JP2003280199A5 -

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（ａ）下記一般式（Ｉ）で示される基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、
（ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物。

式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｗは２価の有機基を表し、Ｘは−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ４）ＣＯ−、−Ｓｅ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ₂−を表し（ここで、Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す）、Ｒ３は置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。）
請求項１に記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。