JP2003300023A - Cleaning apparatus - Google Patents

Cleaning apparatus

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JP2003300023A
JP2003300023A JP2002109220A JP2002109220A JP2003300023A JP 2003300023 A JP2003300023 A JP 2003300023A JP 2002109220 A JP2002109220 A JP 2002109220A JP 2002109220 A JP2002109220 A JP 2002109220A JP 2003300023 A JP2003300023 A JP 2003300023A
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JP
Japan
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cleaning
glass substrate
cleaning liquid
cleaned
pressure jet
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Application number
JP2002109220A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Arikawa
和彦 有川
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning apparatus which can prevent the particles once removed from the top surface of a glass substrate from being stuck again to the top surface of the glass substrate. <P>SOLUTION: A box unit 29 provided with a high-pressure jet injector 2 and vacuum nozzles 3, 3 is arranged in a high-pressure jet cleaning part 24 of this substrate cleaning apparatus. Receiving parts 29b of the unit 29 and the nozzles 3, 3 are arranged on the upstream and downstream sides of the injector 2 in the substrate conveying direction, respectively. The particles on the top surface of the glass substrate 1 are removed by a cleaning liquid jetted from the injector 2. The cleaning liquid containing the particles is made to flush into any of the parts 29b of the unit 29 by the injection from the injector 2, which is then sucked by the nozzles 3, 3 and removed from the part 24. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体用基板、液
晶表示パネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板
等の基板を被洗浄物として洗浄する際に用いられる洗浄
装置に係る。特に、本発明は、被洗浄物から除去された
パーティクルの再付着を防止するための対策に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device used for cleaning a substrate such as a semiconductor substrate, a liquid crystal display panel glass substrate, a photomask glass substrate or the like as an article to be cleaned. In particular, the present invention relates to measures for preventing re-adhesion of particles removed from an object to be cleaned.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体用基板や液晶表示パネ
ル用ガラス基板等に対する表面洗浄処理として、基板の
上面に付着したパーティクル等の汚れを除去する洗浄工
程が知られている。この洗浄工程としては、シャワー洗
浄、高圧ジェット洗浄、超音波洗浄、スクラブ洗浄等の
手段が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a surface cleaning process for a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display panel, etc., a cleaning process for removing dirt such as particles adhering to the upper surface of the substrate has been known. As the cleaning process, shower cleaning, high-pressure jet cleaning, ultrasonic cleaning, scrub cleaning, and the like are used.

【0003】ガラス基板の洗浄の一つとして液晶表示パ
ネル用ガラス基板を洗浄するための装置の概略構成を図
5に示す。この図に示すように、洗浄装置は、ガラス基
板(被洗浄物)1を収めるカセット28aを収容したロ
ーダ21、洗浄用のブラシ10を備えたスクラブ洗浄部
22、超音波発振器11及び洗浄液供給ノズル12を備
えた超音波洗浄部23、高圧ジェット噴射器2を備えた
高圧ジェット洗浄部24、エアナイフ13等によって洗
浄液を除去して基板表面を乾燥させる乾燥部25、洗浄
が完了したガラス基板1を収めるカセット28bを収容
したアンローダ26を備えている。また、上記ローダ2
1とアンローダ26との間には複数のローラ27,2
7,…が配設されており、このローラ27,27,…に
よってガラス基板1を水平方向に搬送するよう構成され
ている。
FIG. 5 shows a schematic configuration of an apparatus for cleaning a glass substrate for a liquid crystal display panel as one of cleaning the glass substrate. As shown in this figure, the cleaning apparatus includes a loader 21 that accommodates a cassette 28a that accommodates a glass substrate (object to be cleaned) 1, a scrub cleaning unit 22 that includes a cleaning brush 10, an ultrasonic oscillator 11, and a cleaning liquid supply nozzle. The ultrasonic cleaning unit 23 including 12; the high pressure jet cleaning unit 24 including the high pressure jet injector 2; the drying unit 25 that removes the cleaning liquid by the air knife 13 and the like to dry the substrate surface; and the cleaned glass substrate 1 An unloader 26 accommodating a cassette 28b for accommodating is provided. Also, the loader 2
1 and the unloader 26 are provided with a plurality of rollers 27, 2
Are provided, and the glass substrate 1 is configured to be conveyed in the horizontal direction by the rollers 27, 27 ,.

