JP2003275753A - 水処理システム - Google Patents
水処理システムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 建屋コストの低減を図り、さらには、発生す
る放射線の全てを汚水の殺菌処理に使用することのでき
る高効率の水処理システムを提供する。 【解決手段】 被処理水に電子線またはＸ線を照射する
水処理システムにおいて、電子線または／およびＸ線の
通路の周囲に被処理水を遮蔽材とする遮蔽手段を備えた
水処理システムである。前記水処理システムの外側での
放射線漏れ線量が法定許容値以下であることが好まし
い。また、前記通路の側面のみに前記遮蔽手段を備えて
いることが好ましい。
る放射線の全てを汚水の殺菌処理に使用することのでき
る高効率の水処理システムを提供する。 【解決手段】 被処理水に電子線またはＸ線を照射する
水処理システムにおいて、電子線または／およびＸ線の
通路の周囲に被処理水を遮蔽材とする遮蔽手段を備えた
水処理システムである。前記水処理システムの外側での
放射線漏れ線量が法定許容値以下であることが好まし
い。また、前記通路の側面のみに前記遮蔽手段を備えて
いることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子線あるいは
Ｘ線による汚水等の殺菌・滅菌処理システムに関する。
Ｘ線による汚水等の殺菌・滅菌処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子線を用いて汚水を処理するた
めに、電子加速器、電子線照射部、汚水輸送路からなる
装置を使用して、該輸送路を流れる水量を一定に保ちな
がら、その上部から電子線を照射し、滅菌処理を行なっ
ている。この装置は、たとえば特開平１０−１６５９４
９号公報に開示されている。発生した放射線の一部は建
屋の壁に吸収されるため、建屋の壁を分厚くするなどし
て放射線を遮蔽する特殊な構造でなければならず、コス
トが高くなるという問題がある。
めに、電子加速器、電子線照射部、汚水輸送路からなる
装置を使用して、該輸送路を流れる水量を一定に保ちな
がら、その上部から電子線を照射し、滅菌処理を行なっ
ている。この装置は、たとえば特開平１０−１６５９４
９号公報に開示されている。発生した放射線の一部は建
屋の壁に吸収されるため、建屋の壁を分厚くするなどし
て放射線を遮蔽する特殊な構造でなければならず、コス
トが高くなるという問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記課題を
解決するものであり、建屋コストの低減を図り、さらに
は、発生する放射線の全てを汚水の殺菌処理に使用する
ことのできる高効率の水処理システムを提供することを
目的とする。
解決するものであり、建屋コストの低減を図り、さらに
は、発生する放射線の全てを汚水の殺菌処理に使用する
ことのできる高効率の水処理システムを提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の水処理シ
ステムは、電子線または／およびＸ線の通路の周囲に被
処理水を遮蔽材とする遮蔽手段を備えた水処理システム
（装置）である。
ステムは、電子線または／およびＸ線の通路の周囲に被
処理水を遮蔽材とする遮蔽手段を備えた水処理システム
（装置）である。
【０００５】本発明の第２の水処理システムは、第１の
水処理システムにおいて、水処理システムの外側での放
射線漏れ線量が法定許容値以下である水処理システム
（装置）である。
水処理システムにおいて、水処理システムの外側での放
射線漏れ線量が法定許容値以下である水処理システム
（装置）である。
【０００６】本発明の第３の水処理システムは、第１の
水処理システムにおいて、前記通路の側面のみに前記遮
蔽手段を備えた水処理システム（装置）である。
水処理システムにおいて、前記通路の側面のみに前記遮
蔽手段を備えた水処理システム（装置）である。
【０００７】本発明の第４の水処理システムは、第１、
２または３の水処理システムにおいて、開閉可能な放射
線遮蔽手段を備えた水処理システム（装置）である。
２または３の水処理システムにおいて、開閉可能な放射
線遮蔽手段を備えた水処理システム（装置）である。
【０００８】本発明の第５の水処理システムは、第１、
２、３または４の水処理システムにおいて、前記遮蔽手
段の内側にオゾン処理手段を備えた水処理システム（装
置）である。
２、３または４の水処理システムにおいて、前記遮蔽手
段の内側にオゾン処理手段を備えた水処理システム（装
置）である。
