JP2003300966A - アゾ化フラーレンの製造方法 - Google Patents
アゾ化フラーレンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フラーレンに２−メトキシエトキシメチル
アシドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方法に
おいて、該アゾ化フラーレンを短時間で効率よく製造す
る方法を提供する。 【解決手段】 フラーレンに２−メトキシエトキシメチ
ル アジドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方
法において、該フラーレンと該２−メトキシエトキシメ
チル アジドとをシリカゲル上で無溶媒反応させること
を特徴とするアゾ化フラーレンの製造方法。
アシドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方法に
おいて、該アゾ化フラーレンを短時間で効率よく製造す
る方法を提供する。 【解決手段】 フラーレンに２−メトキシエトキシメチ
ル アジドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方
法において、該フラーレンと該２−メトキシエトキシメ
チル アジドとをシリカゲル上で無溶媒反応させること
を特徴とするアゾ化フラーレンの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラーレン（以
下、単にＣ60とも言う）に２−メトキシエトキシメチル
アジド（以下、単にＭＥＭ−Ｎ3とも言う）を反応さ
せてアゾ化フラーレン（１’−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅ
ｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙｌ）ｔｒｉａｚｏｌｉｎｙｌ−
［４’，５’：１，２］−１，２−ｄｉｈｙｄｒｏ［６
０］ｆｕｌｌｅｒｅｎｅ（以下、単にＣ60Ｎ3−ＭＥＭ
とも言う））を製造する方法に関するものである。前記
アゾ化フラーレンは、アザフラーレンを製造する場合の
反応原料として有用な物質である。
下、単にＣ60とも言う）に２−メトキシエトキシメチル
アジド（以下、単にＭＥＭ−Ｎ3とも言う）を反応さ
せてアゾ化フラーレン（１’−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅ
ｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙｌ）ｔｒｉａｚｏｌｉｎｙｌ−
［４’，５’：１，２］−１，２−ｄｉｈｙｄｒｏ［６
０］ｆｕｌｌｅｒｅｎｅ（以下、単にＣ60Ｎ3−ＭＥＭ
とも言う））を製造する方法に関するものである。前記
アゾ化フラーレンは、アザフラーレンを製造する場合の
反応原料として有用な物質である。
【０００２】
【従来の技術】アザフラーレンは、フラーレンの炭素原
子の一つが窒素原子に置き換わったものであり、最もシ
ンプルで基本的な構造をもつヘテロフラーレンの一つで
あり、種々のヘテロフラーレンを合成するための基幹物
質である。本発明者らは、先に、特願２００１−５５６
４５（平成１３年２月２８日出願）において、新規なア
ザフラーレンの製造方法を提案した。この方法は、Ｃ60
（化合物１）にＭＥＭ−Ｎ3を反応させて（反応ステッ
プ２Ａ−１）Ｃ60Ｎ3−ＭＥＭ（化合物２Ａ：Ｃ60Ｎ3Ｍ
ＥＭ／１’−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙｍｅｔ
ｈｙｌ）ｔｒｉａｚｏｌｉｎｙｌ−［４’，５’：１，
２］−１，２−ｄｉｈｙｄｒｏ［６０］ｆｕｌｌｅｒｅ
ｎｅ）とし、これを加熱してＣ60Ｎ−ＭＥＭ（化合物
２：Ｎ−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙ
ｌ）ａｚａｆｕｌｌｅｒｏｉｄ）とし（反応ステップ２
Ａ−２）、ついでこれを酸素と光の存在下で酸化してＣ
60Ｎ−ＭＥＭケトラクタム（化合物３：Ｃ60ＮＭＥＭ
Ｋｅｔｏｌａｃｔａｍ）とし（反応ステップ３）、さら
にｐ−トルエンスルホン酸一水和物の存在下で反応させ
ることにより、アザフラーレンの２量体（化合物４：
（Ｃ 59Ｎ）2／Ａｚａ［６０］ｆｕｌｌｅｒｅｎｅ）を
得る（反応ステップ４）ものである。前記Ｃ60とＭＥＭ
−Ｎ3とを反応させる方法では、ＭＥＭ−Ｎ3をクロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン等の溶媒に溶かした溶液中に
Ｃ60を分散させ、加熱することにより実施されている。
この方法により、アザフラーレンの２量体を収率よく大
量に製造することが可能となった。しかしながら、この
方法は、６０〜８０℃の温度で２０時間程度という長い
反応時間と要するため、より効率的に製造を行う点につ
きさらに改良の余地があった。
子の一つが窒素原子に置き換わったものであり、最もシ
ンプルで基本的な構造をもつヘテロフラーレンの一つで
あり、種々のヘテロフラーレンを合成するための基幹物
質である。本発明者らは、先に、特願２００１−５５６
４５（平成１３年２月２８日出願）において、新規なア
ザフラーレンの製造方法を提案した。この方法は、Ｃ60
（化合物１）にＭＥＭ−Ｎ3を反応させて（反応ステッ
プ２Ａ−１）Ｃ60Ｎ3−ＭＥＭ（化合物２Ａ：Ｃ60Ｎ3Ｍ
ＥＭ／１’−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙｍｅｔ
ｈｙｌ）ｔｒｉａｚｏｌｉｎｙｌ−［４’，５’：１，
２］−１，２−ｄｉｈｙｄｒｏ［６０］ｆｕｌｌｅｒｅ
ｎｅ）とし、これを加熱してＣ60Ｎ−ＭＥＭ（化合物
２：Ｎ−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙ
ｌ）ａｚａｆｕｌｌｅｒｏｉｄ）とし（反応ステップ２
Ａ−２）、ついでこれを酸素と光の存在下で酸化してＣ
60Ｎ−ＭＥＭケトラクタム（化合物３：Ｃ60ＮＭＥＭ
Ｋｅｔｏｌａｃｔａｍ）とし（反応ステップ３）、さら
にｐ−トルエンスルホン酸一水和物の存在下で反応させ
ることにより、アザフラーレンの２量体（化合物４：
（Ｃ 59Ｎ）2／Ａｚａ［６０］ｆｕｌｌｅｒｅｎｅ）を
得る（反応ステップ４）ものである。前記Ｃ60とＭＥＭ
−Ｎ3とを反応させる方法では、ＭＥＭ−Ｎ3をクロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン等の溶媒に溶かした溶液中に
Ｃ60を分散させ、加熱することにより実施されている。
この方法により、アザフラーレンの２量体を収率よく大
量に製造することが可能となった。しかしながら、この
方法は、６０〜８０℃の温度で２０時間程度という長い
反応時間と要するため、より効率的に製造を行う点につ
きさらに改良の余地があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、フラーレン
に２−メトキシエトキシメチル アシドを反応させてア
ゾ化フラーレンを製造する方法において、該アゾ化フラ
ーレンを短時間で効率よく製造する方法を提供すること
をその課題とする。
に２−メトキシエトキシメチル アシドを反応させてア
ゾ化フラーレンを製造する方法において、該アゾ化フラ
ーレンを短時間で効率よく製造する方法を提供すること
をその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、以下に示すアゾ化フ
ラーレンの製造方法が提供される。 （１）フラーレンに２−メトキシエトキシメチル アジ
ドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方法におい
て、該フラーレンと該２−メトキシエトキシメチル ア
