JP2003332496A - 裏面電極型半導体パッケージの実装構造 - Google Patents

裏面電極型半導体パッケージの実装構造

Info

Publication number
JP2003332496A
JP2003332496A JP2002133398A JP2002133398A JP2003332496A JP 2003332496 A JP2003332496 A JP 2003332496A JP 2002133398 A JP2002133398 A JP 2002133398A JP 2002133398 A JP2002133398 A JP 2002133398A JP 2003332496 A JP2003332496 A JP 2003332496A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
type semiconductor
semiconductor package
back surface
electrode type
surface electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002133398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4178542B2 (ja
Inventor
Hidenori Kawahara
秀徳 川原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2002133398A priority Critical patent/JP4178542B2/ja
Publication of JP2003332496A publication Critical patent/JP2003332496A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4178542B2 publication Critical patent/JP4178542B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄型化に有利であり、作業工程、製造リード
タイム、材料コスト、加工コスト、修理コストを低減で
き、衝撃ストレス、熱的ストレスに強く、信頼性、品質
の向上が期待でき、修理が容易にできる。 【解決手段】 裏面電極103、111を有する裏面電
極型半導体パッケージ101を実装基板108に実装す
る裏面電極型半導体パッケージの実装構造に、前記裏面
電極型半導体パッケージの裏面電極の周囲に形成される
補強パターン104と、前記実装基板に前記裏面電極と
共に前記補強パターンと相対して位置し、はんだが供給
され、加熱で電気的、機械的に接続、結合して前記裏面
電極型半導体パッケージを前記実装基板に実装するため
のランドパターン109とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は裏面電極型半導体パッケ
ージの実装構造に関する。特に、本発明は、機械的スト
レス又は熱的ストレスに対し電極の接続信頼性を向上さ
せる裏面電極型半導体パッケージの実装構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術として、携帯電話をはじめとす
る電子機器に、CSP(チップサイズパッケージ)、フ
ァインピッチLGA(ランドグリッドアレイ)又はBG
A(ボールグリッドアレイ)と呼ばれる裏面電極型半導
体パッケージが用いられていることは周知である。
【0003】このような従来技術として、特許第324
1669号公報、特開2000−151083号公報、
特開平2000−216298号公報に、衝撃、振動等
の機械的負荷によるはんだ付け部の剥離等を簡易にかつ
確実に防止するとともに、実装、補強後の点検、メンテ
ナンス等も自由に行うことができるとの開示が行われて
いる。
【0004】しかしながら、上記の開示された従来技術
では、裏面電極型半導体パッケージを覆うように金属フ
レームを実装するために、部品実装高さが大きくなって
しまい、薄型化に不利であるという問題点がある。さら
に、従来技術として、裏面電極型半導体パッケージの実
装後に耐熱ストレス性、耐衝撃性を向上させることを目
的として、実装基板とパッケージの間又はパッケージの
外周に補強用の樹脂を塗布し、硬化するという方法が周
知である。
【0005】例えば、特開平6−232207号公報に
は、封止樹脂により半導体装置と回路基板との接合部へ
の熱応力の影響を小さくし、半導体装置と回路基板との
接続を信頼性高くすることが開示されている。しかしな
がら、上記の開示された従来技術では、作業工程が増
え、製造リードタイム、材料コスト、加工コストが増加
するという問題がある。
【0006】自動搭載工程の後、裏面電極型半導体パッ
ケージと実装基板の間の隙間又はパッケージの外周に樹
脂を塗布し、その後硬化炉で樹脂を硬化させるといった
作業工程が増えることになるためである。さらに、前述
のように、樹脂の硬化工程が必要となるため、実装基板
及び実装済みの部品に余分な熱ストレスが加わり、信頼
性、品質の低下を招くという問題点がある。
【0007】通常であれば、自動搭載工程のリフローな
どはんだ付けのための加熱のみであるが、樹脂硬化のた
めの加熱が加わることにより、実装基板の反りの増加、
実装基板、実装済みの部品への熱ストレスによる品質劣
