JP2003287696A - マルチビーム走査装置、光源装置 - Google Patents

マルチビーム走査装置、光源装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏向器に入射させる複数の光ビーム相互間の
開き角θが小さいマルチビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 ３つの光ビームを偏向器１１４を用いて
偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるマ
ルチビーム走査装置であって、第１及び第２のプリズム
１２４、２１０を備え、第１のプリズムは、第２の光ビ
ーム１０８の光束の一部を遮光しつつ、入射された第１
の光ビーム１０６を偏向器１１４へ向けて射出し、第２
のプリズム２１０は、第２の光ビーム１０８の光束の一
部を遮光しつつ、入射された第３の光ビーム２０６を偏
向器１１４へ向けて射出する。第１及び第２のプリズム
１２４、２１０は、互いの間に第２の光ビームが通過す
る隙間Ｓを有するように配置されており、第２の光ビー
ム１０８は、隙間Ｓを通過することによりビーム幅を規
制される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の光ビームを用い
て複数の走査線を同時に走査するマルチビーム走査装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レーザプリンターやデジタルコピ
ー機等、光ビームを被走査面上で走査させることによ
り、走査面に画像を形成する種々の光描画装置が知られ
ている。近年、このような光描画装置では、画像をより
高速で描画するべく、複数の光ビームを回転しているポ
リゴンミラーに照射し、被走査面に向けて反射させるこ
とで、被走査面上に２以上の光ビームを同時に走査さ
せ、副走査方向の走査速度を向上させている。
【０００３】ところで、複数の光ビームを同時にポリゴ
ンミラーで偏向させる方法としては、例えば特開平８−
３０４７２２号公報に開示されているように、複数の光
ビームをビームスプリッターを用いて予め互いに近接す
る平行光に変えてからポリゴンミラーに入射させるとい
う方法がある。しかし、この方法では、高価な光学部品
であるビームスプリッターを利用するので、装置の製造
コストが増大するという不都合がある。
【０００４】そこで、例えば、特開２０００−２４９９
４８号公報では、ビームスプリッターを用いて２つの光
ビームを平行にする代わりに、２つの光ビームをそれぞ
れ異なる角度からポリゴンミラーの同一位置に入射させ
る方法を提案している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】特開２０００−２４９
９４８号公報の装置は、ビームスプリッターを採用しな
い点で、特開平８−３０４７２２号公報の装置よりも安
価に製造できるという利点を有する。しかし、特開２０
００−２４９９４８号公報の装置では、２つの光ビーム
が、ポリゴンミラーが回転する方向に所定の開き角θを
有した状態でポリゴンミラーに入射する。ポリゴンミラ
ーに入射する光ビームがこのような開き角θを有する場
合には、被走査面上の同じ範囲を走査させるために、ポ
リゴンミラーが回転すべき角度範囲が光ビーム間で相違
するようになる。この結果、被走査面上で走査される各
光ビーム間で像面湾曲や走査速度の特性が異なるように
なる。また、開き角θが存在しない場合よりも存在する
場合の方が、ポリゴンミラーの反射面の幅を大きくしな
ければならなくなるため、より内接円径の大きなポリゴ
ンミラーを利用しなければならない。また、そのより大
きなポリゴンミラーを高速回転させるためによりパワー
のある回転モータを使用しなければならなくなる。
【０００６】上記のような問題を抑制するためには、ポ
リゴンミラーに入射するそれぞれの光ビーム相互間の開
き角θをなるべく小さくすることが望まれる。ところ
が、特開２０００−２４９９４８号公報に開示されてい
る装置では、光学系の構成から、開き角θが、各光ビー
ムの光路上に配置されたカップリングレンズの径で決ま
る所定値よりも小さくすることがはできないという問題
があった。
【０００７】そこで本発明は、偏向器に入射させる複数
の光ビーム相互間の開き角θをより小さく抑制できるマ
ルチビーム走査装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様では、そ
れぞれ第１及び第２の発光素子から射出される第１及び
第２の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより
被走査面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置で
あって、第１の光ビームを入射させる光入射部と、第２
の光ビームの光束の一部を遮光しつつ光入射部から入射
された第１の光ビームを偏光器へ向けて射出する光射出
部とを有するプリズムを備えるマルチビーム走査装置が
提供される。
【０００９】また、本発明の他の態様では、それぞれ第
１及び第２の発光素子から射出される第１及び第２の光
ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面
上で同時に走査させるマルチビーム走査装置であって、
第１の光ビームを入射させる光入射部と、第２の光ビー
ムの光束の一部を偏光器がある方向と異なる方向へ向け
て偏向させつつ光入射部から入射された第１の光ビーム
を偏光器へ向けて射出する光射出部とを有するプリズム
を備えるマルチビーム走査装置が提供される。
【００１０】上記のような構成のマルチビーム走査装置
では、第１の光ビームと第２の光ビームとを極めて隣接
させた状態でプリズムから射出させることが可能であ
り、その結果、ポリゴンミラーへ入射する第１及び第２
の光ビームの開き角θを極めて小さくすることも可能に
なる。
【００１１】プリズムの光射出部は、第１の光ビームが
臨界角より大きな角度で入射し、偏向器へ向けて全反射
する反射面を含むように構成することができる。特に、
第２の光ビームの光束の一部を偏向させる光射出部は、
第１の光ビームを偏光器へ向けて全反射させている面
が、同時に、例えば屈折により第２の光ビームの光束の
一部を偏光器があるのと異なる方向へ偏向させるように
構成することができる。
【００１２】また、プリズムの光射出部は、反射膜が形
成された反射面を含み、その反射面が第１の光ビームを
偏向器へ向けて反射すると共に、第２の光ビームの光束
の一部を遮光するように構成することもできる。同じ反
射面を用いて第１の光ビームを反射すると共に、第２の
光ビームの一部を遮光するので、第２の光ビームが遮光
された領域に第１の光ビームを射出し、それにより、第
１及び第２のビームを隣接させることが容易にできるよ
うになる。
【００１３】本発明のある態様では、光射出部が面取り
がなされたプリズムの角部であり、その角部を形成する
一方の面が第１の光ビームを偏向器へ向けて反射するた
めの反射面となっている。そして、第１の光ビームは、
面取りされた部分に一部が入射するようにその反射面に
照射される。この結果、第１及び第２の光ビームを隙間
なく隣接させた状態で偏光器へ向けて射出される。
【００１４】なお、上記の場合には、プリズムの面取り
された部分が、入射した第１の光ビームを散乱させるよ
うに表面加工されていることが望ましい。また、プリズ
ムが、面取りされた部分に入射する第１の光ビームの光
量を制限する光量制限部を有することも望ましい。この
光量制限部としては、例えば、面取りされた部分へ向か
う第１の光ビームの一部を散乱させるように角部を形成
する他方の面に設けられた溝部を利用することができ
る。
【００１５】本発明は、第３の光ビームを射出する第３
の発光素子と、第２のプリズムをさらに備えることであ