ジドとをシリカゲル上で無溶媒反応させることを特徴と
するアゾ化フラーレンの製造方法。 （２）アゾ化フラーレンの製造方法において、溶媒中に
溶解させたフラーレンと溶媒中に溶解させた２−メトキ
シエトキシメチル アジドをシリカゲル上に含浸させ、
該溶媒を蒸発除去する担持工程と、該シリカゲルを加熱
して、該シリカゲル上で該フラーレンと２−メトキシエ
トキシメチル アシドとを反応させる反応工程とからな
ることを特徴とするアゾ化フラーレンの製造方法。 （３）該フラーレン用溶媒及び該２−メトキシエトキシ
メチル アジド用溶媒がいずれも二硫化炭素であること
を特徴とする前記（２）に記載の方法。 （４）該反応を５０〜９０℃で行うことを特徴とする前
記（１）〜（３）のいずれかに記載の方法。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、以下に示すアゾ化フ
ラーレンの製造方法が提供される。 （１）フラーレンに２−メトキシエトキシメチル アジ
ドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方法におい
て、該フラーレンと該２−メトキシエトキシメチル ア
ジドとをシリカゲル上で無溶媒反応させることを特徴と
するアゾ化フラーレンの製造方法。 （２）アゾ化フラーレンの製造方法において、溶媒中に
溶解させたフラーレンと溶媒中に溶解させた２−メトキ
シエトキシメチル アジドをシリカゲル上に含浸させ、
該溶媒を蒸発除去する担持工程と、該シリカゲルを加熱
して、該シリカゲル上で該フラーレンと２−メトキシエ
トキシメチル アシドとを反応させる反応工程とからな
ることを特徴とするアゾ化フラーレンの製造方法。 （３）該フラーレン用溶媒及び該２−メトキシエトキシ
メチル アジド用溶媒がいずれも二硫化炭素であること
を特徴とする前記（２）に記載の方法。 （４）該反応を５０〜９０℃で行うことを特徴とする前
記（１）〜（３）のいずれかに記載の方法。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明で用いるＭＥＭ−Ｎ3は、
以下に下記式で表される化合物である。
以下に下記式で表される化合物である。
【化１】
ＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｎ3 （１）
【０００６】本発明の方法を好ましく実施するには、先
ず、シリカゲル上に、Ｃ60とＭＥＭ−Ｎ3を担持させ
る。このための方法には、（ｉ）Ｃ60を溶媒に溶解した
溶液をシリカゲルに含浸させ、該溶媒を蒸発除去してシ
リカゲル上にＣ60を担持させた後、ＭＥＭ−Ｎ3を溶媒
に溶解した溶液を含浸させ、該溶媒を蒸発除去してＭＥ
Ｍ−Ｎ3を担持させる方法、（ii）ＭＥＭ−Ｎ3を溶媒に
溶解した溶液をシリカゲルに含浸させ、該溶媒を蒸発除
去して、シリカゲル上にＭＥＭ−Ｎ3を担持させた後、
Ｃ60を溶媒に溶解した溶液を含浸させ、該溶媒を蒸発除
去してＣ60を担持させる方法、（iii）Ｃ60とＭＥＭ−
Ｎ3を溶媒に溶解させた溶液をシリカゲルに含浸させ、
該溶媒を蒸発除去し、シリカゲル上にＣ６０とＭＥＭ−
Ｎ3とを同時に担持させる方法が包含される。
ず、シリカゲル上に、Ｃ60とＭＥＭ−Ｎ3を担持させ
る。このための方法には、（ｉ）Ｃ60を溶媒に溶解した
溶液をシリカゲルに含浸させ、該溶媒を蒸発除去してシ
リカゲル上にＣ60を担持させた後、ＭＥＭ−Ｎ3を溶媒
に溶解した溶液を含浸させ、該溶媒を蒸発除去してＭＥ
Ｍ−Ｎ3を担持させる方法、（ii）ＭＥＭ−Ｎ3を溶媒に
溶解した溶液をシリカゲルに含浸させ、該溶媒を蒸発除
去して、シリカゲル上にＭＥＭ−Ｎ3を担持させた後、
Ｃ60を溶媒に溶解した溶液を含浸させ、該溶媒を蒸発除
去してＣ60を担持させる方法、（iii）Ｃ60とＭＥＭ−
Ｎ3を溶媒に溶解させた溶液をシリカゲルに含浸させ、
該溶媒を蒸発除去し、シリカゲル上にＣ６０とＭＥＭ−
