JP2003318256A - 基板保持カセット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液の残留を抑制する効果が高く、洗浄処
理の低コスト化が可能であるとともに、洗浄の処理効果
を向上することができる基板保持カセットを提供するこ
と。 【解決手段】 基板支持部材３及び基板支持部材４の長
手方向に沿って幅広の受け溝１３及び受け溝１４を形成
するとともに、前記受け溝１３及び前記受け溝１４の一
部分を挟幅にして基板１２の外周部を挟持する支持凸部
１３ａ及び支持凸部１４ａを設ける。これによって、前
記長手方向における前記支持凸部１３ａ及び前記支持凸
部１４ａと前記基板１２との間に、前記支持凸部１３ａ
及び前記支持凸部１４ａ１つ分の空間が生じる。すなわ
ち、処理液が各処理槽上で直ちに流出して、前記受け溝
１３及び前記受け溝１４内の処理液の残留を抑制でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄処理等を行う
ガラス基板やシリコンウエハー等の基板を複数枚配列し
て保持する基板保持カセットに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板保持カセットとして、例え
ば、本願出願人による特開平７−１０６４０８号公報に
開示されているものがある。図７は、従来の基板保持カ
セットが基板を保持した状態を示す側面図、図８は、従
来の基板保持カセットの半断面を含む正面図、図９は、
図７及び図８に示す従来の基板保持カセットが備える基
板支持部材を示す斜視図、図１０は、従来の基板保持カ
セットが基板を保持した状態を示す拡大断面図であり、
図８のＸ−Ｘ断面における側面図である。図１１は、基
板自動処理装置を示す斜視図であり、基板保持カセット
の使用例を示す図である。以下、図７乃至図１１を参照
して従来の基板保持カセットについて説明する。

【０００３】図７及び図８に示す従来の基板保持カセッ
ト１０１は、例えば、図１１に示す基板自動処置装置１
０３で使用するものである。前記基板自動処理装置１０
３は、ガラス基板やシリコンウエハー等の複数枚の基板
をまとめて処理槽の処理液中に浸漬して洗浄処理を行う
装置である。

【０００４】図７、図８及び図１１に示すように、従来
の基板保持カセット１０１は、その左右方向及び前後方
向において、それぞれ、対称に形成され、互いに平行に
前後方向に伸長して設けられた４本の長手基板支持部材
１２１と、前記基板支持部材１２１各々の端部同士を相
互結合する前後一対の平板状の側部材１２２とからな
る。

【０００５】前記基板支持部材１２１及び前記側部材１
２２は、例えば、テフロン（登録商標）（ＰＦＡ，テト
ラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエー
テル共重合体、あるいは、ＰＴＦＥ，ポリテトラフルオ
ロエチレン）を素材として成形したものである。前記基
板保持カセット１０１は、複数枚、この場合、２５枚の
基板１２の主面同士を平行に等ピッチで整列して保持可
能になっており、保持する前記基板１２の主面に平行な
方向を左右方向、整列方向を前後方向と称している。ま
た、前記基板１２の表裏両面を主面と称している。な
お、保持する前記基板１２の枚数は適宜設定可能であ
る。

【０００６】前記基板支持部材１２１は、それぞれ、両
端部にねじ孔１２１ａを有している。また、前記ねじ孔
１２１ａにねじ１２３が螺合して前記側部材１２２を締
結しており、前記基板支持部材１２１各々の端部同士を
相互に結合して、全体を一体化している。

【０００７】図９にも示すように、４本の前記基板支持
部材１２１は、それぞれ、同形状、同寸法に形成され、
前記基板１２の主面と平行な方向における断面は、一部
分が突出した形状の略円形になっている。また、この突
出した部分には、保持する前記基板１２の枚数分の受け
溝１２１ｂが長手方向に沿って並設され、４本の前記基
板支持部材１２１は、保持する前記基板１２の外周に沿
うように互いに離間して配置されている。すなわち、複
数の前記基板１２の外周部が、それぞれ、前記受け溝１
２１ｂに係合して隣接する前記基板１２同士を互いに接
触しない状態で保持可能になっている。