化の危険性が増すことになるためである。さらに、樹脂
の塗布により、裏面電極型半導体パッケージの修理がで
きなくなるという問題点がある。
【0008】このような補強を目的とする樹脂は一般に
エポキシ系などの熱硬化性のものが用いられる場合が多
く、一旦硬化してしまうと取り除くことが困難で、実装
した裏面電極型半導体パッケージに不良が出ても交換が
不可能であり、実装基板毎に廃棄することになってしま
うためである。また、熱可塑性の樹脂を用いた場合で
も、その樹脂の除去作業には多くの手間がかかり、裏面
電極型半導体パッケージの交換修理をしたとしても、非
常にコストの高い作業になってしまうためである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明は
上記問題点に鑑みて、薄型化に有利であり、作業工程、
製造リードタイム、材料コスト、加工コスト、修理コス
トを低減でき、衝撃ストレス、熱的ストレスに強く、信
頼性、品質の向上が期待でき、修理が容易にできる裏面
電極型半導体パッケージの実装構造を提供することを目
的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は前記問題点を解
決するために、裏面電極を有する裏面電極型半導体パッ
ケージを実装基板に実装する裏面電極型半導体パッケー
ジの実装構造において、前記裏面電極型半導体パッケー
ジの裏面電極の周囲に形成される補強パターンと、前記
実装基板に前記裏面電極と共に前記補強パターンと相対
して位置し、はんだが供給され、加熱で電気的、機械的
に接続、結合して前記裏面電極型半導体パッケージを前
記実装基板に実装するためのランドパターンとを備える
ことを特徴とする裏面電極型半導体パッケージの実装構
造を提供する。
【0011】この手段により、薄型化に有利であり、作
業工程、製造リードタイム、材料コスト、加工コスト、
修理コストを低減でき、衝撃ストレス、熱的ストレスに
強く、信頼性、品質の向上が期待でき、修理が容易にで
きる裏面電極型半導体パッケージの実装構造が可能にな
る。さらに、前記補強パターンと相対して位置する前記
ランドパターンのはんだの高さと、前記裏面電極と相対
して位置する前記ランドパターンのはんだの高さとが同
一になるように、はんだが供給される。
【0012】この手段により、補強パターンを裏面電極
と同時にランドパターンにはんだ付けすることが可能に
なる。好ましくは、前記裏面電極がLGA裏面電極であ
り、さらに、好ましくは、前記裏面電極がBGA裏面電
極である場合に、前記BGA裏面電極のはんだボールの
高さと前記補強パターンのはんだの高さが同一になるよ
うに、前記補強パターンにはんだが供給される。
【0013】この手段により、裏面電極がLGA裏面電
極であっても、BGA裏面電極であっても、本発明の適
用が可能になる。BGA裏面電極の場合には、BGA裏
面電極のはんだボールの高さと補強パターンのはんだの
高さが同一になるようにして、補強パターンをBGA裏
面電極と同時にランドパターンにはんだ付けすることが
可能になる。
【0014】好ましくは、前記補強パターンは、電気的
にグランドにされ、又は、電源の電気的機能を有する。
この手段により、補強パターンを電気的な回路の一部と
して使用が可能になる。好ましくは、前記裏面電極型半
導体パッケージが搭載された前記実装基板をリフロー加
熱することにより、前記裏面電極、前記補強パターンが
それぞれはんだ付けされ、実装が行われる。
【0015】この手段により、補強のためにこれ以外の
加熱が行われないでの、熱的なストレスが低減できる。
好ましくは、前記補強パターンは、前記裏面電極の外周
をロ字型に囲むように形成される。この手段により、接
続後の衝撃ストレスが低減できる。
【0016】好ましくは、前記補強パターンは、前記裏
面電極の外周をロ字型に囲い、ところどころが切れた形
状に形成される。この手段により、実装基板の配線引き
出しが容易になる。好ましくは、前記補強パターンは、
前記裏面電極の外周の上下、又は左右だけを囲むように
形成される。
【0017】この手段により、実装基板の裏面電極型半
導体パッケージの実装配置で左右、又は上下のスペース
が確保できない場合に有利となる。好ましくは、前記補
強パターンは、前記裏面電極の外周の4角だけを囲むよ
うに形成される。この手段により、実装基板の裏面電極
型半導体パッケージの実装配置で4角以外のスペースが
確保できない場合に有利となる。
【0018】好ましくは、前記補強パターンは、前記裏
面電極の外周の4角のうち、対角の2角だけを囲むよう
に形成される。この手段により、実装基板の裏面電極型
半導体パッケージの実装配置で対角2角以外のスペース
が確保できない場合に有利となる。好ましくは、前記補
強パターンは、前記裏面電極の内周にロ字型で形成され
る。
【0019】この手段により、実装基板の裏面電極型半
導体パッケージの実装配置で前記裏面電極の内周以外の
スペースが確保できない場合に有利となる。好ましく
は、前記補強パターンは、前記裏面電極の外周、内周に
形成される。この手段により、補強がさらに求められる
場合に有利となる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は本発明に係る裏面電
極型半導体パッケージの構造の概念図である。本図
(a)に示すように、裏面電極型半導体パッケージ10
1はサブストレート102と、サブストレート102の
裏面上に位置し電気的接続を目的とするLGA裏面電極
