1.35gを溶解し
た。一方、酸化剤溶液の調製はアセトニトリル40ml
に対して、無水塩化第二鉄16.2g、水5.4gを溶
解して10分間攪拌した。次に、6−フルオロインドー
ル溶液に30分間かけて、調製した酸化剤水溶液を滴下
した後、60℃で10時間攪拌した。反応溶液は若干の
発熱を伴いながら薄黄色から淡緑色に変化し、そのpH
は1以下であった。反応終了後、桐山漏斗で吸引濾過
し、アセトニトリル次いでメタノールで洗浄し、乾燥し
て、淡緑色の3,8,13−トリフルオロ−6,11−
ジヒドロ−5H―ジインドロ[2,3−a:2’,3’
−c]カルバゾール、(6−フルオロインドール三量
体)1.07g(収率79%)を得た。元素分析の結果
は(C8.004.010.090.98Cl
0.16であった。
【0053】合成例2(インドール−5−カルボニトリ
ル三量体の合成) 合成例1において6−フルオロインドールの代わりにイ
ンドール−5−カルボニトリルを使用する以外は合成例
1と同様な方法で反応を行った。緑色の6,11−ジヒ
ドロ−5H―ジインドロ[2,3−a:2’,3’−c]
カルバゾール−2,9,14−トリカルボニトリル、
(インドール−5−カルボニトリル三量体)1.16g
(収率86%)を得た。元素分析の結果は(C9.00
4.031.97Cl0.10であった。
【0054】合成例3(酸化型のインドール−5−カル
ボニトリル三量体の合成) 合成例2にて合成したインドール−5−カルボニトリル
三量体1.00gを、1Mアンモニア水100ml中で
分散させ、1時間攪拌した。攪拌後、桐山漏斗で吸引濾
過し、水、次いでメタノールで洗浄し、乾燥して、黒色
の酸化型インドール−5−カルボニトリル三量体0.9
5gを得た。元素分析の結果は(C9. 003.34
2.02であった。
【0055】合成例4(インドール−5−カルボン酸三
量体の合成) 200mlの三ツ口フラスコにアセトニトリル10ml
を入れ、インドール−5−カルボン酸1.62gを溶解
した。一方、酸化剤溶液の調製はアセトニトリル40m
lに対して、無水塩化第二鉄16.2g、水5.4gを
溶解して10分間攪拌した。次に、インドール−5−カ
ルボン酸溶液に30分間かけて、調製した酸化剤水溶液
を滴下した後、15℃で10時間攪拌した。反応溶液は
若干の発熱を伴いながら薄黄色から淡緑色に変化し、そ
のpHは1以下であった。反応終了後、桐山漏斗で吸引
濾過し、アセトニトリル次いでメタノールで洗浄し、乾
燥して、深緑色の6,11−ジヒドロ−5H―ジインド
ロ[2,3−a:2’,3’−c]カルバゾール−2,
9,14−トリカルボン酸、(インドール−5−カルボ
ン酸三量体)1.28g(収率79%)を得た。元素分
析の結果は(C9. 004.931.07
1.99Cl0.11であった。
【0056】合成例5(酸化型のインドール−5−カル
ボン酸三量体の合成) 合成例4にて合成したインドール−5−カルボン酸三量
体1.00gを、1Mアンモニア水50ml中に溶解さ
せ、1時間攪拌した。攪拌後、アセトニトリル500m
lに最沈殿させて、得られた沈殿物を桐山漏斗で吸引濾
過し、水、次いでアセトニトリルで洗浄し、乾燥して、
黒色の酸化型インドール−5−カルボン酸三量体0.9
2gを得た。元素分析の結果は(C9.004.34
1.0 1.99であった。
【0057】合成例6(インドール三量体(対称型)の
合成) 300mlの三ツ口フラスコにオキシンドール50.0
gを、オキシ塩化りん100mlを溶媒として、空気中
100℃、10時間攪拌した。反応液を氷水にゆっくり
注ぎ込み過剰のオキシ塩化りんをつぶした後、水酸化ナ
トリウム水溶液で中和した。この溶液からクロロホルム
で目的の化合物を抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。ろ液から溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー
で精製し、インドール三量体(対称型)32.5gを得
た。
【0058】合成例7(N−ビニルインドール三量体の
合成) 前記合成例1〜3、5および6で合成したインドール三
量体あるいは酸化型インドール三量体を、公知な方法
(Organic Letters,4,623,20
02年等)で、N−ビニル化を行い、各種ビニルインド
ール三量体を合成した。
【0059】(インドール三量体系高分子の合成)前記
の合成方法で取得したビニルインドール三量体を、ビニ
ル化合物の重合方法のひとつであるトロピリウム過塩素
酸塩等のトロピリウム塩にて、カチオン重合を行い、各
種インドール三量体系高分子を合成した。
【0060】(組成物1)ポリ(N−ビニル−6−フル
オロインドール三量体)5質量部を、ジメチルホルムア
ミド100質量部に室温で攪拌溶解し組成物を調製し
た。
【0061】(組成物2)ポリ(N−ビニル−インドー
ル−5−カルボニトリル三量体)3質量部、N−メチル
ピロリドン100質量部に室温で攪拌溶解し組成物を調
製した。
【0062】(組成物3)酸化型のポリ(N−ビニル−
インドール−5−カルボニトリル三量体)8質量部、N
−メチルピロリドン100質量部に室温で攪拌溶解し組
成物を調製した。
【0063】(組成物4)酸化型のポリ(N−ビニル−
インドール−5−カルボン酸三量体)10質量部、N−
メチルピロリドン100質量部に室温で攪拌溶解し組成
物を調製した。
【0064】(組成物5)ポリ(N−ビニル−インドー
ル三量体(対称型))10質量部、N−メチルピロリド
ン100質量部に室温で攪拌溶解し組成物を調製した。
