JP2003288718A

JP2003288718A - 塗布型磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム

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Publication number: JP2003288718A
Application number: JP2002088306A
Authority: JP
Inventors: Shinji Muro; 伸次室; Ieyasu Kobayashi; 家康小林; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Current assignee: Toyobo Film Solutions Ltd
Priority date: 2002-03-27
Filing date: 2002-03-27
Publication date: 2003-10-10
Anticipated expiration: 2022-03-27
Also published as: JP3979866B2

Abstract

(57)【要約】【課題】触媒に起因する異物の発生が少なく、塗布型
の磁気記録媒体としたときに、ドロップアウトに優れ
た、ベースフィルムとして有用な二軸配向ポリエステル
フィルムの提供。【解決手段】エチレンテレフタレートを主たる繰り返
し単位とするポリエステルからなり、ポリエステルの繰
返し単位のモル数を基準として、リン化合物およびポリ
エステルに可溶なチタン化合物を、下記式（１）〜
（３）【数１】（ここで、Ｔｉはチタン金属元素の濃度（ミリモル
％）、Ｐはリン元素の濃度（ミリモル％）を示す。）の
範囲で含有し、かつフィルムの幅方向における厚み斑が
０．８μｍ以下である塗布型磁気記録媒体用二軸配向ポ
リエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布型磁気記録媒
体用二軸配向ポリエステルフィルムに関し、さらに詳し
くは、磁性層を塗布する際の塗布斑を抑制できる塗布型
磁気記録媒体のベースフィルムに好適な二軸配向ポリエ
ステルフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートは、優れた
力学特性、耐熱性、耐候性、耐電気絶縁性および耐薬品
性を有することから、磁気記録媒体のベースフィルムと
して広く使用されている。

【０００３】かかるポリエチレンテレフタレートの製造
では、重合反応を円滑に進行させるために重合触媒を用
いる。この重合触媒としては、種々の金属化合物が知ら
れているが、中でも三酸化アンチモンの如きアンチモン
（Ｓｂ）化合物が安価でかつ高い重合活性を持つことか
ら、広く使用されている。

【０００４】しかし、Ｓｂ化合物は、その一部が反応中
に還元されて金属Ｓｂやその他の異物を生成しやすい。
これらの異物は、ポリエチレンテレフタレートをフィル
ムにした場合、得られるフィルムの表面に粗大な突起を
形成したり、厚み斑を惹起したりする。特に、得られる
フィルムを塗布型の磁気記録媒体のベースフィルムに使
用する際に、上記の厚み斑があると、均一に磁性層を塗
布することができず、得られる磁気記録媒体の電磁変換
特性を悪化させたり、生産性を低下させたりすることか
ら、強くその改善が求められてきていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、触媒に起因
する異物の発生が少なく、塗布型の磁気記録媒体とした
ときに、ドロップアウトに優れた、磁気記録媒体のベー
スフィルムとして有用な二軸配向ポリエステルフィルム
およびそれからなるフィルムロールを提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、本発明の目的は、エチレンテレフタレートを主たる
繰り返し単位とするポリエステルからなるフィルムであ
って、フィルムを構成するポリエステルの繰返し単位の
モル数を基準として、リン化合物およびポリエステルに
可溶なチタン化合物を、下記式（１）〜（３）

【０００７】

【数２】

【０００８】（ここで、Ｔｉはポリエステル中に含有さ
れるポリエステル可溶チタン化合物のチタン金属元素の
濃度（ミリモル％）、Ｐはポリエステル中に含有される
リン化合物のリン元素の濃度（ミリモル％）を示す。）
の範囲で含有し、かつフィルムの幅方向における厚み斑
が０．８μｍ以下である塗布型磁気記録媒体用二軸配向
ポリエステルフィルムによって達成される。

【０００９】また、本発明の塗布型磁気記録媒体用二軸
配向ポリエステルフィルムは、その好ましい態様とし
て、少なくとも一方の表面は、中心面平均粗さ（ＷＲ
ａ）が０．５〜１０ｎｍの範囲であること、リン化合物
が、以下の式（Ｉ）