103と、サブストレート102の裏面上に位置しLG
A裏面電極103の外周を囲む補強パターン104とを
有する。
【0021】補強パターン104は、はんだ付けパター
ンであり、機械的又は熱的ストレスから裏面電極型半導
体パッケージ101を保護し、LGA裏面電極103の
電気的接続の信頼性を向上させるために使用される。本
図(b)に示すように、本図(a)のA−A’に沿った
側断面において、サブストレート102の裏面の反対面
にはチップ105が、バンプ106を介して、電気的、
機械的に接続され、エポキシ樹脂107により封止され
て、裏面電極型半導体パッケージ101が形成される。
【0022】図2は裏面電極型半導体パッケージ101
を実装基板に搭載する実装構造例を説明する図である。
本図(a)に示すように、実装基板108にはランドパ
ターン109が設けられ、ランドパターン109は裏面
電極型半導体パッケージ101のLGA裏面電極10
3、補強パターン104と同じ位置関係に配置される。
【0023】さらに、ランドパターン109上にははん
だ110が印刷又はディスペンサによりペースト状に供
給される。この場合、LGA裏面電極103に対するラ
ンドパターン109上のはんだ110の高さと補強パタ
ーン104に対するランドパターン109上のはんだ1
10の高さが同じになるように、はんだ110が供給さ
れる。補強パターン104をLGA裏面電極103と同
時にランドパターン109にはんだ付けするためであ
る。
【0024】本図(b)に示すように、搭載機により、
所定の位置に合わせて、裏面電極型半導体パッケージ1
01を実装基板108に搭載する。続いて、裏面電極型
半導体パッケージ101が搭載された実装基板108を
リフロー加熱することにより、LGA裏面電極103、
補強パターン104がそれぞれはんだ付けされ、実装が
完了する。
【0025】これによって、LGA裏面電極103と共
に補強パターン104がはんだ接合され、補強パターン
104がLGA裏面電極103の外周を「ロ」の字型に
囲うことになる。このため、衝撃時には、補強パターン
104により、裏面電極型半導体パッケージ101と実
装基板108のはんだ付け部にかかる衝撃力を分散する
ので、LGA裏面電極103の接続部分にかかる衝撃力
を小さくできる。
【0026】このように、補強パターン104による補
強は、LGA裏面電極103の一部として形成されるの
で、補強のための工程が不要である。さらに、LGA裏
面電極103のリフロー加熱で補強パターン104が形
成されるので、LGA裏面電極103には補強のために
余分な加熱がかからない。さらに、補強パターン104
は、はんだ付けであるので、薄型化を図ることができ
る。
【0027】さらに、補強パターン104は、はんだ付
けであるので、加熱により、裏面電極型半導体パッケー
ジ101と実装基板108を簡単に分離でき、裏面電極
型半導体パッケージ101の交換修理が容易になる。補
強パターン104は、補強目的として設けられるが、電
気的にはグランドに落とすことが望ましく、場合によっ
ては、電源などの電気的機能を持たせることも可能であ
る。これにより、補強パターンを電気的な回路の一部と
して使用が可能になる。
【0028】さらに、補強パターン104は、はんだ付
けによる接続の場合を説明したが、導電性接着剤による
接続においても同様な効果を得ることができる。図3は
裏面電極型半導体パッケージ101を実装基板に搭載す
る実装構造の別の例を説明する図である。本図(a)に
示すように、裏面電極型半導体パッケージ101には、
図2と比較して、LGAタイプのLGA裏面電極103
に代わり、BGAタイプのBGA裏面電極111が設け
られ、BGA裏面電極111ははんだボールで形成さ
れ、はんだボールの高さを有する。
【0029】さらに、BGA裏面電極111の周囲の補
強パターン104上にはBGA裏面電極111のはんだ
ボールを形成時にBGA裏面電極111のはんだボール
の高さと同じになる補強パターン用はんだ112が供給
される。このようにして、LGA裏面電極103の場合
と同様に、BGA裏面電極111の場合にも補強パター
ン104、補強パターン用はんだ112の実装が可能と
なり、同様の効果を得ることができる。
【0030】図4は図1(a)における補強パターン1
04の第1の変形例を示す図である。本図に示すよう
に、図1(a)と比較すると、補強パターン104の
「ロ」字型のうちところどころが切れた形になってい
る。実装基板108の配線引き出しの都合上、LGA裏
面電極103の外周を全て補強パターン104で囲んで
しまうことが得策でない場合、このように部分的に補強
パターン104を切ることも可能である。
【0031】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図5は図1(a)における補
強パターン104の第2の変形例を示す図である。
【0032】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち上下が無
く、左右だけの形になっている。実装基板108への裏
面電極型半導体パッケージ101の実装配置で上下のス
ペースが確保できず、LGA裏面電極103の外周を全
て補強パターン104で囲んでしまうことが得策でない
場合、このように部分的に補強パターン104を切るこ
とも可能である。
【0033】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図6は図1(a)における補