【0065】<素子の作成と評価> (実施例1)スパッタリングにより150nmの厚みで
ITO膜を付けたガラス基板をアセトンで超音波洗浄、
純水で水洗、更にイソプロピルアルコールで超音波洗
浄、乾燥窒素で乾燥させた。このガラス基板上に、組成
物1をスピンコート(500rpm×5sec+200
0rpm×60sec)し、150℃で10分間乾燥
し、50nmの厚みで成膜した。次いで、アルミニウム
の8−ヒドロキシキノリン錯体を400℃で3分間で6
0nmの厚さに蒸着した。なお、有機物の蒸着は0.2
5〜0.35nm/sの速度で行なった。最後に、その
上に陰極としてマグネシウム−銀合金(Mg:Ag=1
0:1質量比)を150nmの厚みで蒸着して有機電界
発光素子を作製した。蒸着のときの真空度はすべて5×
10-6Torr以下であった。この素子に12.0Vの
電圧を印加したところ、約50mA/cmの電流が流
れ、均一なEL発光が観察された。発光スペクトルのピ
ークは555nmであり、発光色は黄緑色であった。
【0066】(実施例2)スパッタリングにより200
nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板をアセトンで
超音波洗浄、純水で水洗、更にイソプロピルアルコール
で超音波洗浄、乾燥窒素で乾燥させた。このガラス基板
上に、組成物2をスピンコート(500rpm×5se
c+2000rpm×60sec)し、150℃で10
分間乾燥し、50nmの厚みで成膜した。次いで、アル
ミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体を400℃で3
分間で60nmの厚さに蒸着した。なお、有機物の蒸着
は0.25〜0.35nm/sの速度で行なった。最後
に、その上に陰極としてマグネシウム−銀合金(Mg:
Ag=10:1質量比)を150nmの厚みで蒸着して
有機電界発光素子を作製した。蒸着のときの真空度はす
べて8×10-6Torr以下であった。この素子に1
3.0Vの電圧を印加したところ、約55mA/cm
の電流が流れ、均一なEL発光が観察された。発光スペ
クトルのピークは560nmであり、発光色は黄緑色で
あった。
【0067】(実施例3)スパッタリングにより200
nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板をアセトンで
超音波洗浄、純水で水洗、更にイソプロピルアルコール
で超音波洗浄、乾燥窒素で乾燥させた。このガラス基板
上に、組成物3をスピンコート(500rpm×5se
c+2000rpm×60sec)し、150℃で10
分間乾燥し、60nmの厚みで成膜した。次いで、アル
ミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体を400℃で3
分間で65nmの厚さに蒸着した。なお、有機物の蒸着
は0.30〜0.35nm/sの速度で行なった。最後
に、その上に陰極としてマグネシウム−銀合金(Mg:
Ag=10:1質量比)を200nmの厚みで蒸着して
有機電界発光素子を作製した。蒸着のときの真空度はす
べて8×10-6Torr以下であった。この素子に1
0.0Vの電圧を印加したところ、約45mA/cm
の電流が流れ、均一なEL発光が観察された。発光スペ
クトルのピークは565nmであり、発光色は黄緑色で
あった。
【0068】(実施例4)スパッタリングにより200
nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板をアセトンで
超音波洗浄、純水で水洗、更にイソプロピルアルコール
で超音波洗浄、乾燥窒素で乾燥させた。このガラス基板
上に、組成物4をスピンコート(500rpm×5se
c+2000rpm×60sec)し、150℃で10
分間乾燥し、65nmの厚みで成膜した。次いで、アル
ミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体を400℃で3
分間で65nmの厚さに蒸着した。なお、有機物の蒸着
は0.30〜0.35nm/sの速度で行なった。最後
に、その上に陰極としてマグネシウム−銀合金(Mg:
Ag=10:1質量比)を200nmの厚みで蒸着して
有機電界発光素子を作製した。蒸着のときの真空度はす
べて8×10-6Torr以下であった。この素子に1
0.0Vの電圧を印加したところ、約55mA/cm
の電流が流れ、均一なEL発光が観察された。発光スペ
クトルのピークは560nmであり、発光色は黄緑色で
あった。
【0069】(実施例5)スパッタリングにより200
nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板をアセトンで
超音波洗浄、純水で水洗、更にイソプロピルアルコール
で超音波洗浄、乾燥窒素で乾燥させた。このガラス基板
上に、組成物5をスピンコート(500rpm×5se
c+2000rpm×60sec)し、150℃で10
分間乾燥し、65nmの厚みで成膜した。次いで、アル
ミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体を400℃で3
分間で65nmの厚さに蒸着した。なお、有機物の蒸着
は0.30〜0.35nm/sの速度で行なった。最後
に、その上に陰極としてマグネシウム−銀合金(Mg:
Ag=10:1質量比)を200nmの厚みで蒸着して
有機電界発光素子を作製した。蒸着のときの真空度はす
べて8×10-6Torr以下であった。この素子に1
0.0Vの電圧を印加したところ、約55mA/cm
の電流が流れ、均一なEL発光が観察された。発光スペ
