JP2003285527A - 光反射性基材を有する積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、銀行券、株券、有価証
券、通行券、パスポート、商品券、カード等の偽造、複
写を防止する必要性のある貴重印刷物に適用される、光
反射性基材を有する積層体に関するものである。 【解決手段】 平滑度の低い支持基材（１）上に印
刷パターン（４）を設けた印刷パターン支持体と、裏面
に接着層（２）を有する透過性のない光反射性基材
（３）とを、前記印刷パターン（４）を有する面を前記
光反射性基材（３）との接着面として貼付した光反射性
基材を有する積層体において、前記印刷パターン（４）
のインキ皮膜は、前記支持基材（１）の平滑度よりも高
い平滑度を有し、前記印刷パターン支持体の印刷パター
ン（２）と印刷パターンを施していない領域との平滑度
の違いが前記光反射性基材（４）の平滑度の違いとなっ
て型付される光反射性基材を有する積層体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、銀行券、株券、有
価証券、通行券、パスポート、商品券、カード等の偽
造、複写を防止する必要性のある貴重印刷物に適用され
る、光反射性基材を有する積層体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】銀行券、株券、有価証券、通行券、商品
券、カード等の貴重印刷物は、その性質上、偽造や改竄
されないことが要求される。この防止策として、貴重印
刷物の表面に光反射性基材を貼付して真偽判別を行って
いる。光反射性基材は複写防止、複製防止の観点から特
に有効な偽造防止エレメントの一つであるため、多くの
貴重印刷物に適用されてきている。

【０００３】しかしながら、多くの貴重印刷物に採用さ
れているがために、偽造、複製されやすくなってきてい
る。近年、カラー複写機の再現性の向上、高度な微細加
工技術の向上、また、インターネット等により誰でも光
反射性基材の原理を知ることができるようになってきて
おり、一見見ただけでは判別できないほどに再現性の良
い光反射性基材が偽造、複製されてきている。このよう
なことから、更なる偽造防止効果の高いエレメントが要
求されてきている。

【０００４】また光反射性基材は、少数での生産ではコ
ストがかかり過ぎる為、同じ被貼付物には同じ光反射性
基材が使われる。そのことが偽造、複製される大きな要
因となっている。

【０００５】カード基材の隠蔽情報表示部上に透明ホロ
グラム及び金属蒸着されたホログラムを粘着剤によって
張り合わせ、前記隠蔽情報表示部を透かして見ることを
可能とした隠蔽カードが開示されている（特許第２８９
４４９２号公報参照）。

【０００６】表面に光学的に変化する色彩のあるコーテ
ィングが備えられており、少なくともコーティングの部
分に線型の打ち出し加工があり、見る角度によって色彩
を変化させるデータキャリアが開示されている（特表平
１１−５０１５９０号公報参照）。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来は、カード基材に
貼付する透明の光反射性基材のその基材下に印刷した印
刷部を隠蔽カードでは（特許第２８９４４９２号公報参
照）、印刷物を透かして見ることができ、顕像構成が平
面的で改竄されやすく、また、データキャリアの表明を
コーティングし、そのコーティング部に線型を打ち出し
加工を施して、色彩を変化させるものは（特表平１１−
５０１５９０号公報参照）、特別な加工装置の必要と、
少量多種の製造には向かなく、個別情報の付与に難点が
あった。

【０００８】本発明では、これら両者の問題点を解決す
るためになされたもので、微細な形状を有する支持体の
表面に、印刷により印刷パターンを設け、支持基材と印
刷パターン表面との微細形状の差異がそのまま支持基材
の印刷面に貼付した透明性のない光反射性基材の表面に
型付けされ、支持基材面に印刷した印刷パターンをその
上に貼付した光反射性基材の表面に浮き出させ、その積
層体の表面からは微細形状（平滑度）の差異による印刷
パターンが改竄できない構造を有する光反射性基材を有
する積層体を提案するものである。