強パターン104の第3の変形例を示す図である。
【0034】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち左右が無
く、上下だけの形になっている。実装基板108への裏
面電極型半導体パッケージ101の実装配置で左右のス
ペースが確保できず、LGA裏面電極103の外周を全
て補強パターン104で囲んでしまうことが得策でない
場合、このように部分的に補強パターン104を切るこ
とも可能である。
【0035】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図7は図1(a)における補
強パターン104の第4の変形例を示す図である。
【0036】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち上下辺、上
下辺が無く、4角だけの形になっている。実装基板10
8への裏面電極型半導体パッケージ101の実装配置で
上下辺、左右辺のスペースが確保できず、LGA裏面電
極103の外周を全て補強パターン104で囲んでしま
うことが得策でない場合、このように部分的に補強パタ
ーン104を切ることも可能である。
【0037】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図8は図1(a)における補
強パターン104の第5の変形例を示す図である。
【0038】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち右上、左下
の2角だけの形になっている。実装基板108への裏面
電極型半導体パッケージ101の実装配置で右上、左下
の2角のスペースだけしか確保できず、LGA裏面電極
103の外周を全て補強パターン104で囲んでしまう
ことが得策でない場合、このように部分的に補強パター
ン104を切ることも可能である。
【0039】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図9は図1(a)における補
強パターン104の第5の変形例を示す図である。
【0040】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち左上、右下
の2角だけの形になっている。実装基板108への裏面
電極型半導体パッケージ101の実装配置で左上、右下
の2角のスペースだけしか確保できず、LGA裏面電極
103の外周を全て補強パターン104で囲んでしまう
ことが得策でない場合、このように部分的に補強パター
ン104を切ることも可能である。
【0041】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図10は図1(a)における
補強パターン104の第7の変形例を示す図である。
【0042】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち4角が無
く、上下辺、左右辺だけの形になっている。実装基板1
08への裏面電極型半導体パッケージ101の実装配置
で上下辺、左右辺のスペースだけしか確保できず、LG
A裏面電極103の外周を全て補強パターン104で囲
んでしまうことが得策でない場合、このように部分的に
補強パターン104を切ることも可能である。
【0043】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図11は図1(a)における
補強パターン104の第8の変形例を示す図である。
【0044】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち4角、上下
辺が無く、左右辺だけの形になっている。実装基板10
8への裏面電極型半導体パッケージ101の実装配置で
左右辺のスペースだけしか確保できず、LGA裏面電極
103の外周を全て補強パターン104で囲んでしまう
ことが得策でない場合、このように部分的に補強パター
ン104を切ることも可能である。
【0045】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図12は図1(a)における
補強パターン104の第9の変形例を示す図である。
【0046】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104の「ロ」字型のうち4角、左右
辺が無く、上下辺だけの形になっている。実装基板10
8への裏面電極型半導体パッケージ101の実装配置で
上下辺のスペースだけしか確保できず、LGA裏面電極
103の外周を全て補強パターン104で囲んでしまう
ことが得策でない場合、このように部分的に補強パター
ン104を切ることも可能である。
【0047】全て囲む場合と比べ、機械的に強度は若干
劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保護し、
信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。また、この
場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合にも同じ
効果を得ることができる。図13は図1(a)における
補強パターン104の第10の変形例を示す図である。