【００１０】

【化４】

【００１１】（ここで、式中の、Ｒ¹およびＲ²はそれぞ
れ炭素数原子数１〜４のアルキル基、Ｘは−ＣＨ₂−ま
たは―ＣＨ(Ｙ)−を示す（Ｙは、ベンゼン環を示
す。）。）で表されるホスホネート化合物であること、
ポリエチレンテレフタレートに可溶なチタン化合物が、
下記一般式（ＩＩ）

【００１２】

【化５】

【００１３】（上記式（ＩＩ）中、Ｒ³ _,Ｒ⁴ _,Ｒ⁵ _,Ｒ
⁶は、２〜10個の炭素原子を有するアルキル基または炭
素数６〜８のフェニル基であり、ｍは１〜３の整数であ
る。）で表わされる化合物または上記一般式（ＩＩ）で
表わされる化合物と下記一般式（ＩＩＩ）

【００１４】

【化６】

【００１５】（上記式中、ｎは２〜４の整数を表わす）
で表わされる芳香族多価カルボン酸との反応生成物であ
ることのいずれかを具備する塗布型磁気記録媒体用二軸
配向ポリエステルフィルムも包含するものである。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の二軸配向ポリエステルフ
ィルムは、触媒としてポリエステルに可溶なチタン化合
物を、また安定剤としてリン化合物を特定の割合で併用
して、触媒に起因する異物を抑制したポリエステルを
得、これをフィルムの原料とすることによって、幅方向
における厚み斑を抑制し、磁性層を塗布する際の塗布斑
を解消したものである。その観点から、フィルムの幅方
向の厚み斑は、２ｍの範囲にある最大厚みから最小厚み
を差し引いた差で、０．８μｍ以下であることが必要で
あり、さらに好ましくは０．７μｍ以下である。該厚み
斑が上限を超えると、磁性層を塗布する際に塗布斑が発
生し、結果として、電磁変換特性の優れた磁気記録媒体
とすることができない。なお、ここでいう幅方向におけ
る厚み斑は、小さければ小さいほど好ましく、特に下限
は制限されない。

【００１７】以下、本発明の二軸配向ポリエステルフィ
ルムを説明する。本発明の二軸配向ポリエステルフィル
ムは、エチレンテレフタレートを主たる繰返し単位とす
るポリエステルを、８０重量％以上、好ましくは８５重
量％以上含有するポリエチレンテレフタレート樹脂組成
物からなり、ポリエチレンテレフタレート樹脂以外の他
の樹脂を、混合しても良い。また、ここでいうエチレン
テレフタレート成分を主たる繰返し単位とするポリエス
テルとは、全繰り返し単位の８０モル％以上、好ましく
は８５モル％以上が、エチレンテレフタレート成分から
なるものである。ポリエチレンテレフタレート樹脂がエ
チレンテレフタレート成分以外の第３成分を共重合した
ものである場合、第３成分（共重合成分）としては、
２，６−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、フタ
ル酸等の如きテレフタル酸以外の芳香族ジカルボン酸、
アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカル
ボン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサンジ
カルボン酸等の如き脂環族ジカルボン酸、トリメチレン
グリコール、ジエチレングリコール、テトラメチレング
リコール、シクロヘキサンジメタノール等のグリコール
が例示でき、これらは単独で使用しても二種以上を併用
してもよい。

【００１８】本発明において、フィルムを構成するポリ
エステル組成物は、リン化合物を含有することが必要で
ある。用いられるリン化合物としては、リン酸、亜リン
酸、ホスホン酸、ホスホネート化合物及びそれらの誘導
体等があげられ、これらは単独で使用してもよく、また
二種以上を併用してもよい。これらのリン化合物中、特
に前記一般式（I）で表されるホスホネート化合物が好
ましい。

【００１９】具体例な前記一般式（I）で表されるホス
ホネート化合物としては、カルボメトキシメタンホスホ
ン酸、カルボエトキシメタンホスホン酸、カルボプロポ
キシメタンホスホン酸、カルボプトキシメタンホスホン
酸、カルボメトキシ−ホスホノ−フェニル酢酸、カルボ
エトキシ−ホスホノ−フェニル酢酸、カルボプロトキシ
−ホスホノ−フェニル酢酸またはカルボブトキシ−ホス
ホノ−フェニル酢酸のジメチル−、ジエチル−、ジプロ
ピル−またはジブチルエステルである。