【０００８】また、前記基板保持カセット１０１が保持
する前記基板１２の整列方向、すなわち、前後方向にお
ける両端部である前記側部材１２２の外側面上には、ね
じ１２３によって締結された取手１２５が前後方向にお
いて突出する状態で、それぞれ、２つずつ固着されてい
る。

【０００９】次に、前記基板自動処理装置１０３につい
て説明する。

【００１０】図１１に示すように、前記基板自動処理装
置１０３は、架台１０５を有しており、前記架台１０５
の前端部及び後端部上に、それぞれ、受入れ台枠１０７
及び取出し台枠１０８を備えている。前記受入れ台枠１
０７及び取出し台枠１０８の間には、この場合、３つの
処理槽１１１乃至処理槽１１３が順に配設されている。
前記処理漕１１１には、前洗浄用処理液１１１ａを貯留
しており、これに続く前記処理槽１１２及び前記処理槽
１１３には、それぞれ、エッチング用処理液１１２ａ及
び後洗浄用処理液１１３ａを貯留している。ただし、処
理槽の数及び各処理槽に貯留する処理液の種類等につい
ては処理内容に応じて適宜設定可能である。また、前記
受入れ台枠１０７及び前記取出し台枠１０８は、必ずし
も設けられるものではない。

【００１１】また、前記基板自動処理装置１０３は、前
記取手１２５と係合して前記基板保持カセット１０１を
吊支するハンガー部材（図示せず）等からなる保持手段
（図示せず）と、前記保持手段を所定経路に沿って移動
させて前記基板保持カセット１０１を前記処理槽１１１
乃至処理槽１１３内を巡るように搬送する搬送手段（図
示せず）とを備えている。

【００１２】次に、前記基板保持カセット１０１を使用
する前記基板自動処理装置１０３の動作について説明す
る。

【００１３】前記基板保持カセット１０１は、未洗浄の
前記基板１２を保持した状態で前記受入れ台枠１０７上
に供給され、前記保持手段（図示せず）及び搬送手段
（図示せず）が作動して搬送が開始される。そして、前
記基板保持カセット１０１は、前記処理槽１１１乃至処
理槽１１３内に貯留された処理液中に浸漬され、前記基
板保持カセット１０１に保持されている前記基板１２の
洗浄が行われる。前記基板１２の洗浄が終わると、前記
基板保持カセット１０１は、前記取出し台枠１０８上に
搬送されて回収される。なお、洗浄処理は、前記基板保
持カセット１０１を端の処理槽から順に巡らせるとは限
らず、その順番は処理内容によって適宜設定する。

【００１４】次に、従来の前記基板保持カセット１０１
が有する特徴について説明する。

【００１５】図８に示すように、前記基板保持カセット
１０１の左右方向、すなわち、保持する基板１２の主面
に平行な方向における最大寸法は、前記側部材１２２の
最大幅寸法Ａに等しくなっており、かつ、前記最大寸法
Ａは前記左右方向における基板１２の外径寸法、すなわ
ち、直径Ｄよりも小さくなっている。また、前記側部材
１２２の下半部分の幅寸法Ｂは、前記最大寸法Ａより
も、さらに小さくなっており、前記基板保持カセット１
０１の高さＨは、前記基板１２の直径Ｄの約１／４以下
に設定されている。

【００１６】すなわち、前記基板保持カセット１０１
は、全体の小型化が達成されたものであり、前記基板保
持カセット１０１が搬入される前記処理槽１１１乃至前
記処理槽１１３の容量を小さくすることが可能になって
いる。したがって、前記各処理槽が貯留する前記処理液
１１１ａ乃至処理液１１３ａの量を少液化することがで
き、低コスト化が可能であるとともに、前記基板自動処
理装置１０３全体の小型化及び設置スペースの省スペー
ス化を図ることができるものになっている。