【０００９】本発明の第６の水処理システムは、第１、
２、３または４の水処理システムにおいて、前記遮蔽手
段が吸気孔および排気孔を有し、遮蔽手段の外側にオゾ
ン処理手段を備えた水処理システム（装置）である。
２、３または４の水処理システムにおいて、前記遮蔽手
段が吸気孔および排気孔を有し、遮蔽手段の外側にオゾ
ン処理手段を備えた水処理システム（装置）である。
【００１０】本発明の第７の水処理システムは、第６の
水処理システムにおいて、孔が斜めに開いている水処理
システム（装置）である。
水処理システムにおいて、孔が斜めに開いている水処理
システム（装置）である。
【００１１】本発明の第８の水処理システムは、第６ま
たは７の水処理システムにおいて、さらに送風手段を備
えた水処理システム（装置）である。
たは７の水処理システムにおいて、さらに送風手段を備
えた水処理システム（装置）である。
【００１２】本発明の第９の水処理システムは、第１、
２、３、４、５、６、７または８の水処理システムにお
いて、さらにオゾンを含んだ気体の送風攪拌手段を備え
た水処理システム（装置）である。
２、３、４、５、６、７または８の水処理システムにお
いて、さらにオゾンを含んだ気体の送風攪拌手段を備え
た水処理システム（装置）である。
【００１３】本発明の第１０の水処理システムは、第
１、２、３、４、５、６、７、８または９の水処理シス
テムにおいて、遮蔽手段の上部に被処理水入口を備え、
下部に被処理水取出し口を備えるか、または前記遮蔽手
段の下部に被処理水入口を備え、上部に被処理水取出し
口を備えた水処理システム（装置）である。
１、２、３、４、５、６、７、８または９の水処理シス
テムにおいて、遮蔽手段の上部に被処理水入口を備え、
下部に被処理水取出し口を備えるか、または前記遮蔽手
段の下部に被処理水入口を備え、上部に被処理水取出し
口を備えた水処理システム（装置）である。
【００１４】本発明の第１１の水処理システムは、第
１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０の水処
理システムにおいて、前記遮蔽手段に入った被処理水が
放射線発生部の周囲を循環あるいは螺旋軌道を描きなが
ら取出し口へ導かれる水処理システムである。
１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０の水処
理システムにおいて、前記遮蔽手段に入った被処理水が
放射線発生部の周囲を循環あるいは螺旋軌道を描きなが
ら取出し口へ導かれる水処理システムである。
【００１５】
【発明の実施の形態】実施の形態１
図１は本発明の一実施形態を表わす断面図であり、１は
電子を必要なエネルギーまで加速する加速器であり、２
は加速器で加速され取り出された電子線を導く電子ビー
ム輸送系、３は電子線を走査するスキャン装置、４はス
キャンホーン、５は被処理水が照射される照射部容器、
６は汚水などの被処理水を輸送する汚水輸送パイプ、７
は全面遮蔽容器、９は加速器から発生する放射線を遮蔽
する自己遮蔽材、１０は通常の建屋の壁である建屋壁、
１１は地面、１２は汚水の流れを表わす矢印である。図
２は、図１で示された装置のＡ−Ａ方向の断面図であ
る。また、図３は全面遮蔽容器７の直方体形状の概略鳥
瞰図、図４は全面遮蔽容器７の円筒形状の概略鳥瞰図で
ある。
電子を必要なエネルギーまで加速する加速器であり、２
は加速器で加速され取り出された電子線を導く電子ビー
ム輸送系、３は電子線を走査するスキャン装置、４はス
キャンホーン、５は被処理水が照射される照射部容器、
６は汚水などの被処理水を輸送する汚水輸送パイプ、７
は全面遮蔽容器、９は加速器から発生する放射線を遮蔽
する自己遮蔽材、１０は通常の建屋の壁である建屋壁、
１１は地面、１２は汚水の流れを表わす矢印である。図
２は、図１で示された装置のＡ−Ａ方向の断面図であ
る。また、図３は全面遮蔽容器７の直方体形状の概略鳥
瞰図、図４は全面遮蔽容器７の円筒形状の概略鳥瞰図で
ある。
【００１６】加速され取り出された電子線は、ビーム輸
送系２で必要な断面形状にされる。図には記載していな
いが、ビーム輸送系２は通常複数の四極電磁石が配置さ
れ、電子線の断面形状が調整される。電子線はスキャン
装置３で偏向され図２のスキャンホーンの形状のように
時間的に広げられる。スキャン装置３は、たとえば時間
的に磁場強度が変わる電磁石で、繰り返し周波数は数十
Ｈｚから数十ｋＨｚである。これは被照射物の流れる速
度よりも充分早い値に選ばれ、被照射物に均一に照射で
きるようにする。磁場の時間波形は、正弦波が電源を容
易にできるが、均一照射のためには、磁場強度が直線的
に変化する方がよい。電子線のスキャン方向に対して垂