【0004】この洗浄装置による洗浄動作としては、先
ず、ローダ21より投入されたガラス基板1が、ブラシ
10による洗浄を行うためにスクラブ洗浄部22に搬送
され、上下に設けられた回転するブラシ10に洗浄液を
かけながら、このブラシ10がガラス基板1に押し当て
られてガラス基板1の表裏の洗浄が行われる。次に、超
音波洗浄部23において、ガラス基板1の搬送方向と直
交する方向(図中上下方向)に所定間隔を存して設けら
れた超音波発振器11と洗浄液供給ノズル12との間の
隙間にガラス基板1が搬送され、超音波洗浄により3μ
m以上のサイズのパーティクルの除去が行われる。次
に、高圧ジェット洗浄部24において、高圧力を加えた
洗浄液をガラス基板1上面に吹き付ける高圧ジェット噴
射器2による洗浄を行い、ガラス基板1の上面に付着し
た3μm以下のサイズのパーティクルの除去が行われ
る。続いて、ガラス基板1は、乾燥部25に搬送され、
エアナイフ13等による基板表面の乾燥が行われて、乾
燥後にアンローダ26のカセット28bに収容され、一
連の洗浄工程が終了する。
In the cleaning operation of this cleaning device, first, the glass substrate 1 loaded from the loader 21 is conveyed to the scrubbing cleaning section 22 for cleaning by the brush 10, and the rotating brushes 10 provided above and below are rotated. The brush 10 is pressed against the glass substrate 1 while applying the cleaning liquid to the glass substrate 1 to clean the front and back surfaces of the glass substrate 1. Next, in the ultrasonic cleaning section 23, a gap between the ultrasonic oscillator 11 and the cleaning liquid supply nozzle 12 which are provided at a predetermined interval in the direction orthogonal to the transport direction of the glass substrate 1 (vertical direction in the drawing). Glass substrate 1 is transferred to the
Particles having a size of m or more are removed. Next, in the high-pressure jet cleaning unit 24, cleaning is performed by the high-pressure jet injector 2 that sprays a cleaning liquid under high pressure onto the upper surface of the glass substrate 1 to remove particles having a size of 3 μm or less attached to the upper surface of the glass substrate 1. Done. Then, the glass substrate 1 is conveyed to the drying unit 25,
The substrate surface is dried by the air knife 13 and the like, and after drying, the substrate is housed in the cassette 28b of the unloader 26, and a series of cleaning steps is completed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した如く、高圧ジ
ェット洗浄部24においては、高圧力を加えた洗浄液を
高圧ジェット噴射器2のノズル4(図6参照)からガラ
ス基板1に向けて吹き付けることにより、3μm以下の
サイズのパーティクルはガラス基板1の表面から一旦は
取り除かれる。ところが、このパーティクルはガラス基
板1の上面に溜まった洗浄液の中を浮遊した状態とな
る。
As described above, in the high pressure jet cleaning section 24, the cleaning liquid to which high pressure is applied is sprayed from the nozzle 4 (see FIG. 6) of the high pressure jet injector 2 toward the glass substrate 1. Thus, particles with a size of 3 μm or less are temporarily removed from the surface of the glass substrate 1. However, the particles are suspended in the cleaning liquid collected on the upper surface of the glass substrate 1.

【0006】この状態を図6の高圧ジェット洗浄部24
の詳細図を用いて説明すると、ガラス基板1は水平方向
に搬送されることから、高圧ジェット噴射器2のノズル
4から吹き付けられて搬送方向の上流側(図中の右側)
に溜まった洗浄液Aについては、ガラス基板1の搬送に
伴って洗浄除去が行われるため、特に問題にはならな
い。ところが、高圧ジェット噴射器2より搬送方向の下
流側(図中の左側)に流れた洗浄液Bは、そのままガラ
ス基板1の上面を流れ、その洗浄液中のパーティクルの
一部がガラス基板1の上面に再付着する可能性がある。
また、高圧ジェット噴射器2の噴射動作に伴ってガラス
基板1の周辺に飛び散った洗浄液が洗浄槽内壁に付着
し、それが液滴となってガラス基板1の上面に滴下して
しまい、再びガラス基板1の上面を汚してしまう原因と
なる。
In this state, the high pressure jet cleaning unit 24 shown in FIG.
The glass substrate 1 is transported in the horizontal direction, so that the glass substrate 1 is sprayed from the nozzle 4 of the high-pressure jet injector 2 to the upstream side (the right side in the figure) in the transport direction.
Since the cleaning liquid A accumulated in (1) is cleaned and removed as the glass substrate 1 is conveyed, there is no particular problem. However, the cleaning liquid B that has flowed to the downstream side (the left side in the drawing) in the transport direction from the high-pressure jet injector 2 flows on the upper surface of the glass substrate 1 as it is, and some of the particles in the cleaning liquid are on the upper surface of the glass substrate 1. There is a possibility of redeposition.
In addition, the cleaning liquid scattered around the glass substrate 1 due to the jetting operation of the high-pressure jet injector 2 adheres to the inner wall of the cleaning tank and becomes droplets, which are dropped on the upper surface of the glass substrate 1 and again This will cause the top surface of the substrate 1 to become dirty.

【0007】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、ガラス基板(被洗浄
物)の上面から一旦取り除いたパーティクルが、ガラス
基板の上面に再付着することを防止できる洗浄装置を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is that particles once removed from the upper surface of a glass substrate (object to be cleaned) are reattached to the upper surface of the glass substrate. An object of the present invention is to provide a cleaning device capable of preventing the above.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】−発明の概要−上記の目
的を達成するために、本発明は、洗浄液を被洗浄物に吹
き付けることによってこの被洗浄物上のパーティクルを
除去した後、この除去後のパーティクルを含んでいる洗
浄液を被洗浄物の搬送方向の上流側及び下流側の少なく
とも一方に設けた受け部に溜めて吸引して排除すること
により、パーティクルの再付着を防止するようにしてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention removes particles on an object to be cleaned by spraying a cleaning liquid on the object to be cleaned, and then removing the particles. The cleaning liquid containing the subsequent particles is collected in the receiving portion provided on at least one of the upstream side and the downstream side in the transport direction of the object to be cleaned, sucked and removed to prevent reattachment of particles. There is.

