CN213752000U - 一种辐照自屏蔽设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种辐照自屏蔽设备，具有自屏蔽结构，所述自屏蔽结构安装在设备支架上，所述的自屏蔽结构由屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板组成一个四面完全封闭的通道，所述自屏蔽结构通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干空间，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造，位于所自屏蔽结构的中心区域内布置有射线源，传输线体从自屏蔽结构的入口侧屏蔽挡板开口处穿入自屏蔽结构，经过射线源下方，从自屏蔽结构出口侧屏蔽挡板开口处穿出，所述传输线体在自屏蔽结构内多次弯折以穿过屏蔽挡板开口，以最小的空间和传输距离来实现满足环境剂量要求的目的。

Description

一种辐照自屏蔽设备

技术领域

本实用新型涉及辐照技术领域，尤其涉及有连续传输装置的一种辐照自屏蔽设备。

背景技术

辐照技术在如今多个行业内应用广泛，如食品加工，电缆交联，橡胶硫化等。辐照设备面临的最大问题是射线对环境的影响，世界各国和各界都对辐射环境剂量有着严格的管控要求，因此往往辐照设备都需要放置在密封的具有足够屏蔽等级的房间内，或者要求辐照设备足够远离人员活动区域。在如此条件下，辐照设备的配套传输系统会很长，机房的占地面积也会很大，严重限制了辐照设备的应用场景。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决上述提出的问题，提供一种辐照自屏蔽设备，将传输线折叠穿越各层屏蔽开口，达到以最小的空间和传输距离来实现满足环境剂量要求的目的。

本实用新型的目的是以如下方式实现的：一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：具有自屏蔽结构，所述自屏蔽结构安装在设备支架上，所述的自屏蔽结构由屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板组成一个正面、背面、上面、下面完全封闭的通道，所述自屏蔽结构通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干屏蔽空间，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造，位于所述自屏蔽结构的中心区域内布置有射线源，传输线体从自屏蔽结构入口侧入口屏蔽挡板开口处穿入自屏蔽结构，经过射线源下方，从自屏蔽结构出口侧出口屏蔽挡板开口处穿出，经过自屏蔽结构下方回到自屏蔽结构的入口侧，所述传输线体在自屏蔽结构内多次弯折以穿过竖型屏蔽挡板开口，所述射线源的正下方设有排风管道，用于排出辐照产生的臭氧。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述传输线体通过传输线入口平台穿过入口蔽挡板，然后弯折向下穿过第二屏蔽挡板，然后折弯弧度向上与第二平台连接，第二平台穿过第三屏蔽挡板后向下折弯进入第四平台，所述第四平台依次穿过第四屏蔽挡板与第五屏蔽挡板，所述射线源位于所述第四屏蔽挡板和第五屏蔽挡板隔成的空间的正上方，所述第四平台的运动方向的末端折弯向上与第五平台连接，所述第五平台穿过第六屏蔽挡板，所述第五平台的末端向下到一定角度后折弯向上后穿过第七屏蔽挡板连接出口平台，所述出口平台穿过出口屏蔽挡板后离开自屏蔽结构。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述输送线平台和屏蔽挡板的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述入口蔽挡板和出口屏蔽挡板的开孔上下两侧不是同平面的。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述射线源种类为电子束或X射线。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述自屏蔽结构上的屏蔽盖板是可以分块开启的，每个可开启的屏蔽盖板都设有限位开关用于监控开关情况，保证使用中无辐射泄漏。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述排风管道由屏蔽材料制成，且经过多次弯折避免辐射泄漏。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述自屏蔽结构下方设置有传输线体清洗装置。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与入口屏蔽挡板、第二屏蔽挡板构成入口屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第二屏蔽挡板、第三屏蔽挡板构成第二屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第三屏蔽挡板、第四屏蔽挡板构成第三屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第四屏蔽挡板、第五屏蔽挡板构成第四屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第五屏蔽挡板、第六屏蔽挡板构成第五屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第六屏蔽挡板、第七屏蔽挡板构成第六屏蔽区，所述屏蔽底板、屏蔽侧板、屏蔽盖板与第七屏蔽挡板、出口屏蔽挡板构成出口屏蔽区，其中，组成第四屏蔽区的屏蔽材料最厚、组成第三屏蔽区和组成第五屏蔽区的屏蔽材料中，如不是组成第四屏蔽区的屏蔽材料，则可以比组成第四屏蔽区的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区和组成第六屏蔽区的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区和组成第五屏蔽区，则可以比组成第三屏蔽区和组成第五屏蔽区的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区和组成第六屏蔽区的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区和组成第五屏蔽区，则可以比组成第三屏蔽区和组成第五屏蔽区的屏蔽材料薄，组成入口屏蔽区和组成出口屏蔽区的屏蔽材料中，如不是组成第二屏蔽区和组成第六屏蔽区，则可以比组成第二屏蔽区和组成第六屏蔽区的屏蔽材料薄。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述屏蔽区域的屏蔽材料厚度以及屏蔽区域的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