【００１７】また、従来の前記基板保持カセット１０１
は、全体が小型化されているため、表面積が小さく、前
記各処理液中に浸漬した前記基板保持カセット１０１を
処理槽外に搬出する際に、前記基板保持カセット１０１
自体に付着して持ち出される処理液の量が比較的少なく
なっている。したがって、処理液の消費量が少なく、隣
接する処理槽間における処理液同士の混濁を抑制するこ
とができるものになっている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
に示すように、従来の前記基板保持カセット１０１は、
前記基板支持部材１２１の長手方向に沿って並設された
前記受け溝１２１ｂ各々の溝幅が前記基板１２を確実に
係合保持するために狭くなっている。すなわち、前記受
け溝１２１ｂの底部の溝幅ｅは、保持する前記基板１２
の厚さｐと略同一の幅に形成されている。

【００１９】このため、処理液中に浸漬した前記基板保
持カセット１０１を処理槽外に搬出する際に、保持した
前記基板１２と前記受け溝１２１ｂとの間に表面張力に
よって処理液が残留することがある。

【００２０】すなわち、処理液が前記各処理槽外に持ち
出されて減少することによる前記処理液の消費量の増加
や、隣接する処理槽内の別種の処理液が互いに混入して
生じる処理効果の低下防止の点から、より一層の改善が
求められている。

【００２１】また、洗浄処理後に前記基板保持カセット
１０１を各処理槽内の処理液中から引き上げて前記基板
１２を乾燥する際に、前記受け溝１２１ｂ内に残留した
処理液の蒸発痕、いわゆる、ウオーターマークが前記基
板１２の主面上に生じて、十分な洗浄効果が得られない
ことがあるいう問題がある。

【００２２】本発明は、従来技術の上記した点に鑑みて
なされたものであって、処理液の残留を抑制する効果が
高く、洗浄処理の低コスト化が可能であるとともに、洗
浄の処理効果を向上することができる基板保持カセット
を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明は、複数枚の基板
の主面同士を平行に整列して保持する基板保持カセット
であって、前記基板の外周部が係合し長手方向に沿って
等しいピッチでなる複数の幅広の受け溝を有する複数の
基板支持部材と、前記基板支持部材の端部同士を相互に
結合する側部材とを有し、複数の前記基板支持部材は、
前記基板の外周に沿うように互いに平行に、かつ、離間
して配置され、前記基板支持部材は、前記受け溝の一部
分を挟幅にして前記基板の外周部に接触する支持凸部を
有するものである。

【００２４】また、前記基板支持部材は、複数枚の前記
基板を保持した状態において、前記長手方向における前
記受け溝と前記基板との間に前記支持凸部１つ分の空間
を有するものである。

【００２５】また、前記側部材の幅は、前記基板の主面
に平行な方向であって前記基板の外径寸法よりも小で、
前記側部材の上端部は前記基板の外径中心よりも下方に
位置するものである。

【００２６】また、前記側部材は、前記基板の整列方向
における端部に取手を有するものである。

【００２７】また、前記基板保持カセットの高さは、前
記基板の外径寸法の約１／４以下であるものである。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
基板保持カセットについて説明する。本発明の基板保持
カセットは、例えば、図１１に示す前記基板自動処理装
置で使用するものであり、前記基板自動処理装置全体に
ついての説明は省略する。また、本発明の基板保持カセ
ットが取り扱う基板については、同じ参照符号を用いて
いる。

【００２９】図１は、本発明の基板保持カセットの半断
面を含む正面図、図２は、本発明の基板保持カセットが
基板を保持した状態を示す平面図、図３は、図２に示す
本発明の基板保持カセットのＸ−Ｘ断面における側面図
であり、図４は、図２に示す本発明の基板保持カセット
の部分拡大図である。また、図５は、図３に示す本発明
の基板保持カセットの部分拡大図であり、図６は、図１
乃至図５に示す本発明の基板保持カセットが備える基板
支持部材を示す斜視図である。以下、図１乃至図６及び
図１１を参照して本発明による基板保持カセットについ
て説明する。