【００２０】前記一般式（I）で表されるホスホネート
化合物が好ましい理由は、安定剤として通常使用される
リン化合物に比べ、チタン化合物との反応が比較的緩や
かに進行する、すなわち重縮合反応中のチタン化合物の
触媒活性がより長時間持続し、結果としてポリエステル
へのチタン化合物の添加量が少なくできるからである。
また、前記一般式（I）で表されるホスホネート化合物
は、本特許のように触媒に対して多量の安定剤を添加す
る場合でも、ポリエステルの熱安定性を損ないにくい特
性も有している。これら、リン化合物の添加時期は、エ
ステル交換反応またはエステル化反応が実質的に終了し
た後であればいつでもよく、例えば、重縮合反応を開始
する以前の大気圧下でも、重縮合反応を開始した後の減
圧下でも、重縮合反応の末期でもまた、重縮合反応の終
了後、すなわちポリマーを得た後に添加してもよい。

【００２１】本発明において、フィルムを構成するポリ
エステル組成物は、チタン化合物を含有することが必要
である。本発明で用いるチタン化合物は、触媒に起因す
る異物を低減する点から、ポリエステルに可溶なチタン
化合物を使用することが必要である。ポリエステルに可
溶なチタン化合物としては、特に限定されず、ポリエス
テルの重縮合触媒として一般的なチタン化合物を使用で
きる。具体的には、酢酸チタンやテトラ−ｎ−ブトキシ
チタンなどが挙げられる。これらの中でも、特に好まし
いのは、前記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物、もし
くは前記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物と前記一般
式（ＩＩＩ）で表わされる芳香族多価カルボン酸とを反
応させた生成物である。なお、前記一般式（ＩＩＩ）で
表わされる芳香族多価カルボン酸は、その無水物であっ
ても良い。

【００２２】前記一般式（ＩＩ）で表わされるテトラア
ルコキサイドチタンとしては、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶
がそれぞれアルキル基および／またはフェニル基であれ
ば特に限定されないが、テトライソプロポキシチタン、
テトラプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタ
ン、テトラエトキシチタン、テトラフェノキシチタンな
どが好ましく用いられる。また、かかるチタン化合物と
して反応させる一般式（ＩＩＩ）で表される芳香族多価
カルボン酸またはその無水物としては、フタル酸、トリ
メリット酸、ヘミメリット酸、ピロメリット酸およびこ
れらの無水物が好ましく用いられる。上記チタン化合物
と芳香族多価カルボン酸またはその無水物との反応方法
は、溶媒に芳香族多価カルボン酸またはその無水物の一
部を溶解し、これにチタン化合物を滴下して、０〜２０
０℃の温度で３０分以上反応させる方法を好ましく挙げ
ることができる。

【００２３】ところで、本発明において、フィルムを構
成するポリエステルは、ポリエステルの全繰返し単位の
モル数を基準として、ポリエステルに可溶なチタン化合
物を、チタン金属元素量で、２〜１５ミリモル％含有す
ることが必要である。特に好ましいチタン金属元素量
は、３〜１０ミリモル％の範囲である。該チタン金属元
素が下限未満では、ポリエステルの生産性が低下し、目
標の分子量のポリエステルが得られない。また、該チタ
ン金属元素が上限を超えると、得られるポリエステルの
熱安定性が低下し、フィルム製造時の分子量低下が大き
くなり、厚み斑が惹起される。尚、ここで言うポリマー
中に可溶なチタン金属元素とは、エステル交換反応によ
る第一段階反応をする場合は、エステル交換反応触媒と
して使用されたチタン化合物と重縮合反応触媒として使
用されたチタン化合物の合計を示す。