更优化的方案是所述的一种辐照自屏蔽设备，所述竖型屏蔽挡板正面和背面与屏蔽侧板间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板上面与屏蔽盖板间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板下面与屏蔽底板间没有缝隙。

本实用新型的优点：本实用新型制造一种具有屏蔽结构的纵向迷宫结构，将传输线折叠穿越各层屏蔽开口，其仅作业面穿过屏蔽通道，返回面在屏蔽通道外移动，使屏蔽开口尽可能小，达到以最小的空间和传输距离来实现满足环境剂量要求的目的。

其不仅包括多层开口交错的铅板组成屏蔽结构，置于屏蔽结构的横向中心的辐射源，多次折弯穿过屏蔽开口的传输线，屏蔽结构为在四周完全封闭铅通道内设置多道开口上下交错的铅板，铅板的道次根据射线强度可以增减。

其次屏蔽挡板的厚度随区域内能量的减弱而逐渐变薄，而且传输线的非作业面经过一个清洗装置，可以保持传输线清洁。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的A-A的剖面结构示意图。

具体实施方式：

以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

见图1和图2所示，一种辐照自屏蔽设备，具有自屏蔽结构1，所述自屏蔽结构1安装在设备支架2上，所述的自屏蔽结构1由屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5组成一个正面、背面、上面、下面完全封闭的通道，所述自屏蔽结构1通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干屏蔽空间，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造，位于所述自屏蔽结构1的中心区域内布置有射线源7，传输线体8从自屏蔽结构1入口侧入口屏蔽挡板6开口处穿入自屏蔽结构1，经过射线源7下方，从自屏蔽结构1出口侧出口屏蔽挡板9开口处穿出，经过自屏蔽结构1下方回到自屏蔽结构1的入口侧，所述传输线体8在自屏蔽结构1内多次弯折以穿过竖型屏蔽挡板开口，所述射线源7的正下方设有排风管道24，用于排出辐照产生的臭氧。

所述传输线体8通过传输线入口平台10穿过入口屏蔽挡板6，然后弯折向下穿过第二屏蔽挡板12，然后折弯弧度向上与第二平台13连接，第二平台13穿过第三屏蔽挡板14后向下折弯进入第四平台15，所述第四平台15依次穿过第四屏蔽挡板16与第五屏蔽挡板17，所述射线源7位于所述第四屏蔽挡板16和第五屏蔽挡板17隔成的空间的正上方，所述第四平台15的运动方向的末端折弯向上与第五平台18连接，所述第五平台18穿过第六屏蔽挡板19，所述第五平台18的末端向下到一定角度后折弯向上后穿过第七屏蔽挡板20连接出口平台21，所述出口平台21穿过出口屏蔽挡板9后离开自屏蔽结构1。