【００３０】図１乃至図３に示すように、本発明の基板
保持カセット１は、その左右方向及び前後方向におい
て、それぞれ、対称な形状であり、互いに平行に前後方
向に伸長して設けた長手状の基板支持部材３及び基板支
持部材４と、前記基板支持部材３及び基板支持部材４の
それぞれの端部同士を相互に結合する前後一対の平板状
の側部材２とからなる。本実施例では、前記基板支持部
材３及び前記基板支持部材４を、それぞれ、２本ずつ、
合計４本備えている。また、図６にも示すように、前記
基板支持部材３及び前記基板支持部材４は、保持する前
記基板１２の外周に沿うように互いに離間して配置され
ている。

【００３１】前記基板支持部材３、前記基板支持部材４
及び前記側部材２は、例えば、テフロン（登録商標）
（ＰＦＡ，テトラフルオロエチレン−パーフルオロアル
キルビニルエーテル共重合体、あるいは、ＰＴＦＥ，ポ
リテトラフルオロエチレン）を素材として、この場合、
一体で形成されている。前記基板保持カセット１は、複
数枚、この場合、２５枚の基板１２の主面同士を平行に
等ピッチで整列して保持可能になっており、保持する前
記基板１２の主面に平行な方向を左右方向、整列方向を
前後方向と称している。また、前記基板１２の表裏両面
を主面と称している。

【００３２】まず、前記基板支持部材３及び前記基板支
持部材４について説明する。

【００３３】図１乃至図３及び図６に示すように、前記
基板支持部材３及び前記基板支持部材４は、それぞれ、
等しい長さに形成され、前記基板１２の主面と平行な方
向における断面の形状が略平行四辺形状になっている。
また、前記側部材２の下方位置に設けられる前記基板支
持部材３同士及び前記側部材２の上方位置に設けられる
前記基板支持部材４同士は、それぞれ、前記左右方向に
おいて対称な位置に設けられている。

【００３４】また、図４及び図５にも示すように、前記
基板支持部材３及び前記基板支持部材４の一側面には、
前記基板１２の厚さｐに比べて幅広の受け溝１３及び受
け溝１４を、それぞれ、保持する前記基板１２の枚数
分、この場合、２５本有している。前記受け溝１３及び
前記受け溝１４は、前記基板支持部材３及び前記基板支
持部材４の長手方向に沿って等ピッチで形成され、上部
に略Ｖ字状に開口するテーパ面１３ｃ及びテーパ面１４
ｃを有している。また、底部である支持面１３ｂ及び支
持面１４ｂは、保持する前記基板１２の円周方向におい
て傾斜する曲面になっており、前記基板１２と等しい曲
率半径になっている。幅広の前記受け溝１３及び前記受
け溝１４の底部における溝幅ｆは、本実施例では、前記
基板１２の厚さｐの約４倍になっている。なお、保持す
る前記基板１２の枚数は適宜設定可能であり、図２及び
図３においては、前記テーパ面１３ｃ及び前記テーパ面
１４ｃに符号を付していない。

【００３５】前記受け溝１３及び前記受け溝１４の前記
左右方向における一方の端部には、それぞれ、保持する
基板１２の整列方向、すなわち、前記前後方向において
突出する一対の支持凸部１３ａ及び支持凸部１４ａを備
えている。

【００３６】前記支持凸部１３ａ及び前記支持凸部１４
ａは、四角錐の先端部分を一部切除した形状になってお
り、保持する前記基板１２の主面に向かってテーパ状に
なっている。そして、一対の前記支持凸部１３ａ及び前
記支持凸部１４ａは、それぞれ、前記前後方向において
高さｄ（図４参照）だけ突出して、前記受け溝１３及び
前記受け溝１４の前記左右方向における全長ｇのうち、
一部分、この場合、前記支持凸部１３ａ及び前記支持凸
部１４ａの底面の長さｃの部分のみを前記基板１２の厚
さｐに略等しい幅に狭めて挟幅にしている。

