JP2004287022A

JP2004287022A - マルチビーム走査装置、マルチビーム走査方法

Info

Publication number: JP2004287022A
Application number: JP2003078158A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Hama; 善博浜; Masakazu Hirano; 正和平野
Original assignee: Pentax Corp
Current assignee: Pentax Corp
Priority date: 2003-03-20
Filing date: 2003-03-20
Publication date: 2004-10-14

Abstract

【課題】複数の光ビームの各々の間隔を高精度に保ちつつ、装置の小型化、簡略化、及びコストダウンを図る。
【解決手段】被走査面上で形成される複数の光ビームの各々のビームスポットの副走査方向の間隔を設定する設定手段と、それら複数の光ビームのいずれかの被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段と、少なくとも１つの光路偏向手段を複数の光ビームの少なくとも１つの光路上で挿脱させる移動手段と、設定手段により設定されたビームスポット間隔に基づいて、少なくとも１つの光路偏向手段を少なくとも１つの光路上で移動手段により挿脱させる制御手段とを備えている。
【選択図】図４

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、複数の発光素子から射出される複数の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置、及びマルチビーム走査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、複数の発光素子から射出される複数の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置において、副走査方向の解像度（すなわち、副走査方向のビームスポット間隔）を変更する構成はさまざまなものが提供されている。
【０００３】
例えば、複数の発光素子と被走査面との間の複数の光ビームの光路上にズームレンズを配置してその焦点距離を変化させることにより、被走査面上で走査される複数の光ビームの各々のビーム間隔を変化させて副走査方向の解像度を変更させたり、光軸と垂直に配置されて複数の発光素子が実装されている基板を回動させることにより、被走査面上で走査される複数の光ビームの各々のビーム間隔を変化させて副走査方向の解像度を変更させたりする装置などがあり、広く実用に供している（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１７２８１５公報（第５頁、第４図）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述の特許文献１に記載されているマルチビーム走査装置は複数の発光素子が実装されている基板を含む光源部全体をごと回動させて副走査方向の解像度を変更するよう構成されている。従って、この光源部の回転軸周りを精密に仕上げなければならない。すなわちこの光源部全体が回転してもその周方向に光源部（言い換えると、基板上に実装されている複数の発光素子）がぶれないように、回転軸及び回転軸周りの光源部全体を高精度に仕上げなければならない。しかしながら、素子を実装するこのような光源部全体と筐体との嵌合部を高精度に仕上げることは難しいため、このようなマルチビーム走査装置に用いられるこれらの発光素子に要求される位置精度を光源部回動後も高く保ち続けることは難しかった。
【０００６】
また、このマルチビーム走査装置は基板を含む光源部の回転角度と副走査方向のビーム間隔とをモニタして、設定されている解像度に該当する位置（基板の回転角度）に複数の発光素子があるかどうかを検出してフィードバックを行うことにより副走査方向の解像度を変更している。すなわち、このマルチビーム走査装置ではこのようなクローズドループ方式のフィードバック制御を行う機構が必要となるため、装置の大型化、複雑化、及びコストアップに繋がっていた。
【０００７】