【００２４】また、本発明において、フィルムを構成す
るポリエステルは、ポリエステルの全繰返し単位のモル
数を基準として、チタン化合物とリン化合物を、それぞ
れのチタン元素量およびリン元素量で、前記式（２）お
よび（３）の範囲で含有することが必要である。好まし
い前記（Ｐ／Ｔｉ）の範囲は４〜１０であり、好ましい
前記（Ｔｉ＋Ｐ）の範囲は２０〜７０である。（Ｐ／Ｔ
ｉ）が下限未満だと、ポリマー中の重合触媒に起因する
異物が生じ、結果として厚み斑を惹起する。また、（Ｐ
／Ｔｉ）が１０を超えるとポリエステルの重合反応性が
大幅に低下し、目的のポリエステルを得ることができな
い。本発明の特徴の一つに、前記（Ｐ／Ｔｉ）の適正範
囲が通常の金属触媒よりも極めて狭いことが挙げられ、
この範囲にすることで、従来にない厚み斑の少ない二軸
配向ポリエステルフィルムが得られるのである。ところ
で、（Ｔｉ＋Ｐ）が下限に満たないと、静電印可法によ
るフィルム製膜プロセスにおける生産性が大きく低下
し、フィルムの厚み斑が惹起される。一方、（Ｔｉ＋
Ｐ）が上限を超えると、触媒に起因する異物が発生し、
やはりフィルムの厚み斑が惹起される。

【００２５】本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを
構成するポリエステルは、ο−クロロフェノールで３５
℃の雰囲気下で測定した固有粘度が、０．５０〜０．８
０の範囲、さらに０．５５〜０．７５の範囲、特に０．
６０〜０．７０の範囲にあることが好ましい。固有粘度
が下限未満であると、フィルムの耐衝撃性が不足しやす
い。他方、固有粘度が上限を超えると、原料ポリマーの
固有粘度を過剰に引き上げる必要があり不経済である。

【００２６】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、巻取り性など取扱い性を向上させるために、不活性
粒子を必要に応じて添加される。二軸配向ポリエステル
フィルムに含有させる不活性粒子の平均粒径は、０．０
５〜４．０μｍの範囲であることが好ましく、その含有
量は、フィルムを構成するポリエステル組成物の重量を
基準として、０．０１〜２．０重量％の範囲であること
が好ましい。フィルムに含有させる不活性粒子は、コロ
イダルシリカ、多孔質シリカ、酸化チタン、炭酸カルシ
ウム、燐酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジル
コニア、カオリンもしくは複合酸化物などの無機粒子、
または架橋ポリスチレン、アクリル系架橋粒子、メタク
リル系架橋粒子もしくはシリコーン粒子等の有機粒子が
挙げられる。

【００２７】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、少なくとも磁性層を設けられる側の表面の中心面平
均粗さ（ＷＲａ）が０．５〜１０ｎｍの範囲にあること
が好ましい。より好ましいＷＲａの範囲は、１〜８ｎ
ｍ、特に１．５〜５ｎｍである。該ＷＲａが下限未満だ
と、製膜工程あるいは磁気テープの製造工程におけるパ
スロールとフィルムのすべり性が悪くなり、フィルムが
削れたり、磁気記録媒体としたときにドロップアウトが
多くなったりすることがある。一方ＷＲａが上限を超え
ると、磁性層を塗布したとき磁性面が粗くなり、十分な
電磁変換特性が得られ難くなる。

【００２８】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、その厚みが２〜３０μｍ、特に３〜２０μｍの範囲
であることが好ましい。該厚みが下限未満だと、フィル
ムが伸び易く、他方、厚みが上限を超えると、結果とし
て得られる磁気記録媒体の記録容量化を低下させてしま
う。

【００２９】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積され
ている方法、すなわち前述のチタン化合物とリン化合物
を用いて、ポリエチレンテレフタレート樹脂組成物を作
成し、それを溶融状態でシート状に押出して未配向フィ
ルムを製造し、次いで該未配向フィルムを従来から蓄積
された二軸配向フィルムの製造法に準じて、延伸処理す
ることで製造できる。