【0009】−解決手段−具体的には、被洗浄物の上面
に対して洗浄液を吹き付けて洗浄を行う洗浄装置を前提
とする。この洗浄装置に対し、被洗浄物の搬送方向の上
流側及び下流側の少なくとも一方に設けた受け部に溜め
た洗浄液を吸引して排除する洗浄液吸引手段(バキュー
ムノズルを有する)を備えさせている。
-Solution means-Specifically, it is premised on a cleaning device for spraying a cleaning liquid onto the upper surface of the object to be cleaned. This cleaning device is provided with cleaning liquid suction means (having a vacuum nozzle) for sucking and removing the cleaning liquid stored in the receiving portion provided on at least one of the upstream side and the downstream side in the conveying direction of the object to be cleaned. .

【0010】より具体的には、被洗浄物の上面に対して
洗浄液を吹き付ける高圧ジェット噴射器(吹き付け用ノ
ズルを有する)を備えさせると共に、洗浄液吸引手段に
バキュームノズルを備えさせ、高圧ジェット噴射器及び
バキュームノズルを一つの筐体内に配置している。
More specifically, a high pressure jet injector (having a spraying nozzle) for spraying a cleaning liquid onto the upper surface of the object to be cleaned is provided, and a cleaning liquid suction means is provided with a vacuum nozzle, and a high pressure jet injector is provided. And the vacuum nozzle is arranged in one housing.

【0011】そして、被洗浄物を水平方向に搬送しなが
ら高圧ジェット噴射器から被洗浄物の上面に対して洗浄
液を吹き付け、被洗浄物上面から勢い良く流れた洗浄液
を筐体内に設けた受け部に溜め、受け部に溜めた洗浄液
をバキュームノズルによって吸引するよう構成してい
る。
Then, the cleaning liquid is sprayed from the high-pressure jet injector onto the upper surface of the cleaning object while conveying the cleaning object in the horizontal direction, and the cleaning liquid that vigorously flows from the upper surface of the cleaning object is provided in the housing. The vacuum nozzle collects the cleaning liquid stored in the receiving part.

【0012】この特定事項により、高圧ジェット噴射器
から吹き付けられる洗浄液により、被洗浄物の上面のパ
ーティクル(例えば3μm以下のサイズのパーティク
ル)は除去される。この除去されたパーティクルを含ん
でいる洗浄液は高圧ジェット噴射器の圧力で筐体内に設
けられた受け部に滞留することになるが、この受け部に
溜まった洗浄液はパーティクルと共にバキュームノズル
によって吸引される。このため、一旦除去したパーティ
クルが被洗浄物上に再付着することが防止できる。
According to this specific matter, particles (for example, particles having a size of 3 μm or less) on the upper surface of the object to be cleaned are removed by the cleaning liquid sprayed from the high pressure jet injector. The cleaning liquid containing the removed particles will stay in the receiving portion provided in the housing due to the pressure of the high-pressure jet injector, and the cleaning liquid accumulated in the receiving portion will be sucked by the vacuum nozzle together with the particles. . Therefore, it is possible to prevent the once removed particles from reattaching to the object to be cleaned.

【0013】また、上記受け部には、一旦溜めた洗浄液
が逆流し被洗浄物側に流れないように突起を設けてい
る。
Further, the receiving portion is provided with a protrusion so that the cleaning liquid once stored does not flow back and flow toward the object to be cleaned.

【0014】更に、上記高圧ジェット噴射器とバキュー
ムノズル及び受け部は、被洗浄物の搬送方向に略直交す
る被洗浄物幅方向に延設されていると共に、これらの長
さ寸法は、被洗浄物幅方向の両端に亘る寸法以上に設定
されている。これによれば、被洗浄物の幅方向の全体に
亘って均一に洗浄液を吹き付け、勢い良く流れた洗浄液
を受け部に溜めて、バキュームノズルで吸引してパーテ
ィクルを排除することができ、パーティクルの再付着を
被洗浄物上の全体に亘って防止することができる。尚、
上記バキュームノズル及び受け部は、高圧ジェット噴射
器の配設位置に対して、被洗浄物の搬送方向の上流側及
び下流側の両方に設けられている。高圧ジェット噴射器
から吹き付けられた洗浄液は、その吹き付け位置から上
記搬送方向の上流側及び下流側の両方に広がるように流
れることになる。この場合、本解決手段によれば、上流
側及び下流側の両方の洗浄液を受け部に溜めてバキュー
ムノズルによって吸引することができ、パーティクルの
被洗浄物上への再付着をより確実に回避することができ
る。
Further, the high-pressure jet injector, the vacuum nozzle, and the receiving portion are extended in the width direction of the object to be cleaned which is substantially orthogonal to the conveying direction of the object to be cleaned, and the lengths of these parts are different from each other. It is set to be equal to or larger than the dimension across both ends in the object width direction. According to this, the cleaning liquid is uniformly sprayed over the entire width direction of the object to be cleaned, the cleaning liquid flowing vigorously is stored in the receiving portion, and it is possible to remove particles by sucking with the vacuum nozzle. Redeposition can be prevented over the entire object to be cleaned. still,
The vacuum nozzle and the receiving portion are provided on both the upstream side and the downstream side in the conveyance direction of the object to be cleaned with respect to the position where the high pressure jet injector is disposed. The cleaning liquid sprayed from the high-pressure jet injector flows so as to spread from the spraying position to both the upstream side and the downstream side in the transport direction. In this case, according to the present solving means, both the upstream side and the downstream side cleaning liquid can be collected in the receiving portion and sucked by the vacuum nozzle, and the redeposition of particles on the object to be cleaned can be more reliably avoided. be able to.