そこで、本発明は上記の事情に鑑み、複数の光ビームの各々の間隔を高精度に保ちつつ、装置の小型化、簡略化、クイック変換、及びコストダウンを図ることができるマルチビーム走査装置、及びマルチビーム走査方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する本発明の一態様に係るマルチビーム走査装置は、複数の発光素子から射出される複数の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるものであって、被走査面上で形成される複数の光ビームの各々のビームスポットの副走査方向の間隔を設定する設定手段と、それら複数の光ビームのいずれかの被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段と、少なくとも１つの光路偏向手段を複数の光ビームの少なくとも１つの光路上で挿脱させる移動手段と、設定手段により設定されたビームスポット間隔に基づいて、少なくとも１つの光路偏向手段を少なくとも１つの光路上で移動手段により挿脱させる制御手段とを備えている。このようにマルチビーム走査装置を構成すると、複数の光ビームのうち、光路偏向手段が光路上に挿脱される光ビームの被走査面上のビームスポット位置を、光路偏向手段が光路上に挿脱されない他の光ビームの被走査面上のビームスポット位置に対して変化させることができる。従って、複数の発光素子全体を移動させることなく、副走査方向の解像度を変更することが可能となる。そのため、副走査方向の解像度を変更しても複数の光ビームの各々の間隔を高精度に保つことが容易となる。また、光路偏向手段の光路上への挿脱のみで副走査方向の解像度を変更しているため、ビームスポット間隔をモニタする必要がない。従って、装置の小型化、簡略化、及びコストダウンを図ることができる。
【０００９】
また、上記マルチビーム走査装置は、光路偏向手段が光路上に挿入されている状態と、光路偏向手段が前記光路上から退避している状態とを比較すると、光路偏向手段が光路上に挿入されている状態の方が、複数の光ビームの各々の副走査方向のビームスポット間隔が広い。
【００１０】
また、上記マルチビーム走査装置は、光路偏向手段が光路上に挿入されている状態と、光路偏向手段が前記光路上から退避している状態とを比較すると、光路偏向手段が光路上に挿入されている状態の方が、複数の光ビームの各々の副走査方向のビームスポット間隔が狭い。
【００１１】
また、上記マルチビーム走査装置において、複数の光ビームは、第１、第２、及び第３の光ビームを含み、第１の光ビームの光路上で挿脱される光路偏向手段がその光路上から退避していると、被走査面上の副走査方向において第１、第２、第３の光ビームの順に、第１、第２、及び第３の光ビームの各々が第１の所定のビームスポット間隔で走査し、光路偏向手段がその光路上に挿入されていると、被走査面上の副走査方向において第２、第１、第３の光ビームの順に、第１、第２、及び第３の光ビームの各々が第２の所定のビームスポット間隔で走査する。
【００１２】
また、上記マルチビーム走査装置において、光路偏向手段は、光路偏向手段が光路上で挿脱される光ビームの偏向角度に相当するクサビ角を有したクサビプリズムである。
【００１３】
また、上記の課題を解決する本発明の一態様に係るマルチビーム走査方法は、複数の発光素子から射出される複数の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させる方法であって、設定された副走査方向の解像度に応じて、複数の光ビームの少なくとも１つの光路上に、その光ビームの被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段を挿脱させるものである。このようなマルチビーム走査方法であれば、複数の光ビームのうち、光路偏向手段が光路上に挿脱される光ビームの被走査面上のビームスポット位置を、光路偏向手段が光路上に挿脱されない他の光ビームの被走査面上のビームスポット位置に対して変化させることができる。従って、複数の発光素子全体を移動させることなく、副走査方向の解像度を変更することが可能となる。そのため、副走査方向の解像度を変更しても複数の光ビームの各々の間隔を高精度に保つことが容易となる。また、光路偏向手段の光路上への挿脱のみで副走査方向の解像度を変更しているため、ビームスポット間隔をモニタする必要がない。従って、装置の小型化、簡略化、及びコストダウンを図ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の一実施形態に係るマルチビーム走査装置１００の構成を示す図である。
【００１５】