【０００９】また、本発明の積層体に用いる支持基材
に、光透過性のある平滑度の低い支持基材を使用した場
合、無色透明インキ又は支持基材とほぼ同色のインキで
印刷パターンを印刷することにより、裏面から印刷パタ
ーンを確認することができないため秘匿性が向上する。
更に、本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い
支持基材を用い、支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度
を有する第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模
様を設け、カモフラージュ模様の領域内の上側（後刷）
又はカモフラージュ模様の領域内の下側（先刷：この場
合、印刷パターンとカモフラージュ模様のインキは同
色）に、支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第
２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、印刷パ
ターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のイ
ンキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違
いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付され
る光反射性基材を有する積層体においても、裏面から観
察するとカモフラージュ模様によって第２のインキの印
刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上
する。

【００１０】

【発明を解決しようとする手段】本発明は、平滑度の低
い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持
体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基
材とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基
材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層
体において、前記支持基材上の印刷パターンは、有色イ
ンキで印刷し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記
支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パ
ターン支持体の印刷パターンと印刷パターンを施してい
ない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度
の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体
であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記
光反射性基材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高
いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記
印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱
反射が起こるため、前記光反射性基材上の前記印刷パタ
ーンの領域と前記印刷パターンを施していない領域に輝
度の差が生じて前記光反射性基材上で前記印刷パターン
が確認できることを特徴とする光反射性基材を有する積
層体である。

【００１１】また、本発明は、平滑度の低い支持基材上
に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に
接着層を有する光透過性のない光反射性基材とを、前記
印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面
として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材上の印刷パターンは、無色透明インキ又は
基材とほぼ同色のインキの少なくとも一つ以上で印刷
し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の
平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持
体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域と
の平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとな
って型付される光反射性基材を有する積層体であって、
前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基
材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反
射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パター
ンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こ
るため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域
と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生
じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認で
き、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記印刷パ
ターンは無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキの
ため確認されることがないことを特徴とする光反射性基
材を有する積層体である。

【００１２】また、本発明は、平滑度の低い支持基材上
に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に
接着層を有する光透過性のない光反射性基材とを、前記
印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面
として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１
のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前
記カモフラージュ模様を印刷した領域内に、前記支持基
材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのイ
ンキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターン支持
体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷
パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光
反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性
基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観
察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンの領域
は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性
基材上で前記第２のインキの印刷パターンを施していな
い領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光
反射性基材上で第２のインキの印刷パターンの領域と、
前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域に
輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記第２のイン
キの印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観
察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンは、前
記第１のインキのカモフラージュ模様によりカモフラー
ジュされ確認されることがないことを特徴とする光反射
性基材を有する積層体である。

【００１３】また、本発明は、平滑度の低い支持基材上
に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に
接着層を有する光透過性のない光反射性基材とを、前記
印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面
として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２の
インキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パ
ターンを印刷した上に、前記支持基材の平滑度とほぼ同
等の平滑度を有する前記第２のインキと同色の第１のイ
ンキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記印
刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２
のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度
の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付
される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層
体を反射光で観察した場合に、前記第２のインキの印刷
パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することな
く、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パタ
ーンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起
こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの印刷パ
ターンの領域と、前記第２のインキの印刷パターンを施
していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上
で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、前記積
層体を裏面から観察した場合に、前記第２のインキの印
刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージュ模様
によりカモフラージュされ確認されることがないことを
特徴とする光反射性基材を有する積層体である。

【００１４】また、本発明の光反射性基材は、ホログラ
ム、多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的
変化素子又は金属薄膜であることを特徴とする光反射性
基材を有する積層体である。

【００１５】また、本発明の平滑度の低い支持基材は、
平滑度がベック平滑度試験器で１２０秒以下であること
を特徴とする光反射性基材を有する積層体である。

【００１６】また、本発明の印刷パターンは、文字、記
号、数字、絵柄及び顔画像の少なくとも一つ以上の個別
情報であることを特徴とする光反射性基材を有する積層
体である。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１乃至図３は本発明の基本原理
を示したものである。図１乃至図３は光反射性基材に、
一般的によく使われている裏面に接着層を有する光透過
性のないホログラム箔を用い、図１は平滑度の高い支持
基材（１’）に裏面に接着層（２）を有する光透過性の
ないホログラム箔（３）を貼付したもの、図２は平滑度
の低い支持基材（１）に裏面に接着層（２）を有する光
透過性のないホログラム箔（３）を貼付したもの、図３
は平滑度の低い支持基材（１）上に印刷パターン（４）
を印刷した印刷パターン支持体の印刷パターンを有する
面の上に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホ
ログラム箔（３）を貼付したものである。

