JP2003300151A - 研磨パッド、研磨装置および研磨方法 - Google Patents
研磨パッド、研磨装置および研磨方法Info
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Abstract
を減衰させることがないもので、しかも作製工程が簡単
でかつ安価な研磨パッドの提供を図る。 【解決手段】 被研磨物を研磨する研磨パッド1におい
て、研磨パッド1を貫通する光路となるもので研磨パッ
ド1の厚さ方向に貫通する開口部11と、開口部11か
ら研磨パッド1の周外へつながる切り欠き部12とを有
するものであり、開口部を複数設けることも可能であ
り、また各開口部を連通するもので研磨パッドを厚さ方
向に貫通する通路を設けることも可能である。
Description
装置および研磨方法に関し、詳しくは光学式終点検出に
よる光路が確保された研磨パッド、その研磨パッドを用
いた研磨装置およびその研磨パッドを用いた研磨方法に
関する。
用される研磨パッドには、研磨パッドが貼り付けられる
研磨定盤からの検出光を研磨パッド上の被加工物(例え
ばウエハ)に照射し、またその反射光を検知器にて感知
するための光学経路を確保するため、次のようなものが
開発されている。
式終点検出器および同検出器を有する研磨装置が開示さ
れており、同公報の図3には研磨パッド66が図示され
ており、同公報第5頁右欄段落0017には研磨盤62
にビューウィンドウ72が設けられることが記載されて
おり、同公報第6頁左欄段落0020にはビューウィン
ドウ72の位置に対応した研磨パッド66の位置にビュ
ーイング・アパーチャ73が設けられるとの記載がある
(特許文献1参照。)。
には、複数の光学式モニタを用いた研磨状態のモニタリ
ング方法および同モニタを有する研磨装置が開示されて
いる。同公報第4頁左欄段落0019には研磨パッドに
光が通過する場所を複数箇所設けるとの記載がある。ま
た、同公報第6頁右欄段落0055にはパッド表面に設
けた3ヶ所の切り込みに透明樹脂を研磨パッド面よりわ
ずかに下げて配置することにより研磨モニタのための透
光窓を形成したとの記載がある(特許文献2参照。)。
報の図3(A)およびその関連説明箇所に、研磨面に開
口部を設け、その開口部に、実質的に透明な石英製プラ
グ(窓)を形成することが開示されている。すなわち、
本願図9に示すように、研磨パッド71には矩形状の開
口部72が形成され、その開口部72に透明な窓73が
形成されているものである。また同公報の第4頁左欄段
落0012に記載されているように、上記プラグの上面
とウエハとは接触せず、その間隙は最小になるようにレ
イアウトすることを意図していることが記載されてい
る。さらに同公報の図3(B)および同公報の第4頁右
欄段落0014に記載されているように、研磨面に開口
部を設け、そこに実質的に透明なナイロン微小球体を含
まないポリウレタン製プラグ(窓)を形成することが開
示されている。上記プラグとウエハとは接触するもので
ある(特許文献3参照。)。
5頁、図3)
4−6頁、図1)
頁、図3)
(窓)を設けた研磨パッド作製の工程は、上記特開平1
0−83977号公報に詳細な記述がなされているが、
その工程は複雑でありコスト増の要因となっていた。
うに、研磨パッド81に孔82を形成することも想到さ
れる。この構成では、コスト低減はできるが、上記特開
平10−83977号公報の第4頁左欄段落0012に
記載されているように、孔内にスラリーが必要以上に溜
まることにより、終点検出のためのレーザ光を減衰させ
てしまう観点から不利となる。
決するためになされた研磨パッドである。
する光路となるもので研磨パッドの厚さ方向に貫通する
開口部と、この開口部から研磨パッドの周外へつながる
もので研磨パッドの厚さ方向に貫通する切り欠き部とを
有するものである。
向に貫通する開口部と、前記開口部から前記研磨パッド
の周外へつながるもので研磨パッドの厚さ方向に貫通す
る切り欠き部とを有するので、研磨パッド表面より開口
部に落ちたスラリーは、研磨パッドの周外へつながる切
り欠き部を通って開口部から研磨パッドの周外へ排出さ
れる。その際、切り欠き部が開口部と同様に研磨パッド
の厚さ方向に貫通する状態に形成されていることから、
スラリーは開口部より切り欠き部へ円滑に流れる。した
がって、開口部内でスラリーによる光学式終点検出に差