Ｎ3とを同時に担持させる方法が包含される。
【０００７】Ｃ60を溶解させる溶媒としては、Ｃ60を溶
解させ、かつ蒸発除去が容易なものであればどのような
ものでもよいが、好ましくは二硫化炭素（ＣＳ2）が用
いられる。ＭＥＭ−Ｎ3を溶解させる溶媒としては、Ｍ
ＥＭ−Ｎ3を溶解させ、かつ蒸発除去が容易なものであ
ればどのようなものでもよいが、好ましくは二硫化炭素
やエーテル等が用いられる。Ｃ60とＭＥＭ−Ｎ3の両方
を溶解させる溶媒としては、両者を溶解させ、かつ蒸発
除去が容易なものであればどのようなものでもよいが、
好ましくは二硫化炭素が用いられる。
解させ、かつ蒸発除去が容易なものであればどのような
ものでもよいが、好ましくは二硫化炭素（ＣＳ2）が用
いられる。ＭＥＭ−Ｎ3を溶解させる溶媒としては、Ｍ
ＥＭ−Ｎ3を溶解させ、かつ蒸発除去が容易なものであ
ればどのようなものでもよいが、好ましくは二硫化炭素
やエーテル等が用いられる。Ｃ60とＭＥＭ−Ｎ3の両方
を溶解させる溶媒としては、両者を溶解させ、かつ蒸発
除去が容易なものであればどのようなものでもよいが、
好ましくは二硫化炭素が用いられる。
【０００８】シリカゲルの形状は特に制約されず、粉末
状、顆粒状、シート状、板状等の各種の形状であること
ができる。
状、顆粒状、シート状、板状等の各種の形状であること
ができる。
【０００９】反応生成物の分離精製を目的として、該反
応後、シリカゲル上の反応生成混合物をシリカゲルとと
もにそのままカラムに詰め、その下流に分離用シリカゲ
ルカラムを連結し、単にそこに溶離液を流す、というや
り方によりシリカゲルカラムクロマトグラフィーを実施
することができる。この場合の溶離液としては、トルエ
ン／塩化メチレン／エーテル（エチルエーテル）／混合
物を用いることができる。その溶媒重量比は、例えば１
００／１０／１である。
応後、シリカゲル上の反応生成混合物をシリカゲルとと
もにそのままカラムに詰め、その下流に分離用シリカゲ
ルカラムを連結し、単にそこに溶離液を流す、というや
り方によりシリカゲルカラムクロマトグラフィーを実施
することができる。この場合の溶離液としては、トルエ
ン／塩化メチレン／エーテル（エチルエーテル）／混合
物を用いることができる。その溶媒重量比は、例えば１
００／１０／１である。
【００１０】本発明では、Ｃ60とＭＥＭ−Ｎ3をシリカ
ゲル上に担持させる場合にのみ溶媒を用い、反応には溶
媒は使用しない。従って、担持にのみ用いる溶媒の使用
に伴って発生する１サイクルあたりの不純物量は非常に
少なく、また仮に不純物が発生あるいは混入したとして
も担持にのみ溶媒を用いるだけなので、悪さをする可能
性は小さい。溶媒の中でも特に二硫化炭素は沸点が低い
ために、担持工程においてＣ60とＭＥＭ−Ｎ3とともに
シリカゲルに含浸された二硫化炭素を容易に蒸発除去す
ることができる上、その蒸気を冷却液化して得た二硫化
炭素は、不純物含量が非常に少ないため、再びＣ60やＭ
ＥＭ−Ｎ3を溶かすための溶媒として使用することがで
きる。その際、二流化炭素の蒸留再生サイクルの過程で
特に精製の必要はなく、しかも沸点が４６．５℃とかな
り低いので、産業プロセスとしてクローズドシステムを
作るのに非常に有利である。
ゲル上に担持させる場合にのみ溶媒を用い、反応には溶
媒は使用しない。従って、担持にのみ用いる溶媒の使用
に伴って発生する１サイクルあたりの不純物量は非常に
少なく、また仮に不純物が発生あるいは混入したとして
も担持にのみ溶媒を用いるだけなので、悪さをする可能
性は小さい。溶媒の中でも特に二硫化炭素は沸点が低い
ために、担持工程においてＣ60とＭＥＭ−Ｎ3とともに
シリカゲルに含浸された二硫化炭素を容易に蒸発除去す
ることができる上、その蒸気を冷却液化して得た二硫化
炭素は、不純物含量が非常に少ないため、再びＣ60やＭ
ＥＭ−Ｎ3を溶かすための溶媒として使用することがで
きる。その際、二流化炭素の蒸留再生サイクルの過程で