マルチビーム走査装置１００は、それぞれ第１、第２および第３の光ビーム１０２、１０４、１０６を生成する第１、第２および第３の発光素子１０８、１１０、１１２を有している。発光素子としては、例えばレーザダイオードを用いることができる。各々の発光素子から射出される３つの光ビームは、例えばポリゴンミラー１１４などの偏光器により被走査面１１６へ向けて偏向され、ｆθレンズ１１８を通過した後に被走査面１１６上に３つのビームスポットを形成する。形成された３つのビームスポットは、ポリゴンミラー１１４の回転に伴い、被走査面１１６上を等速度で走査される。なお、本明細書では、３つのビームスポットが走査される方向を主走査方向、その主走査方向に直交する方向（ポリゴンミラー１１４の回転軸に平行な方向）を副走査方向と呼ぶ。
【００１６】
３つの発光素子１０８、１１０、１１２は、同一の平面、例えばポリゴンミラー１１４の回転軸１１４ａを法線とする平面に沿って各々の光ビームがほぼ同一方向にほぼ平行に射出されるように配置されている。
【００１７】
各発光素子から射出された光ビームは、それぞれ異なるコリメータレンズ１２０、１２２、１２４を過することにより平行光に変換される。さらに、各光ビームは、プリズムユニット１３０、シリンドリカルレンズ１５０、およびスリット１５２を通過した後、ポリゴンミラー１１４の反射面１１４ｂに入射し、前述した被走査面１１６へ向けて反射される。
【００１８】
シリンドリカルレンズ１５０は、各光ビームがポリゴンミラー１１４の反射面１１４ｂの近傍において副走査方向においてのみ収束するようなパワーを有する。スリット１５２は、第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６を通過させることにより、各光ビームの有効光束の断面形状を定めるスリットである。本実施形態においてこのスリット１５２は、特に、第１および第２の光ビーム１０２、１０４のビーム幅をそれら光ビームの間に位置している第３の光ビーム１０６のビーム幅とほぼ同一の幅に揃えるという機能を果たす。
【００１９】
本実施形態のマルチビーム走査装置１００は、第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々の副走査方向のビームスポット間隔、すなわち副走査方向の解像度を設定することができる設定部１９０を備えている。本実施形態では、例えば設定可能な副走査方向の解像度は２種類あって、操作者がこの設定部１９０を操作して所望の解像度を設定することにより、マルチビーム走査装置１００はその設定された解像度で被走査面１１６に第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々を走査させる。
【００２０】
設定部１９０により副走査方向の解像度の変更を表す信号が出力されると、設定部１９０と接続している制御部１８０にその信号が入力する。制御部１８０に上記信号が入力すると、制御部１８０はその入力した信号に基づいて駆動部１７０の駆動を制御する。
【００２１】
駆動部１７０は、図示しない駆動機構により第１の光ビーム１０２の光路上であるコリメータレンズ１２０とプリズムユニット１３０との間に、クサビの形状の断面を有しているクサビプリズム１５４を挿入したり退避させたりするものである。クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路に挿入される場合、この駆動部１７０は、このクサビプリズム１５４を、第１の光ビーム１０２の光軸方向の断面がクサビの形状となるように挿入させる。このクサビプリズム１５４は第１の光ビーム１０２の光路上に挿入された際にこの第１の光ビーム１０２を偏向するプリズムであって、この偏向される第１の光ビーム１０２の偏向角度に相当するクサビ角を有したプリズムである。
【００２２】
クサビプリズム１５４は、第１の発光素子１０８側から入射した第１の光ビーム１０２を入射時と異なった角度で射出させる機能を有している。従って、第１の光ビーム１０２の光路上にクサビプリズム１５４が挿入した状態と退避した状態とで光ビームのシリンドリカルレンズ１５０に入射する副走査方向の位置を変えることができる。光ビームのシリンドリカルレンズ１５０へ入射する副走査方向の位置が変わると、その光ビームがポリゴンミラー１１４に入射するときの副走査方向の角度が変化し、その結果、被走査面１１６上に形成される第１の光ビーム１０２のビームスポットの位置も変化する。
【００２３】