【0048】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104は、LGA裏面電極103の外
周に無く、LGA裏面電極103の内周に「ロ」の字型
になっている。実装基板108への裏面電極型半導体パ
ッケージ101の実装配置で外周のスペースか確保でき
ず、LGA裏面電極103の外周を全て補強パターン1
04で囲んでしまうことが得策でない場合、このように
部分的に補強パターン104を内周にすることも可能で
ある。
【0049】全て外周を囲む場合と比べ、機械的に強度
は若干劣ると考えられるが、LGA裏面電極103を保
護し、信頼性を向上させる効果は十分発揮できる。ま
た、この場合も、同様に、BGA裏面電極111の場合
にも同じ効果を得ることができる。図14は図1(a)
における補強パターン104の第11の変形例を示す図
である。
【0050】本図に示すように、図1(a)と比較する
と、補強パターン104は、外周を囲む「ロ」の字型に
なっており、さらに、内周に「ロ」の字型になってい
る。実装基板108への裏面電極型半導体パッケージ1
01の実装配置で外周のスペースか確保でき、さらに、
補強強度を向上させる場合に得策である。全て外周を囲
むだけの場合と比べ、機械的に強度は増し、LGA裏面
電極103を保護が強化され、信頼性を向上させる効果
はさらに十分発揮できる。
【0051】また、この場合も、同様に、BGA裏面電
極111の場合にも同じ効果を得ることができる。な
お、第11の変形例は、図1(a)の例と図13の第1
0の変形例の組み合わせであるが、第1変形例〜第9変
形例の各々と第10変形例との組み合わせにより、実装
基板108へのスペース確保と補強強度の調和を図るこ
とが可能になる。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
裏面電極を有する裏面電極型半導体パッケージを実装基
板に実装する裏面電極型半導体パッケージの実装構造に
おいて、前記裏面電極型半導体パッケージの裏面電極の
周囲に形成される補強パターンと、前記実装基板に前記
裏面電極と共に前記補強パターンと相対して位置し、は
んだが供給され、加熱で電気的、機械的に接続、結合し
て前記裏面電極型半導体パッケージを前記実装基板に実
装するためのランドパターンとを備えることを特徴とす
る裏面電極型半導体パッケージの実装構造を提供するよ
うにしたので、実装後の接続強度、接続信頼性が向上す
る。さらに、前記補強パターンは、前記裏面電極の外周
をロ字型等に囲うように形成される。
【0053】特に、携帯機器において、落下による衝撃
ストレス、使用環境の変化による熱的ストレスを受けや
すく、そのため、装置設計段階では、機械的補強構造の
必要性、実装位置の制約などがあったが、このような補
強部品、実装上の制約が不要となる。さらに、搭載後の
工程での作業が不要となり、リードタイム短縮、コスト
削減につながることである。従来、高い信頼性が求めら
れる装置、外部ストレスにさらされやすい携帯機器にお
いては、搭載後の工程で、裏面電極型半導体パッケージ
の周囲、裏面の隙間に補強用の樹脂を塗布、硬化するこ
とで、耐衝撃性、信頼性を向上させていたが、これらの
作業を削減することができる。これにより、製造リード
タイムの短縮、加工コストの削減といった効果も期待で
きる。
【0054】さらに、従来のように樹脂硬化による加熱
も不要となることで、実装基板、実装済み部品の品質劣
化を防ぐ効果も期待できる。また、裏面電極がLGA裏
面電極だけでなく、BGA裏面電極にも適用可能にした
ので、本発明が広く適用される。さらに、前記補強パタ
ーンは、接続後の衝撃ストレスが低減でき、前記裏面電
極外周のロ字型の囲いに、ところどころが切れた形状に
形成されるようにしたので、実装基板の配線引き出しが
容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る裏面電極型半導体パッケージの構
造の概念図である。
【図2】裏面電極型半導体パッケージ101を実装基板
に搭載する実装構造例を説明する図である。
【図3】裏面電極型半導体パッケージ101を実装基板
に搭載する実装構造の別の例を説明する図である。
【図4】図1(a)における補強パターン104の第1
の変形例を示す図である。
【図5】図1(a)における補強パターン104の第2
の変形例を示す図である。
【図6】図1(a)における補強パターン104の第3
の変形例を示す図である。
【図7】図1(a)における補強パターン104の第4
の変形例を示す図である。
【図8】図1(a)における補強パターン104の第5
の変形例を示す図である。
【図9】図1(a)における補強パターン104の第6
の変形例を示す図である。
【図10】図1(a)における補強パターン104の第
7の変形例を示す図である。
【図11】図1(a)における補強パターン104の第
8の変形例を示す図である。
【図12】図1(a)における補強パターン104の第
9の変形例を示す図である。
【図13】図1(a)における補強パターン104の第
10の変形例を示す図である。
【図14】図1(a)における補強パターン104の第
11の変形例を示す図である。
【符号の説明】
101…裏面電極型半導体パッケージ 102…サブストレート 103…LGA裏面電極 104…補強パターン 105…チップ 106…バンプ 107…エポキシ樹脂 108…実装基板 109…ランドパターン 110…はんだ 111…BGA裏面電極 112…補強パターン用はんだ