ってもよい。この場合、第２のプリズムは、第３の光ビ
ームを入射させる光入射部と、第２の光ビームの光束の
一部を遮光しつつ、光入射部から入射された第３の光ビ
ームを偏向器へ向けて射出する光射出部とを有する。そ
して、第１及び第２のプリズムは、互いの光射出部の間
に第２の光ビームが通過する隙間を有するように配置さ
れる。この結果、第２の光ビームは、隙間を通過するこ
とによりそのビーム幅を規制される。
【００１６】なお、第２のプリズムは、第３の光ビーム
を入射させる光入射部と、第２の光ビームの光束の一部
を偏光器がある方向と異なる方向へ向けて屈折等を利用
して偏向させつつ、光入射部から入射された第３の光ビ
ームを偏向器へ向けて射出する光射出部とを有するよう
に構成してもよい。
【００１７】上記のようにさらに第３の発光素子等を備
える場合、本発明は、第１及び第２のプリズムより前記
偏光器側において、スリットを配置し、そのスリットを
用いて、第１および第３の光ビームのビーム幅を、第２
の光ビームのビーム幅とほぼ等しい幅になるように規制
することとしてもよい。
【００１８】本発明の一態様では、第１から第３までの
発光素子は、実質的に同一の平面内に各々の光ビームを
射出するように配置される。なお、上記平面は、偏光器
の回転軸に実質的に垂直に交わる平面であることが好ま
しい。
【００１９】本発明の一態様では、第１から第３までの
発光素子は、一の支持部材に一体に固定される。この支
持部材には、第１および第２のプリズムがさらに固定さ
れていてもよい。また、支持部材には、発光素子の各々
の光射出側に、発光素子が射出した光ビームを平行光に
変換するコリメータレンズが固定されていてもよい。
【００２０】支持部材は、例えば金属材料などの高熱伝
導性を有することが好ましい。これは、各発光素子をほ
ぼ同じ温度下作動させ、それにいわゆるモードホップを
抑制するためである。
【００２１】本発明の一態様では、第１から第３までの
光ビームのうち、一の光ビームを除く他の光ビームの光
路上には、偏光器がそれら光ビームを走査する主走査方
向と直交する副走査方向における前記光ビームの前記偏
光器への入射角を調整するための角度調整手段が配置さ
れる。これは、被走査面上で走査される光ビームの副走
査方向におけるピッチ間隔を調整できるようにするため
にである。角度調整手段が配置されない一の光ビーム
は、第１から第３の光ビームの中で、偏光器により偏向
された結果、被走査面上の走査領域に最初にビームスポ
ットを形成する光ビームとすることが好ましい。最初に
被走査面に現れるビームスポットの位置を基準に他のビ
ームスポットの副走査方向を調整すれば、調整が容易に
なるからである。
【００２２】本発明の他の態様では、それぞれ第１及び
第２の発光素子から射出される第１及び第２の光ビーム
を偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同
時に走査させるマルチビーム走査装置であって、第１の
光ビームを第２の光ビームの方へ向けて反射する第１の
反射面と、第１の反射面で反射された１の光ビームを偏
向器へ向けて反射すると共に、第２の光ビームの光束の
一部を遮光する、又は偏光器があるある方向と異なる方
向へ変更させる第２の反射面とを有するプリズムを備え
るマルチビーム走査装置が提供される。
【００２３】上記の態様のマルチビーム走査装置では、
第１及び第２の反射面の少なくとも一方は、少なくとも
一部に、第１の光ビームが臨界角より大きな角度で入射
し、全反射する領域を有することが好ましい。
【００２４】本発明の他の態様では、それぞれ第１及び
第２の発光素子から射出される第１及び第２の光ビーム
を偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同
時に走査させるマルチビーム走査装置において、端部を
第２の光ビームの光路内に配置することにより第２の光
ビームの光束の一部を遮光すると共に、端部を含む部位
で第１の光ビームを偏向器へ向けて反射するミラーを有
するマルチビーム走査装置が提供される。
【００２５】本発明の他の態様では、それぞれ第１、第
２および第３の光ビームを射出する第１、第２および第
３の発光素子と、第１の光ビームが入射する位置に配置
された第１のプリズムであって、所定の目標方向へ向け
られている第２の光ビームの光束の一部を遮光しつつ、
第１の光ビームを目標方向へ向けて射出する光射出部を
有する第１のプリズムと、第３の光ビームが入射する位
置に配置された第２のプリズムであって、目標方向へ向
けられている第２の光ビームの光束の一部を遮光しつ
つ、又は偏光器があるある方向と異なる方向へ変更させ
つつ、第３の光ビームを目標方向へ向けて射出する光射
出部を有する第２のプリズムと、第１から第３までの発
光素子と第１および第２のプリズムを一体に保持する支
持部材とを備える光源装置が提供される。
【００２６】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
るマルチビーム走査装置１００の光学的構成を模式的に
示す図である。図１に示されるように、マルチビーム走
査装置１００は、第１及び第２の発光素子１０２、１０
４を備えている。第１及び第２の発光素子１０２、１０
４は例えばレーザダイオードであり、それぞれ、第１及
び第２の光ビーム１０６、１０８を照射する。本実施形
態の場合、第１及び第２の発光素子１０２、１０４は、
第１及び第２の光ビーム１０６、１０８を、後述するポ
リゴンミラーの回転軸を法線とする平面内に、好ましく
はそれらが互いに実質的に平行となるように照射する。
【００２７】第２の発光素子１０４から照射された第２
の光ビーム１０８は、コリメータレンズ１１０により平
行光に変換された後、シリンドリカルレンズ１１２を通
過し、ポリゴンミラー１１４の反射面１１４ａへ入射す
る。シリンドリカルレンズ１１２は、ポリゴンミラー１
１４の反射面１１４ａの近傍に光ビームが収束するよう
に、ポリゴンミラー１１４の回転軸１１４ｂに平行な方
向（副走査方向）にのみ光ビームを収束させるパワーを
有する。
【００２８】第２の光ビーム１０８は、さらに、反射面
１１４ａにより反射され、ｆθレンズ１１８を通過し、
被走査面１２０上に結像される。ポリゴンミラー１１４
が所定速度で回転すると、被走査面１２０上に結像され
た第２の光ビームは、実質的に一定の速度で被走査面１
２０上を移動する。このとき第２の光ビームが移動する
方向を主走査方向という。また、被走査面１２０上で主
走査面に直交する方向を副走査方向という。
【００２９】第１の発光素子１０２から照射された第１
の光ビーム１０６は、コリメータレンズ１２２において
平行光に変換された後、プリズム１２４へ入射する。プ
リズム１２４は、第１の光ビーム１０６の光路を第２の
光ビーム１０８へ近づけ、それから第１の光ビーム１０
６をポリゴンミラー１１４へ向けて射出する。このと
き、プリズム１２４は、第２の光ビーム１０８が照射さ
れている位置とほぼ同じ位置において第１の光ビームが
ポリゴンミラー１１４の反射面１１４ａに照射されるよ
うに、第１の光ビーム１０６を射出する。このため、プ
リズム１２４よりポリゴンミラー１１４の側において、
第１および第２の光ビーム１０６、１０８は互いに平行
ではなく、ポリゴンミラー１１４の回転方向において相
互間に開き角θを有している。
【００３０】プリズム１２４から射出された第１の光ビ
ーム１０６は、第２の光ビーム１０８と同様に、シリン
ドリカルレンズ１１２を通過した後にポリゴンミラー１
１４に入射し、ポリゴンミラーの反射面１１４ａで反射
される。反射された第１の光ビーム１０６は、さらにｆ
θレンズ１１８を通過した後に被走査面１２０に照射さ
れ、そこに主走査方向に移動するビームスポットを形成
する。
【００３１】第２の光ビーム１０８の光路上であってコ
リメータレンズ１１０とシリンドリカルレンズ１１２と