図３は、被走査面１１６上で走査される第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々のビームスポットの位置関係を示す図である。図３（ａ）は、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上から退避している場合の第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々のビームスポットの位置関係を示す図である。また、図３（ｂ）は、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上に挿入されている場合の第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々のビームスポットの位置関係を示す図である。
【００２４】
クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上から退避している場合、図３（ａ）に示すように、第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々は、副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌで走査する。また、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上に挿入されている場合、上述したように、被走査面１１６上に形成される第１の光ビーム１０２のビームスポットの位置は、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上から退避している場合と比べてクサビプリズム１５４の偏向角に相当する分変化している。このときこの第１の光ビーム１０２は、図３（ｂ）に示すように、被走査面１１６上の副走査方向において第２の光ビーム１０４と第３の光ビーム１０６との中間位置に移動されて走査する。すなわち、第１の光ビーム１０２、第２の光ビーム１０４、及び第３の光ビーム１０６の各々は、副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌ／２で走査する。従って、第１の光ビーム１０２の光路上にクサビプリズム１５４を挿入したり退避させたりすることにより、第１から第３の光ビーム１０２、１０４、１０６の各々の副走査方向のビームスポット間隔を変化させることができる。
【００２５】
図２は、図１のマルチビーム走査装置１００のうち、プリズムユニット１３０を含む部分を拡大して示した図である。図２に示すプリズムユニット１３０は、それぞれ第１、第２および第３の光ビーム１０２、１０４、１０６が入射する第１、第２および第３のプリズム１３２、１３４、１３６から構成されている。第３のプリズム１３６は、第１および第２のプリズム１３２、１３４の間に配置されており、その対向する２つの側面の一方において第１のプリズムの側面と、他方において第２のプリズムの側面とそれぞれ貼り合わせられている。
【００２６】
第１および第３のプリズム１３２、１３６が貼り合わせられている面１３８には、入射してくる光ビームを鏡面反射するための第１の反射膜１４０が設けられている。また、第２および第３のプリズム１３４、１３６が貼り合わせられている面１４２にも第１の反射膜１４０と同様の第２の反射膜１４４が設けられている。
【００２７】
さらに、第１および第２のプリズム１３２、１３６がそれぞれ有する面のうち、第３のプリズム１３６と貼り合わせられている面と対向している側面には、それぞれ第１および第２の光ビーム１０２、１０４を反射させるための第３及び第４の反射膜１４６、１４８が設けられている。なお、上記の４つの反射膜としては、例えば金属の薄膜を用いることができる。
【００２８】
第３のプリズム１３６は、台形の断面形状を有しており、互いに平行な底面１３６ａと、底面より幅の狭い上面１３６ｂとを有している。この第３のプリズム１３６は、底面１３６ａが第３の発光素子１１２側に、上面１３６ｂがポリゴンミラー１１４側に位置するように第３の光ビーム１０６の光路上に配置されている。このために、第３の光ビーム１０６は、第３のプリズム１３６にその底面１３６ａから入射し、その上面からポリゴンミラー１１４に向けて射出する。
【００２９】
第１および第２の反射膜１４０、１４４は、上記のような形状をした第３のプリズム１３６の側面に配置されているので、それら反射膜の間は、第３のプリズム１３６の上面の幅とほぼ等しい隙間Ｓ１が存在する。第３のプリズムの上面１３６ｂは、第３の光ビーム１０６のビーム幅よりも幅が狭い。したがって、第１および第２の反射膜１４０、１４４の間の隙間Ｓ１も第３の光ビームのビーム幅より狭い。
【００３０】
本実施形態では、第３の光ビーム１０６の主光線が第３のプリズムの上面１３６ａのほぼ中央を通過するように、プリズムユニット１３０が配置されている。このために、第３の光ビーム１０６の光束の外縁は、第１の反射膜１４０および第２の反射膜１４４に照射される。第１および第２の反射膜１４０、１４４に照射された光束は、ポリゴンミラー１１４があるのと異なる方向へ反射される。このため、第３の光ビーム１０６は、プリズムユニット１３０を通過することで、そのビーム幅を第１および第２の反射膜１４０、１４４の隙間Ｓ１に制限される。
【００３１】
第１の光ビーム１０２は、第１のプリズム１３２内へその前面１３２ａから入射し、第３の反射膜１４６において第１の反射膜１４０へ向けて反射される。さらに、第１の光ビーム１０２は、第１の反射膜１４０で反射され、第１のプリズム１３２の後面１３６ｂからポリゴンミラー１１４へ向けて射出する。
【００３２】
第３の反射膜１４６は、第１の反射膜１４０のポリゴンミラー１４４側の端部にも第１の光ビーム１０２が照射されるような角度で第１の光ビーム１０２を反射させる。これにより、第１の反射膜１４０で反射された第１の光ビーム１０２は、第３の光ビーム１０６がプリズムユニット１３０から射出する位置の極めて近傍の位置において、あるいは第３の光ビーム１０６と隙間なく隣接する位置においてプリズムユニット１３０から射出される。したがって、図１及び図２の示したマルチビーム走査装置１００において、第１の光ビーム１０２と第３の光ビーム１０６との間のポリゴンミラー１１４が回転する方向における開き角θは小さい。
【００３３】
第２の光ビーム１０４は、第２のプリズム１３４内へその前面１３４ａから入射し、第４の反射膜１４８において第２の反射膜１４４へ向けて反射される。さらに、第２の光ビーム１０４は、第２の反射膜１４４で反射され、第２のプリズム１３４の後面１３４ｂからポリゴンミラー１１４へ向けて射出する。第２の光ビーム１０４の場合も、第４の反射膜１４８は、第２の反射膜１４４のポリゴンミラー１４４側の端部にも第２の光ビーム１０４が照射されるような角度で第２の光ビーム１０４を反射させる。したがって、第２の光ビーム１０４と第３の光ビーム１０６との間のポリゴンミラー１１４が回転する方向における開き角θも極めて小さい。
【００３４】
図１および図２に示したマルチビーム走査装置１００では、第１および第２の光ビーム１０２、１０４が、第３の光ビーム１０６とほぼ同じ位置においてポリゴンミラー１１４に入射するように第１から第３の各プリズム１３２、１３４、１３６が形成されている。このため、図２に見られるように、プリズムユニット１３０から射出した後の第１および第２の光ビーム１０２、１０４は、第３の光ビーム１０６の方へやや傾れている。
【００３５】
図１に示したマルチビーム走査装置１００は、第１から第３の発光素子１０８、１１０、１１２等を一の支持部材に取り付けた光源装置を予め用意し、その光源装置をマルチビーム走査装置１００の筐体内に設置するという方法で製造することができる。
【００３６】
図４は、そのような光源装置１６０の一例を示す上面図（ａ）、側面図（ｂ）、および正面図（ｃ）を示している。光源装置１６０は支持部材（基板）１６２を有し、その支持部材１６２の上に、第１から第３の発光素子１０８、１１０、１１２、コリメータレンズ１２０、１２２、１２４、プリズムユニット１３０、シリンドリカルレンズ１５０、およびスリット１５２が取り付けられている。また、クサビプリズム１５４は、駆動部１７０の図示しない駆動機構により光源装置１６０から着脱可能に構成されている。
【００３７】
第１から第３までの発光素子１０８、１１０、１１２は、それらがほぼ同じ平面内でほぼ同一方向へほぼ平行に光ビームを照射するように支持部材１６２に取り付けられている。このように発光素子を取り付けた場合、各発光素子を駆動するための電気回路（不図示）を発光装置１６０の背面側（発光素子が光を射出する側と反対の側）にまとめて配置することができ、便利である。
【００３８】
また、発光装置１６０では、支持部材１６２に第１から第３の発光素子１０８、１１０、１１２と共に、各発光素子に対応するコリメータレンズ１２０、１２２、１２４が一体に固定されているので、各コリメータレンズにより平行光に変換された光ビームの相対的な位置関係を維持することが容易である。
【００３９】
例えば、周囲環境の温度が変化し、図１に示したマルチビーム走査装置１００を構成している各部品が熱膨脹又は収縮をすると、その影響を受けて発光素子や、コリメータレンズの位置がずれ、その結果、発光素子から射出され、コリメータレンズを通過した各光ビーム間の平行が失われる可能性がある。発光素子又はコリメータの近傍で光ビームの位置や傾きに僅かな変化生じても、その変化は被走査面１１６では大きく拡大され、被走査面１１６に描画される画像の質を著しく低下させる。
【００４０】
しかし、図４に示した光源装置１６０では、一の支持部材１６２に発光素子およびコリメータレンズを一体に取り付けているので、周囲温度変化により支持部材１６０が熱膨脹等を行っても、各光ビーム間の平行は失われにくく、したがって、被走査面１１６に各光ビーム１０２、１０４、１０６により描画される画像の質を維持することが容易である。
【００４１】
発光装置１６０の支持部材１６２は、例えば金属材料等の高熱伝導性を有する材料から形成することが好ましい。例えばいわゆるモードホップを生じるレーザダイオードのように、出力する光の波長が温度により変化する発光素子を利用した場合、周囲温度の影響を受けて各発光素子がそれぞれ異なる温度で作動し、それぞれ異なる波長の光ビームを出力する可能性がある。各発光素子から異なる波長の光ビームが出力されると、それら光ビームがｆθレンズを通過する際に色収差の影響が現れる。すなわち、各光ビームにより被走査面上に形成されるビームスポットの位置が本来の位置からずれ、その結果、いわゆるマルチビーム間のジッターという現象が生じる。これに対し、図４に示した光源装置１６０では、支持部材１６２が金属等の高熱伝導性の材料から形成されており、支持部材１６２とそれに取り付けられている第１から第３の発光素子１０８、１１０、１１２との間で熱が伝わりやすいので、支持部材１６２により、３つの発光素子の温度がほぼ同じ温度に維持される。このため、各発光素子間で出力する光の波長が異なるという不都合は生じにくい。
【００４２】
以上が本発明の実施形態である。本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく様々な範囲で変形が可能である。
【００４３】
なお、本実施形態において、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上から退避していると、３つの光ビームの各々は、副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌで走査し、クサビプリズム１５４が第１の光ビーム１０２の光路上に挿入されていると、３つの光ビームの各々は、副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌ／２で走査しているが、別の実施形態では、クサビプリズム１５４退避時に３つの光ビームの各々は副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌ／２で走査し、クサビプリズム１５４挿入時に３つの光ビームの各々は副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌで走査するよう構成してもよい。
【００４４】
すなわち、別の実施形態は、クサビプリズム１５４退避時に第１の光ビーム１０２が被走査面１１６上の副走査方向において第２の光ビーム１０４と第３の光ビーム１０６との中間位置で走査するよう第１の発光素子１０８の配置角度を本実施形態に対して変更したものである。さらに、クサビプリズム１５４を挿入して被走査面１１６上に形成される第１の光ビーム１０２のビームスポットの位置を変化させたとき、３つの光ビームの各々が副走査方向にそれぞれビームスポット間隔ｌで走査するよう構成したものである。
【００４５】
また、本実施形態において、被走査面１１６上のビームスポット位置を変化させるクサビプリズム１５４のような光路偏向手段が挿入される光路は１つであるが、別の実施形態では、複数の光路偏向手段の各々を複数の光路の各々で挿脱できるよう構成してもよい。この実施形態では、複数の光路偏向手段の各々の複数の光路の各々に対する挿脱状態によりさまざまな副走査方向の解像度を実現することが可能となる。
【００４６】
【発明の効果】