【0015】加えて、一つの筐体内に全て収納すること
により、高圧ジェット噴射器から被洗浄物の上面に対し
て吹き付けられた洗浄液が周囲に飛び散ることを防止す
るカバーの役目を果たすことから、高圧ジェット噴射器
の噴射動作に伴って被洗浄物の周辺に飛び散った洗浄液
が洗浄槽内壁等に付着し、それが液滴となって被洗浄物
上に滴下してパーティクルが再付着するといった状況を
回避することができる。
In addition, since the cleaning liquid sprayed from the high-pressure jet injector onto the upper surface of the object to be cleaned is prevented from being scattered around by accommodating all of them in one housing, The situation where the cleaning liquid scattered around the object to be cleaned adheres to the inner wall of the cleaning tank due to the jetting operation of the high-pressure jet injector, and it becomes droplets that drop on the object to be cleaned and particles reattach. Can be avoided.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1は本形態に係る洗浄装置の概略構成を
示す側面図、図2は装置内の高圧ジェット洗浄部24を
示す側面図、図3は高圧ジェット洗浄部24を示す平面
図、図4は高圧ジェット洗浄部24の斜視図である。
FIG. 1 is a side view showing a schematic structure of a cleaning apparatus according to this embodiment, FIG. 2 is a side view showing a high-pressure jet cleaning section 24 in the apparatus, and FIG. 3 is a plan view showing the high-pressure jet cleaning section 24. 4 is a perspective view of the high-pressure jet cleaning unit 24.

【0018】これら図に示すように、洗浄装置は、ガラ
ス基板(被洗浄物)1を収めるカセット28aを収容し
たローダ21、洗浄用のブラシ10を備えたスクラブ洗
浄部22、超音波発振器11及び洗浄液供給ノズル12
を備えた超音波洗浄部23、高圧ジェット洗浄部24、
エアナイフ13等によって洗浄液を除去して基板表面を
乾燥させる乾燥部25、洗浄が完了したガラス基板1を
収めるカセット28bを収容したアンローダ26を備え
ている。また、上記ローダ21とアンローダ26との間
には複数のローラ27,27,…が配設されており、こ
のローラ27,27,…によってガラス基板1を水平方
向に搬送するよう構成されている。
As shown in these drawings, the cleaning apparatus includes a loader 21 containing a cassette 28a for containing a glass substrate (object to be cleaned) 1, a scrubbing cleaning section 22 provided with a cleaning brush 10, an ultrasonic oscillator 11 and Cleaning liquid supply nozzle 12
An ultrasonic cleaning unit 23, a high pressure jet cleaning unit 24,
A drying unit 25 that removes the cleaning liquid by the air knife 13 and the like to dry the substrate surface, and an unloader 26 that accommodates a cassette 28b that accommodates the cleaned glass substrate 1 are provided. Further, a plurality of rollers 27, 27, ... Are arranged between the loader 21 and the unloader 26, and the rollers 27, 27 ,. .

【0019】本形態の特徴として、高圧ジェット洗浄部
24は、筐体29内に収納され、バキュームノズル3,
3が備えられている。この筐体29の底板の一部には高
圧ジェット噴射器2よりも若干大きめな開口部が設けら
れており、更に、底板には突起部29a,29aが設け
られ、洗浄液を溜める受け部29b,29b、飛び跳ね
た洗浄液を受け部29bに落とす為の受けカバー29
c,29cを形成している。尚、筐体29は軽量化を図
るため、透明PVCを使用している。
A feature of this embodiment is that the high-pressure jet cleaning unit 24 is housed in a casing 29, and the vacuum nozzle 3,
3 is provided. An opening that is slightly larger than the high-pressure jet injector 2 is provided in a part of the bottom plate of the housing 29. Further, the bottom plate is provided with protrusions 29a, 29a, and a receiving portion 29b for accumulating the cleaning liquid, 29b, a receiving cover 29 for dropping the splashed cleaning liquid on the receiving portion 29b.
c, 29c are formed. In addition, in order to reduce the weight of the housing 29, transparent PVC is used.