【００１８】図１は平滑度の高い支持基材（１’）に裏
面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔
（３）を貼付したものである。支持基材（１’）の平滑
度が高いため、貼付されたホログラム箔（３）も平滑と
なる。ホログラム箔（３）は、入射光（６）が入ると乱
反射が起こらないため、きれいな反射光（７）となる。

【００１９】図２は平滑度の低い支持基材（１）に裏面
に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔
（３）を貼付したものである。支持基材（１）の平滑度
が低いため、貼付されたホログラム箔（３）も平滑とな
らない。ホログラム箔（３）は、入射光（６）が入ると
乱反射（８）が起こるため、きれいな反射光（７）とな
らず、図１に示した平滑度の高い支持基材（１’）に、
裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム
箔（３）を貼付したものよりも全体的に白く濁ったよう
になる。

【００２０】図３は平滑度の低い支持基材（１）上に印
刷パターン（４）を印刷した印刷パターン支持体の印刷
パターンを有する面の上に裏面に接着層（２）を有する
光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものであ
る。平滑度の低い支持基材（１）に印刷パターン（４）
を印刷することで印刷部が平滑になり、印刷された部分
と印刷されてない部分にホログラム箔（３）を貼付する
と、ホログラム箔（３）に印刷された部分と印刷されて
ない部分の平滑度の違いが型付けされる。ここでの型付
とは、エンボスを施すことではなく、スタンパー等で貼
付を施すことで、印刷された部分と印刷されてない部分
の平滑度の違いがホログラム箔の形状に影響を及ぼすこ
とである。この積層体を反射光で確認した場合に、印刷
パターン（４）では貼付面が平滑になっているため、そ
の領域のホログラム箔（３）も平滑になり、入射光
（６）が入ると乱反射（８）が起こらないため、きれい
な反射光（７）となり、印刷されてない部分では貼付面
が平滑になっていないため、その領域のホログラム箔
（３）も平滑にならず、入射光（６）が入ると乱反射
（８）が起こるため、きれいな反射光（７）とならず、
白く濁ったようになる。この反射の起こり方の違いによ
って、ホログラム箔（３）の印刷パターン（４）の領域
と印刷されてない部分の領域に輝度の差が生じてホログ
ラム箔（３）上で印刷パターン（４）が確認できる。

【００２１】図３の場合、印刷パターンのインキは、有
色インキ、無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキ
を用いることができる。平滑度の低い支持基材に光透過
性を有する支持基材を用い、無色透明インキ又は基材と
ほぼ同色のインキを用いた場合に、本発明の積層体を裏
面から観察した場合に、印刷パターンを確認することが
できないため秘匿性が向上する。また、平滑度の低い支
持基材に光透過性を有する支持基材を用い、基材と異な
る色彩のインキを印刷パターンに用いた場合に、裏面に
カモフラージュ模様を印刷することにより、裏面から観
察した場合に、印刷パターンを確認することができなく
なり秘匿性が向上する。光透過性を有する支持基材の不
透明度（％）は、ハンター反射率計で９０％以下が好ま
しい。