直方向の幅は、ビーム輸送系２の設計によるが、通常は
数ｃｍである。この電子線照射により汚水中の菌は法定
許容値以下に減る。
送系２で必要な断面形状にされる。図には記載していな
いが、ビーム輸送系２は通常複数の四極電磁石が配置さ
れ、電子線の断面形状が調整される。電子線はスキャン
装置３で偏向され図２のスキャンホーンの形状のように
時間的に広げられる。スキャン装置３は、たとえば時間
的に磁場強度が変わる電磁石で、繰り返し周波数は数十
Ｈｚから数十ｋＨｚである。これは被照射物の流れる速
度よりも充分早い値に選ばれ、被照射物に均一に照射で
きるようにする。磁場の時間波形は、正弦波が電源を容
易にできるが、均一照射のためには、磁場強度が直線的
に変化する方がよい。電子線のスキャン方向に対して垂
直方向の幅は、ビーム輸送系２の設計によるが、通常は
数ｃｍである。この電子線照射により汚水中の菌は法定
許容値以下に減る。
【００１７】Ｘ線照射の場合は、スキャンホーン４の出
口にタングステン等の熱に強い重金属が配置される。電
子がそこに当たると、制動Ｘ線を発生し、そのＸ線を被
照射体に照射する。電子線からＸ線への変換効率が低い
問題があり、電子線強度を増やすか加速器台数を増やす
必要があるが、Ｘ線は電子線に比べて被照射体への侵入
の深さが深く、より濃度の高い汚水等に適している。
口にタングステン等の熱に強い重金属が配置される。電
子がそこに当たると、制動Ｘ線を発生し、そのＸ線を被
照射体に照射する。電子線からＸ線への変換効率が低い
問題があり、電子線強度を増やすか加速器台数を増やす
必要があるが、Ｘ線は電子線に比べて被照射体への侵入
の深さが深く、より濃度の高い汚水等に適している。
【００１８】汚水などの被処理水は汚水輸送パイプ６に
よって全面遮蔽容器７まで運ばれてくる。全面遮蔽容器
７は、電子の通路および電子線あるいはＸ線照射部を囲
む構造であり、図３および図４に概略鳥瞰図を示す。容
器の材質はたとえばステンレスやアルミニウムなどが考
えられる。放射線は電子が物質に衝突することにより発
生するが、最も発生する部分は照射部容器５付近であ
り、つぎに多い場所が加速器１である。また、ビーム輸
送系２やスキャン装置３、スキャンホーン４でも発生す
るため、これらを囲むような形状に全面遮蔽容器７は作
られる。図３は直方体形状の例であり、図４は円筒形状
の例である。これらは一体物として描いているが、構造
的に限定するものではない。１３はビーム輸送系２をと
おすための貫通穴である。全面遮蔽容器７の汚水は汚水
取り出し口１４から照射部容器に入り照射される。照射
部容器出口側の排水容器は排水路スペース１５に設置さ
れ、殺菌された汚水は外側に取り出される。図４では省
略している。
よって全面遮蔽容器７まで運ばれてくる。全面遮蔽容器
７は、電子の通路および電子線あるいはＸ線照射部を囲
む構造であり、図３および図４に概略鳥瞰図を示す。容
器の材質はたとえばステンレスやアルミニウムなどが考
えられる。放射線は電子が物質に衝突することにより発
生するが、最も発生する部分は照射部容器５付近であ
り、つぎに多い場所が加速器１である。また、ビーム輸
送系２やスキャン装置３、スキャンホーン４でも発生す
るため、これらを囲むような形状に全面遮蔽容器７は作
られる。図３は直方体形状の例であり、図４は円筒形状
の例である。これらは一体物として描いているが、構造
的に限定するものではない。１３はビーム輸送系２をと
おすための貫通穴である。全面遮蔽容器７の汚水は汚水
取り出し口１４から照射部容器に入り照射される。照射
部容器出口側の排水容器は排水路スペース１５に設置さ
れ、殺菌された汚水は外側に取り出される。図４では省
略している。
【００１９】全面遮蔽容器７が被処理水で満たされる
と、加速器１が運転を始め、電子線あるいはＸ線が照射
され出す。このために、たとえば排水側の汚水輸送パイ
プ６あるいは全面遮蔽容器７と照射部容器５のあいだに
バルブを設ける。
と、加速器１が運転を始め、電子線あるいはＸ線が照射
され出す。このために、たとえば排水側の汚水輸送パイ
プ６あるいは全面遮蔽容器７と照射部容器５のあいだに
バルブを設ける。
【００２０】照射処理終了方法については、たとえば汚
水を止めて放流しても問題ない水を全面遮蔽容器７に送
り込み、汚水が排出した時点で加速器１の運転を止めれ
ばよい。また、処理水の量に比べて全面照射容器内の汚
水の量が充分に小さい値であれば、そのまま殺菌せずに
運転を終了しても問題ない。なお、運転中でない場合
は、全面遮蔽容器７は、水または汚水により満たされて
いるか、法令上問題なければ空の状態でもよい。
水を止めて放流しても問題ない水を全面遮蔽容器７に送