【0020】次に、バキュームノズル3は、高圧ジェッ
ト噴射器2に対してガラス基板搬送方向の上流側及び下
流側であって、この高圧ジェット噴射器2の近傍で筐体
29内に配置されている。また、このバキュームノズル
3は下向きに開放する吸引口を備えており、この吸引口
が、筐体29内に設けられた洗浄液の受け部29bの上
面に近接して対向するようになっている。つまり、この
バキュームノズル3の駆動により吸引口に負圧が発生
し、受け部29bに溜まった洗浄液を吸引する構成とな
っている。
Next, the vacuum nozzle 3 is arranged in the casing 29 in the vicinity of the high pressure jet injector 2 on the upstream side and the downstream side in the glass substrate transport direction with respect to the high pressure jet injector 2. There is. Further, the vacuum nozzle 3 has a suction port that opens downward, and the suction port is arranged so as to closely face and face the upper surface of the cleaning liquid receiving portion 29b provided in the housing 29. That is, a negative pressure is generated in the suction port by driving the vacuum nozzle 3, and the cleaning liquid accumulated in the receiving portion 29b is sucked.

【0021】この洗浄装置による洗浄動作としては、先
ず、ローダ21より投入されたガラス基板1が、ブラシ
10による洗浄を行うためにスクラブ洗浄部22に搬送
され、上下に設けられた回転するブラシ10に洗浄液を
かけながら、このブラシ10がガラス基板1に押し当て
られてガラス基板1の表裏の洗浄が行われる。次に、超
音波洗浄部23において、ガラス基板1の搬送方向と直
交する方向(図中上下方向)に所定間隔を存して設けら
れた超音波発振器11と洗浄液供給ノズル12との間の
隙間にガラス基板1が搬送され、超音波洗浄により3μ
m以上のサイズのパーティクルの除去が行われる。
In the cleaning operation by this cleaning device, first, the glass substrate 1 loaded from the loader 21 is conveyed to the scrub cleaning section 22 for cleaning by the brush 10, and the rotating brush 10 provided above and below is rotated. The brush 10 is pressed against the glass substrate 1 while applying the cleaning liquid to the glass substrate 1 to clean the front and back surfaces of the glass substrate 1. Next, in the ultrasonic cleaning section 23, a gap between the ultrasonic oscillator 11 and the cleaning liquid supply nozzle 12 which are provided at a predetermined interval in the direction orthogonal to the transport direction of the glass substrate 1 (vertical direction in the drawing). Glass substrate 1 is transferred to the
Particles having a size of m or more are removed.

【0022】次に、高圧ジェット洗浄部24において、
高圧力を加えた洗浄液をガラス基板1上面に対して垂直
方向からノズル4より吹き付ける高圧ジェット噴射器2
による洗浄を行い、この高圧力を加えた洗浄液を霧化さ
せた状態で噴射することにより、3μm以下のサイズの
パーティクルの除去が行われる。この洗浄を行うことに
よりガラス基板1の上面から、パーティクルは取り除か
れるものの、取り除かれたパーティクルは洗浄後の洗浄
液の中に浮遊している。そのため、ガラス基板1の上面
の高圧ジェット噴射器2に対して、搬送方向の前後に溜
まった洗浄液の中には除去したパーティクルが浮遊した
状態でガラス基板1の上面に接している。
Next, in the high pressure jet cleaning section 24,
A high-pressure jet injector 2 which sprays a high-pressure cleaning liquid from a nozzle 4 in a direction perpendicular to the upper surface of the glass substrate 1.
The cleaning liquid having a high pressure is sprayed in an atomized state to remove particles having a size of 3 μm or less. By performing this cleaning, the particles are removed from the upper surface of the glass substrate 1, but the removed particles are suspended in the cleaning liquid after cleaning. Therefore, with respect to the high-pressure jet injector 2 on the upper surface of the glass substrate 1, the removed particles are in contact with the upper surface of the glass substrate 1 in a state where the removed particles are suspended in the cleaning liquid accumulated before and after the transport direction.

【0023】従って、ガラス基板1の上面を流れ落ちる
際に、浮遊するパーティクルがガラス基板1の上面に再
付着しようとする。ところが、本形態にあっては、高圧
ジェット噴射器2に対して両側に設けた筐体29の受け
部29bに、高圧で吹き付けられた洗浄液が、ガラス基
板1に当たり、勢い良く流され、突起部29aを乗り越
え、受け部29bに溜まる。溜まった洗浄液は突起部2
9aにより、ガラス基板1の上面に逆戻りできない。続
いて、受け部29bの上側に設けたバキュームノズル3
によって、溜まった洗浄液の吸引を行うことにより、ガ
ラス基板1の上面への再付着を防止することができるよ
うになっている。つまり、高圧ジェット噴射器2からの
洗浄液の吹き付け位置から上記搬送方向の上流側及び下
流側の両方に勢い良く流れた洗浄液は、筐体29の受け
部29bに溜まり、この上流側及び下流側の両方に配設
されたバキュームノズル3,3で吸引され、これに伴っ
て洗浄液の中に浮遊しているパーティクルも除去される
ことになる。また、基板搬送方向に対して、直交する方
向に流れる洗浄液は、ガラス基板1の幅よりも大きい筐
体29の側面の板に当たり、そのまま下に流れ落ちるこ
とから、ガラス基板1上面に再付着することはない。
Therefore, when flowing down on the upper surface of the glass substrate 1, floating particles tend to reattach to the upper surface of the glass substrate 1. However, in the present embodiment, the cleaning liquid sprayed at high pressure hits the receiving portions 29b of the casing 29 provided on both sides of the high-pressure jet injector 2, hits the glass substrate 1 and is vigorously flown, and the protrusions are formed. It goes over 29a and accumulates in the receiving portion 29b. The accumulated cleaning liquid is the protrusion 2
9a prevents the glass substrate 1 from returning to the upper surface. Then, the vacuum nozzle 3 provided on the upper side of the receiving portion 29b.
By sucking the accumulated cleaning liquid, it is possible to prevent reattachment to the upper surface of the glass substrate 1. That is, the cleaning liquid that has vigorously flowed from the spraying position of the cleaning liquid from the high-pressure jet injector 2 to both the upstream side and the downstream side in the transport direction is accumulated in the receiving portion 29b of the casing 29, and the upstream side and the downstream side of the cleaning portion Particles which are sucked by the vacuum nozzles 3 and 3 arranged on both sides and are suspended in the cleaning liquid are also removed. Further, the cleaning liquid flowing in a direction orthogonal to the substrate transport direction hits a plate on the side surface of the housing 29 larger than the width of the glass substrate 1 and flows down as it is, so that the cleaning liquid should reattach to the upper surface of the glass substrate 1. There is no.