の間には、さらに、第２の光ビーム１０８の位置調整用
素子１２６が配置されている。位置調整用素子１２６
は、例えばその光軸を含む断面がクサビ形状をしたプリ
ズムである。本実施形態では、位置調整用素子１２６の
配置を調整することにより、第２の光ビーム１０８がシ
リンドリカルレンズ１１２に入射する高さを調整する。
ここで高さとは、副走査方向の位置をいう。第２の光ビ
ーム１０８の高さは、第１の光ビーム１０６と所定距離
異なる高さでシリンドリカルレンズ１１２に入射するよ
うに調整される。これにより、第２の光ビーム１０８
は、ポリゴンミラーの反射面１１４ａにおいて第１光ビ
ーム１０６に対し僅かに傾いた状態でポリゴンミラー１
１４に入反射する。つまり、第２の光ビーム１０８は、
位置調整用素子１２６によりポリゴンミラー１１４に入
射する副走査方向の角度を調整される。角度を調整した
結果、第２の光ビーム１０８は、被走査面上で第１の光
ビーム１０６が走査する走査ラインに対し副走査方向へ
所定間隔離れた走査ライン上を走査するようになる。
【００３２】シリンドリカルレンズ１１２とポリゴンミ
ラー１１４の間には、さらに、スリット１２８が配置さ
れている。スリット１２８は、ポリゴンミラー１１４の
回転軸を法線とする平面に平行な長穴状の開口を有し、
この開口に第１及び第２光ビーム１０６、１０８を通過
させることにより、断面形状が互いにほぼ等しくなるよ
うに第１および第２の光ビームのビーム幅等を規制して
いる。これにより、第１および第２の光ビームの有効光
束が成形される。
【００３３】図２は、マルチビーム走査装置１００にお
けるプリズム１２４を含む一部を拡大して示す図であ
る。図２に示されるように、プリズム１２４は、第１の
光ビーム１０６が入射する入射面１２４ａ、それぞれ第
１のビーム１０６を反射するための反射膜がコーティン
グされている第１及び第２の反射面１２４ｂ、１２４
ｃ、並びに第１の光ビーム１０６が射出する射出面１２
４ｄを有している。
【００３４】第１の光ビーム１０６は、入射面１２４ａ
と第１の反射面１２４ｂとがなす角部を含む入射面１２
４ａの一部からプリズム１２４に入射する。なお、入射
面１２４には、第１の光ビーム１０６の透過を促進する
ため、反射防止膜がコーティングされていてもよい。
【００３５】プリズム１２４に入射した第１の光ビーム
１０６は、第１の反射面１２４ｂにおいて第２の反射面
１２４ｃへ向けて反射される。第１の反射面１２４ｂで
反射された第１の光ビーム１０６は、さらに、第２の反
射面１２４ｃにおいて反射され、射出面１２４ｄからポ
リゴンミラー１１４へ向けて射出する。
【００３６】第２の反射面１２４ｃと射出面１２４ｄに
より形成される角部には、面取り部１２４ｅが形成され
ている。第１の反射面１２４ｂにより反射された第１の
光ビーム１０６は、第２の反射面１２４ｃのみならず、
面取り部１２４ｅにも照射される。この結果、第２の反
射面１２４ｃの面取り部１２４ｅ側にある端部からも、
第１の光ビームがポリゴンミラー１１４へ向けて反射さ
れるようになる。
【００３７】面取り部１２４ｅは、そこへ入射した光を
散乱するように表面を加工されている。例えば、本実施
形態の面取り部１２４ｅは、＃４００〜＃８００程度の
表面荒さを有するスリ面に加工されている。このため
に、面取り部１２４ｅに入射した第１の光ビーム１０６
は、そこで散乱され、特定の方向へ大きな強度を有する
状態で透過または反射することはない。
【００３８】第２の反射面１２４ｃにおける射出面１２
４ｄ側の端部は、第２の光ビーム１０８の光路内に配置
されている。このため、第２の反射面１２４ｃの端部に
第２の光ビーム１０８の一部が照射される。第２の反射
面１２４ｃには、前述したように反射膜が設けられてい
るため、照射された第２の光ビーム１０８はそこで反射
され、ポリゴンミラー１１４へ向かうことはない。つま
り、第２の反射面１２４ｃの端部は、第２の光ビーム１
０８の光束の一部を遮光している。
【００３９】このように、第２の反射面１２４ｃの端部
は、第２の光ビームを遮光すると共に、同時に、第１の
光ビーム１０６をポリゴンミラー１１４に向けて反射さ
せている。このため、プリズム１２４の射出面１２４ｄ
側では、第２の光ビーム１０８が遮光された領域におい
て第１の光ビーム１０６が射出され、結果として第１の
光ビーム１０６の光束が第２の光ビーム１０８の光束と
隙間なく隣接するようになる。既に説明したように、第
１及び第２の光ビーム１０６、１０８は、ポリゴンミラ
ー１１４の回転方向において互いに開き角θを有する状
態でポリゴンミラー１１４へ入射しているが、プリズム
１２４の射出面１２４ｄにおいて、第１及び第２の光ビ
ーム１０６、１０８が互いに隙間なく隣接し、第１およ
び第２の光ビーム１０６、１０８の間隔が極めて小さく
なっているために、開き角θも極めて小さくなってい
る。
【００４０】図３は、第１の光ビームが射出する部位を
含むプリズム１２４の一部分の拡大図である。射出面１
２４ｄには、第１の反射面１２４ｂで反射され、面取り
部１２４ｅへ向かう第１の光ビーム１０６の一部を散乱
させ、それにより面取り部１２４ｅへ入射し散乱される
光量を制限する散乱光量制限部が設けられている。散乱
光量制限部としては、例えば、図３に示すように、射出
面１２４ｄに設けられ、その面がすり面となっている遮
光溝１２４ｆを利用することができる。
【００４１】遮光溝１２４ｆは、例えば、第１の光ビー
ム１０６がプリズム１２４から射出する領域（図中１２
４ｈ）の外に、面取り部１２４ｅに平行に設けられる。
第１の反射面１２４ｂから第２の反射面１２４ｃへ向か
う光の一部は、図中直線１０６ａで示すように、遮光溝
１２４ｆに当たり、散乱する。いま、遮光溝１２４ｆの
深さをＬｓ、面取り部１２４ｅの幅をＬｃとすると、遮
光溝１２４ｆは、例えばＬｓ＜Ｌｃとなるように設けら
れる。これにより、面取り部１２４ｅの上部の幅Δｌ
（Δｌは、Ｌｃ−Ｌｓにほぼ等しい）の領域にのみ光ビ
ーム１０６が照射、散乱される。このような遮光溝１２
４ｆを用いて面取り部１２４ｅへ入射する光量を制限す
ることで、面取り部１２４ｅにおいて強い散乱光が発生
することが防止される。
【００４２】図１に示したマルチビーム走査装置１００
では、プリズム１２４の構成を種々に変えることができ
る。例えば、射出面１２４ｄのうち、少なくとも光ビー
ム１０６が射出される領域に（特に面取り部１２４ｅと
遮光溝１２４ｆの間の領域に）第１の光ビーム１０６の
透過を促進する反射防止膜を設けることができる。さら
に、上記の反射防止膜が設けられた部分を除く射出面１
２４ｄの領域に、光を透過させない遮光膜を設け、それ
により、プリズム１２４からポリゴンミラー１１４へ不
要な光が射出されないようすることもできる。
【００４３】また、プリズム１２４としては、第１の光
ビーム１０６が第１の反射面１２４ｂに臨界角よりも大
きな角度で入射し、そこで全反射するように、第１の反
射面１２４ｂの傾きが調整されたプリズムを利用するこ
ともできる。このようなプリズムでは、第１の反射面１
２４に反射膜を設ける必要がなくなるという利点があ
る。
【００４４】また、プリズム１２４としては、第２の反
射面１２４ｃでも第１の光ビーム１０６が全反射するよ
うに、第１および第２の反射面１２４ｂ、１２４ｃの傾
きが調整されているプリズムを利用することもできる。
この場合には、第２の反射面１２４ｃのうち、第２の光
ビーム１０８が照射される領域にのみ反射膜を設け、そ
こで第２の光ビームを遮光するようにしてもよい。この
ようにプリズム１２４を構成すれば、反射膜をコーティ
ングすべき領域が減り、プリズム１２４をより安価に製
造できるようになる。
【００４５】また、プリズム１２４としては、第２の光
ビームのうち第２の反射面１２４ｃに照射された光束が
プリズム１２４により屈折され、ポリゴンミラー１１４
の反射面１１４ａがある方向と異なる方向へ進行するよ