り込み、汚水が排出した時点で加速器１の運転を止めれ
ばよい。また、処理水の量に比べて全面照射容器内の汚
水の量が充分に小さい値であれば、そのまま殺菌せずに
運転を終了しても問題ない。なお、運転中でない場合
は、全面遮蔽容器７は、水または汚水により満たされて
いるか、法令上問題なければ空の状態でもよい。
【００２１】図５は全面遮蔽容器の出入り口扉を示した
ものである。出入り口遮蔽扉１７は、ステンレス等でで
きた直方体形状の容器であり、中に水等が蓄えられてい
る。これは、レール１８の上に載せられており、電動あ
るいは手動でレール１８の上を移動する。図６は、全面
遮蔽容器７と出入り口遮蔽扉１７の隙間から放射線が漏
れることを防ぐ方式であり、出入り口遮蔽扉１７の断面
形状を平行四辺形的にして斜め方向に移動させるように
したものである。これらは、放射線遮蔽構造の建屋にお
いて、よく用いられている方法である。
ものである。出入り口遮蔽扉１７は、ステンレス等でで
きた直方体形状の容器であり、中に水等が蓄えられてい
る。これは、レール１８の上に載せられており、電動あ
るいは手動でレール１８の上を移動する。図６は、全面
遮蔽容器７と出入り口遮蔽扉１７の隙間から放射線が漏
れることを防ぐ方式であり、出入り口遮蔽扉１７の断面
形状を平行四辺形的にして斜め方向に移動させるように
したものである。これらは、放射線遮蔽構造の建屋にお
いて、よく用いられている方法である。
【００２２】出入り口遮蔽扉１７は、放射線遮蔽材であ
ればコンクリートでも鉄でも何でもよく、比重が大きい
材質ほど扉の厚みを薄くできる。鉄や鉛を使えば、この
ようにレール上を移動する方式でなく、通常の開閉扉方
式が可能になる場合もある。扉の開閉方向を矢印１９で
示す。
ればコンクリートでも鉄でも何でもよく、比重が大きい
材質ほど扉の厚みを薄くできる。鉄や鉛を使えば、この
ようにレール上を移動する方式でなく、通常の開閉扉方
式が可能になる場合もある。扉の開閉方向を矢印１９で
示す。
【００２３】全面遮蔽容器７の厚さは、その外側で放射
線が法定許容値以下となるように設計される。本方式の
特長は、電子線あるいはＸ線が照射部容器内で殺菌する
だけでなく、先に述べたさまざまな個所で発生する放射
線（主にＸ線やγ線）が全面遮蔽容器内で殺菌作用をす
ることであり、放射線遮蔽が殺菌容器も兼ねていること
である。電子線および発生する放射線がすべて殺菌作用
するため、極めて効率の高いシステムである。
線が法定許容値以下となるように設計される。本方式の
特長は、電子線あるいはＸ線が照射部容器内で殺菌する
だけでなく、先に述べたさまざまな個所で発生する放射
線（主にＸ線やγ線）が全面遮蔽容器内で殺菌作用をす
ることであり、放射線遮蔽が殺菌容器も兼ねていること
である。電子線および発生する放射線がすべて殺菌作用
するため、極めて効率の高いシステムである。
【００２４】全面遮蔽容器内７での殺菌作用を効果的に
するためには、汚水が全面遮蔽容器７に入ってから出る
までの時間をできるだけ長くすることである。そのため
には、放射線発生部の周り、すなわち遮蔽容器内部を回
りながら出口に向かうようにする。図３に汚水入り口１
６を示すが、汚水取り出し口１４に対して同図の位置に
あれば、汚水は螺旋軌道を描きながら汚水取り出し口１
４に導かれる。もちろん、この方式ではほとんど汚水の
移動がない領域が生じるが、その部分の汚水は、最後に
取り出されるときには菌数は極めて少なくなっている。
また、図５、図６のように扉を付けた例では、流路は短
くなり殺菌効果は低減する。これに対して、出入り口遮
蔽扉１７をなくして、図３、図４のような構造で、全面
遮蔽容器内側には地下から出入りする構造とすると、殺
菌効果は高くなる。
するためには、汚水が全面遮蔽容器７に入ってから出る
までの時間をできるだけ長くすることである。そのため
には、放射線発生部の周り、すなわち遮蔽容器内部を回
りながら出口に向かうようにする。図３に汚水入り口１
６を示すが、汚水取り出し口１４に対して同図の位置に
あれば、汚水は螺旋軌道を描きながら汚水取り出し口１
４に導かれる。もちろん、この方式ではほとんど汚水の
移動がない領域が生じるが、その部分の汚水は、最後に
取り出されるときには菌数は極めて少なくなっている。
また、図５、図６のように扉を付けた例では、流路は短
くなり殺菌効果は低減する。これに対して、出入り口遮
蔽扉１７をなくして、図３、図４のような構造で、全面
遮蔽容器内側には地下から出入りする構造とすると、殺
菌効果は高くなる。
【００２５】実施の形態２
なお、前記実施例では上面も覆ったが、図７、図８に示
すように上面は除いた側面だけでも同様の効果が得られ