し障りが生じるような終点検出光の減衰は起こらない。
このため、研磨パッドに窓を形成する必要がないことに
より、研磨パッドの製造コストの低減が図れる。なお、
開口部と切り欠き部とは研磨パッドを貫通するように形
成することができることから、開口部と切り欠き部とを
例えばパンチング加工で同時形成すれば、従来技術のよ
うなプラグ(窓)を形成する場合よりも作製工程が簡単
になり、しかも切り欠き部を形成することによる製造コ
スト増は抑えられる。
ストを安価にできる本発明の研磨パッドを用いたもので
ある。このように本発明の研磨パッドを用いたことか
ら、研磨装置の運用費用が低減される。
ストを安価にできる本発明の研磨パッドを用いたもので
ある。このように本発明の研磨パッドを用いたことか
ら、研磨コストが低減される。
施の形態を、図1の平面図およびA−A’線断面図によ
って説明する。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド1の
厚さ方向に貫通する開口部11として、例えば開口形状
が長方形のものが形成されている。この開口部11に
は、研磨パッド1の厚さ方向に貫通するもので研磨パッ
ド1の周外につながる切り欠き部12が、例えば開口部
11の幅w1よりも細い幅w2で直線状に形成されてい
る。
としてポリウレタン製の厚さ1.2mmの単層のものを
用いた。上記開口部11は、2cm×5cmとし、開口
部11を外へ延長するような形で切り欠き部12が形成
されている。
り付けるためには両面粘着テープを用いる。研磨パッド
1に両面粘着テープを貼り付けた後、上記開口部11お
よび上記切り欠き部12を作製した場合には、両面粘着
テープにも開口部11および切り欠き部12が貫通した
状態に形成される。一方、研磨パッド1に開口部11お
よび切り欠き部12を形成した後に、この研磨パッド1
に両面粘着テープを貼り付ける場合には、両面粘着テー
プには開口部および切り欠き部が形成されない。両面粘
着テープが使用する終点検出に用いる光線波長に対して
実質上透明であれば、両面粘着テープに開口部を形成し
なくとも影響はない。言い換えれば、両面粘着テープが
使用する終点検出に用いる光線波長に対して実質上不透
明であるならば、両面粘着テープにも少なくとも開口部
を形成する必要がある。
さ方向に貫通する開口部11と、この開口部11から研
磨パッド1の周外へつながる切り欠き部12とを有する
ものであるから、開口部11内のスラリーは切り欠き部
12を通って研磨パッド1の周外に排出される。このた
め、開口部11内にスラリーが残り難くなるため、研磨
パッド1には窓を形成する必要がなくなる。よって、研
磨パッドの製造コストの低減が図れる。また開口部11
内にスラリーが残り難いので、開口部11内でのスラリ
ーによる終点検出に用いるレーザ光の減衰は起こらな
い。したがって、終点検出を正確に行うことが可能にな
る。
説明した構成の研磨パッド71を作製した。この研磨パ
ッド71は厚さ1.2mmのポリウレタン製単層のもの
であり、開口部72は2cm×5cmに形成されてい
る。そしてこの開口部72には透明な樹脂製の窓73が
埋め込まれている。
説明した構成の研磨パッド81を作製した。この研磨パ
ッド81は厚さ1.2mmのポリウレタン製単層のもの
であり、開口部82は2cm×5cmに形成されてい
る。なお開口部82に窓は形成されていない。また研磨
パッド81を研磨定盤に貼り付けるためには、両面粘着
テープを用いる。ここでは、研磨パッド81に両面粘着
テープ(図示せず)を貼り付けた後に、開口部82を形
成したため、両面粘着テープにも同様の開口部が貫通形
成されている。
パッド71、81を用いて研磨を行い、光の相対的な透
過率を測定した。研磨には一般的な研磨装置を用いた。
この装置はレーザ光を検出光に用いた終点検出器を備え
ている。研磨定盤には窓が形成されており、研磨定盤の
下方から研磨パッドの開口部を通って入射したレーザ光
がウエハ表面で反射し、再度研磨パッドの開口部を通っ
て、研磨定盤下に設置してある検知器に入射する。研磨
サンプルとして、シリコンウエハ上に100nmの厚さ
の酸化シリコン膜、30nmの厚さのタンタル(Ta)
膜および1μmの厚さの銅(Cu)膜を順に形成したウ
エハを用い、研磨開始から1分後のウエハからの反射光
強度を調査した。
強度で測定した結果、比較例2の研磨パッド81は0.