【００３７】本実施例では、前記長さｃは、前記受け溝
１３及び前記受け溝１４の前記左右方向における全長ｇ
の約１／６に設定されている。また、前記支持凸部１３
ａ及び前記支持凸部１４ａは、この場合、前記基板支持
部材３及び前記基板支持部材４と、それぞれ、一体で形
成している。

【００３８】また、４本の前記基板支持部材１３及び前
記基板支持部材１４は、本実施例では、それぞれ、前記
支持凸部１３ａ及び前記支持凸部１４ａが前記基板保持
カセット１の前記左右方向における外側方向に位置する
状態に形成している。

【００３９】次に、前記側部材２について説明する。

【００４０】図１乃至図３に示すように、前記側部材２
は、前記基板保持カセット１が保持する前記基板１２の
整列方向、すなわち、前後方向における両端部に一対で
設けられ、４本の前記基板支持部材３及び前記基板支持
部材４の端部同士を相互に結合しており、本実施例で
は、前記基板支持部材３及び前記基板支持部材４と、一
体で形成している。

【００４１】前記側部材２は、上端部が前記前後方向に
おいて傾斜する傾斜面になっており、外側面上には、前
記傾斜面と面一な傾斜面を有する取手７を前記前後方向
において突出する状態で、それぞれ、２つずつ備えてい
る。前記取手７は、例えば、前記基板処理装置１０３
（図１１参照）が備えるハンガー部材（図示せず）が係
合して、前記基板保持カセット１を吊支するためのもの
であり、本実施例では、前記側部材２と一体で形成され
ている。

【００４２】また、前記側部材２は、前記左右方向にお
ける中央の下部に位置決め凹部２ａを有している。前記
位置決め凹部２ａは、前記基板自動処理装置１０３（図
１１参照）の前記処理槽１１１乃至処理槽１１３が底部
に備える受け台（図示せず）の位置決め凸部と係合し
て、前記基板保持カセット１の前記左右方向への移動を
規制して位置決めするものである。

【００４３】次に、本発明の基板保持カセット１が有す
る特徴について、前記基板自動処理装置１０３の動作も
含めて説明する。

【００４４】図１乃至図６に示すように、複数枚の前記
基板１２は、外周部が前記支持凸部１３ａと前記支持面
１３ｂ及び前記支持凸部１４ａと前記支持面１４ｂと
に、それぞれ係合して、隣接する前記基板１２同士が互
いに接触しない状態で整列して保持される。

【００４５】このとき、前記基板１２は、幅広の前記受
け溝１３及び前記受け溝１４の前記左右方向における全
長ｇのうち、一部分のみを挟幅にする前記支持凸部１３
ａ及び前記支持凸部１４ａの先端部が、それぞれ、前記
基板１２の外周の下方端部に接触した状態で挟持されて
いる。

【００４６】したがって、前記基板１２を保持した状態
において、前記受け溝１３及び前記受け溝１４と、前記
基板１２の主面との間には、それぞれ、前記支持凸部１
３ａ及び前記支持凸部１４ａ１つ分、すなわち、前記基
板支持凸部１３ａ及び前記基板支持凸部１４ａの前記前
後方向における高さｄに等しい空間が生じている。

【００４７】前記基板保持カセット１は、前述の状態で
前記基板１２を保持している。未洗浄の前記基板１２を
保持した前記基板保持カセット１が、前記基板自動処理
装置１０３（図１１参照）の前記受入れ台枠１０７上に
供給されると、まず、前記保持手段（図示せず）の前記
ハンガー部材（図示せず）が、前記取手７に係合して前
記基板保持カセット１を吊支する。この状態で、前記搬
送手段（図示せず）が作動して、前記基板保持カセット
１は、例えば、１つ目の処理槽１１１内に搬入される。

【００４８】前記処理槽１１１乃至前記処理槽１１３
は、それぞれ、底部に前記基板保持カセット１を位置決
めして載置する受け台（図示せず）を備えている。前記
基板保持カセット１は、前記位置決め凹部２ａと前記受
け台が備える位置決め凸部（図示せず）とが係合するこ
とにより、前記受け台（図示せず）上に位置決めされて
載置される。

【００４９】すなわち、前記基板保持カセット１が保持
する前記基板１２が前記処理槽１１１内の処理液１１１
ａ中に浸漬され、洗浄処理が行われる。前記処理槽１１
１内での洗浄が終了すると、前記基板保持カセット１
は、前記ハンガー部材（図示せず）により再び吊支さ
れ、処理槽外に搬出される。

【００５０】このとき、前記受け溝１３及び前記受け溝
１４と、前記基板１２の主面との間には、それぞれ、前
記支持凸部１３ａ及び前記支持凸部１４ａの前記前後方
向における高さｄに等しい空間が生じていることから、
前記処理液１１１ａは、前記処理槽１１１上で直ちに流
出して、前記受け溝１３及び前記受け溝１４内における
前記処理液１１１ａの残留を抑制することができる。

【００５１】したがって、前記基板保持カセット１は、
前記処理槽１１１乃至前記処理槽１１３内の前記処理液
１１１ａ乃至処理液１１３ａが各処理槽外に持ち出され
る量が極めて少なく、前記処理液の消費量の増加や、隣
接する処理槽内の別種の処理液が互いに混入して生じる
処理効果の低下などを防止する効果が高いものになって
いる。

【００５２】また、前記基板保持カセット１を前記各処
理槽内の処理液中から引き上げて前記基板１２を乾燥す
る場合でも、処理液の蒸発痕、いわゆる、ウオーターマ
ークが前記基板１２の主面上に生じることを防ぐことが
でき、洗浄効果が高いものになっている。

【００５３】また、前記支持凸部１３ａ及び前記支持凸
部１４ａは、それぞれ、先端部のみが前記基板１２の外
周の下方端部に接触した状態で前記基板１２を挟持して
いる。すなわち、より少ない接触面積で前記基板１２を
保持することが可能であり、洗浄効果が高いものになっ
ている。

【００５４】前記ハンガー部材（図示せず）により再び
吊支された前記基板保持カセット１は、例えば、隣接す
る前記処理槽１１２に向けて搬送され、同様に洗浄処理
が行われる。以下同様にして、例えば、前記処理槽１１
３での洗浄処理が行われ、すべての洗浄処理が終了する
と、前記基板保持カセット１は、前記基板１２を保持し
た状態のまま前記取出し台枠１０８上に搬送され、次工
程へ向けて搬出される。

【００５５】なお、洗浄処理は、前記基板保持カセット
１を端の処理槽から順に巡らせるとは限らず、その順番
は処理内容によって適宜設定可能である。

【００５６】また、本発明の前記基板保持カセット１の
外形寸法は、前記前後方向における奥行きも含めて、従
来の前記基板保持カセット１０１に等しく設定されてお
り、従来の前記基板保持カセット１０１と同様に全体の
小型化を達成した構成になっている。

【００５７】すなわち、前記基板保持カセット１の左右
方向、すなわち、保持する基板１２の主面に平行な方向
における最大寸法は、前記側部材２の最大幅寸法Ａに等
しくなっており、かつ、前記最大寸法Ａは前記左右方向
における基板１２の外径寸法、すなわち、直径Ｄよりも
小さくなっている。また、前記側部材２の下半部分の幅
寸法Ｂは、前記最大寸法Ａよりも、さらに小さくなって
おり、前記基板保持カセット１の高さＨは、前記基板１
２の直径Ｄの約１／４以下に設定されている。

【００５８】したがって、前記基板保持カセット１は、
前記基板保持カセット１が搬入される前記処理槽１１１
乃至前記処理槽１１３の容量を小さくすることが可能で
あり、前記各処理槽が貯留する前記各処理液の量を少液
化することができるとともに、低コスト化が可能であ
る。また、前記基板自動処理装置１０３全体の小型化及
び設置スペースの省スペース化等の効果を合わせて達成
したものになっている。