る。この場合、側面遮蔽容器８は全面遮蔽容器７に比べ
て製作が容易になる効果が得られる。しかし、上面に抜
ける放射線を遮蔽するために、加速器１の自己遮蔽材９
の厚みを厚くする必要がある。
すように上面は除いた側面だけでも同様の効果が得られ
る。この場合、側面遮蔽容器８は全面遮蔽容器７に比べ
て製作が容易になる効果が得られる。しかし、上面に抜
ける放射線を遮蔽するために、加速器１の自己遮蔽材９
の厚みを厚くする必要がある。
【００２６】実施の形態３
図９は、加速器１に自己遮蔽材９を用いない方式で、建
屋の壁を放射線遮蔽材とする実施例である。通常、建屋
遮蔽材２０は厚いコンクリートである。この場合、加速
器１へのアクセスが容易になり、保守管理が容易になる
効果が得られる。
屋の壁を放射線遮蔽材とする実施例である。通常、建屋
遮蔽材２０は厚いコンクリートである。この場合、加速
器１へのアクセスが容易になり、保守管理が容易になる
効果が得られる。
【００２７】実施の形態４
図１０は、加速器１を含めたすべての電子線あるいは電
子線とｘ線の通路を被処理水遮蔽容器である完全遮蔽容
器２１で覆った構造の例である。この方式では、放射線
発生部の建屋を被処理水遮蔽容器で兼ねられるため、建
屋コストを著しく低減できる効果が得られる。
子線とｘ線の通路を被処理水遮蔽容器である完全遮蔽容
器２１で覆った構造の例である。この方式では、放射線
発生部の建屋を被処理水遮蔽容器で兼ねられるため、建
屋コストを著しく低減できる効果が得られる。
【００２８】汚水輸送パイプ６で運ばれてきた汚水は完
全遮蔽容器２１の上部から入れられ、一旦下側に落ちて
引き上げパイプ２２をとおって外部に取り出され、照射
部容器５で照射されて所定の場所に輸送される。この方
式により、完全遮蔽容器２１内側で発生する放射線によ
る殺菌を効果的にできる。また、汚水の完全遮蔽容器２
１への入り口と引き上げパイプ２２の位置関係は、入っ
た汚水が完全遮蔽容器２１内でできるだけ長い流路を形
成するように選ばれ、図１０の例に限定されるものでは
ない。
全遮蔽容器２１の上部から入れられ、一旦下側に落ちて
引き上げパイプ２２をとおって外部に取り出され、照射
部容器５で照射されて所定の場所に輸送される。この方
式により、完全遮蔽容器２１内側で発生する放射線によ
る殺菌を効果的にできる。また、汚水の完全遮蔽容器２
１への入り口と引き上げパイプ２２の位置関係は、入っ
た汚水が完全遮蔽容器２１内でできるだけ長い流路を形
成するように選ばれ、図１０の例に限定されるものでは
ない。
【００２９】実施の形態５
電子が空中をとおるとオゾンが発生する。このオゾンは
金属を腐食させる。図１１は発生オゾンをオゾン処理装
置２３で処理して装置の腐食を防ぐ実施例である。
金属を腐食させる。図１１は発生オゾンをオゾン処理装
置２３で処理して装置の腐食を防ぐ実施例である。
【００３０】実施の形態６
図１２はオゾン処理装置２３を全面遮蔽容器の外側に配
置した実施例である。全面遮蔽容器には排気孔２６、吸
気孔２７が開けられており、オゾンは照射部容器付近で
主に発生するため、その付近に排気孔２６は設けられ
る。また、これらの孔は斜めに開けられ、放射線の漏洩
を小さくする。また、とくに排気孔表面はオゾンによる
腐食防止のために樹脂等でコーティングを行なう。ファ
ン２５で排気孔から排出されたオゾンは排気ダクト２４
をとおってオゾン処理装置２３に送られる。排気孔２６
と吸気孔２７の開け方の一例を図１３に示す。このとき
の気体の流れを矢印２８で示す。
置した実施例である。全面遮蔽容器には排気孔２６、吸
気孔２７が開けられており、オゾンは照射部容器付近で
主に発生するため、その付近に排気孔２６は設けられ
る。また、これらの孔は斜めに開けられ、放射線の漏洩
を小さくする。また、とくに排気孔表面はオゾンによる
腐食防止のために樹脂等でコーティングを行なう。ファ
ン２５で排気孔から排出されたオゾンは排気ダクト２４
をとおってオゾン処理装置２３に送られる。排気孔２６
と吸気孔２７の開け方の一例を図１３に示す。このとき
の気体の流れを矢印２８で示す。
【００３１】この実施例では、オゾン処理装置を外側に
配置できるため、オゾン処理装置に制約がなくなるた
め、最適なオゾン処理装置が選択できる。また、全面遮
蔽容器の内側を最少にできるため、全面遮蔽用器を最少
にできる効果が得られる。
配置できるため、オゾン処理装置に制約がなくなるた
め、最適なオゾン処理装置が選択できる。また、全面遮
蔽容器の内側を最少にできるため、全面遮蔽用器を最少
にできる効果が得られる。
【００３２】もちろん、図１１と図１２の全面遮蔽容器
は、側面遮蔽容器でも同様の効果が得られる。