4と強度の低下が見られたのに対し、本発明の研磨パッ
ド1では1と窓がある場合に比べ同等の結果が得られ
た。
された窓の汚れが懸念される場合には、研磨が終了した
後で次の研磨を行うまでの間に純水によって研磨パッド
をクリーニングすることにより、研磨定盤の窓上の汚れ
が除去されることも確認できた。また300枚程度のウ
エハを研磨した後でも研磨定盤上の窓の汚れによる反射
光強度の低下は見られなかった。さらに研磨パッドの交
換を繰り返した場合の長期的に見た研磨定盤の窓の汚れ
が懸念される場合には、研磨定盤上の全面もしくは窓上
に透明なフィルムを貼っておき、必要に応じ交換するな
どの方法を採用することができる。この方法を用いたと
しても研磨パッドの作製コストが削減できることに対し
て十分に利を得ることができる。
ッドに限定するものでは無く、下層に軟らかい研磨パッ
ドを積層したようなものであっても有効である。積層の
研磨パッドを使用する場合においては、研磨パッド下層
が実質的に終点検出に必要な波長の光を透過するような
材質であれば、研磨パッド上層のみに開口部および切り
欠きを設けたものであってもよい。
の形態を、図2の平面図およびB−B’線断面図によっ
て説明する。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド2の
厚さ方向に貫通する開口部21として、例えば開口形状
が長方形のものが形成されている。この開口部21に
は、研磨パッド2の厚さ方向に貫通するもので研磨パッ
ド2の周外につながる切り欠き部22が、例えば開口部
21の幅w1と同じ幅w1で直線状に形成されている。
これにより、第1実施の形態で説明した研磨パッド1よ
りは研磨に寄与する研磨パッドの面積がやや少なくはな
るが、スラリーの排出はより円滑に行えるようになる。
の形態を、図3の平面図およびC−C’線断面図によっ
て説明する。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド3の
厚さ方向に貫通する開口部31として、例えば開口形状
が長方形のものが形成されている。この開口部31に
は、研磨パッド3の厚さ方向に貫通するもので研磨パッ
ド3の周外につながる切り欠き部32が、例えば開口部
31の幅w1より狭い幅w2でかつ開口部31の長手方
向に対して角度をつけて形成されている。ここでは切り
欠き部32は曲線状に形成されている。これにより、第
1実施の形態で説明した研磨パッド1よりは研磨に寄与
する研磨パッドの面積がやや少なくはなるが、スラリー
の排出はより円滑に行えるようになる。なお、研磨する
ときの研磨パッド3の回動方向は矢印方向である。
て、開口部31の幅w1と切り欠き部32の幅w2とを
同等の幅に形成してもよい。これにより、第3実施の形
態で説明した研磨パッド3よりは研磨に寄与する研磨パ
ッドの面積がやや少なくはなるが、スラリーの排出はよ
り円滑に行えるようになる。
の形態を、図4の平面図によって説明する。この研磨パ
ッドはベルト式の研磨装置に用いるもので、矩形状に形
成されている。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド4の
厚さ方向に貫通する開口部41として、例えば開口形状
が長方形のものが形成されている。この開口部41に
は、研磨パッド4の厚さ方向に貫通するもので研磨パッ
ド4の周外につながる切り欠き部42が、例えば開口部
41の幅w1より狭い幅w2でかつ開口部41の長手方
向に対して角度をつけて形成されている。ここでは切り
欠き部42は直線状に形成されている。これにより、ス
ラリーの排出がより円滑に行えるようになる。なお、研
磨するときの研磨パッド4の移動方向は矢印方向であ
る。
2は、前記第3実施の形態で説明した切り欠き部32の
ように曲線状に形成されたものであってもよい。
の形態を、図5の平面図によって説明する。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド5の
厚さ方向に貫通する複数の開口部51として、例えば3
つの円形状の開口部が形成されている。開口部11の形
成数は、3つに限定されることは無く2つであってもよ