【００２２】図４は平滑度の低い支持基材（１）に支持
基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有するインキ皮膜が
生じるインキによるカモフラージュ模様（５）を印刷
し、その上に支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有す
るインキ皮膜が生じる印刷パターン（４）を重ねて印刷
し、その上に裏面に接着層（２）を有する光透過性のな
いホログラム箔（３）を貼付したものである。カモフラ
ージュ模様（５）のインキが平滑度の低い支持基材
（３）中に浸透していくため、印刷されていない部分と
の平滑度の違いにあまり差が生じない。カモフラージュ
模様（５）上に浸透性の悪いインキによる印刷パターン
（４）を重ねて印刷し、その上に光反射性基材を貼付す
ると、カモフラージュ模様（５）は、インキが支持基材
中に浸透してしまい、印刷されていない部分との平滑度
の変化があまり生じないが、印刷パターン（４）のイン
キは浸透性が悪いため平滑になり、反射光で確認した場
合に、印刷パターン（４）では貼付面が平滑になってい
るためその領域のホログラム箔（３）も平滑となり、入
射光（６）が入ると乱反射（８）が起こらないため、き
れいな反射光（７）となり、カモフラージュ模様（５）
及び印刷されてない部分では貼付面が平滑になっていな
いためその領域のホログラム箔（３）も平滑にならず、
入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こるため、きれ
いな反射光（７）とならず、白く濁ったようになる。こ
の乱反射の起こり方の違いによって印刷パターン（４）
を確認することが出来る。

【００２３】図４の場合、平滑度の低い支持基材に光透
過性を有する支持基材を用いた場合に、積層体を裏面か
ら観察した場合に、印刷パターンは、カモフラージュ模
様によりカモフラージュされ確認されることがないため
秘匿性が向上する。また、図４の場合、カモフラージュ
模様を印刷した上に印刷パターンを印刷しているが、例
えば、印刷パターンを印刷した上にカモフラージュ模様
を重ねて印刷しても同様な効果が得られる。この場合、
印刷パターンのインキとカモフラージュ模様のインキの
色彩が同色である必要がある。また、平滑度の低い支持
基材に光透過性を有する支持基材を用い、印刷パターン
のインキとカモフラージュ模様のインキの色彩が同色の
場合、カモフラージュ模様を印刷した上に印刷パターン
を印刷しなくとも、印刷パターンの周辺部にカモフラー
ジュ模様を印刷することによって、裏面から観察した場
合に、印刷パターンを確認することができなくなり秘匿
性が向上する。

【００２４】上記記載では光反射性基材にホログラム箔
を用いているが、本発明はこれに限定されず、光を反射
する基材であればよく、ホログラム、多重回折格子若し
くは薄膜干渉フィルター等の光学的変化素子又は金属薄
膜の光反射性素材を用いることが出来る。

【００２５】本発明に用いる平滑度の低い支持基材は、
紙葉類、フィルム、プラスチック、金属等を用いること
ができる。また、本発明に用いる平滑度の低い支持基材
は、平滑度がベック平滑度試験器（ＪＩＳ Ｐ ８１３
０）での測定値で１２０秒以下が望ましい。更に好まし
くは１００秒以下が好ましい。これよりも平滑度が高い
と、印刷を行っても印刷面と被印刷面との平滑度に差が
生じなくなってしまい、印刷パターンが確認できない。

【００２６】また、本発明の印刷パターンに用いるイン
キは、有色インキ、無色透明インキ又は支持基材とほぼ
同色のインキを用いることができる。また、印刷パター
ンに用いるインキ皮膜は、支持基材の平滑度よりも高い
平滑度を有する必要がある。本発明の支持基材を光透過
性のある平滑度の低い支持基材を用い、有色インキで印
刷パターンを印刷した場合に、裏面から印刷パターンを
確認することができる。本発明の支持基材を光透過性の
ある平滑度の低い支持基材を用い、無色透明インキ又は
支持基材とほぼ同色のインキで印刷パターンを印刷した
場合に、裏面から印刷パターンを確認することができな
いため秘匿性が向上する。更に、本発明の支持基材を光
透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、支持基材の
平滑度よりも高い平滑度を有するインキ皮膜の第２のイ
ンキで印刷パターンを設け、印刷パターンの周辺領域
に、支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有するイン
キ皮膜の第１のインキでカモフラージュ模様を設けた場
合に、光反射性基材上でカモフラージュ模様は確認する
ことはできないが、印刷パターンが確認でき、裏面から
観察した場合に、カモフラージュ模様によって印刷パタ
ーンを確認することができないため秘匿性が向上する。