输送线平台和屏蔽挡板的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

所述入口屏蔽挡板6和出口屏蔽挡板9的开孔上下两侧不是同平面的。

所述射线源7种类为电子束或X射线。

所述自屏蔽结构1上的屏蔽盖板5是可以分块开启的，每个可开启的屏蔽盖板5都设有限位开关22用于监控开关情况，保证使用中无辐射泄漏。

所述排风管道24由屏蔽材料制成，且经过多次弯折避免辐射泄漏。

所述自屏蔽结构1下方设置有传输线体清洗装置23。

所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与入口屏蔽挡板6、第二屏蔽挡板12构成入口屏蔽区，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与第二屏蔽挡板12、第三屏蔽挡板14构成第二屏蔽区 25，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与第三屏蔽挡板14、第四屏蔽挡板16构成第三屏蔽区26，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板 4、屏蔽盖板5与第四屏蔽挡板16、第五屏蔽挡板17构成第四屏蔽区27，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与第五屏蔽挡板17、第六屏蔽挡板19构成第五屏蔽区28，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与第六屏蔽挡板19、第七屏蔽挡板20构成第六屏蔽区29，所述屏蔽底板3、屏蔽侧板4、屏蔽盖板5与第七屏蔽挡板20、出口屏蔽挡板9构成出口屏蔽区30，其中，组成第四屏蔽区27的屏蔽材料最厚、组成第三屏蔽区26和组成第五屏蔽区28的屏蔽材料中，如不是组成第四屏蔽区27的屏蔽材料，则可以比组成第四屏蔽区27的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区25 和组成第六屏蔽区29的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区26 和组成第五屏蔽区28，则可以比组成第三屏蔽区26和组成第五屏蔽区28的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区25和组成第六屏蔽区29 的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区26和组成第五屏蔽区28，则可以比组成第三屏蔽区26和组成第五屏蔽区28的屏蔽材料薄，组成入口屏蔽区和组成出口屏蔽区30的屏蔽材料中，如不是组成第二屏蔽区25和组成第六屏蔽区29，则可以比组成第二屏蔽区 25和组成第六屏蔽区29的屏蔽材料薄。

屏蔽区域的屏蔽材料厚度以及屏蔽区域的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

所述竖型屏蔽挡板正面和背面与屏蔽侧板4间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板上面与屏蔽盖板5间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板下面与屏蔽底板3间没有缝隙。

其工作原理为：被照物料从传输线体8一侧连续进入自屏蔽结构1，经多次弯折的传输线体8运达射线源7下。射线打在物料表面，形成韧致辐射，辐射向四周扩散。

X射线穿透力很强，需要足够厚度的屏蔽体进行阻挡，但当射线打在屏蔽上会再次发生折射，每次折射的射线能量都会大大衰减，自屏蔽系统内的迷宫经过计算，会使所有射线都经过足够多次的折射，最终在自屏蔽结构1两端开口侧低于环境计量要求。

物料将从出口侧传输出自屏蔽结构1，完成物料的辐照。

而传输线体8继续传输至自屏蔽下侧，进入传输先清洗装置23 进行清洗，最终回到入口处继续工作。

以上实施方式仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施方式对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施方式所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施方式技术方案的精神和范围。

本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整。

Claims (11)

1.一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：具有自屏蔽结构(1)，所述自屏蔽结构(1)安装在设备支架(2)上，所述的自屏蔽结构(1)由屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)组成一个正面、背面、上面、下面完全封闭的通道，所述自屏蔽结构(1)通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干屏蔽空间，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造，位于所述自屏蔽结构(1)的中心区域内布置有射线源(7)，传输线体(8)从自屏蔽结构(1)入口侧入口屏蔽挡板(6)开口处穿入自屏蔽结构(1)，经过射线源(7)下方，从自屏蔽结构(1)出口侧出口屏蔽挡板(9)开口处穿出，经过自屏蔽结构(1)下方回到自屏蔽结构(1)的入口侧，所述传输线体(8)在自屏蔽结构(1)内多次弯折以穿过竖型屏蔽挡板开口，所述射线源(7)的正下方设有排风管道(24)，用于排出辐照产生的臭氧。