く4つ以上であってもよい。
さ方向に貫通するもので研磨パッド5の周外につながる
切り欠き部52が、例えば開口部51の直径dより狭い
幅wでかつ研磨パッド5の外周の接線方向に対して角度
をつけて形成されている。ここでは切り欠き部52は直
線状に形成されているが、曲線状に形成されていてもよ
い。また切り欠き部52は開口部51の直径と同等なる
幅で形成されていてもよい。これにより、スラリーの排
出がより円滑に行えるようになる。なお、研磨するとき
の研磨パッド5の移動方向は矢印方向である。
の形態を、図6の平面図によって説明する。
点検出用の光を通過させるためのもので研磨パッド6の
厚さ方向に貫通する複数の開口部61として、例えば3
つの矩形形状の開口部61a、61b、61cが形成さ
れている。開口部11の形成数は、3つに限定されるこ
とは無く、2つであってもよく、4つ以上であってもよ
い。
1間を連通するもので研磨パッド6の厚さ方向に貫通す
る通路63(63a、63b)が形成されている。この
通路63は開口部61の幅よりも狭い幅で形成されてい
る。また研磨パッド6の最外周に位置する開口部61に
は、研磨パッド6の厚さ方向に貫通するもので研磨パッ
ド6の周外につながる切り欠き部62が、例えば開口部
61の幅w1より狭い幅w2で形成されている。ここで
は切り欠き部62は直線状に形成されているが、曲線状
に形成されていてもよい。また切り欠き部12は開口部
61の幅と同等なる幅で形成されていてもよい。これに
より、スラリーの排出がより円滑に行えるようになる。
なお、研磨するときの研磨パッド1の移動方向は矢印方
向である。
1,31,41,61は矩形状の開口部に限定されるこ
とはなく、円形状、多角形状、楕円形状等の種々の形状
を採用することができる。上記開口部51についても同
様に、矩形状、多角形状、楕円形状等の種々の形状を採
用することができる。
よび図8に示す概略構成斜視図により説明する。
に研磨パッドが接触し、相対的に摩擦運動することによ
り被研磨面を研磨する前記研磨パッド1〜4のうちの一
つを備えるものである。
装置101は、例えば矢印ア方向に回動自在な研磨定盤
111を備えている。この研磨定盤111は図示しない
回動駆動装置に接続された回転軸112を介して回動さ
れる。この研磨定盤111には、図示はしないが、終点
検出用の光を照射する光源および反射光を受光する受光
部が内蔵され、研磨定盤111の表示には光透性の窓
が、例えば透明なガラス、石英、もしくは樹脂で形成さ
れている。また、研磨定盤111上には、前記図1〜図
3および図5、図6によって説明した研磨パッド1〜3
および5、6のうちの一つが装着されている。ここでは
研磨パッド1を装着した。研磨パッド1は、研磨パッド
1に設けられた開口部(図示せず)が上記窓(図示せ
ず)上に配置されるように研磨定盤111に装着され
る。以下、研磨パッド1で説明する。装着方法は、一般
的な研磨パッドの装着方法、例えば粘着シート(粘着テ
ープも含む)もしくは粘着剤を用いる方法による。具体
的には、前記説明した方法による。
11に対向する位置、通常は研磨定盤111の回転中心
を外した位置に対向するように、研磨ヘッド115が備
えられている。この研磨ヘッド115は昇降自在に構成
されている。さらに、この研磨ヘッド115は図示しな
い回動駆動装置に接続された回転軸116を介して例え
ば矢印イ方向に回動される。また、この研磨ヘッド11
5の研磨定盤111に対向する面は、被研磨物301が
装着されるようになっている。被研磨物の装着方法は、
真空吸着、静電吸着、接着剤を用いた接着、粘着シート
を用いた接着等、種々の方法を採用することができる。
さらに、研磨定盤111の上方で研磨ヘッド115の近
傍には、研磨パッド1上に研磨スラリー131(便宜
上、矢印で示す)を供給するためのノズル121が備え
られている。そしてこの研磨スラリー131は、研磨定
盤111の回動とともに研磨パッド1と被加工物301
との間に入り込むように供給される。
る。一例として、上記第1の研磨装置101を用いて研
磨を行う方法を説明する。まず、研磨パッド1〜4のう
ちの所望の研磨パッドを研磨定盤111に装着する。ま