特に精製の必要はなく、しかも沸点が４６．５℃とかな
り低いので、産業プロセスとしてクローズドシステムを
作るのに非常に有利である。
【００１１】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳述する。
【００１２】実施例１
Ｃ60（１５ｍｇ、０．０２０８１ｍｍｏｌ）を二酸化炭
素（ＣＳ2）に溶解し、これをシリカゲルＴＬＣプレー
ト（２０ｃｍ×２０ｃｍ）の中央一点より連続的にゆっ
くりと落とし、Ｃ60を広げる。これをＮ2ガス気流下風
乾させる。続いて、ＭＥＭ−Ｎ3（２００マイクロリッ
トル、２ｍｍｏｌ）をエーテル（エチルエーテル）溶液
とし、先程と同じ一点よりシリカゲルＴＬＣプレート上
にゆっくりと広げる。この時、ＭＥＭ−Ｎ3／エーテル
溶液がＣ60の末端より少し大きく広がる程度になった時
点で止め、残りをパスツールピペットでＣ60上に全体に
行き渡るように滴下する（一点からではない）。そし
て、Ｎ2ガス気流下風乾させる。このようにして得たＣ
60とＭＥＭ−Ｎ3を吸着したＴＬＣプレートを出来るだ
けアルミホイルとＴＬＣプレートとの隙間がないように
ホイルに挟み、外気の出入りがないように端部を二重に
折り曲げる。これを予め８０℃に維持しておいた恒温乾
燥機の中に入れ、３０分後に取り出す。アルミホイルを
外し、３ｃｍ四方程度に切ったＴＬＣプレート（細かく
しないとフラスコに入らなかったので）をフラスコ内に
入れ、ＣＳ2を加え、３０分程度攪拌することで抽出を
した。抽出液および洗浄液を集め、溶媒を留去後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン
／塩化メチレン／エーテル＝１００／１０／１）にて主
生成物を精製した。溶媒留去後の重量が４．８ｍｇであ
り、ＵＶ−ｖｉｓスペクトルよりＣ60Ｎ3ＭＥＭ（λｍ
ａｘ ３２０ｎｍ）であることが確認された。その単離
収率は２７％であった。
素（ＣＳ2）に溶解し、これをシリカゲルＴＬＣプレー
ト（２０ｃｍ×２０ｃｍ）の中央一点より連続的にゆっ
くりと落とし、Ｃ60を広げる。これをＮ2ガス気流下風
乾させる。続いて、ＭＥＭ−Ｎ3（２００マイクロリッ
トル、２ｍｍｏｌ）をエーテル（エチルエーテル）溶液
とし、先程と同じ一点よりシリカゲルＴＬＣプレート上
にゆっくりと広げる。この時、ＭＥＭ−Ｎ3／エーテル
溶液がＣ60の末端より少し大きく広がる程度になった時
点で止め、残りをパスツールピペットでＣ60上に全体に
行き渡るように滴下する（一点からではない）。そし
て、Ｎ2ガス気流下風乾させる。このようにして得たＣ
60とＭＥＭ−Ｎ3を吸着したＴＬＣプレートを出来るだ
けアルミホイルとＴＬＣプレートとの隙間がないように
ホイルに挟み、外気の出入りがないように端部を二重に
折り曲げる。これを予め８０℃に維持しておいた恒温乾
燥機の中に入れ、３０分後に取り出す。アルミホイルを
外し、３ｃｍ四方程度に切ったＴＬＣプレート（細かく
しないとフラスコに入らなかったので）をフラスコ内に
入れ、ＣＳ2を加え、３０分程度攪拌することで抽出を
した。抽出液および洗浄液を集め、溶媒を留去後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン
／塩化メチレン／エーテル＝１００／１０／１）にて主
生成物を精製した。溶媒留去後の重量が４．８ｍｇであ
り、ＵＶ−ｖｉｓスペクトルよりＣ60Ｎ3ＭＥＭ（λｍ
ａｘ ３２０ｎｍ）であることが確認された。その単離
収率は２７％であった。
【００１３】実施例２
Ｃ60（５１．４ｍｇ）をＣＳ2（２５．７ｍｌ）に溶解
した溶液５ｍｌ（Ｃ60は１０ｍｇ）に、ＭＥＭ−Ｎ
3（７０マイクロリットル、５０当量）を加え、試料溶
液を作った。シリカゲルＴＬＣプレート（５ｃｍ×１ｃ
ｍ）を１０枚用意し、それぞれを試料溶液に浸した後、
風乾させた。この内９枚をアルミホイルで前記と同様に
してしっかりと包み、８０℃の恒温乾燥機中に並べた。