【００２７】また、本発明の印刷パターンは、文字、記
号、数字、絵柄及び顔画像等の少なくとも一つ以上の個
別情報を用いることができる。

【００２８】本発明の印刷パターン及びカモフラージュ
模様の印刷方法は特に限定されるものではない。

【００２９】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明の内容は、これらの実施例の範囲に限
定されるものではない。

【００３０】（実施例１）ホログラムパターン（Ａ）を
設けた裏面に接着層を有する反射型ホログラム箔（３）
を図５に示す。平滑度３６秒の用紙（１）に印刷パター
ン（４）をレーザプリンタによって印刷した印刷パター
ン支持体を図６に示す。このときの印刷パターン（４）
のインキ皮膜は、平滑度５２秒である。図７に示すよう
に、印刷パターン（４）を印刷した用紙（１）に、裏面
に接着層（２）を有する反射型ホログラム箔（３）を貼
付（印刷パターン上と印刷パターンを施していない領
域）し、実施例１の積層体（９）を作製した。反射型ホ
ログラム箔（３）を用紙（１）に貼付することによっ
て、反射型ホログラム箔（３）に用紙（１）と印刷パタ
ーン（４）の平滑度の違いが型付けされる。

【００３１】図８に示すように 積層体（９）を反射光
で観察した場合、反射型ホログラム箔（３）上で印刷パ
ターン（４）の領域は平滑度が高いため乱反射すること
なく、反射型ホログラム箔（３）上で印刷パターン
（４）以外の領域は平滑度が低いため乱反射が起こるた
め、反射型ホログラム箔（３）上の印刷パターン（４）
の領域と印刷パターン（４）以外の領域に輝度の差が生
じて反射型ホログラム箔（３）上で印刷パターン（４）
が確認できた。また、反射型ホログラム箔（３）に設け
たホログラムパターン（Ａ）も確認できた。

【００３２】（実施例２）実施例１と同様のデザイン
で、光透過性を有する平滑度３６秒の用紙に印刷パター
ンを透明インキによって熱転写プリンタした印刷パター
ン支持体を作製した。このときの印刷パターン（４）の
インキ皮膜は、平滑度５２秒である。印刷パターンを印
刷した用紙に、裏面に接着層を有する反射型ホログラム
箔を貼付（印刷パターン上と印刷パターンを施していな
い領域）し、実施例２の積層体を作製した。この実施例
２の積層体を反射光で観察した場合に、透明インキにも
係わらず、実施例１と同様に印刷パターンが確認でき
た。また、反射型ホログラム箔に設けたホログラムパタ
ーンも確認できた。用紙に、光透過性を有する平滑度３
６秒の用紙を用いているため、通常の有色インキでは、
用紙の裏面から印刷パターンが確認できるが、透明イン
キで印刷しているため用紙の裏面からは印刷パターンを
確認することができなかった。

【００３３】（実施例３）平滑度２１秒の用紙（１）に
図９のカモフラージュ模様（５）を浸透性の良いインキ
としてインクジェットプリンタによって印刷し、その上
に浸透性の悪いインキとしてレーザプリンタによって印
刷パターンを印刷し、その上にホログラム箔を貼付し、
実施例３の積層体を作製した。実施例３の積層体を反射
光で観察した場合に、カモフラージュ模様は確認するこ
とができなく、ホログラムパターン（Ａ）とレーザプリ
ンタによって印刷した印刷パターンのみを確認すること
が出来た。しかし用紙の裏面から観察すると、図６のレ
ーザプリンタによって印刷した印刷パターンはインクジ
ェットプリンタによって印刷したカモフラージュ模様に
よってカモフラージュされ確認することが出来なかっ
た。

【００３４】（実施例４）実施例１のホログラム箔の代
わりに多重回折格子、薄膜干渉フィルター金属薄
膜を用いて実施例１と同様の構成で三つのサンプルを作
製した。三つのサンプルにおいても実施例１の印刷物と
同様な効果が得られた。