クトルのピークは540nmであり、発光色は黄緑色で
あった。
【0070】(比較例1〜5)実施例1〜5において、
組成物1〜5の代わりに、別途調製したポリビニルカル
バゾール(Mw=20000)の2wt%クロロホルム
溶液をスピンコートで成膜する以外は、実施例1〜5と
同様に行った。
【0071】実施例1〜5、及び比較例1〜5にて作成
した有機電界発光素子について、印加した電圧値および
発光輝度を表1に示す。なお、発光輝度については、素
子作成直後と、作成後100日間後に評価した。
【表1】
【0072】
【発明の効果】本発明の有機電界発光素子は、発光性の
均一性、高輝度、安定性、低消費電力性に優れた特性を
有し、バックライトとしての面上光源やフラットパネル
ディスプレイ等の表示材料として使用することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/14 H05B 33/14 A

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向する陽極と陰極の間に一層以上の有
    機層を有する有機電界発光素子において、該有機層のう
    ち少なくとも一層がインドール三量体系高分子を含有す
    る有機層であることを特徴とする有機電界発光素子。
  2. 【請求項2】 前記インドール三量体系高分子を含有す
    る有機層が、正孔輸送層であることを特徴とする請求項
    1記載の有機電界発光素子。
  3. 【請求項3】 前記有機層が、発光および電子輸送層
    と、正孔輸送層の二層積層構造で構成され、その正孔輸
    送層がインドール三量体系高分子を含有する有機層であ
    ることを特徴とする請求項1または2記載の有機電界発
    光素子。
  4. 【請求項4】 前記インドール三量体系高分子が、イン
    ドール三量体骨格内にある三個の窒素原子のうち、少な
    くとも一つ以上の窒素原子部分が高分子主鎖と結合して
    いることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載
    の有機電界発光素子。
  5. 【請求項5】 前記インドール三量体系高分子が、下記
    一般式(1) 【化1】 (上記式中、R〜R12、R15〜R17は、水素、
    炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数
    1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜
    24の直鎖または分岐のアシル基、アルデヒド基、カル
    ボン酸基、炭素数2〜24の直鎖または分岐のカルボン
    酸エステル基、スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖ま
    たは分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、
    ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル基、ア
    ルキル(炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)
    オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニルシア
    ノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立
    に選ばれた置換基であり、またR13とR14は、水
    素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基より
    なる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基である。Y
    は、なしか、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキ
    ル基、ケトン基、アリール基、複素環基である。また、
    a−は陰イオンであり、aはXのイオン価数を表し、
    mは0〜2である。nは重合度を表す。)で表されるイ
    ンドール三量体系高分子であることを特徴とする請求項
    1〜4のいずれか一項記載の有機電界発光素子。
  6. 【請求項6】 前記インドール三量体系高分子が、下記
    一般式(2) 【化2】 (上記式中、R18〜R29、R32〜R34は、水
    素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭
    素数1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数
    2〜24の直鎖または分岐のアシル基、アルデヒド基、
    カルボン酸基、炭素数2〜24の直鎖または分岐のカル
    ボン酸エステル基、スルホン酸基、炭素数1〜24の直
    鎖または分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸
    基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル
    基、アルキル(炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキ
    ル基)オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニ
    ルシアノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞ
    れ独立に選ばれた置換基であり、またR30とR
    31は、水素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアル
    キル基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基で
    ある。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または分岐
    のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基であ
    る。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン価
    数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)で
    表されるインドール三量体系高分子であることを特徴と
    する請求項1〜4のいずれか一項記載の有機電界発光素
    子。
  7. 【請求項7】 前記インドール三量体系高分子が、 下
    記一般式(3) 【化3】 (上記式中、R35〜R49は、水素、炭素数1〜24
    の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖
    または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜24の直鎖また
    は分岐のアシル基、アルデヒド基、カルボン酸基、炭素
    数2〜24の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、
    スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のスル
    ホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミ
    ノ基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル(炭素数
    1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)オキシカルボニ
    ルシアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及び
    ハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換
    基である。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または
    分岐のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基で
    ある。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン
    価数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)
    で表されるインドール三量体系高分子であることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか一項記載の有機電界発光
    素子。
  8. 【請求項8】 前記インドール三量体系高分子が、下記
    一般式(4) 【化4】 (上記式中、R50〜R64は、水素、炭素数1〜24
    の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖
    または分岐のアルコキシ基、炭素数2〜24の直鎖また
    は分岐のアシル基、アルデヒド基、カルボン酸基、炭素
    数2〜24の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、
    スルホン酸基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のスル
    ホン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミ
    ノ基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル(炭素数
    1〜8の直鎖または分岐のアルキル基)オキシカルボニ
    ルシアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及び
    ハロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換
    基である。Yは、なしか、炭素数1〜24の直鎖または
    分岐のアルキル基、ケトン基、アリール基、複素環基で
    ある。また、Xa−は陰イオンであり、aはXのイオン
    価数を表し、mは0〜2である。nは重合度を表す。)
    で表されるインドール三量体系高分子であることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか一項記載の有機電界発光
    素子。
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