１枚は反応０分、８０℃に加熱したものはある時間ごと
（５、１０、１５、２０、２５、３０、４０、５０、６
０分）に取り出し、それぞれをＣＳ2−エーテル（約８
対２）に１５分ほど浸し、反応生成物を溶出させた。続
いて完全に溶媒留去したものにトルエン１ｍｌ（シリン
ジで量り取った）を加え、完全に溶液としたものをＨＰ
ＬＣにロードした。得られたデータを解析して得られた
ピーク面積を、以前定量的に計測しておいたモル吸光係
数などを使い、濃度に換算した。反応時間０分のＣ60の
モル数を１００％とし、各時間におけるＣ60とＣ60Ｎ3
ＭＥＭのパーセンテージを算出したところ、２０分反応
させた場合の生成物収率が２５％であった。ちなみにこ
の時のＣ60の残量は４８％であった。以上で得られた全
ての反応生成混合物を１つに集め、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで主生成物を精製、1Ｈ−ＮＭＲを測
定したところ、Ｃ60Ｎ3ＭＥＭであると確認された。
した溶液５ｍｌ（Ｃ60は１０ｍｇ）に、ＭＥＭ−Ｎ
3（７０マイクロリットル、５０当量）を加え、試料溶
液を作った。シリカゲルＴＬＣプレート（５ｃｍ×１ｃ
ｍ）を１０枚用意し、それぞれを試料溶液に浸した後、
風乾させた。この内９枚をアルミホイルで前記と同様に
してしっかりと包み、８０℃の恒温乾燥機中に並べた。
１枚は反応０分、８０℃に加熱したものはある時間ごと
（５、１０、１５、２０、２５、３０、４０、５０、６
０分）に取り出し、それぞれをＣＳ2−エーテル（約８
対２）に１５分ほど浸し、反応生成物を溶出させた。続
いて完全に溶媒留去したものにトルエン１ｍｌ（シリン
ジで量り取った）を加え、完全に溶液としたものをＨＰ
ＬＣにロードした。得られたデータを解析して得られた
ピーク面積を、以前定量的に計測しておいたモル吸光係
数などを使い、濃度に換算した。反応時間０分のＣ60の
モル数を１００％とし、各時間におけるＣ60とＣ60Ｎ3
ＭＥＭのパーセンテージを算出したところ、２０分反応
させた場合の生成物収率が２５％であった。ちなみにこ
の時のＣ60の残量は４８％であった。以上で得られた全
ての反応生成混合物を１つに集め、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで主生成物を精製、1Ｈ−ＮＭＲを測
定したところ、Ｃ60Ｎ3ＭＥＭであると確認された。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、アゾ化フラーレンを実
質的に無溶媒下で短時間で得ることができる。このアゾ
化フラーレンは、アザフラーレン製造用原料として使用
することができ、これを加熱してＣ60Ｎ−ＭＥＭとし、
ついで酸素と光の存在下で酸化してＣ60Ｎ−ＭＥＭケト
ラクタムとした後、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物の
存在下で反応させることにより、アザフラーレンの２量
体とすることができる。
質的に無溶媒下で短時間で得ることができる。このアゾ
化フラーレンは、アザフラーレン製造用原料として使用
することができ、これを加熱してＣ60Ｎ−ＭＥＭとし、
ついで酸素と光の存在下で酸化してＣ60Ｎ−ＭＥＭケト
ラクタムとした後、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物の
存在下で反応させることにより、アザフラーレンの２量
体とすることができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 フラーレンに２−メトキシエトキシメチ
ル アジドを反応させてアゾ化フラーレンを製造する方
法において、該フラーレンと該２−メトキシエトキシメ
チル アジドとをシリカゲル上で無溶媒反応させること
を特徴とするアゾ化フラーレンの製造方法。 - 【請求項２】 アゾ化フラーレンの製造方法において、