【００３５】（実施例５）用紙の平滑度、印刷パターン
の平滑度をベック平滑度試験器（ＪＩＳ Ｐ ８１３
０）により測定し、適性値を把握した。印刷パターンの
確認度の関係は、印刷パターンがはっきりと確認できる
ものを○、印刷パターンがはっきりとではないが確認で
きるものを△、全く確認できないものを×という三段階
で評価した。評価結果については表１に示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】表１に示すように用紙の平滑度が１２０秒
以下で、且つ、用紙の平滑度と印刷パターンの平滑度に
差が生じると印刷パターンを確認することができること
がわかる。

【００３８】以上、本発明の実施例に基づいて説明した
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲記載における技術的思想の範囲内であれ
ば、その他のいろいろな実施の形態が考えられる。

【００３９】

【発明の効果】本発明の積層体を反射光で観察した場合
に、光反射性基材上で印刷パターンの領域は平滑度が高
いため乱反射することなく、光反射性基材上で印刷パタ
ーンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起
こるため、光反射性基材上の印刷パターンの領域と印刷
パターンを施していない領域に輝度の差が生じて光反射
性基材上で印刷パターンが確認でき、光反射性基材に画
像等の情報を設けたホログラム等を用いることにより、
本発明の積層体を反射光で観察した場合に、印刷パター
ンとホログラムに設けた画像等の情報が確認できるた
め、誰でも容易に真偽判別することが可能であり、銀行
券、株券、有価証券、通行券、パスポート、カード等の
偽造、複写を防止する必要性のある貴重印刷物に適用す
ることができる。

【００４０】本発明の支持基材を光透過性のある平滑度
の低い支持基材を用い、無色透明インキ又は支持基材と
ほぼ同色のインキで印刷パターンを印刷した場合に、裏
面から印刷パターンを確認することができないため秘匿
性が向上する。更に、本発明の支持基材を光透過性のあ
る平滑度の低い支持基材を用い、支持基材の平滑度とほ
ぼ同等の平滑度を有する第１のインキのインキ皮膜でカ
モフラージュ模様を設け、カモフラージュ模様の領域内
の上側（後刷）又はカモフラージュ模様の領域内の下側
（先刷：この場合、印刷パターンとカモフラージュ模様
のインキは同色）に、支持基材の平滑度よりも高い平滑
度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを
設け、第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印
刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記
光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射
性基材を有する積層体においても、裏面から観察すると
カモフラージュ模様によって印刷パターンを確認するこ
とができないため秘匿性が向上する。

【００４１】また、光反射性基材にホログラムを用い、
印刷パターンを個別情報にすることにより、個別情報を
有するホログラムのような擬似的なホログラムを作製す
ることができる。このことから個別情報を付与するため
のホログラム原版を作製する必要がなく、コストを低減
することができる。更に、光反射性基材上に印刷パター
ンを設けた場合に、印刷パターンを改竄される恐れが生
じるが、本発明は平滑度の低い支持基材上に印刷パター
ンを設け、その上に光反射性基材を貼付しているため、
印刷パターンを改竄することが困難となる。

【００４２】

【図面の簡単な説明】

【図１】平滑度の高い支持基材に裏面に接着層を有する
光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図である。

【図２】平滑度の低い支持基材に裏面に接着層を有する
光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図である。

【図３】平滑度の低い支持基材上に、印刷パターンを印
刷した印刷パターン支持体の印刷パターンを有する面の
上に、裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム
箔を貼付した断面図である。

【図４】平滑度の低い支持基材に支持基材の平滑度とほ
ぼ同等の平滑度を有するインキ皮膜が生じるインキによ
るカモフラージュ模様を印刷し、その上に支持基材の平
滑度よりも高い平滑度を有するインキ皮膜が生じる印刷
パターンを重ねて印刷し、その上に裏面に接着層を有す
る光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図及び平
面図である。

【図５】本発明における、ホログラムパターンを設けた
裏面に接着層を有する反射型ホログラム箔を示す図であ
る。

【図６】本発明における、用紙に印刷パターンを印刷し
た印刷パターン支持体を示す図である。

【図７】本発明の積層体の断面図を示す図である。

【図８】本発明の積層体を反射光で観察した場合の図で
ある。

【図９】浸透性の良いインキで印刷したカモフラージュ
模様を示す図である。

【符号の説明】

１ 平滑度の低い支持基材 １’ 平滑度の高い支持基材 ２ 接着層 ３ 光透過性のないホログラム箔 ４ 印刷パターン ５ カモフラージュ模様 ６ 入射光 ７ 反射光 ８ 乱反射光 ９ 積層体 Ａ ホログラムパターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB02 HB07 HB10 JB08 JB09 JB22 KA37 KA40 2H113 AA06 BB02 BB07 BB10 CA34 CA37 CA39 CA40 4F100 AT00A BA03 BA07 BA10B BA10C DG10 GB90 HB00B HB31B JK15 JK15A JL10B JM02B JN01B JN06C

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平滑度の低い支持基材上に印刷パターン
   を設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する
   光透過性のない光反射性基材とを、前記印刷パターンを
   有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した
   光反射性基材を有する積層体において、 前記支持基材上の印刷パターンは、有色インキで印刷
   し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の
   平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持
   体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域と
   の平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとな
   って型付される光反射性基材を有する積層体であって、 前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基
   材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反
   射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パター
   ンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こ
   るため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域
   と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生
   じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認でき
   ることを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
2. 【請求項２】 平滑度の低い支持基材上に印刷パターン
   を設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する
   光透過性のない光反射性基材とを、前記印刷パターンを
   有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した
   光反射性基材を有する積層体において、 前記支持基材上の印刷パターンは、無色透明インキ又は
   基材とほぼ同色のインキの少なくとも一つ以上で印刷
   し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の
   平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持
   体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域と
   の平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとな
   って型付される光反射性基材を有する積層体であって、 前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基
   材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反
   射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パター
   ンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こ
   るため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域
   と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生
   じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認で
   き、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記印刷パ
   ターンは無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキの
   ため確認されることがないことを特徴とする光反射性基
   材を有する積層体。
3. 【請求項３】 平滑度の低い支持基材上に印刷パターン
   を設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する
   光透過性のない光反射性基材とを、前記印刷パターンを
   有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した
   光反射性基材を有する積層体において、 前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１
   のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前
   記カモフラージュ模様を印刷した領域内に、前記支持基
   材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのイ
   ンキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターン支持
   体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷
   パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光
   反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性
   基材を有する積層体であって、 前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のイン
   キの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射する
   ことなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印
   刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反
   射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの
   印刷パターンの領域と、前記第２のインキの印刷パター
   ンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性
   基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、
   前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のイン
   キの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージ
   ュ模様によりカモフラージュされ確認されることがない
   ことを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
4. 【請求項４】 平滑度の低い支持基材上に印刷パターン
   を設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する
   光透過性のない光反射性基材とを、前記印刷パターンを
   有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した
   光反射性基材を有する積層体において、 前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２の
   インキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パ
   ターンを印刷した上に、前記支持基材の平滑度とほぼ同
   等の平滑度を有する前記第２のインキと同色の第１のイ
   ンキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記印
   刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２
   のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度
   の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付
   される光反射性基材を有する積層体であって、 前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のイン
   キの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射する
   ことなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印
   刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反
   射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの
   印刷パターンの領域と、前記第２のインキの印刷パター
   ンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性
   基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、
   前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のイン
   キの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージ
   ュ模様によりカモフラージュされ確認されることがない
   ことを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
5. 【請求項５】 前記光反射性基材がホログラム、多重回
   折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子又
   は金属薄膜であることを特徴とする請求項１、２、３又
   は４記載の光反射性基材を有する積層体。
6. 【請求項６】 前記平滑度の低い支持基材は、平滑度が
   ベック平滑度試験器で１２０秒以下であることを特徴と
   する請求項１、２、３、４又は５記載の光反射性基材を
   有する積層体。
7. 【請求項７】 前記印刷パターンは、文字、記号、数
   字、絵柄及び顔画像の少なくとも一つ以上の個別情報で
   あることを特徴とする請求項１、２、３、４、５又は６
   記載の光反射性基材を有する積層体。