【００３０】さらに詳述すると、本発明の二軸配向ポリ
エステルフィルムを構成するポリエステルは、テレフタ
ル酸とエチレングリコールを直接エステル化反応させて
から重縮合反応させるか、ジメチルテレフタレートなど
のエステル形成性誘導体とエチレングリコールとをエス
テル交換反応させて重縮合反応させることで製造でき
る。この際、得られるポリエステル中のリン化合物およ
びチタン化合物は、前述の説明の範囲になるように調整
することが必要である。ポリエステルの製造方法に制限
はないが、本発明ではエステル交換反応を経由する製造
方法が、直接エステル化反応をさせる製造方法よりも、
重縮合反応中にリン化合物の飛散が少ないことから好ま
しい。また、エステル交換反応を経由する製造方法で
は、触媒として添加するチタン化合物の添加量を低減で
きる、すなわち、チタン化合物の一部および／または全
量をエステル交換反応開始前に添加し、チタン化合物を
エステル交換反応触媒および重縮合反応触媒として兼用
する製造方法が好ましい。さらに、更にエステル交換反
応を０．０５〜０．２０ＭＰａの加圧下で実施すると、
より触媒として添加するチタン化合物の添加量を低減で
きるので好ましい。エステル交換反応時の圧力が、０．
０５ＭＰａ以下では、チタン化合物の触媒作用による反
応の促進が充分部は無く、一方０．２０ＭＰａ以上で
は、副生成物として発生するジエチレングリコールのポ
リマー中の含有量が著しく増加し、ポリマーの熱安定性
等の特性が劣ってしまう。

【００３１】ところで、上述の通り、本発明の二軸配向
ポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、得ら
れるフィルムの厚み斑を無くすために、ポリエステルに
可溶なチタン化合物を用いる。したがって、チタン化合
物以外の触媒は、実質的に含まないことが好ましい。な
お、ここでいう実質的に含まないとは、触媒中の金属元
素の量が、該ポリエステル組成物の前繰返し単位のモル
数を基準として、高々１０ミリモル％、好ましくは高々
５ミリモル％、さらに好ましくは０ミリモル％であるこ
とを意味する。

【００３２】つぎに、上記の方法によって得られたポリ
エステルは、溶融状態にした後、スリットからシート状
に押出され、未配向フィルムとされる。得られた未配向
フィルムは、一軸方向（製膜方向又は幅方向）に（Ｔｇ
−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリ
エステルのガラス転移温度）で２．５〜７．０倍の倍率
で延伸し、次いで上記延伸方向と直交する方向にＴｇ
（℃）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜７．０倍の
倍率で延伸され、二軸配向ポリエステルフィルムとされ
る。この際、製膜方向の延伸倍率と幅方向の延伸倍率と
を掛け合わせた面積延伸倍率は、９〜３５倍、さらには
１２〜３２倍の範囲であることが好ましい。得られた二
軸配向ポリエステルフィルムは、さらに（Ｔｇ＋７０）
℃〜Ｔｍ（℃）の温度（例えばポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの場合、１９０〜２３０℃）で熱固定する
ことが好ましい。熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。

【００３３】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、本発明の目的を損なわない範囲で、他の層を積層し
たものでもよい。具体的には、溶融押出しで未配向フィ
ルムを製造する際に、組成の異なる他のポリエステルを
積層状態で共押出して、積層二軸配向ポリエステルフィ
ルムとしたり、本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
の少なくとも片面に、接着性や易滑性を目的に塗膜層を
設けたりすることが挙げられ、これらはそれ自体公知の
方法を採用できる。ただ、厚み斑を抑制する観点から、
積層体の厚みに対して、本発明の二軸配向ポリエステル
フィルムの厚みは、少なくとも５０％であることが好ま
しい。

【００３４】

【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに説明す
る。なお、実施例中の各種物性値および特性は、以下の
方法に沿って、測定または評価した。（１）チタン元素およびリン元素の濃度チタン元素およびリン元素の濃度は、乾燥したサンプル
を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ，日立計測機器サービスＳ５
７０型）にセットし、それに連結したエネルギー分散型
Ｘ線マイクローアナライザー（ＸＭＡ，堀場ＥＭＡＸ−
７０００）にて定量分析を実施した。なお、基準とする
モル数は、試料の重量を試料を構成するポリエステルの
繰返し単位の平均分子量で割った値、すなわち、試料を
繰返し単位に換算したときのモル数とした。