溶媒中に溶解させたフラーレンと溶媒中に溶解させた２
−メトキシエトキシメチル アジドをシリカゲル上に含
浸させ、該溶媒を蒸発除去する担持工程と、該シリカゲ
ルを加熱して、該シリカゲル上で該フラーレンと２−メ
トキシエトキシメチル アシドとを反応させる反応工程
とからなることを特徴とするアゾ化フラーレンの製造方
法。 - 【請求項３】 該フラーレン用溶媒及び該２−メトキシ
エトキシメチル アジド用溶媒がいずれも二硫化炭素で
あることを特徴とする請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 該反応を５０〜９０℃で行うことを特徴
とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002108460A JP4065940B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | アゾ化フラーレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002108460A JP4065940B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | アゾ化フラーレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003300966A true JP2003300966A (ja) | 2003-10-21 |
| JP4065940B2 JP4065940B2 (ja) | 2008-03-26 |
Family
ID=29392233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002108460A Expired - Lifetime JP4065940B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | アゾ化フラーレンの製造方法 |
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| RU2523826C1 (ru) * | 2012-12-19 | 2014-07-27 | Александр Алексеевич Козеев | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЗАФУЛЛЕРЕНА C48N12 НИТРАЦИЕЙ β-НАФТОЛА РАЗБАВЛЕННОЙ АЗОТНОЙ КИСЛОТОЙ |
| CN106810462A (zh) * | 2016-12-05 | 2017-06-09 | 河南农业大学 | 一种富勒烯多氮杂桥水溶性衍生物的制备方法 |
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2002
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| RU2523826C1 (ru) * | 2012-12-19 | 2014-07-27 | Александр Алексеевич Козеев | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЗАФУЛЛЕРЕНА C48N12 НИТРАЦИЕЙ β-НАФТОЛА РАЗБАВЛЕННОЙ АЗОТНОЙ КИСЛОТОЙ |
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| CN106810462B (zh) * | 2016-12-05 | 2018-05-18 | 河南农业大学 | 一种富勒烯多氮杂桥水溶性衍生物的制备方法 |
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