た研磨ヘッド115には被研磨物301を装着する。そ
の後、ノズル121より研磨スラリー131を研磨パッ
ド1上に供給するとともに、研磨定盤111を回動させ
る。また、研磨ヘッド115も回動させる。そして、所
望の加工圧力となるように、研磨パッド1に被研磨物3
01を接触させて、被研磨物301の被研磨面を研磨す
る。研磨条件の一例としては、例えばウエハ表面に形成
された銅膜を研磨する場合で説明する。研磨スラリー1
31には例えばアルミナ系スラリーを用い、加工圧力を
300g/cm2 、回転数を被研磨物(例えばウエハ)
に対する研磨パッドの周速度が60m/minになるよ
うに設定した。研磨スラリー131には、終点検出をし
やすくするために乳白色のものを用いることが好まし
い。研磨が終了した後は、被加工物301を研磨パッド
1より引き離し、研磨スラリー131の供給を停止する
とともに、研磨定盤111および研磨ヘッド115の回
動を停止する。その後、研磨ヘッド115より被加工物
301を脱着すればよい。なお、脱着前に被研磨物30
1の被研磨面を洗浄してもよい。
に研磨パッドが接触し、相対的に摩擦運動することによ
り被研磨面を研磨する前記研磨パッド4を備えるベルト
式の研磨装置である。研磨パッド4の切り欠き形状は、
前記図1〜3および図5、6で説明した切り欠き形状の
いずれでもよい。
装置201は、平行に配置された回動自在なローラ21
1,212を備え、これらローラ211,212に巻装
されるベルト式の前記図4によって説明した研磨パッド
4を備えている。この研磨パッド4は、上記ローラ21
1,212によって撓みのないように張られている。ま
た、上記ローラ211,212間には、研磨パッドが内
側に撓むのを防止するもので、すなわち研磨パッドを内
側より研磨ヘッド215方向に支えるもので、研磨パッ
ドが摺動自在となるガイド(図示せず)を設けることが
好ましい。また上記ローラ211,212の少なくとも
いずれか一方は、回動駆動装置により例えば矢印カ方向
に回動される。それによって、研磨パッド4は矢印キ方
向に回動する。さらにローラ211,212間には、図
示はしないが、終点検出用の光を照射する光源および反
射光を受光する受光部が、回転する研磨パッド4に設け
られた開口部(図示せず)が上方を通るように設置され
ている。
に、研磨ヘッド215が備えられている。この研磨ヘッ
ド215は昇降自在に構成されている。さらに、この研
磨ヘッド215は図示しない回動駆動装置に接続された
回転軸216を介して回動される。また、この研磨ヘッ
ド215の研磨パッド4に対向する面は、被研磨物30
1が装着されるようになっている。被研磨物301の装
着方法は、真空吸着、静電吸着、接着剤を用いた接着、
粘着シートを用いた接着等、種々の方法を採用すること
ができる。さらに、研磨パッド4の上方で研磨ヘッド2
15の近傍には、研磨パッド4上に研磨スラリー231
を供給するためのノズル221が備えられている。そし
てこの研磨スラリー231は、研磨定盤111の回動と
ともに研磨パッド4と被加工物301との間に入り込む
ように供給される。
る。一例として、上記第2の研磨装置201を用いて研
磨を行う方法を説明する。ローラ211,212には研
磨パッド4を装着する。一方、研磨ヘッド115には被
研磨物301を装着する。その後、ノズル121より研
磨スラリーを研磨パッド4上に供給するとともに、ロー
ラ211,212を回動させることにより研磨パッド4
を回動させる。また、研磨ヘッド115も回動させる。
そして、所望の加工圧力となるように、研磨パッド4に
被研磨物301を接触させて、被研磨物301の被研磨
面を研磨する。研磨スラリーにはアルミナ系スラリーを
用い、加工圧力を300g/cm2 、回転数を被研磨物
(例えばウエハ)に対する研磨パッドの周速度が60m
/minになるように設定した。研磨スラリーには、終
点検出をしやすくするために乳白色のものを用いること
が好ましい。研磨が終了した後は、被加工物301を研
磨パッド4より引き離し、研磨スラリーの供給を停止す
るとともに、研磨パッド4(ローラ211,212)お