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 裏面電極を有する裏面電極型半導体パッ
    ケージを実装基板に実装する裏面電極型半導体パッケー
    ジの実装構造において、 前記裏面電極型半導体パッケージの裏面電極の周囲に形
    成される補強パターンと、 前記実装基板に前記裏面電極と共に前記補強パターンと
    相対して位置し、はんだが供給され、加熱で電気的、機
    械的に接続、結合して前記裏面電極型半導体パッケージ
    を前記実装基板に実装するためのランドパターンとを備
    えることを特徴とする裏面電極型半導体パッケージの実
    装構造。
  2. 【請求項2】 前記補強パターンと相対して位置する前
    記ランドパターンのはんだの高さと、前記裏面電極と相
    対して位置する前記ランドパターンのはんだの高さとが
    同一になるように、はんだが供給されることを特徴とす
    る、請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケージの実
    装構造。
  3. 【請求項3】 前記裏面電極がLGA裏面電極であるこ
    とを特徴とする、請求項1に記載の裏面電極型半導体パ
    ッケージの実装構造。
  4. 【請求項4】 前記裏面電極がBGA裏面電極である場
    合に、前記BGA裏面電極のはんだボールの高さと前記
    補強パターンのはんだの高さが同一になるように、前記
    補強パターンにはんだが供給されることを特徴とする、
    請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケージの実装構
    造。
  5. 【請求項5】 前記補強パターンは、電気的にグランド
    にされ、又は、電源の電気的機能を有することを特徴と
    する、請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケージの
    実装構造。
  6. 【請求項6】 前記裏面電極型半導体パッケージが搭載
    された前記実装基板をリフロー加熱することにより、前
    記裏面電極、前記補強パターンがそれぞれはんだ付けさ
    れ、実装が行われることを特徴とする、請求項1に記載
    の裏面電極型半導体パッケージの実装構造。
  7. 【請求項7】 前記補強パターンは、前記裏面電極の外
    周をロ字型に囲むように形成されることを特徴とする、
    請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケージの実装構
    造。
  8. 【請求項8】 前記補強パターンは、前記裏面電極の外
    周をロ字型に囲い、ところどころが切れた形状に形成さ
    れることを特徴とする、請求項1に記載の裏面電極型半
    導体パッケージの実装構造。
  9. 【請求項9】 前記補強パターンは、前記裏面電極の外
    周の上下、又は左右だけを囲むように形成されることを
    特徴とする、請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケ
    ージの実装構造。
  10. 【請求項10】 前記補強パターンは、前記裏面電極の
    外周の4角だけを囲むように形成されることを特徴とす
    る、請求項1に記載の裏面電極型半導体パッケージの実
    装構造。
  11. 【請求項11】 前記補強パターンは、前記裏面電極の
    外周の4角のうち、対角の2角だけを囲むように形成さ
    れることを特徴とする、請求項1に記載の裏面電極型半
    導体パッケージの実装構造。
  12. 【請求項12】 前記補強パターンは、前記裏面電極の
    内周にロ字型で形成されることを特徴とする、請求項1
    に記載の裏面電極型半導体パッケージの実装構造。
  13. 【請求項13】 前記補強パターンは、前記裏面電極の
    外周、内周に形成されることを特徴とする、請求項1に
    記載の裏面電極型半導体パッケージの実装構造。
JP2002133398A 2002-05-08 2002-05-08 裏面電極型半導体パッケージの実装構造 Expired - Fee Related JP4178542B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002133398A JP4178542B2 (ja) 2002-05-08 2002-05-08 裏面電極型半導体パッケージの実装構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002133398A JP4178542B2 (ja) 2002-05-08 2002-05-08 裏面電極型半導体パッケージの実装構造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003332496A true JP2003332496A (ja) 2003-11-21
JP4178542B2 JP4178542B2 (ja) 2008-11-12