は、側面遮蔽容器でも同様の効果が得られる。
【００３３】実施の形態７
図１４は、発生オゾンを殺菌にも使う実施例である。オ
ゾンは殺菌作用があるため、放射線でなくオゾンを使っ
た汚水処理装置が提案されるくらいである。照射部容器
５付近で発生したオゾンを送風攪拌器２９で全面遮蔽容
器内の汚水に溶け込ませ殺菌する。これにより、より効
果的な殺菌が可能となる。一方、汚水の酸素濃度が高い
ほど電子線あるいはＸ線による殺菌効果は高くなるが、
送風攪拌器により空気も送り込まれるため汚水の酸素濃
度が高くなり、殺菌効果が上げられる効果も得られる。
送り込まれた空気の多くは、上に抜けてゆき、空気抜き
３０をとおって排出される。
ゾンは殺菌作用があるため、放射線でなくオゾンを使っ
た汚水処理装置が提案されるくらいである。照射部容器
５付近で発生したオゾンを送風攪拌器２９で全面遮蔽容
器内の汚水に溶け込ませ殺菌する。これにより、より効
果的な殺菌が可能となる。一方、汚水の酸素濃度が高い
ほど電子線あるいはＸ線による殺菌効果は高くなるが、
送風攪拌器により空気も送り込まれるため汚水の酸素濃
度が高くなり、殺菌効果が上げられる効果も得られる。
送り込まれた空気の多くは、上に抜けてゆき、空気抜き
３０をとおって排出される。
【００３４】もちろん本方式は、全面遮蔽容器だけでな
く側面遮蔽容器の方式に対しても同様の効果が得られ
る。
く側面遮蔽容器の方式に対しても同様の効果が得られ
る。
【００３５】
【発明の効果】本発明の第１の水処理システムによれ
ば、電子線または／およびＸ線の通路の周囲に被処理水
を遮蔽材とする遮蔽手段を備えたので、建屋の放射線遮
蔽構造体としての機能を軽減でき、建屋のコスト減が図
れる。
ば、電子線または／およびＸ線の通路の周囲に被処理水
を遮蔽材とする遮蔽手段を備えたので、建屋の放射線遮
蔽構造体としての機能を軽減でき、建屋のコスト減が図
れる。
【００３６】本発明の第２の水処理システムによれば、
第１の水処理システムにおいて、水処理システムの外側
での放射線漏れ線量が法定許容値以下であるので、建屋
は放射線遮蔽構造とする必要がまったくなく、安価とな
る。
第１の水処理システムにおいて、水処理システムの外側
での放射線漏れ線量が法定許容値以下であるので、建屋
は放射線遮蔽構造とする必要がまったくなく、安価とな
る。
【００３７】本発明の第３の水処理システムによれば、
第１の水処理システムにおいて、前記通路の側面のみに
前記遮蔽手段を備えたので、被処理水貯蔵タンクの製作
が容易となる。また、内部へ入る構造も簡単になる。
第１の水処理システムにおいて、前記通路の側面のみに
前記遮蔽手段を備えたので、被処理水貯蔵タンクの製作
が容易となる。また、内部へ入る構造も簡単になる。
【００３８】本発明の第４の水処理システムによれば、
第１、２または３の水処理システムにおいて、開閉可能
な放射線遮蔽手段を備えたので、放射線遮蔽を兼ねた扉
の構造が簡単になる。
第１、２または３の水処理システムにおいて、開閉可能
な放射線遮蔽手段を備えたので、放射線遮蔽を兼ねた扉
の構造が簡単になる。
【００３９】本発明の第５の水処理システムによれば、
第１、２、３または４の水処理システムにおいて、前記
遮蔽手段の内側にオゾン処理手段を備えたので、遮蔽容
器内側の金属の腐食を防止する。
第１、２、３または４の水処理システムにおいて、前記
遮蔽手段の内側にオゾン処理手段を備えたので、遮蔽容
器内側の金属の腐食を防止する。
【００４０】本発明の第６の水処理システムによれば、
第１、２、３または４の水処理システムにおいて、前記
遮蔽手段が吸気孔および排気孔を有し、遮蔽手段の外側
にオゾン処理手段を備えたので、遮蔽容器内側の金属の
腐食を防止するとともに、遮蔽容器を小さくできる。
第１、２、３または４の水処理システムにおいて、前記
遮蔽手段が吸気孔および排気孔を有し、遮蔽手段の外側
にオゾン処理手段を備えたので、遮蔽容器内側の金属の
腐食を防止するとともに、遮蔽容器を小さくできる。
【００４１】本発明の第７の水処理システムによれば、
第６の水処理システムにおいて、孔が斜めに開いている
ので、放射線の漏洩を防止できる。
第６の水処理システムにおいて、孔が斜めに開いている
ので、放射線の漏洩を防止できる。
【００４２】本発明の第８の水処理システムによれば、
第６または７の水処理システムにおいて、さらに送風手
段を備えたので、発生するオゾンを効果的に排出でき
る。
第６または７の水処理システムにおいて、さらに送風手
段を備えたので、発生するオゾンを効果的に排出でき
る。
【００４３】本発明の第９の水処理システムによれば、
第１、２、３、４、５、６、７または８の水処理システ