【0024】尚、図3に示すように、高圧ジェット噴射
器2、バキュームノズル3、筐体29の受け部29bの
長手方向の寸法はガラス基板1の幅と同一寸法以上に設
定されている。これにより、ガラス基板1の全幅及び両
端面まで洗浄液を吸引することができる。また、高圧ジ
ェット噴射器2に対して両側に筐体29の受け部29b
及び受けカバー29cとバキュームノズル3,3を配設
する際の位置は、高圧ジェット噴射器2の圧力やノズル
4の高さなどの条件により設定される。つまり、洗浄液
がガラス基板1に当たった時の跳ね返り位置は、各種条
件によって変わることから、筐体29の受け部29b及
び受けカバー29cとバキュームノズル3,3の配設位
置については、予め高圧ジェット噴射器2の最適条件出
しを行い、そのときに求めた跳ね返り位置に応じて取り
付ける。また、筐体29内に高圧ジェット噴射器2を設
けることにより、高圧ジェット噴射器2からガラス基板
1の上面に対して吹き付けられた洗浄液が周囲に飛び散
ることを防止するためのカバーの役目も兼ね備えること
により、ガラス基板1の周辺に飛び散った洗浄液が洗浄
槽内壁等に付着し、それが液滴となってガラス基板1上
に滴下してパーティクルが再付着するといった状況を回
避することができる。更に、筐体29の受け部29bに
洗浄液を溜め、バキュームノズル3,3による吸引を行
うことで、ガラス基板1の上面に溜まる洗浄液の量が減
ることにより、高圧ジェット噴射器2による噴射で洗浄
槽内部に飛び散る洗浄液の量を減らすことができる。こ
れによっても、上述した場合と同様に、ガラス基板1の
周辺に飛び散った洗浄液が洗浄槽内壁等に付着して、そ
れが液滴となってガラス基板1上に滴下してパーティク
ルが再付着するといった状況を回避することができる。
As shown in FIG. 3, the lengthwise dimensions of the high pressure jet injector 2, the vacuum nozzle 3, and the receiving portion 29b of the housing 29 are set to be equal to or larger than the width of the glass substrate 1. As a result, the cleaning liquid can be sucked up to the entire width and both end surfaces of the glass substrate 1. In addition, the receiving portion 29b of the housing 29 is provided on both sides of the high-pressure jet injector 2.
The positions at which the receiving cover 29c and the vacuum nozzles 3 are arranged are set according to conditions such as the pressure of the high-pressure jet injector 2 and the height of the nozzle 4. That is, the bounce position when the cleaning liquid hits the glass substrate 1 changes depending on various conditions. Therefore, regarding the positions of the receiving portion 29b and the receiving cover 29c of the housing 29 and the vacuum nozzles 3 and 3, the high-pressure jet is previously prepared. Optimal conditions for the injector 2 are determined, and the injector 2 is attached according to the bounce position determined at that time. Further, by providing the high-pressure jet injector 2 in the housing 29, it also serves as a cover for preventing the cleaning liquid sprayed from the high-pressure jet injector 2 onto the upper surface of the glass substrate 1 from splashing around. As a result, it is possible to avoid a situation in which the cleaning liquid scattered around the glass substrate 1 adheres to the inner wall of the cleaning tank or the like, becomes droplets, drops on the glass substrate 1, and particles reattach. Further, the cleaning liquid is stored in the receiving portion 29b of the housing 29, and suction is performed by the vacuum nozzles 3 to reduce the amount of the cleaning liquid accumulated on the upper surface of the glass substrate 1, so that the high-pressure jet injector 2 performs cleaning. It is possible to reduce the amount of cleaning liquid scattered inside the tank. Also by this, as in the case described above, the cleaning liquid scattered around the glass substrate 1 adheres to the inner wall of the cleaning tank or the like, becomes droplets, and drops onto the glass substrate 1 to reattach particles. Such a situation can be avoided.