Family

ID=29696394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002133398A Expired - Fee Related JP4178542B2 (ja) 2002-05-08 2002-05-08 裏面電極型半導体パッケージの実装構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4178542B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010106839A1 (ja) * 2009-03-19 2010-09-23 株式会社村田製作所 回路基板及びマザー積層体
CN102593067A (zh) * 2011-01-10 2012-07-18 三星半导体(中国)研究开发有限公司 焊点高度可控的平面栅格阵列封装互连结构及其制造方法
CN111201604A (zh) * 2017-10-26 2020-05-26 日东电工株式会社 摄像元件安装基板

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010106839A1 (ja) * 2009-03-19 2010-09-23 株式会社村田製作所 回路基板及びマザー積層体
US8705247B2 (en) 2009-03-19 2014-04-22 Murata Manufacturing Co., Ltd. Circuit board and mother laminated body
CN102593067A (zh) * 2011-01-10 2012-07-18 三星半导体(中国)研究开发有限公司 焊点高度可控的平面栅格阵列封装互连结构及其制造方法
CN111201604A (zh) * 2017-10-26 2020-05-26 日东电工株式会社 摄像元件安装基板
US11647269B2 (en) 2017-10-26 2023-05-09 Nitto Denko Corporation Imaging element-mounting board
CN111201604B (zh) * 2017-10-26 2024-02-27 日东电工株式会社 摄像元件安装基板

Also Published As

Publication number Publication date
JP4178542B2 (ja) 2008-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7629674B1 (en) Shielded package having shield fence
US6756685B2 (en) Semiconductor device
US6531770B2 (en) Electronic part unit attached to a circuit board and including a cover member covering the electronic part
JP3241669B2 (ja) Icパッケージの補強構造
US20060169488A1 (en) Circuit board mounted with surface mount type circuit component and method for producing the same
JPWO2007072616A1 (ja) 部品内蔵モジュールおよびその製造方法
KR20020065045A (ko) 확장 패드들을 포함하는 반도체 칩 패키지
US6335563B1 (en) Semiconductor device, method of fabricating the same, circuit board, and electronic device
US8098496B2 (en) Wiring board for semiconductor device
JP2003008186A (ja) 半導体装置
US6137170A (en) Mount for semiconductor device
US7397132B2 (en) Semiconductor device
JP4556671B2 (ja) 半導体パッケージ及びフレキシブルサーキット基板
JP4178542B2 (ja) 裏面電極型半導体パッケージの実装構造
JP3085265B2 (ja) ボールグリッドアレイ実装構造
JPH11265967A (ja) Lsi実装基板の構造及びその製造方法
JPH1167947A (ja) ハイブリッド集積回路装置の表面実装方法及びハイブリッド集積回路装置及びハイブリッド集積回路装置の実装体
JP3385533B2 (ja) 半導体装置
JP2007012695A (ja) 電子機器、電子部品の実装方法およびプリント回路板
CN102209434A (zh) 印制电路板以及印制电路板的制造方法
KR20030085449A (ko) 개량된 플립 칩 패키지
JP2006245396A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3183278B2 (ja) ボールグリッドアレイ型半導体パッケージおよびその実装構造
JP2002329812A (ja) 半導体パッケージ装置および半導体パッケージ装置実装用基板
JP3576910B2 (ja) Icパッケージの補強構造

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050422

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051102

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060914

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071003

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071120

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080804

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080817

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130905

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees