JP5167010B2 - 研磨終点検知方法および研磨装置 - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記光を受光する角度は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記受光した光の強度は、前記膜の表面で反射する光と、前記凹凸構造の凸部で反射する光とが干渉した光の強度であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記光の入射角は、前記凹凸構造の凹部のアスペクト比から決定される基準角度よりも大きいことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板に同じ方向から光を繰り返し照射することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、互いに垂直な2つの方向から光を前記基板に照射することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、受光した光を波長に従って分解し、所定の波長での光の強度を監視し、前記光の強度があらかじめ決められた値に達したときに研磨終点に達したと判断することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、受光した光を波長に従って分解してスペクトルを生成し、前記スペクトルに基づいて前記膜の厚さを判断することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点検知方法は、前記基板の向きを検出する工程をさらに含み、前記凹部はトレンチであり、該トレンチの延びる方向に対して略垂直な方向から前記光を照射することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記受光部が光を受光する角度は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記投光部は、前記基板の表面に異なる角度で光を照射する複数の投光部であり、前記複数の投光部から選択された少なくとも1つの投光部から光を前記基板の表面に照射することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記選択された少なくとも1つの投光部は、前記凹凸構造の凹部の底面に光が直接当たらない角度で光を照射することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記受光部は、異なる角度で光を受光する複数の受光部であり、前記複数の受光部から選択された少なくとも1つの受光部で光を受光することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記選択された少なくとも1つの受光部は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度で光を受光することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記受光部は、前記基板の表面での光の反射角と実質的に等しい角度で光を受光することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記トップリングと前記研磨テーブルの回転位置を検知する手段をさらに備え、前記判定部は、前記基板に同じ方向から光が照射されたときに受光した光の強度に基づいて研磨終点を判断する。
本発明の好ましい態様は、前記光伝送部および前記受光部は、第1の方向に沿って配列された第1の光伝送部および第1の受光部と、前記第1の方向と垂直な第2の方向に沿って配列された第2の光伝送部および第2の受光部とを有することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点検知装置は、受光した光を波長に従って分解してスペクトルを生成する分光器をさらに有し、前記判定部は、前記スペクトルに基づいて前記膜の厚さを判断することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記トップリングは、基板の複数の領域を独立に押圧する複数の押圧機構を有し、前記研磨装置は、前記膜の厚さに基づいて前記複数の押圧機構の押圧力を独立に制御する研磨制御部をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨装置は、前記基板の向きを検出する機構をさらに備え、前記凹部はトレンチであり、前記投光部は前記トレンチの延びる方向に対して略垂直な方向から前記光を照射することを特徴とする。
図2は、本発明に係る研磨終点検出方法の原理を説明するための図である。図2に示すように、ウェハの表面には凹凸構造を有する第1の膜5が形成され、その上には光透過性のある第2の膜6が形成されている。ウェハの表面に対向するように投光部11および受光部12が配置されている。第2の膜6と投光部11および受光部12との間の空間は、媒質としての水で満たされている。なお、媒質は空気であってもよい。
X(t)=ρλ1(t)/(ρλ1(t)+ρλ2(t))
ここで、ρは反射強度、tは研磨時間を表す。
なお、異なる角度で光を受光する受光部の他の例として、ラインセンサやCCDセンサなどの、複数の受光素子が平面内に配置されたイメージセンサを用いることができる。この場合、イメージセンサを選択器45の代わりに設置してもよく、またはイメージセンサを光ファイバー12A,12B,12Cの代わりに光ファイバー41に対向するように設置してもよい。
12 受光部
13 分光器
14 演算部
15 判定部
20 研磨テーブル
22 研磨パッド
24 トップリング
25 研磨液供給ノズル
28 トップリングシャフト
30 孔
31 通孔
32 ロータリージョイント
33 液体供給路
34 液体排出路
35 液体供給源
40 光源
41 光ファイバー
42 保護ケース
45 研磨制御部
45 選択器
50 自由継手
51 トップリング本体
52 リテーナリング
53 弾性パッド
54 チャッキングプレート
56〜60 流体路
61 圧力調整部
65,66 センタターゲット
67,68 近接センサ
P1,P2,P3,P4,P5 圧力室
Claims (19)
- 凹凸構造の上に形成された光透過性のある膜を有する基板の研磨終点検知方法であって、
前記基板の表面に対して斜めに光を照射し、
前記基板から戻ってくる光を受光し、
受光した光の強度に基づいて前記膜の研磨終点を判断し、
前記光の入射角は、前記凹凸構造の凹部の底面に光が直接当たらない角度であることを特徴とする研磨終点検知方法。 - 前記光を受光する角度は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度であることを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。
- 前記基板の表面での光の反射角と実質的に等しい角度で光を受光することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。
- 前記光の入射角は、前記凹凸構造の凹部のアスペクト比から決定される基準角度よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。
- 互いに垂直な2つの方向から光を前記基板に照射することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。
- 受光した光を波長に従って分解し、
所定の波長での光の強度を監視し、
前記光の強度があらかじめ決められた値に達したときに研磨終点に達したと判断することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。 - 受光した光を波長に従って分解してスペクトルを生成し、
前記スペクトルに基づいて前記膜の厚さを判断することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。 - 前記研磨終点検知方法は、前記基板の向きを検出する工程をさらに含み、
前記凹部はトレンチであり、該トレンチの延びる方向に対して略垂直な方向から前記光を照射することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検知方法。 - 凹凸構造の上に形成された光透過性のある膜を有する基板を研磨する研磨装置であって、
研磨パッドを保持する回転可能な研磨テーブルと、
基板を回転させながら前記研磨パッドに押し付けるトップリングと、
研磨終点を検知する研磨終点検知装置とを備え、
前記研磨終点検知装置は、
前記基板の表面に対して斜めに光を照射する投光部と、
前記基板から戻ってくる光を受光する受光部と、
受光した光の強度に基づいて前記膜の研磨終点を判断する判定部とを有し、
前記光の入射角は、前記凹凸構造の凹部の底面に光が直接当たらない角度であることを特徴とする研磨装置。 - 前記受光部が光を受光する角度は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度であることを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。
- 前記投光部は、前記基板の表面に異なる角度で光を照射する複数の投光部であり、前記複数の投光部から選択された少なくとも1つの投光部から光を前記基板の表面に照射し、
前記選択された少なくとも1つの投光部は、前記凹凸構造の凹部の底面に光が直接当たらない角度で光を照射することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。 - 前記受光部は、異なる角度で光を受光する複数の受光部であり、前記複数の受光部から選択された少なくとも1つの受光部で光を受光し、
前記選択された少なくとも1つの受光部は、前記凹凸構造の凹部の底面で反射する光を直接受光しない角度で光を受光することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。 - 前記受光部は、前記基板の表面での光の反射角と実質的に等しい角度で光を受光することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。
- 前記トップリングと前記研磨テーブルの回転位置を検知する手段をさらに備え、
前記判定部は、前記基板に同じ方向から光が照射されたときに受光した光の強度に基づいて研磨終点を判断することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。 - 前記投光部および前記受光部は、第1の方向に沿って配列された第1の光伝送部および第1の受光部と、前記第1の方向と垂直な第2の方向に沿って配列された第2の光伝送部および第2の受光部とを有することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。
- 前記研磨終点検知装置は、受光した光を波長に従って分解する分光器をさらに有し、
前記判定部は、所定の波長での光の強度を監視し、前記光の強度があらかじめ決められた値に達したときに研磨終点に達したと判断することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。 - 前記研磨終点検知装置は、受光した光を波長に従って分解してスペクトルを生成する分光器をさらに有し、
前記判定部は、前記スペクトルに基づいて前記膜の厚さを判断することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。 - 前記トップリングは、基板の複数の領域を独立に押圧する複数の押圧機構を有し、
前記研磨装置は、前記膜の厚さに基づいて前記複数の押圧機構の押圧力を独立に制御する研磨制御部をさらに備えたことを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。 - 前記研磨装置は、前記基板の向きを検出する機構をさらに備え、
前記凹部はトレンチであり、前記投光部は前記トレンチの延びる方向に対して略垂直な方向から前記光を照射することを特徴とする請求項9に記載の研磨装置。
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