ムにおいて、さらにオゾンを含んだ気体の送風攪拌手段
を備えたので、発生するオゾンを被処理水の殺菌に利用
でき、殺菌効果が上がる。
第１、２、３、４、５、６、７または８の水処理システ
ムにおいて、さらにオゾンを含んだ気体の送風攪拌手段
を備えたので、発生するオゾンを被処理水の殺菌に利用
でき、殺菌効果が上がる。
【００４４】本発明の第１０の水処理システムによれ
ば、第１、２、３、４、５、６、７、８または９の水処
理システムにおいて、遮蔽手段の上部に被処理水入口を
備え、下部に被処理水取出し口を備えるか、または前記
遮蔽手段の下部に被処理水入口を備え、上部に被処理水
取出し口を備えたので、遮蔽手段内側で発生するすべて
の放射線（主にＸ線とγ線）を殺菌に使え、殺菌効果が
上がる。
ば、第１、２、３、４、５、６、７、８または９の水処
理システムにおいて、遮蔽手段の上部に被処理水入口を
備え、下部に被処理水取出し口を備えるか、または前記
遮蔽手段の下部に被処理水入口を備え、上部に被処理水
取出し口を備えたので、遮蔽手段内側で発生するすべて
の放射線（主にＸ線とγ線）を殺菌に使え、殺菌効果が
上がる。
【００４５】本発明の第１１の水処理システムによれ
ば、第１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０
の水処理システムにおいて、前記遮蔽手段に入った被処
理水が放射線発生部の周囲を循環あるいは螺旋軌道を描
きながら取出し口へ導かれるので、、放射線に当たる時
間が長くなり、殺菌効果が上がる。
ば、第１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０
の水処理システムにおいて、前記遮蔽手段に入った被処
理水が放射線発生部の周囲を循環あるいは螺旋軌道を描
きながら取出し口へ導かれるので、、放射線に当たる時
間が長くなり、殺菌効果が上がる。
【図１】 本発明の一実施形態を表わす図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】 本発明で使用する直方体形状の全面遮蔽容器
の概略鳥瞰図である。
の概略鳥瞰図である。
【図４】 本発明で使用する円筒形状の全面遮蔽容器の
概略鳥瞰図である。
概略鳥瞰図である。
【図５】 本発明で使用する出入り口扉を有する全面遮
蔽容器の概略鳥瞰図である。
蔽容器の概略鳥瞰図である。
【図６】 本発明で使用する出入り口扉を有する他の全
面遮蔽容器の概略鳥瞰図である。
面遮蔽容器の概略鳥瞰図である。
【図７】 本発明の一実施形態を表わす図である。
【図８】 図７のＢ−Ｂ断面図である。
【図９】 本発明の一実施形態を表わす図である。
【図１０】 本発明の一実施形態を表わす図である。
【図１１】 オゾン処理装置を備えた本発明の一実施形
態を表わす図である。
態を表わす図である。
【図１２】 オゾン処理装置を備えた本発明の他の一実
施形態を表わす図である。
施形態を表わす図である。
【図１３】 本発明で使用する排気孔２６と吸気孔２７
の開け方の一例を表す図である。
の開け方の一例を表す図である。
【図１４】 送風攪拌器を備えた本発明の他の一実施形
態を表わす図である。
態を表わす図である。
１ 加速器、２ ビーム輸送系、３ スキャン装置、４
スキャンホーン、５照射部容器、６ 汚水輸送パイ
プ、７ 全面遮蔽容器、８ 側面遮蔽容器、９自己遮蔽
材、１０ 建屋壁、１１ 地面、１２ 汚水の流れ、１
３ 貫通穴、１４ 汚水取り出し口、１５ 排水路スペ
ース、１６ 汚水入口、１７ 出入り口遮蔽扉、１８
レール、１９ 扉開閉方向、２０ 建屋遮蔽材、２１
完全遮蔽容器、２２ 引き上げパイプ、２３ オゾン処
理装置、２４ 排気ダクト、２５ ファン、２６ 排気
孔、２７ 吸気孔、２８ 気体の流れ、２９ 送風攪拌
器、３０ 空気抜き。
スキャンホーン、５照射部容器、６ 汚水輸送パイ
プ、７ 全面遮蔽容器、８ 側面遮蔽容器、９自己遮蔽
材、１０ 建屋壁、１１ 地面、１２ 汚水の流れ、１
３ 貫通穴、１４ 汚水取り出し口、１５ 排水路スペ
ース、１６ 汚水入口、１７ 出入り口遮蔽扉、１８
レール、１９ 扉開閉方向、２０ 建屋遮蔽材、２１
完全遮蔽容器、２２ 引き上げパイプ、２３ オゾン処
理装置、２４ 排気ダクト、２５ ファン、２６ 排気
孔、２７ 吸気孔、２８ 気体の流れ、２９ 送風攪拌
器、３０ 空気抜き。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０Ｂ
５５０Ｄ
５６０ ５６０Ｃ
1/78 1/78
Claims (11)
- 【請求項１】 被処理水に電子線またはＸ線を照射する