うに形成されたプリズムを利用することもできる。この
場合には、第２の反射面１２４ｃに反射膜を設ける必要
がなくなるので、プリズム１２４をさらに安価に製造で
きるようなる。
【００４６】図４は、図１に示したマルチビーム走査装
置１００の変形例における発光素子１０２、１０４から
シリンドリカルレンズ１１２までの構成を示した図であ
る。図４に示すマルチビーム走査装置では、四角柱形状
をしたプリズム１２４を用いる代わりに、プリズム１２
４のうち第１の反射面１２４ｂを含む一部を切り取るこ
とにより得られた三角柱形状のプリズム１４０を用いて
いる。
【００４７】図４において、プリズム１４０は光ビーム
を入射させる入射面１４０ａ、入射した光ビームをポリ
ゴンミラー１１４へ向けて反射する反射面１４０ｂ、及
び光ビームを射出する射出面１４０ｃを有する。反射面
１４０ｂと射出面１４０ｃとにより形成される角部に
は、面取り部１４０ｅが設けられている。また、射出面
１４０ｃには、プリズム１２４の遮光溝１２４ｆと同様
の作用効果を奏する遮光溝１４０ｄが設けられている。
反射面１４０ｂ及び面取り部１４０ｅは、それぞれプリ
ズム１２４の反射面１２４ｂ及び面取り部１２４ｅに対
応する部位であり、反射面１２４ｂ及び面取り部１２４
ｅと同様の構成を有し、同様の作用効果を奏する。
【００４８】このように使用するプリズムの形状を変え
ることで、マルチビーム走査装置１００において発光素
子１０２の配置を、例えば第１の光ビーム１０６が第２
の光ビーム１０８へ交差する方向に射出されるよう配置
するなど、種々に変えることができる。
【００４９】図５は、本発明の他の実施形態に係るマル
チビーム走査装置２００を示す図である。マルチビーム
走査装置２００は、３つの光ビームを被走査面上で同時
に走査できるよう、図１に示したマルチビーム走査装置
１００にさらに第３の発光素子２０２を備えた装置であ
る。第３の発光素子２０２は、第２の発光素子１０４を
挟んで第１の発光素子１０２と反対の側に配置されてい
る。第３の発光素子２０２から射出された第３の光ビー
ム２０４は、コリメータレンズ２０６により平行光に変
換され、さらに、位置調整用素子２０８によりシリンド
リカルレンズ１１２に入射する高さを調整される。次
に、第３の光ビーム２０４は、プリズム２１０に入射
し、プリズム２１０内で第２の光ビーム１０８の方へ反
射された後、第２の光ビームと隣接する位置からから射
出される。さらに、第３の光ビーム２０４は、第１およ
び第２の光ビーム１０６、１０８と共にシリンドリカル
レンズ１１２およびスリット１２８を通過する。スリッ
ト１２８を通過することにより、第１および第３の光ビ
ーム１０６、２０４のビーム幅（有効光束の形状）は、
第２の光ビーム１０８のビーム幅（有効光束の形状）と
ほぼ同じに規制される。スリット１２８を通過した後、
第３の光ビーム２０４は、第１および第２の光ビーム１
０６、１０８と共にポリゴンミラー１１４の反射面１１
４ａにおいて被走査面１２０へ向けて反射される。
【００５０】ところで、図５に示されているように、第
１の光ビーム１０６の光路上には、第２又は第３の光ビ
ーム１０８、２０４のように位置調整用素子（１２６、
２０８）が配置されていない。これは、図５に示したマ
ルチビーム走査装置２００では、第１の光ビーム１０６
が、被走査面１２０上を走査される光ビーム間の副走査
方向の位置を決めるための基準ビームとして利用される
からである。第１の光ビーム１０６を基準ビームとして
利用するのは、ポリゴンミラー１１４の回転により各光
ビームが走査された場合に、被走査面１２０のスキャン
エリア内に最初に現れる光ビームがこの第１の光ビーム
１０６であり、このために、第１の光ビーム１０６を基
準にその後スキャンエリアに現れる他の光ビームの副走
査方向の位置を調整することが、他の光ビームを基準と
して同様の調整を行う場合よりも容易だからである。
【００５１】図６は、図５に示したマルチビーム走査装
置２００のうち、第１から第３の発光素子１０２、１０
４、２０２からシリンドリカルレンズ１１２までを拡大
して示す図である。図６に見られるように、プリズム２
１０は、第１の光ビームの光路上に配置されているプリ
ズム１２４と同一の構成を有している。すなわち、プリ
ズム２１０は、第３の光ビーム２０４が入射する入射面
２１０ａ、それぞれ第３のビーム２０４を反射する第１
及び第２の反射面２１０ｂ、２１０ｃ、並びに第３の光
ビーム２０４が射出する射出面２１０ｄを有している。
【００５２】第３の光ビーム２０４は、入射面２１０ａ
と第１の反射面２１０ｂとがなす角部を含む入射面２１
０ａの一部からプリズム２１０に入射する。入射した第
３の光ビーム２０４は、第１の反射面２１０ｂにおいて
第２の反射面２１０ｃへ向けて反射される。さらに、第
３の光ビーム２０４は第２の反射面１２４ｃにおいて反
射され、射出面２１０ｄからポリゴンミラー１１４へ向
けて射出される。
【００５３】第２の反射面２１０ｃと射出面２１０ｄに
より形成される角部には、面取り部２１０ｅが形成され
ている。第１の反射面２１０ｂにより反射された第３の
光ビーム２０４は、第２の反射面２１０ｃのみならず、
面取り部２１０ｅにも照射される。面取り部２１０ｅ
は、プリズム１２４の面取り部１２４ｅと同様に、そこ
へ入射した光を散乱するように表面が加工されている。
また、射出面２１０ｄには、面取り部２１０ｅに入射す
る第３の光ビームの光量を制限する遮光溝２１０ｆが形
成されている。
【００５４】第２の反射面２１０ｃにおける射出面２１
０ｄ側の端部は、第２の光ビーム１０８の光路内に配置
されている。このため、第２の反射面２１０ｃの端部に
第２の光ビーム１０８の一部が入射する。第２の反射面
２１０ｃには、第１のプリズム１２４のときと同様に反
射膜が形成されている。したがって、第１の光ビーム１
０８のうち第２の反射面２１０ｃに照射された部分は、
第２の反射面２１０ｃにおいて反射され、ポリゴンミラ
ー１１４へ向かうことはない。
【００５５】このようにプリズム２１０では、プリズム
１２４と同様に、第２の反射面２１０ｃの端部が、第２
の光ビーム１０８を遮光しつつ、第３の光ビーム２０４
をポリゴンミラー１１４に向けて反射させている。この
ため、プリズム２１０の射出面２１０ｄ側では、第２の
光ビーム２０４が遮光されている領域に第３の光ビーム
２１０が射出され、結果として第３の光ビーム２１０の
光束と第２の光ビーム１０８の光束とが隙間なく隣接す
るようになる。
【００５６】図６に見られるように、プリズム２１０
は、第２の光ビーム１０８を挟んでプリズム１２４が配
置されているのとは反対側に、第２の光ビーム１０８を
ポリゴンミラー１１４へ向けて通過させることができる
隙間Ｓをプリズム１２４との間に有するように配置され
ている。なお、このとき、プリズム１２４およびプリズ
ム２１０は、第２の光ビーム１０８の主光線が隙間Ｓの
ほぼ中央を通過するように配置されていることが好まし
い。
【００５７】第２の光ビーム１０８は、上記の隙間Ｓを
通過する際に、第１および第２のプリズムの反射面１２
４ｃ、２１０ｃによりその外側の光束を遮光され、それ
によりビーム幅を規制される。つまり、プリズム１２４
とプリズム２１０との間の隙間Ｓは、第２の光ビーム１
０８の口径を定めるという役割を果たしている。
【００５８】図５に示したマルチビーム走査装置２００
は、第１から第３の発光素子（１０２、１０４、２０
２）等を一の支持部材に取り付けた光源装置を予め用意
し、その光源装置をマルチビーム走査装置２００の筐体
内に設置するという方法で製造することができる。図７
は、そのような光源装置２５０の一例を示す上面図
（ａ）、側面図（ｂ）、および正面図（ｃ）である。光
源装置２５０では、支持部材（基板）２５２を有し、そ
の支持部材２５２の上に、第１から第３の発光素子１０
２、１０４、２０２、コリメータレンズ１２２、１１
０、２０６、位置調整用素子１２６、２０８、プリズム