【００３５】（２）チタン化合物以外の触媒の金属元素
濃度アンチモンやゲルマニウムなどチタン化合物以外の触媒
を構成する金属元素濃度は、粒状のサンプルをアルミ板
上で加熱溶融した後、圧縮プレス機で平面を有する成形
体を作成し、蛍光Ｘ線装置（理学電機工業３２７０Ｅ
型）による定量分析にて行った。なお、基準とするモル
数は、試料の重量を試料を構成するポリエステルの繰返
し単位の平均分子量で割った値、すなわち、試料を繰返
し単位に換算したときのモル数とした。

【００３６】（３）固有粘度（ＩＶ）試料（ポリエステル）０．６ｇをオルトクロロフェノー
ル５０ｍｌ中に、加熱溶解した後、一旦冷却させ、その
溶液をオストワルド式粘度管を用いて３５℃の温度条件
で測定した溶液粘度から算出した。

【００３７】（４）ドロップアウト下記に示す組成物をボールミルに入れ、１６時間混練お
よび分散させた後、イソシアネート化合物（バイエル社
製のデスモジュールＬ）５重量部を加え、さらに１時間
高速剪断分散して磁性塗料を調製した。＜磁性塗料の組成＞針状Ｆｅ粒子（Ｆｅ：Ｃｏ：Ｙ：ＡＩ＝１００：１０：
３：１１）１００重量部塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体（エスレック７Ａ：積
水化学製）１５重量部熱可塑性ポリウレタン樹脂（Ｎ２３０５：日本ポリウレ
タン工業製）５重量部カーボンブラック（＃５０：旭カーボン製）５重量部レシチン２重量部ブチルステアレートとオレイルオレート（重量比１：
１）の混合物１重量部トルエン５０重量部メチルエチルケトン５０重量部シクロヘキサノン５０重量部この磁性塗料を、得られた二軸配向ポリエステルフィル
ムの片面に、乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布
し、ついで２５００ガウスの直流磁場中で配向処理を行
ない、１００℃で加熱乾燥後、スーパーカレンダー処理
（線圧２００ｋｇ／ｃｍ、温度８０度）を行なってから
巻き取った。上記の磁性塗料を塗布した面とは異なる側
の面に、さらに下記組成のバックコート層塗料を、乾燥
後の厚さが０．５μｍになるように塗布して乾燥させ、
さらに１／２インチ幅に裁断し、磁気テープを得た。

【００３８】＜バックコート層塗料の組成＞カーボンブラック（キャボット社製のＢＰ−８００）
１００重量部熱可塑性ポリウレタン樹脂（日本ポリウレタン工業製の
Ｎ２３０５）６０重量部イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製コロ
ネートＬ）１８重量部シリコーンオイル０．５重量部メチルエチルケトン２５０重量部トルエン５０重量部得られた磁気テープを脱着式メディア評価装置（メディ
アスコープ社製：ＭＳ４５００）にてドロップアウトを
測定する。計測は全長を４トラック行い、再生信号の減
衰が５０％以上、長さが４ビット以上のドロップアウト
の個数を求め、１トラックあたりの個数に換算して、下
記判定等級で表した。使用するドライブはＤＬＴタイプ
のものである。

【００３９】［判定等級］ ◎：０〜１０個／トラック ○：１１〜１００個／トラック ×：１０１個／トラック以上

【００４０】（５）表面粗さ（ＷＲａ）非接触式三次元表面粗さ計（ＷＹＫＯ製：ＮＴ−２００
０）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２４６．６μｍ
×１８７．５μｍ（０．０４６２ｍｍ²）の条件にて、
測定数（ｎ）１０でフィルム表面の粗さ測定を行ない、
該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトにより、次式で示
す計算処理をして、中心面平均粗さＷＲａを求める。な
お、次式でＺｊｋは、測定方向（２４６．６μｍ）とそ
れに直行する方向（１８７．５μｍ）を、それぞれｍ分
割とｎ分割したときの各方向のｊ番目とｋ番目の位置に
おける２次元粗さ上の高さである。