以上のように本発明のマルチビーム走査装置は、複数の発光素子から射出された複数の光ビームの少なくとも１つの光路上に、被走査面上の副走査方向のビームスポット位置を変化させる光路偏向手段を挿脱可能に備えているものである。また、本発明のマルチビーム走査方法は、設定された副走査方向の解像度に応じて、複数の光ビームの少なくとも１つの光路上に、その光ビームの被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段を挿脱させるものである。このようなマルチビーム走査装置、及びマルチビーム走査方法であれば、複数の光ビームのうち、光路偏向手段が光路上に挿脱される光ビームの被走査面上のビームスポット位置を、光路偏向手段が光路上に挿脱されない他の光ビームの被走査面上のビームスポット位置に対して変化させることができる。従って、複数の発光素子全体を移動させることなく、副走査方向の解像度を変更することが可能となる。そのため、副走査方向の解像度を変更しても複数の光ビームの各々の間隔を高精度に保つことが容易となる。また、光路偏向手段の光路上への挿脱のみで副走査方向の解像度を変更しているため、ビームスポット間隔をモニタする必要がない。従って、装置の小型化、簡略化、及びコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るマルチビーム走査装置の構成を示す図である。
【図２】図１のマルチビーム走査装置のうち、プリズムユニットを含む部分を拡大して示した図である。
【図３】被走査面上で走査される第１から第３の光ビームの各々の走査位置の関係を示す図である。
【図４】光源装置の一例を示す上面図（ａ）、側面図（ｂ）、および正面図（ｃ）である。
【符号の説明】
１００マルチビーム走査装置
１０８、１１０、１１２発光素子
１５４クサビプリズム
１６０光源装置
１７０駆動部
１８０制御部
１９０設定部

Claims

複数の発光素子から射出される複数の光ビームを、偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるマルチビーム走査装置において、
前記被走査面上で形成される前記複数の光ビームの各々のビームスポットの副走査方向の間隔を設定する設定手段と、
前記複数の光ビームのいずれかの前記被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段と、
前記少なくとも１つの光路偏向手段を、前記複数の光ビームの少なくとも１つの光路上で挿脱させる移動手段と、
前記設定手段により設定された前記ビームスポット間隔に基づいて、前記少なくとも１つの光路偏向手段を前記少なくとも１つの光路上で前記移動手段により挿脱させる制御手段と、を備えていること、を特徴とするマルチビーム走査装置。
前記光路偏向手段が前記光路上に挿入されている状態と、前記光路偏向手段が前記光路上から退避している状態と、を比較すると、
前記光路偏向手段が前記光路上に挿入されている状態の方が、前記複数の光ビームの各々の前記ビームスポット間隔が広いこと、を特徴とする請求項１に記載のマルチビーム走査装置。
前記光路偏向手段が前記光路上に挿入されている状態と、前記光路偏向手段が前記光路上から退避している状態と、を比較すると、
前記光路偏向手段が前記光路上に挿入されている状態の方が、前記複数の光ビームの各々の前記ビームスポット間隔が狭いこと、を特徴とする請求項１に記載のマルチビーム走査装置。
前記複数の光ビームは、第１、第２、及び第３の光ビームを含み、
前記第１の光ビームの光路上で挿脱される前記光路偏向手段が前記光路上から退避していると、前記被走査面上の副走査方向において前記第１、第２、第３の光ビームの順に、前記第１、第２、及び第３の光ビームの各々が第１の所定のビームスポット間隔で走査し、
前記光路偏向手段が前記光路上に挿入されていると、前記被走査面上の副走査方向において前記第２、第１、第３の光ビームの順に、前記第１、第２、及び第３の光ビームの各々が第２の所定のビームスポット間隔で走査すること、を特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のマルチビーム走査装置。
前記光路偏向手段は、前記光路偏向手段が光路上で挿脱される前記光ビームの偏向角度に相当するクサビ角を有したクサビプリズムであること、を特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のマルチビーム走査装置。
複数の発光素子から射出される複数の光ビームを偏向器を用いて偏向させることにより被走査面上で同時に走査させるマルチビーム走査方法において、
設定された副走査方向の解像度に応じて、前記複数の光ビームの少なくとも１つの光路上に、前記光ビームの前記被走査面上のビームスポット位置を変更させる少なくとも１つの光路偏向手段を挿脱させること、を特徴とするマルチビーム走査方法。