１２４、２１０、シリンドリカルレンズ１１２、および
スリット１２８が取り付けられている。
【００５９】第１から第３までの発光素子１０２、１０
４、２０２は、それらがほぼ同じ平面内でほぼ同一方向
に、つまりほぼ平行に光ビームを照射するように支持部
材２５２に取り付けられている。このように発光素子を
取り付けた場合、各発光素子を駆動するための電気回路
（不図示）を発光装置の背面側（発光素子が光を射出す
る側と反対の側）にまとめて配置することができるの
で、便利である。
【００６０】また、発光装置２５０では、支持部材２５
２に、第１から第３の発光素子１０２、１０４、２０２
と共に、各発光素子に対応するコリメータレンズ（１２
２、１１０、２０６）が一体に固定されているので、各
コリメータレンズにより平行光に変換された光ビームの
相対的な位置関係を維持することが容易である。例え
ば、周囲環境の温度が変化し、図５に示したマルチビー
ム走査装置２００を構成している各部品が熱膨脹、又は
収縮をすると、その影響を受けて発光素子や、コリメー
タレンズの位置がずれ、その結果、発光素子から射出さ
れ、コリメータレンズを通過した各光ビーム間の平行が
失われる可能性がある。発光素子又はコリメータの近傍
で光ビームの位置や傾きに僅かな変化生じても、その変
化は被走査面１２０では大きく拡大され、被走査面に描
画される画像の質を著しく低下させる。しかし、図７に
示した光源装置２５０では、一の支持部材２５２に発光
素子（１０２、１０４、２０２）およびコリメータレン
ズ（１２２、１１０、２０６）を一体に取り付けている
ので、周囲温度変化により支持部材２５２が多少熱膨脹
等を行っても、各光ビーム間の平行は失われにくく、し
たがって、被走査面１２０に各光ビームにより描画され
る画像の質も低下しにくい。
【００６１】発光装置２５０の支持部材２５２は、例え
ば金属材料等の高熱伝導性を有する材料から形成される
ことが好ましい。例えばいわゆるモードホップを生じる
レーザダイオードのように、出力する光の波長が温度に
より変化するような素子を発光素子として利用した場
合、周囲温度の影響を受けて各発光素子がそれぞれ異な
る温度で作動してしまい、それぞれ異なる波長の光ビー
ムを出力する可能性がある。各発光素子から異なる波長
の光ビームが出力されると、それら光ビームがｆθレン
ズを通過する際に色収差の影響が現れる。すなわち、各
光ビームにより被走査面上に形成されるビームスポット
の位置が本来の位置からずれ、いわゆるジッターという
現象が生じる。これに対し、図７に示した光源装置２５
０では、支持部材２５２が金属等の高熱伝導性の材料か
ら形成されており、支持部材２５２とそれに取り付けら
れている第１から第３の発光素子との間で熱が伝わりや
すいので、支持部材２５２により、３つの発光素子の温
度がほぼ同じ温度に維持される。このため、各発光素子
間で出力する光の波長が異なるという不都合が抑制され
る。
【００６２】図５に示したマルチビーム走査装置２００
は、その構成を種々に変形することができる。例えば、
マルチビーム走査装置２００では、図８に示すように、
四角柱形状をしたプリズム１２４および２１０の代わり
に、図４で説明した三角柱形状のプリズム１４０を２つ
用いて構成することもできる。
【００６３】図９は、図５に示したマルチビーム走査装
置２００の変形例であって、図８と異なる変形例の発光
素子からシリンドリカルレンズまでの構成を示した図で
ある。図９に示す変形例でも、２つの四角柱形状をした
プリズム１２４および２１０の代わりに、２つの三角柱
形状のプリズム２６０が利用されている。
【００６４】プリズム２６０は、第１の面２６２、第２
の面２６４、および第３の面２６６を有している。第３
の面２６６には、反射膜が設けられている。２つのプリ
ズム２６０は、第２の面２６４が第２の光ビーム１０８
の主光線にほぼ平行であり、かつ互いの間に第２の光ビ
ーム１０８を通過させるための隙間Ｓを有するように配
置されている。なお、これは必須の事項ではないが、本
実施形態では、２つのプリズム２６０は第２の光ビーム
１０８の主光線が隙間Ｓのほぼ中央を通るように配置さ
れている。
【００６５】上記のようにプリズム２６０を配置した場
合、第２の光ビーム１０８の光束の一部がプリズム２６
０の第１の面２６２に照射される。第１の面２６２に照
射された光束は、プリズム２６０に入射し、第３の面２
６６に設けられている反射膜によりポリゴンミラー１１
４に入射しない方向へと反射される。このため、ポリゴ
ンミラー１１４へ達する第２の光ビーム１０８のビーム
幅は、２つのプリズムの間の隙間Ｓと同じ幅に制限され
る。
【００６６】第１および第３の発光素子１０２、２０
２、およびそれら発光素子に対応するコリメータレンズ
１２２、２０６は、第１および第３の光ビーム１０６、
２０４が第２の光ビーム１０８と同一面内において、第
２の光ビーム１０８と交差する方向へ射出されるように
配置されている。第１および第３の光ビーム１０６、２
０４は、それぞれ、対応するプリズムの第３の面２６６
に入射し、そこに設けられている反射膜によりポリゴン
ミラー１１４へ向けて反射される。
【００６７】なお、図９に示す変形例では、プリズム２
６０の第１の面２６２に反射膜を設け、その反射膜を利
用して第１の面２６２に照射された第２の光ビーム１０
８の光束をポリゴンミラー１１４へ向かわない方向へ反
射することとしてもよい。あるいは、プリズム２６０の
第１の面２６２は、そこを透過した光束が被走査面に有
害な影響を与えることがない程度まで光の透過率が低下
するように、又は光の透過率が実質的にゼロとなるよう
に処理されることであってもよい。具体的には、例え
ば、第１の面２６２を不透明になるように研磨又は着色
する、あるいは、第１の面２６２に光を透過させない部
材を第１の面２６２に張り付けることができる。
【００６８】また、図９に示す変形例では、プリズム２
６０の代わりに、プリズム２６０と同一の形状に形成さ
れ、少なくとも面２６４に対応する部位を鏡面研磨され
ているアルミ等の金属を用いることもできる。あるい
は、プリズム２６０の代わりに、プリズム２６０と同一
形状に形成され、面２６４に対応する部位が光を反射す
るように処理されている不透明な部材を用いることもで
きる。
【００６９】図１０は、図９に示したマルチビーム走査
装置２００のさらに異なる変形例の発光素子からシリン
ドリカルレンズまでの構成を示す図である。この図に示
した変形例は、２つのプリズム２６０の代わりに１つの
プリズム２８０を利用している点で図９に示した変形例
と異なっている。図１１は、図１０に示した変形例で使
用されているプリズム２８０の斜視図を示している。
【００７０】図１０および図１１より分かるように、プ
リズム２８０は、２つの前面２８２、２つの後面２８
４、および一つの溝部２８６を有する。溝部２８６は、
２つの前面２８２の間、および、２つの後面２８４の間
に位置するようにプリズム２８０に設けられている。
【００７１】プリズム２８０は、第１および第３の光ビ
ーム１０２、２０４がそれぞれ異なる後面２８４に照射
されるように、好ましくは、後面２８４のポリゴンミラ
ー１１４側の端部を含む領域に照射されるように配置さ
れている。２つの後面２８４は、反射膜が設けられてお
り、その反射膜を用いて第１および第３の光ビーム１０
６、２０４をポリゴンミラー１１４へ向けて反射するよ
うに構成されている。
【００７２】プリズム２８０は、第２の光ビーム１０８
が溝部２８６内を溝部２８６に平行に通過するように、
また、第２の光ビーム１０８の光束の一部が２つの前面
２８２の各々に照射されるように、第２の光ビーム１０
８の光路上に配置されている。前面２８２に照射された
光束は、プリズム２８０に入射し、後面２８４に設けら
れた反射膜によりポリゴンミラーの反射面１１４ａに入
射しない方向へ反射される。したがって、プリズム２８
０を通過する第２の光ビーム１０８のビーム幅は、溝部
２８６の幅ｗに制限される。