【００４１】

【数３】

【００４２】（６）厚み斑フィルムの幅方向に３０ｍｍ幅のスリット試料を採取
し、アンリツ(株)製連続電子マイクロメータで各幅方向
の位置における厚みを測定し、２ｍの範囲にある試料の
最大厚みと最小厚みの差を求め、その値を厚み斑とす
る。

【００４３】［実施例１］テレフタル酸ジメチル１００
部とエチレングリコール７０部の混合物に、テトラ−ｎ
−ブチルチタネート０．００９部を加圧反応が可能なＳ
ＵＳ製容器に仕込み、０．０７ＭＰａの加圧を行い１４
０℃から２４０℃に昇温しながらエステル交換反応させ
た後、トリエチルホスホノアセテート０．０４部を添加
し、エステル交換反応を終了させた。更に滑剤粒子とし
て平均粒径０．３μｍのコロイダルシリカ粒子を０．２
重量％添加し、その後反応生成物を重合容器に移し、２
９０℃まで昇温し、０．２ｍｍＨｇ以下の高真空にて重
縮合反応を行って、固有粘度０．６０、ジエチレングリ
コール量が１．５％であるポリエチレンテレフタレート
を得た。

【００４４】このポリエチレンテレフタレートのペレッ
トを１７０℃、３時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、
溶融温度２８０〜３００℃で溶解し、この溶解ポリマー
を１ｍｍのスリット状ダイを通して表面仕上げ０．３ｓ
程度、表面温度２０℃の回転冷却ドラム上に押出し、未
延伸フィルムを得た。このようにして得られた未延伸フ
ィルムを７５℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間
で１５ｍｍ上方より８００℃の表面温度のＩＲヒーター
３本にて加熱して３．６倍に延伸し、急冷し、続いてス
テンターに供給し、１２０℃にて横方向に３．９倍に延
伸した。得られた二軸配向フィルムを２０５℃の温度で
５秒間熱固定し、厚み９．１μｍの熱固定処理された二
軸配向ポリエステルフィルムを得た。

【００４５】得られた二軸配向ポリエステルフィルム及
びそれを用いた塗布型磁気テープの特性を表１に示す。

【００４６】［実施例２］チタン化合物を下記方法にて
合成したトリメリット酸チタン０．０１６部に変更する
以外は実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルム及
びそれを用いた塗布型磁気テープの特性を表１に示す。

【００４７】＜トリメリット酸チタンの合成方法＞無水
トリメリット酸のエチレングリコール溶液（０．２％）
にテトラブトキシチタンを無水トリメリット酸に対して
１／２モル添加し、空気中常圧下で８０℃に保持して６
０分間反応せしめ、その後、常温に冷却し、１０倍量の
アセトンによって生成触媒を再結晶化させ、析出物をろ
紙によって濾過し、１００℃で２時間乾燥せしめ、目的
の化合物を得た。

【００４８】［実施例３〜９、比較例１〜６］チタン化
合物及びリン化合物を表１示す化合物及び値に変更する
以外は、実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフ
ィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルム
及びそれを用いた塗布型磁気テープの特性を表１に示
す。

【００４９】［比較例７］テレフタル酸ジメチル１００
部とエチレングリコール７０部の混合物に、テトラ−ｎ
−ブチルチタネート０．００９部を加圧反応が可能なＳ
ＵＳ製容器に仕込み、０．０７ＭＰａの加圧を行い１４
０℃から２４０℃に昇温しながらエステル交換反応させ
た後、トリエチルホスホノアセテート０．０４部を添加
し、エステル交換反応を終了させた。

【００５０】その後反応生成物に三酸化二アンチモン
０．０５３部添加し、更に滑剤粒子として平均粒径０．
３μｍのコロイダルシリカ粒子を０．２重量％添加し、
混合物を重合容器に移し、２９０℃まで昇温し、０．２
ｍｍＨｇ以下の高真空にて重縮合反応を行って、固有粘
度０．６０、ジエチレングリコール量が１．５％である
ポリエチレンテレフタレートを得た。