2.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述传输线体(8)通过传输线入口平台(10)穿过入口屏蔽挡板(6)，然后弯折向下穿过第二屏蔽挡板(12)，然后折弯弧度向上与第二平台(13)连接，第二平台(13)穿过第三屏蔽挡板(14)后向下折弯进入第四平台(15)，所述第四平台(15)依次穿过第四屏蔽挡板(16)与第五屏蔽挡板(17)，所述射线源(7)位于所述第四屏蔽挡板(16)和第五屏蔽挡板(17)隔成的空间的正上方，所述第四平台(15)的运动方向的末端折弯向上与第五平台(18)连接，所述第五平台(18)穿过第六屏蔽挡板(19)，所述第五平台(18)的末端向下到一定角度后折弯向上后穿过第七屏蔽挡板(20)连接出口平台(21)，所述出口平台(21)穿过出口屏蔽挡板(9)后离开自屏蔽结构(1)。

3.根据权利要求2所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：输送线平台和屏蔽挡板的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

4.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述入口屏蔽挡板(6)和出口屏蔽挡板(9)的开孔上下两侧不是同平面的。

5.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述射线源(7)种类为电子束或X射线。

6.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述自屏蔽结构(1)上的屏蔽盖板(5)是可以分块开启的，每个可开启的屏蔽盖板(5)都设有限位开关(22)用于监控开关情况，保证使用中无辐射泄漏。

7.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述排风管道(24)由屏蔽材料制成，且经过多次弯折避免辐射泄漏。

8.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述自屏蔽结构(1)下方设置有传输线体清洗装置(23)。

9.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与入口屏蔽挡板(6)、第二屏蔽挡板(12)构成入口屏蔽区，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第二屏蔽挡板(12)、第三屏蔽挡板(14)构成第二屏蔽区(25)，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第三屏蔽挡板(14)、第四屏蔽挡板(16)构成第三屏蔽区(26)，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第四屏蔽挡板(16)、第五屏蔽挡板(17)构成第四屏蔽区(27)，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第五屏蔽挡板(17)、第六屏蔽挡板(19)构成第五屏蔽区(28)，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第六屏蔽挡板(19)、第七屏蔽挡板(20)构成第六屏蔽区(29)，所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)与第七屏蔽挡板(20)、出口屏蔽挡板(9)构成出口屏蔽区(30)，其中，组成第四屏蔽区(27)的屏蔽材料最厚、组成第三屏蔽区(26)和组成第五屏蔽区(28)的屏蔽材料中，如不是组成第四屏蔽区(27)的屏蔽材料，则可以比组成第四屏蔽区(27)的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区(25)和组成第六屏蔽区(29)的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区(26)和组成第五屏蔽区(28)，则可以比组成第三屏蔽区(26)和组成第五屏蔽区(28)的屏蔽材料薄，组成第二屏蔽区(25)和组成第六屏蔽区(29)的屏蔽材料中，如不是组成第三屏蔽区(26)和组成第五屏蔽区(28)，则可以比组成第三屏蔽区(26)和组成第五屏蔽区(28)的屏蔽材料薄，组成入口屏蔽区和组成出口屏蔽区(30)的屏蔽材料中，如不是组成第二屏蔽区(25)和组成第六屏蔽区(29)，则可以比组成第二屏蔽区(25)和组成第六屏蔽区(29)的屏蔽材料薄。

10.根据权利要求9所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：屏蔽区域的屏蔽材料厚度以及屏蔽区域的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

11.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备，其特征在于：所述竖型屏蔽挡板正面和背面与屏蔽侧板(4)间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板上面与屏蔽盖板(5)间没有缝隙，且所述竖型屏蔽挡板下面与屏蔽底板(3)间没有缝隙。

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