【００７３】なお、プリズム２８０の前面２８２は、図
９の変形例で用いたプリズム２６０の第１の面２６２と
同様に反射膜を設け、その面に照射される光束を反射す
るように構成されてもよい。あるいは、プリズム２８０
の前面２８２に光の透過率を低下させる、又は光の透過
率を実質的にゼロにするような処理が施されていてもよ
い。
【００７４】また、プリズム２８０は、図９に示す変形
例のプリズム２６０と同様に、プリズム２８０と同一の
形状に形成され、少なくとも面２８４に対応する部位を
鏡面研磨されているアルミ等の金属、又は面２８４に対
応する部位が光を反射するように処理されている不透明
な部材と置き換えることができる。
【００７５】図１０に示す変形例では、第１および第３
の光ビーム１０６、２０４をポリゴンミラーへ向けて反
射する反射面が、１つのプリズム２８０に形成されてい
る２つの後面２８４であり、また、第２の光ビーム１０
８のビーム幅を規制する部位が、同じプリズム２８０に
形成されている溝部２８６である。このために、図１０
に示す変形例に係るマルチビーム走査装置では、第１お
よび第３の光ビーム１０６、２０４を反射する反射面の
間の位置を調整する、又は、第２の光ビーム１０８のビ
ーム幅を規制する部位の幅を調整するという作業を必要
としない。
【００７６】以上、本発明に係るマルチビーム走査装置
１００について説明したが、マルチビーム走査装置１０
０は本発明の一実施形態に過ぎず、本発明の技術的思想
の範囲内で種々に変形することができる。例えば、図１
に示したマルチビーム走査装置では、プリズム１２４の
代わりに、それぞれ第１及び第２の反射面１２４ｂ、１
２４ｃの位置に配置されミラーを利用して第１の光ビー
ムの光路を調整し、あるいは、第２の光ビームの一部を
遮光することもできる。同様に、図５に示したマルチビ
ーム走査装置でも、各プリズムの代わりに、各々のプリ
ズムの各反射面の位置に配置されたミラーを用いて各光
ビームの光路調整および遮光を行うことができる。
【００７７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プリズムから射出された第１の光ビームは、プリズムに
よって光束の一部が遮光された第２の光ビームと隣接す
るようになる。この結果、ポリゴンミラーに入射する第
１及び第２の光ビームの開き角θを小さくすることが可
能となり、ビーム間の光学収差を最小にすることがで
き、ポリゴンミラーの内接円の大きさを小さくすること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るマルチビーム走査装
置の光学的構成を模式的に示す図である。
【図２】図１のマルチビーム走査装置におけるプリズム
を含む一部を拡大して示す図である。
【図３】第１の光ビームが射出する部位を含むプリズム
の一部分の拡大した図である。
【図４】図１に示したマルチビーム走査装置の変形例に
おける一部構成を示した図である
【図５】本発明の他の実施形態に係るマルチビーム走査
装置を示す図である。
【図６】図５に示したマルチビーム走査装置の一部拡大
図である。
【図７】光源装置２５０の一例を示す上面図（ａ）、側
面図（ｂ）、および正面図（ｃ）である。
【図８】図５に示したマルチビーム走査装置の変形例の
一部構成を示す図である。
【図９】図５に示したマルチビーム走査装置の他の変形
例の一部構成を示す図である。
【図１０】図５に示したマルチビーム走査装置のさらに
異なるの変形例の一部構成を示す図である。
【図１１】図１０に示したマルチビーム走査装置におい
て利用されるプリズムの斜視図である。
【符号の説明】
１００ マルチビーム走査装置 １０２、１０４、２０２ 発光素子 １１０、１２２、２０６ コリメータレンズ １２６、２０８ 位置調整素子１１４ ポリゴンミラー １２０ 被走査面 １２４、２１０ プリズム １２４ａ、２１０ａ 入射面 １２４ｂ、２１０ｂ 第１の反射面 １２４ｃ、２１０ｃ 第２の反射面 １２４ｄ、 ２１０ｄ 射出面 １２４ｅ、 ２１０ｅ 面取り部分 １２４ｆ、 ２１０ｆ 遮光溝Ｌｓ 遮光溝の深さ Ｌｃ 面取り長さ Δｌ 散乱光の範囲
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA11 AA42 BA04 BA48 BA58 BA82 2H045 BA22 BA33 CB17 CB24 DA02 2H087 KA08 KA19 LA22 RA41 TA01 TA02 TA08 5C051 AA02 CA07 DA02 DB22 DB24 DB30 DC07 5C072 AA03 DA02 DA10 HA02 HA06 HA09 HA13 HB10 XA05

Claims (52)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 第１および第２の発光素子を備え、前記
    第１及び第２の発光素子から射出される第１及び第２の
    光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査
    面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置におい
    て、 前記第１の光ビームを入射させる光入射部と、前記第２
    の光ビームの光束の一部を遮光しつつ、前記光入射部か
    ら入射された前記第１の光ビームを前記偏向器へ向けて
    射出する光射出部とを有する第１のプリズムを備えるこ
    とを特徴とするマルチビーム走査装置。
  2. 【請求項２】 第１および第２の発光素子を備え、前記
    第１及び第２の発光素子から射出される第１及び第２の
    光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査
    面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置におい
    て、 前記第１の光ビームを入射させる光入射部と、前記第２
    の光ビームの光束の一部を前記偏光器がある方向と異な
    る方向へ向けて偏向させつつ、前記光入射部から入射さ
    れた前記第１の光ビームを前記偏向器へ向けて射出する
    光射出部とを有する第１のプリズムを備えることを特徴
    とするマルチビーム走査装置。
  3. 【請求項３】 前記光射出部は、前記第２の光ビームの
    光束の一部を前記偏光器がある方向と異なる方向へ向け
    て屈折させることを特徴とする請求項２に記載のマルチ
    ビーム走査装置。
  4. 【請求項４】 前記光射出部は、前記第１の光ビームを
    前記第２の光ビームに隙間なく隣接させた状態で前記偏
    光器へ向けて射出することを特徴とする請求項１又は２
    に記載のマルチビーム走査装置。
  5. 【請求項５】 前記光射出部は、前記第１の光ビームが
    臨界角より大きな角度で入射し、前記偏向器へ向けて全
    反射する反射面を含むことを特徴とする請求項１又は２
    に記載のマルチビーム走査装置。
  6. 【請求項６】 前記第１のプリズムの光射出部は、反射
    膜が形成された反射面を含み、 前記第１のプリズムの反射面は、前記第１の光ビームを
    前記偏向器へ向けて反射すると共に、前記第２の光ビー
    ムの光束の一部を遮光することを特徴とする請求項１又
    は２に記載のマルチビーム走査装置。
  7. 【請求項７】 前記光射出部は、面取りがなされた前記
    第１のプリズムの角部であり、前記角部を形成する一方
    の面が前記第１の光ビームを前記偏向器へ向けて反射す
    る反射面であり、前記第１の光ビームは、前記面取りさ
    れた部分に一部が入射するように前記反射面に照射され
    ることを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチビー
    ム走査装置。
  8. 【請求項８】 前記第１のプリズムの前記面取りされた
    部分は、入射した前記第１の光ビームを散乱させるよう
    に表面が加工されていることを特徴とする請求項７に記
    載のマルチビーム走査装置。
  9. 【請求項９】 前記第１のプリズムは、前記面取りされ
    た部分に入射する前記第１の光ビームの光量を制限する
    光量制限部を有することを特徴とする請求項７に記載の
    マルチビーム走査装置。
  10. 【請求項１０】 前記光量制限部は、前記面取りされた
    部分へ向かう前記第１の光ビームの一部を散乱させるよ
    うに前記角部を形成する他方の面に設けられた遮光溝部
    であることを特徴とする請求項９に記載のマルチビーム
    走査装置。
  11. 【請求項１１】 前記面取りされた部分の幅より前記遮
    光溝部の深さが小さく、前記面取りされた部分において
    前記第１の光ビームが散乱される領域は、前記面取りさ
    れた部分の幅と前記遮光溝部の深さとの差にほぼ等しい
    幅を有することを特徴とする請求項１０に記載のマルチ
    ビーム走査装置。
  12. 【請求項１２】 第３の光ビームを射出する第３の発光
    素子と、 前記第３の光ビームを入射させる光入射部と、前記第２
    の光ビームの光束の一部を遮光しつつ、前記光入射部か
    ら入射された前記第３の光ビームを前記偏向器へ向けて
    射出する光射出部とを有する第２のプリズムとをさらに
    備え、 前記第１及び第２のプリズムは、互いの前記光射出部の
    間に前記第２の光ビームが通過する隙間を有するように
    配置され、 前記第２の光ビームは、前記隙間を通過することにより
    ビーム幅を規制されることを特徴とする請求項１又は２
    に記載のマルチビーム走査装置。
  13. 【請求項１３】 第３の光ビームを射出する第３の発光
    素子と、 前記第３の光ビームを入射させる光入射部と、前記第２
    の光ビームの光束の一部を前記偏光器がある方向と異な
    る方向へ向けて偏向させつつ、前記光入射部から入射さ
    れた前記第３の光ビームを前記偏向器へ向けて射出する
    光射出部とを有する第２のプリズムをさらに備え、 前記第１及び第２のプリズムは、互いの前記光射出部の
    間に前記第２のビームが通過する隙間を有するように配
    置され、 前記第２の光ビームは、前記隙間を通過することにより
    ビーム幅を規制されることを特徴とする請求項１又は２
    に記載のマルチビーム走査装置。
  14. 【請求項１４】 前記第２のプリズムの光射出部は、前
    記第３の光ビームの光束の一部を前記偏光器がある方向
    と異なる方向へ向けて屈折させることを特徴とする請求
    項１３に記載のマルチビーム走査装置。
  15. 【請求項１５】 前記第１及び第２のプリズムは、前記
    第２の光ビームの主光線が前記隙間の実質的に中央を通
    過するように配置されていることを特徴とする請求項１
    ２又は１３に記載のマルチビーム走査装置。
  16. 【請求項１６】 前記第１及び第２のプリズムより前記
    偏光器側において、前記第１および第３の光ビームのビ
    ーム幅を前記第２の光ビームのビーム幅とほぼ等しい幅
    に規制するように配置されたスリットをさらに備えるこ
    とを特徴とする請求項１２又は１３に記載のマルチビー
    ム走査装置。
  17. 【請求項１７】 前記第１から第３までの発光素子は、
    実質的に同一の平面内に各々の光ビームを射出するよう
    に配置されていることを特徴とする請求項１２又は１３
    に記載のマルチビーム走査装置。
  18. 【請求項１８】 前記第１から第３までの発光素子は、
    略同一方向に向けて前記第１から第３までの光ビームを
    射出することを特徴とする請求項１７に記載のマルチビ
    ーム走査装置。
  19. 【請求項１９】 前記平面は、前記偏光器の回転軸に実
    質的に垂直に交わる平面であることを特徴とする請求項
    １７に記載のマルチビーム走査装置。
  20. 【請求項２０】 前記第１から第３までの発光素子は、
    一の支持部材に一体に固定されていることを特徴とする
    請求項１２又は１３に記載のマルチビーム走査装置。
  21. 【請求項２１】 前記支持部材には、前記第１及び第２
    のプリズムがさらに固定されていることを特徴とする請
    求項２０に記載のマルチビーム走査装置。
  22. 【請求項２２】 前記第１及び第２のプリズムより前記
    偏光器側において、前記第１および第３の光ビームのビ
    ーム幅を前記第２の光ビームのビーム幅とほぼ等しい幅
    に規制するスリットが前記支持部材にさらに固定されて
    いることを特徴とする請求項２１に記載のマルチビーム
    走査装置。
  23. 【請求項２３】 前記支持部材には、前記発光素子の各
    々の光射出側に、前記発光素子が射出した光ビームを平
    行光に変換するコリメータレンズが固定されていること
    を特徴とする請求項２０に記載のマルチビーム走査装
    置。
  24. 【請求項２４】 前記支持部材は、高熱伝導性の材料か
    らなることを特徴とする請求項２０に記載のマルチビー
    ム走査装置。
  25. 【請求項２５】 前記支持部材は、金属材料からなるこ
    とを特徴とする請求項２４に記載のマルチビーム走査装
    置。
  26. 【請求項２６】 前記第１から第３までの光ビームのう
    ち、一の前記光ビームを除く他の前記光ビームの光路上
    には、前記偏光器が前記光ビームを走査する主走査方向
    と直交する副走査方向における前記光ビームの前記偏光
    器への入射角を調整するための角度調整手段が配置され
    ていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載のマ
    ルチビーム走査装置。
  27. 【請求項２７】 前記一の光ビームは、前記偏光器によ
    り偏向された結果、前記第１から第３の光ビームの中で
    前記被走査面上の走査領域に最初にビームスポットを形
    成する光ビームであることを特徴とする請求項２６に記
    載のマルチビーム走査装置。
  28. 【請求項２８】 前記第２のプリズムの前記光射出部
    は、前記第３の光ビームを前記第２の光ビームに隙間な
    く隣接させた状態で前記偏光器へ向けて射出することを
    特徴とする請求項１２又は１３に記載のマルチビーム走
    査装置。
  29. 【請求項２９】 前記第２のプリズムの前記光射出部
    は、前記第３の光ビームが臨界角より大きな角度で入射
    し、前記偏向器へ向けて全反射する反射面を含むことを
    特徴とする請求項１２又は１３に記載のマルチビーム走
    査装置。
  30. 【請求項３０】 前記第２のプリズムの前記光射出部
    は、面取りがなされた前記第２のプリズムの角部であ
    り、前記角部を形成する一方の面が前記第３の光ビーム
    を前記偏向器へ向けて反射する反射面であり、前記第３
    の光ビームは、前記面取りされた部分に一部が入射する
    ように前記反射面に照射されることを特徴とする請求項
    １２又は１３に記載のマルチビーム走査装置。
  31. 【請求項３１】 前記第２のプリズムの前記面取りされ
    た部分は、入射した前記第３の光ビームを散乱させるよ
    うに表面が加工されていることを特徴とする請求項３０
    に記載のマルチビーム走査装置。
  32. 【請求項３２】 前記第２のプリズムは、前記面取りさ
    れた部分に入射する前記第３の光ビームの光量を制限す