【００５１】このポリエチレンテレフタレートのペレッ
トを実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィル
ムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルム及び
それを用いた塗布型磁気テープの特性を表１に示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】表１中の、ＴＢＴはテトラ−ｎ−ブトキシ
チタン、ＴＭＴはトリメリット酸チタン、ＴＥＰＡはト
リエチルホスホノアセテート、ＰＥＥはカルボエトキシ
メタン−ホスホン酸ジエチルエステル、ＨＰＥはヒドロ
キシメチレン−ホスホン酸ジエチルエステルを意味す
る。また、比較例２および比較例４はポリマーのＩＶが
低すぎて製膜できず、その後の評価を行っていない。さ
らにまた、比較例６は、製膜時のピニング性が悪く、そ
の後の評価に耐え得るフィルムが得られなかった。

【００５４】

【発明の効果】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、フィルムを構成するポリエステルが触媒に起因する
異物を抑制されていることから、厚み斑が極めて小さく
抑えられる。したがって、本発明の二軸配向ポリエステ
ルフィルムを、塗布型の磁気記録媒体のベースフィルム
として用いれば、磁性層を塗布する際の塗布斑が抑制さ
れ、均一な厚みの磁性層を有する、すなわち電磁変換特
性に優れ、ドロップアウトの少ない磁気記録媒体を生産
性良く製造できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｋ 5/5333 Ｃ０８Ｋ 5/5333 Ｃ０８Ｌ 67/02 Ｃ０８Ｌ 67/02 // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 (72)発明者小林家康神奈川県相模原市小山３丁目37番19号帝人デュポンフィルム株式会社相模原研究センター内 (72)発明者室岡博文神奈川県相模原市小山３丁目37番19号帝人デュポンフィルム株式会社相模原研究センター内Ｆターム(参考） 4F071 AA46 AC05 AC09 AC15 AE05 AF27 AH14 BB08 BC01 4F210 AA24 AB19 AF16 AG01 AH38 QC05 QC06 QG01 QG18 4J002 CF061 EC077 EG107 EW126 FD036 FD037 GS01 5D006 CB01 CB07 FA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エチレンテレフタレートを主たる繰り返
し単位とするポリエステルからなるフィルムであって、
ポリエステルの繰返し単位のモル数を基準として、リン
化合物およびポリエステルに可溶なチタン化合物を、下
記式（１）〜（３）の範囲で含有し、かつフィルムの幅
方向２ｍの範囲における厚み斑が０．８μｍ以下である
ことを特徴とする塗布型磁気記録媒体用二軸配向ポリエ
ステルフィルム。【数１】（ここで、Ｔｉはポリエステル中に含有されるポリエス
テル可溶チタン化合物のチタン金属元素の濃度（ミリモ
ル％）、Ｐはポリエステル中に含有されるリン化合物の
リン元素の濃度（ミリモル％）を示す。）
【請求項２】少なくとも一方の表面は、中心面平均粗
さ（ＷＲａ）が０．５〜１０ｎｍの範囲である請求項１
記載の塗布型磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィ
ルム。
【請求項３】リン化合物が、以下の式（Ｉ）で表され
るホスホネート化合物である請求項１記載の塗布型磁気
記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。【化１】（ここで、式中の、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ炭素数原子
数１〜４のアルキル基、Ｘは−ＣＨ₂−または―ＣＨ
(Ｙ)−を示す（Ｙは、ベンゼン環を示す。）。）
【請求項４】ポリエチレンテレフタレートに可溶なチ
タン化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物
または下記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物と下記一
般式（ＩＩＩ）で表わされる芳香族多価カルボン酸との
反応生成物である請求項１記載の塗布型磁気記録媒体用
二軸配向ポリエステルフィルム。【化２】（上記式（ＩＩ）中、Ｒ³ _,Ｒ⁴ _,Ｒ⁵ _,Ｒ⁶は、２〜10個の
炭素原子を有するアルキル基または炭素数６〜８のフェ
ニル基であり、ｍは１〜３の整数である。）【化３】（上記式中、ｎは２〜４の整数を表わす）