【0025】このようにして高圧ジェット洗浄部24に
おける洗浄動作が終了したガラス基板1は乾燥部25に
搬送され、エアナイフ13等による乾燥が行われる。こ
の際、前工程である高圧ジェット洗浄部24でのバキュ
ームノズル3,3による吸引効果により、ガラス基板1
の上面に残っている洗浄液の量は、従来の洗浄動作と比
べて少ないことから乾燥時間を短縮化できる。そして、
ガラス基板1は、乾燥後にアンローダ26のカセット2
8bに収容され、一連の洗浄工程が終了する。
The glass substrate 1 for which the cleaning operation in the high-pressure jet cleaning section 24 has been completed in this manner is conveyed to the drying section 25 and dried by the air knife 13 or the like. At this time, due to the suction effect of the vacuum nozzles 3 in the high pressure jet cleaning unit 24, which is the previous step, the glass substrate 1
Since the amount of the cleaning liquid remaining on the upper surface of is smaller than that in the conventional cleaning operation, the drying time can be shortened. And
After drying the glass substrate 1, the cassette 2 of the unloader 26
8b, and a series of cleaning steps are completed.

【0026】以上のように、本形態では、高圧ジェット
洗浄部24における高圧ジェット噴射器2を筐体29内
に設置し、両側(ガラス基板1の搬送方向の上流側及び
下流側)に筐体29の受け部29b及びバキュームノズ
ル3,3を備えさせることにより、高圧ジェット噴射器
2からの洗浄液の吹き付け位置から上記搬送方向の上流
側及び下流側の両方に広がる洗浄液を筐体29の受け部
29bに溜めて、それをバキュームノズル3,3によっ
てそれぞれ吸引し、これに伴って洗浄液の中に浮遊して
いるパーティクルを除去するようにしている。このた
め、ガラス基板1の上面から一旦取り除いたパーティク
ルが、ガラス基板1の上面に再付着することが確実に防
止でき、良好な洗浄動作を実現することができる。
As described above, in this embodiment, the high-pressure jet injector 2 in the high-pressure jet cleaning unit 24 is installed in the housing 29, and the housing is provided on both sides (the upstream side and the downstream side in the transport direction of the glass substrate 1). By providing the receiving portion 29b of 29 and the vacuum nozzles 3 and 3, the receiving portion of the housing 29 receives the cleaning liquid that spreads from the spraying position of the cleaning liquid from the high-pressure jet injector 2 to both the upstream side and the downstream side in the transport direction. The particles are stored in 29b and sucked by the vacuum nozzles 3 respectively to remove particles floating in the cleaning liquid. For this reason, it is possible to reliably prevent particles once removed from the upper surface of the glass substrate 1 from reattaching to the upper surface of the glass substrate 1, and to realize a good cleaning operation.

【0027】−その他の実施形態−上記実施形態ではガ
ラス基板1を洗浄するための装置に本発明を適用した場
合について説明した。本発明はこれに限らず、種々の被
洗浄物の洗浄装置に適用可能である。
-Other Embodiments- In the above embodiment, the case where the present invention is applied to an apparatus for cleaning the glass substrate 1 has been described. The present invention is not limited to this, and can be applied to various types of cleaning devices for objects to be cleaned.

【0028】また、筐体29の受け部29b及びバキュ
ームノズル3の配設位置としては、高圧ジェット洗浄部
24の両側の場合に限らず、片側のみであってもよい。
この場合、特に、パーティクルの再付着の可能性が高い
ガラス基板搬送方向の下流側に設けることが好ましい。
Further, the receiving positions 29b of the casing 29 and the vacuum nozzles 3 are not limited to the positions on both sides of the high-pressure jet cleaning unit 24, but may be on only one side.
In this case, it is particularly preferable to provide it on the downstream side in the glass substrate transport direction in which particles are likely to be reattached.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように、本発明では、洗浄液を被
洗浄物に吹き付けることによってこの被洗浄物上のパー
ティクルを除去した後、この除去後のパーティクルを含
む洗浄液を筐体の受け部に溜めると同時に洗浄液吸引手
段によって吸引して排除するようにしている。このた
め、一旦除去したパーティクルが被洗浄物上に再付着す
ることが防止でき、被洗浄物に対する良好な洗浄動作を
実現することができる。また、被洗浄物の洗浄動作の後
に被洗浄物の乾燥動作を行うものにあっては、上記吸引
動作によって被洗浄物上に残る洗浄液を削減することが
でき、乾燥工程に要する時間の短縮化を図ることができ
る。
As described above, in the present invention, the cleaning liquid is sprayed onto the object to be cleaned to remove the particles on the object to be cleaned, and then the cleaning liquid containing the particles after the removal is applied to the receiving portion of the housing. At the same time that the liquid is stored, it is sucked and removed by the cleaning liquid suction means. For this reason, it is possible to prevent the particles, which have been once removed, from reattaching to the object to be cleaned, and to realize a good cleaning operation for the object to be cleaned. Further, in the case of performing the drying operation of the cleaning object after the cleaning operation of the cleaning object, the cleaning liquid remaining on the cleaning object can be reduced by the suction operation, and the time required for the drying process can be shortened. Can be achieved.