    る光量制限部を有することを特徴とする請求項３０に記
    載のマルチビーム走査装置。
  33. 【請求項３３】 前記光量制限部は、前記面取りされた
    部分へ向かう前記第１の光ビームの一部を散乱させるよ
    うに前記角部を形成する他方の面に設けられた遮光溝部
    であることを特徴とする請求項３２に記載のマルチビー
    ム走査装置。
  34. 【請求項３４】 それぞれ第１及び第２の発光素子から
    射出される第１及び第２の光ビームを偏向器を用いて偏
    向させることにより被走査面上で同時に走査させるマル
    チビーム走査装置において、 前記第１の光ビームを前記第２の光ビームの方へ向けて
    反射する第１の面と、前記第１の面で反射された前記１
    の光ビームを前記偏向器へ向けて反射すると共に、前記
    第２の光ビームの光束の一部を遮光する第２の面とを有
    するプリズムを備えることを特徴とするマルチビーム走
    査装置。
  35. 【請求項３５】 それぞれ第１及び第２の発光素子から
    射出される第１及び第２の光ビームを偏向器を用いて偏
    向させることにより被走査面上で同時に走査させるマル
    チビーム走査装置において、 前記第１の光ビームを前記第２の光ビームの方へ向けて
    反射する第１の面と、前記第１の面で反射された前記１
    の光ビームを前記偏向器へ向けて反射すると共に、前記
    第２の光ビームの光束の一部を前記偏光器がある方向と
    異なる方向へ偏向させる第２の面とを有するプリズムを
    備えることを特徴とするマルチビーム走査装置。
  36. 【請求項３６】 前記第２の面は、前記第２の光ビーム
    の前記光束の一部を前記偏光器がある方向と異なる方向
    へ屈折させることを特徴とする請求項３４又は３５に記
    載のマルチビーム走査装置。
  37. 【請求項３７】 前記第１及び第２の面の少なくとも一
    方は、少なくとも一部に、前記第１の光ビームが臨界角
    より大きな角度で入射し、全反射する領域を有すること
    を特徴とする請求項３４又は３５に記載のマルチビーム
    走査装置。
  38. 【請求項３８】 それぞれ第１及び第２の発光素子から
    射出される第１及び第２の光ビームを偏向器を用いて偏
    向させることにより被走査面上で同時に走査させるマル
    チビーム走査装置において、 端部を前記第２の光ビームの光路内に配置することによ
    り前記第２の光ビームの光束の一部を遮光すると共に、
    前記端部を含む部位で前記第１の光ビームを前記偏向器
    へ向けて反射するミラーを有することを特徴とするマル
    チビーム走査装置。
  39. 【請求項３９】 それぞれ第１、第２および第３の光ビ
    ームを射出する第１、第２および第３の発光素子と、 前記第１の光ビームが入射する位置に配置された第１の
    プリズムであって、所定の目標方向へ向けられている前
    記第２の光ビームの光束の一部を遮光しつつ、前記第１
    の光ビームを前記目標方向へ向けて射出する光射出部を
    有する第１のプリズムと、 前記第３の光ビームが入射する位置に配置された第２の
    プリズムであって、前記目標方向へ向けられている前記
    第２の光ビームの光束の一部を遮光しつつ、前記第３の
    光ビームを前記目標方向へ向けて射出する光射出部を有
    する第２のプリズムと、 前記第１から第３までの発光素子と前記第１および第２
    のプリズムを一体に保持する支持部材とを備えることを
    特徴とする光源装置。
  40. 【請求項４０】 それぞれ第１、第２および第３の光ビ
    ームを射出する第１、第２および第３の発光素子と、 前記第１の光ビームが入射する位置に配置された第１の
    プリズムであって、所定の目標方向へ向けられている前
    記第２の光ビームの光束の一部を目標方向と異なる方向
    へ向けて偏向させつつ、前記第１の光ビームを前記目標
    方向へ向けて射出する光射出部を有する第１のプリズム
    と、 前記第３の光ビームが入射する位置に配置された第２の
    プリズムであって、前記目標方向へ向けられている前記
    第２の光ビームの光束の一部を前記目標方向と異なる方
    向へ向けて偏向させつつ、前記第３の光ビームを前記目
    標方向へ向けて射出する光射出部を有する第２のプリズ
    ムと、 前記第１から第３までの発光素子と前記第１および第２
    のプリズムを一体に保持する支持部材とを備えることを
    特徴とする光源装置。
  41. 【請求項４１】 前記第１及び第２のプリズムの前記光
    射出部は、それぞれ、前記第２の光ビームの光束の一部
    を前記目標方向と異なる方向へ屈折させることを特徴と
    する請求項４０に記載の光源装置。
  42. 【請求項４２】 前記第１および第２のプリズムは、そ
    れぞれ、前記第１および第３の光ビームを前記第２の光
    ビームに隙間なく隣接させた状態で前記目的方向へ向け
    て射出することを特徴とする請求項３９又は４０に記載
    の光源装置。
  43. 【請求項４３】 前記第１および第２のプリズムは、互
    いの前記光射出部の間に前記第２の光ビームが通過する
    隙間を有するように配置され、 前記第２の光ビームは、前記隙間を通過することにより
    ビーム幅を規制されることを特徴とする請求項３９又は
    ４０に記載の光源装置。
  44. 【請求項４４】 前記第１及び第２のプリズムは、前記
    第２の光ビームの主光線が前記隙間の実質的に中央を通
    過するように配置されていることを特徴とする請求項４
    ３に記載のマルチビーム走査装置。
  45. 【請求項４５】 前記第１及び第２のプリズムより前記
    目的方向側において、前記第１および第３の光ビームの
    ビーム幅を前記第２の光ビームのビーム幅とほぼ等しい
    幅に規制するように配置されたスリットをさらに備える
    ことを特徴とする請求項４４に記載の光源装置。
  46. 【請求項４６】 前記スリットは、前記支持部材に固定
    されていることを特徴とする請求項４５に記載の光源装
    置。
  47. 【請求項４７】 前記第１から第３までの発光素子は、
    実質的に同一の平面内に各々の光ビームを射出するよう
    に前記支持部材に固定されていることを特徴とする請求
    項３９又は４０に記載の光源装置。
  48. 【請求項４８】 前記支持部材は、高熱伝導性の材料か
    らなることを特徴とする請求項３９又は４０に記載の光
    源装置。
  49. 【請求項４９】 前記支持部材は、金属材料からなるこ
    とを特徴とする請求項４８に記載の光源装置。
  50. 【請求項５０】 前記第１から第３までの光ビームのう
    ち、一の前記光ビームを除く他の前記光ビームの光路上
    に、前記光ビームの向かう方向を微調整するための方向
    調整手段が配置されていることを特徴とする請求項３９
    又は４０に記載の光源装置。
  51. 【請求項５１】 前記第１から第３までの発光素子の各
    々の光射出側において、前記発光素子が射出した光ビー
    ムを平行光に変換するコリメータレンズが前記支持部材
    に固定されていることを特徴とする請求項３９又は４０
    に記載のマルチビーム走査装置。
  52. 【請求項５２】 前記第１から第３までの発光素子は、
    略同一方向に前記第１から第３までの光ビームを射出す
    るように前記支持部材に固定されていることを特徴とす
    る請求項３９又は４０に記載のマルチビーム走査装置。
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