よび研磨ヘッド115の回動を停止する。その後、研磨
ヘッド115より被加工物301を脱着すればよい。な
お、脱着前に被研磨物301の被研磨面を洗浄してもよ
い。
磨条件は、研磨対象に応じて適宜変更することができ
る。また、従来から用いられている研磨条件を用いるこ
ともできる。
ドによれば、終点検出用の光を通過させるためのもので
研磨パッドの厚さ方向に貫通する開口部と、開口部から
研磨パッドの周外へつながる切り欠き部とを有するの
で、研磨パッド表面より開口部に落ちたスラリーを、切
り欠き部を通して研磨パッドの周外へ排出することがで
きる。したがって、スラリーによる光の減衰が少ない研
磨パッドを提供できる。また研磨パッドに窓を形成する
必要がないため、研磨パッドの製造コストが低減でき、
研磨パッドを安価に提供できる。
製造コストを安価にできる本発明の研磨パッドが装着さ
れていることから、研磨装置の運用費用を低減すること
ができるとともに、本発明の研磨パッドの作用効果を得
ることができる。
製造コストを安価にできる本発明の研磨パッドを用いる
ことから、研磨コストを低減することができるととも
に、本発明の研磨パッドの作用効果を得ることができ
る。
す平面図およびA−A’線断面図である。
す平面図およびB−B’線断面図である。
す平面図およびC−C’線断面図である。
す平面図である。
す平面図である。
す平面図である。
す概略構成斜視図である。
概略構成斜視図である。
よびX−X’線断面図である。
およびY−Y’線断面図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 被研磨物を研磨する研磨パッドにおい
て、 前記研磨パッドを貫通する光路となるもので前記研磨パ
ッドの厚さ方向に貫通する開口部と、 前記開口部から前記研磨パッドの周外へつながるもので
研磨パッドの厚さ方向に貫通する切り欠き部とを有する
ことを特徴とする研磨パッド。 - 【請求項2】 前記開口部は複数設けられ、 前記開口部のそれぞれに対応して前記切り欠き部が形成
されていることを特徴とする請求項1記載の研磨パッ
ド。 - 【請求項3】 前記開口部は複数設けられ、 前記各開口部は前記研磨パッドを厚さ方向に貫通する通
路によって連通され、 前記切り欠き部は最外部の開口部に連続して形成されて
いることを特徴とする請求項1記載の研磨パッド。 - 【請求項4】 被研磨材料の被研磨面に研磨パッドが接
触し、 相対的に摩擦運動することにより被研磨面を研磨する研
磨装置において、 前記研磨パッドは、 前記研磨パッドを貫通する光路となるもので前記研磨パ
ッドの厚さ方向に貫通する開口部と、 前記開口部から前記研磨パッドの周外へつながるもので
研磨パッドの厚さ方向に貫通する切り欠き部とを有する
ことを特徴とする研磨装置。 - 【請求項5】 前記開口部は複数設けられ、 前記開口部のそれぞれに対応して前記切り欠き部が形成
されていることを特徴とする請求項4記載の研磨装置。 - 【請求項6】 前記開口部は複数設けられ、 前記各開口部は前記研磨パッドを厚さ方向に貫通する通
路によって連通され、 前記切り欠き部は最外部の開口部に連続して形成されて
いることを特徴とする請求項4記載の研磨装置。 - 【請求項7】 被研磨材料の被研磨面に研磨パッドが接
触し、 被研磨面と研磨パッドとが相対的に摩擦運動することに
より被研磨面を研磨する研磨方法において、 前記研磨パッドは、 前記研磨パッドを貫通する光路となるもので前記研磨パ
ッドの厚さ方向に貫通する開口部と、 前記開口部から前記研磨パッドの周外へつながるもので
研磨パッドの厚さ方向に貫通する切り欠き部とを有する
ことを特徴とする研磨方法。 - 【請求項8】 前記開口部は複数設けられ、 前記開口部のそれぞれに対応して前記切り欠き部が形成
されていることを特徴とする請求項7記載の研磨方法。 - 【請求項9】 前記開口部は複数設けられ、 前記各開口部は前記研磨パッドを厚さ方向に貫通する通
路によって連通され、 前記切り欠き部は最外部の開口部に連続して形成されて
いることを特徴とする請求項7記載の研磨方法。
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