【0030】また、筐体の受け部及びバキュームノズル
を、高圧ジェット噴射器の配設位置に対して、被洗浄物
の搬送方向の上流側及び下流側の両方に設けた場合に
は、パーティクルの被洗浄物上への再付着をより確実に
回避することができる。
Further, when the receiving portion of the housing and the vacuum nozzle are provided both upstream and downstream in the conveying direction of the object to be cleaned with respect to the position where the high pressure jet injector is arranged, the particle Redeposition on the object to be cleaned can be more reliably avoided.

【0031】更に、高圧ジェット噴射器を筐体内に配設
することにより、被洗浄物の上面に対して吹き付けられ
た洗浄液が周囲に飛び散ることを防止するカバーの役目
をすることにより、高圧ジェット噴射器の噴射動作に伴
って被洗浄物の周辺に飛び散った洗浄液が洗浄槽内壁等
に付着し、それが液滴となって被洗浄物上に滴下してパ
ーティクルが再付着するといった状況を回避することが
できる。
Further, by disposing the high-pressure jet injector in the housing, the high-pressure jet injector serves as a cover for preventing the cleaning liquid sprayed on the upper surface of the object to be cleaned from scattering around. Avoid the situation where the cleaning liquid scattered around the object to be cleaned adheres to the inner wall of the cleaning tank due to the spraying operation of the container and becomes a droplet, which drops on the object to be cleaned and reattaches particles. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す側面
図である。
FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of a cleaning device according to an embodiment.

【図2】洗浄装置内の洗浄部を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing a cleaning unit in the cleaning device.

【図3】洗浄装置内の洗浄部を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a cleaning unit in the cleaning device.

【図4】洗浄装置内の洗浄部を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a cleaning unit in the cleaning device.

【図5】従来の洗浄装置を示す図1相当図である。FIG. 5 is a view corresponding to FIG. 1 showing a conventional cleaning device.

【図6】従来の洗浄部を示す図2相当図である。FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 2 showing a conventional cleaning unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板(被洗浄物) 2 高圧ジェット噴射器 3 バキュームノズル(洗浄液吸引手段) 4 ノズル 29 筐体 29a 突起部 29b 受け部 1 glass substrate (object to be cleaned) 2 High-pressure jet injector 3 Vacuum nozzle (cleaning liquid suction means) 4 nozzles 29 housing 29a protrusion 29b Receiver

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C03C 23/00 C03C 23/00 A ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C03C 23/00 C03C 23/00 A

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被洗浄物を水平方向に搬送し枚葉式で洗
浄する洗浄装置において、被洗浄物上面に高圧力を加え
た洗浄液を吹き付けるノズルと、被洗浄物の搬送方向の
上流側及び下流側の少なくとも一方に備えられて洗浄液
を溜める受け部と、そこに溜めた洗浄液を吸引するバキ
ュームノズルとを設けたことを特徴とする洗浄装置。
1. A cleaning device for conveying an object to be cleaned horizontally and cleaning it in a single-wafer manner, a nozzle for spraying a cleaning liquid having a high pressure on the upper surface of the object to be cleaned, an upstream side in the conveying direction of the object to be cleaned, and A cleaning device comprising: a receiving portion provided on at least one of the downstream sides for storing the cleaning liquid; and a vacuum nozzle for sucking the cleaning liquid stored therein.
【請求項2】 請求項1記載の洗浄装置において、 受け部に流れた洗浄液が再び被洗浄物面に逆流しないよ
うに、ノズルとバキュームノズルとの間の受け部側に突
起を設けたことを特徴とする洗浄装置。
2. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein a protrusion is provided on the receiving portion side between the nozzle and the vacuum nozzle so that the cleaning liquid flowing to the receiving portion does not flow back to the surface of the object to be cleaned again. A characteristic cleaning device.
【請求項3】 請求項2記載の洗浄装置において、 ノズルとバキュームノズル及び受け部側の突起は、被洗
浄物の搬送方向に略直交する被洗浄物幅方向に延設され
ていると共に、このノズルとバキュームノズル及び受け
部側の突起の長さ寸法は、被洗浄物幅方向の両端に亘る
寸法以上に設定されていることを特徴とする洗浄装置。
3. The cleaning device according to claim 2, wherein the nozzle, the vacuum nozzle, and the projection on the receiving portion side extend in the width direction of the cleaning target substantially orthogonal to the conveyance direction of the cleaning target, and A cleaning device, wherein the length dimension of the nozzle, the vacuum nozzle, and the protrusion on the receiving portion side is set to be equal to or greater than the dimension across both ends in the width direction of the object to be cleaned.
【請求項4】 請求項1、2または3記載の洗浄装置に
おいて、 ノズルとバキュームノズル及び受け部は、全て一つの筐
体内に収納されていることを特徴とする洗浄装置。
4. The cleaning apparatus according to claim 1, 2 or 3, wherein the nozzle, the vacuum nozzle, and the receiving portion are all housed in a single housing.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009164346A (en) * 2008-01-07 2009-07-23 Hitachi High-Technologies Corp Substrate treatment apparatus
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US9511394B2 (en) 2011-09-09 2016-12-06 Olympus Corporation Cleaning apparatus

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