水処理システムにおいて、電子線または／およびＸ線の
通路の周囲に被処理水を遮蔽材とする遮蔽手段を備えた
水処理システム。 - 【請求項２】 水処理システムの外側での放射線漏れ線
量が法定許容値以下である請求項１記載の水処理システ
ム。 - 【請求項３】 前記通路の側面のみに前記遮蔽手段を備
えた請求項１記載の水処理システム。 - 【請求項４】 さらに開閉可能な放射線遮蔽手段を備え
た請求項１、２または３記載の水処理システム。 - 【請求項５】 さらに前記遮蔽手段の内側にオゾン処理
手段を備えた請求項１、２、３または４記載の水処理シ
ステム。 - 【請求項６】 さらに前記遮蔽手段が吸気孔および排気
孔を有し、遮蔽手段の外側にオゾン処理手段を備えた請
求項１、２、３または４記載の水処理システム。 - 【請求項７】 前記孔が斜めに開いている請求項６記載
の水処理システム。 - 【請求項８】 さらに送風手段を備えた請求項６または
７記載の水処理システム。 - 【請求項９】 さらにオゾンを含んだ気体の送風攪拌手
段を備えた請求項１、２、３、４、５、６、７または８
記載の水処理システム。 - 【請求項１０】 前記遮蔽手段の上部に被処理水入口を
備え、下部に被処理水取出し口を備えるか、または前記
遮蔽手段の下部に被処理水入口を備え、上部に被処理水
取出し口を備えた請求項１、２、３、４、５、６、７、
８または９記載の水処理システム。 - 【請求項１１】 前記遮蔽手段に入った被処理水が放射
線発生部の周囲を循環あるいは螺旋軌道を描きながら取
出し口へ導かれる請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９または１０記載の水処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002078578A JP3819794B2 (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 水処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002078578A JP3819794B2 (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 水処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003275753A true JP2003275753A (ja) | 2003-09-30 |
| JP3819794B2 JP3819794B2 (ja) | 2006-09-13 |
Family
ID=29206083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002078578A Expired - Fee Related JP3819794B2 (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 水処理システム |
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| JP (1) | JP3819794B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130032547A1 (en) * | 2011-03-01 | 2013-02-07 | Pillai Suresh D | Stabilization and disinfection of wastes using high energy e-beam and chemical oxidants |
| CN112624461A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-04-09 | 中广核达胜加速器技术有限公司 | 一种难降解废水的处理方法 |
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| CN110407412A (zh) * | 2019-08-06 | 2019-11-05 | 陈葆良 | 一种利用高能电子束催化氧化垃圾渗滤液处理方法 |
-
2002
- 2002-03-20 JP JP2002078578A patent/JP3819794B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3819794B2 (ja) | 2006-09-13 |
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