【００５９】なお、前記基板保持カセット１は、本実施
例では、全体が一体成形されたものになっているが、前
記基板支持部材３、前記基板支持部材４及び前記側部材
２を、それぞれ、別個に形成し、ねじ等によって締結し
て全体を一体化する構成にしてもよい。

【００６０】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の基板保
持カセットによれば、処理液の残留を抑制する効果が高
く、洗浄処理の低コスト化が可能であるとともに、洗浄
の処理効果を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板保持カセットの半断面を含む正面
図である。

【図２】本発明の基板保持カセットが基板を保持した状
態を示す平面図である。

【図３】図２に示す本発明の基板保持カセットのＸ−Ｘ
断面における側面図である。

【図４】図２に示す本発明の基板保持カセットの部分拡
大図である。

【図５】図３に示す本発明の基板保持カセットの部分拡
大図である。

【図６】図１乃至図５に示す本発明の基板保持カセット
が備える基板支持部材を示す斜視図である。

【図７】従来の基板保持カセットが基板を保持した状態
を示す側面図である。

【図８】従来の基板保持カセットの半断面を含む正面図
である。

【図９】図７及び図８に示す従来の基板保持カセットが
備える基板支持部材を示す斜視図である。

【図１０】従来の基板保持カセットが基板を保持した状
態を示す拡大断面図であり、図８のＸ−Ｘ断面における
側面図である。

【図１１】基板自動処理装置を示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 基板保持カセット ２ 側部材 ２ａ 位置決め凹部 ３ 基板支持部材 ４ 基板支持部材 ７ 取手 １２ 基板 １３ 受け溝 １３ａ 支持凸部 １３ｂ 支持面 １３ｃ テーパ面 １４ 受け溝 １４ａ 支持凸部 １４ｂ 支持面 １４ｃ テーパ面 １０３ 基板自動処理装置 １０５ 架台 １０７ 受入れ台枠 １０８ 取出し台枠 １１１ 処理槽 １１１ａ 前洗浄用処理液 １１２ 処理槽 １１２ａ エッチング用処理液 １１３ 処理槽 １１３ａ 後洗浄用処理液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3E096 BA15 BA16 BB04 CA09 CB10 DA05 DA23 DB01 DC01 EA02X FA09 FA14 GA11 5F031 CA02 CA05 DA03 EA02 EA06 EA20 HA72 HA74 KA20 MA23

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の基板の主面同士を平行に整列し
   て保持する基板保持カセットであって、 前記基板の外周部が係合し長手方向に沿って等しいピッ
   チでなる複数の幅広の受け溝を有する複数の基板支持部
   材と、 前記基板支持部材の端部同士を相互に結合する側部材と
   を有し、 複数の前記基板支持部材は、前記基板の外周に沿うよう
   に互いに平行に、かつ、離間して配置され、 前記基板支持部材は、前記受け溝の一部分を挟幅にして
   前記基板の外周部に接触する支持凸部を有することを特
   徴とする基板保持カセット。
2. 【請求項２】 前記基板支持部材は、複数枚の前記基板
   を保持した状態において、前記長手方向における前記受
   け溝と前記基板との間に前記支持凸部１つ分の空間を有
   することを特徴とする請求項１記載の基板保持カセッ
   ト。
3. 【請求項３】 前記側部材の幅は、前記基板の主面に平
   行な方向であって前記基板の外径寸法よりも小で、前記
   側部材の上端部は前記基板の外径中心よりも下方に位置
   することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の基板
   保持カセット。
4. 【請求項４】 前記側部材は、前記基板の整列方向にお
   ける端部に取手を有することを特徴とする請求項１乃至
   請求項３のうちいずれか１記載の基板保持カセット。
5. 【請求項５】 前記基板保持カセットの高さは、前記基
   板の外径寸法の約１／４以下であることを特徴とする請
   求項１乃至請求項４のうちいずれか１記載の基板保持カ
   セット。