JP2003270572A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 走査方向の光量分布の均一性を簡単に達成す
ることができ、安価で信頼性の高い光走査装置を得る。 【解決手段】 半導体レーザ１２の光軸調整時に、ｆθ
レンズ２４とシリンドリカルミラー３０との間の光路内
で、感光体３２の走査方向中央部３２Ａと等価な位置に
光量検出器５０を配置し、この光量検出器５０による出
力データに基づき、感光体３２の走査方向中央部３２Ａ
で光量が最小となるように半導体レーザ１２のＸ方向の
位置調整を行うことにより、半導体レーザ１２の光軸を
感光体３２の走査方向中央位置に一致させることがで
き、画像形成領域において均等な光量分布特性を得るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタや
デジタル複写機などの画像記録装置に使用される光走査
装置に係り、詳しくは、回転多面鏡の反射面の走査方向
の幅よりも大きな光束が該反射面に入射するいわゆるオ
ーバーフィルド（ＯｖｅｒＦｉｌｌｅｄ）タイプの光走
査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、回転多面鏡を用いて光ビームを走
査する光走査装置では、回転多面鏡に向けて出射された
光ビームを回転多面鏡の一つの反射面の一部分のみに照
射して偏向走査するいわゆるアンダーフィルド光学系が
一般的に取り入れられている。

【０００３】図１２（Ａ）、（Ｂ）に示すように（な
お、（Ａ）は概略平面図を示し、（Ｂ）は概略側面図を
示している）、このアンダーフィルド光学系の光走査装
置では、半導体レーザ１００から出射された光ビームが
コリメータレンズ１０２へ入射され、略中央部に矩形状
の開口が設けられた板状部材の開口部材１０４を通過す
る。

【０００４】開口部材１０４を通過した光ビームは、シ
リンドリカルレンズ１０６によってビーム整形され、回
転多面鏡１１０の一つの反射面の一部によって反射さ
れ、ｆθレンズ１０８及びシリンドリカルミラー１１２
を経て、回転駆動するドラム状の記録媒体としての感光
体１１４の表面に潜像が形成される。

【０００５】これに対して、いわゆるオーバーフィルド
光学系では、回転多面鏡の反射面の走査方向の幅よりも
大きな光束を該反射面へ入射させる。このため、同一直
径の回転多面鏡において、アンダーフィルド光学系に比
して、反射面を多く設けることが可能となり、回転多面
鏡を比較的低い回転数で動作させることができ、駆動モ
ータを高速で回転させることによる振動、騒音、寿命等
の課題を解決することができる。

【０００６】しかし、このオーバーフィルド光学系で
は、半導体レーザから出射された略ガウスビーム形状の
光束を、回転多面鏡の反射面が切り取るようにして使用
するため、回転多面鏡の走査角に応じて光量が変化し、
光量分布が不均一になることがある。

【０００７】この問題に対して、特開平１１−２１８７
０２号公報には、光束幅を規制する開口板の開口形状
を、走査方向（開口板の左右方向）中央部に比して、走
査方向両端部が大きくすることにより、走査方向両端部
の光量を増大させて、オーバーフィルド光学系における
光量分布を均一にする技術が開示されており、従来の単
純な矩形の開口形状と比べ、その効果は大きい。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実際の
光走査装置の製造時には、半導体レーザ自体の光軸のバ
ラツキ、各光学部品を載置する光学箱の精度の影響によ
り、光量分布の均一化を図るのは容易ではない。特に、
感光体上の走査方向の光量分布を均一化させるべく光量
分布を検出し、光軸調整を行う技術を採用する場合は問
題が生じる。

【０００９】すなわち、特開平９−９６７６９号公報に
開示されているように、回転多面鏡による偏向後に複数
位置において検出された光量を基に光軸調整を行う場
合、走査方向に対応する方向の光軸調整は、感光体両端
部の光量に基づき光軸調整を行うため、感光体両端部に
相当する光量のバランスをとると、つまり、感光体両端
部において、光量出力差をなくすように調整しようとす
ると、図１３に示すように、その差が０になる位置は数
カ所存在し、ポジションＡに半導体レーザの光軸が調整
されなければならないにも拘らず、ポジションＢ、Ｃで
調整されてしまうことがある。

【００１０】このように、ポジションＢ、Ｃで調整され
た場合、ポジションＡで調整された場合に比して、感光
体両端部の外側の光量変化量が大きく、急激な光量低下
となってしまう。

【００１１】通常、光走査装置は感光体両端部の外側、
つまり画像形成領域外の光を同期検出器へ導光し、同期
検知信号に同期して画像信号に基づき変調された光ビー
ムが半導体レーザから出射される。このため、該同期検
出器への光量が著しく低くなってしまうと、検出不良
や、同期信号の乱れによる、画質劣化につながる。

【００１２】本発明は上記事実を考慮し、走査方向の光
量分布の均一性を簡単に達成することができ、安価で信
頼性の高い光走査装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は、光源から出射された光ビームは、偏向手段によって
偏向走査される。また、光源から出射された光ビーム
は、整形手段によって、偏向手段の走査方向の偏向面幅
を越える幅の光ビームに整形される。

【００１４】一方、光源と偏向手段との間の光路内には
開口部材が配置されており、この開口部材には光ビーム
が通過する開口部が形成されている。開口部は、走査方
向と直交する方向の長さを、走査方向中央部に比して走
査方向両端部を長くした形状にしている（以下、「ダン
ベル型」という）。

【００１５】ここで、被走査面又は偏向手段以降の光路
での走査方向中央部の光ビームの光量を最小としてい
る。いわゆるオーバーフィルド光学系において、整形手
段と光源との間の光路内に配設する開口部材に形成され
た開口部の形状をダンベル型とした場合、光源の光軸
が、被走査面（像面）上の走査方向中央位置と一致する
と、光軸上の光量、つまり走査方向中央位置の光量が、
走査方向中央部で最も小さい値となる。

【００１６】換言すれば、被走査面上の走査方向中央部
又はその等価位置で光量が最小となるように光軸調整さ
れた光走査装置では、光源の光軸と被走査面上の走査方
向中央位置とが一致し、画像形成領域において均等な光
量分布特性を容易に得ることができる。

【００１７】請求項２に記載の発明では、走査方向中央
位置を基準に等間隔位置にある２カ所の光ビームの光量
を略均一にすると共に、該２カ所の光ビームの光量を、
走査方向中央部の光ビームの光量の所定比以上としてい
る。

【００１８】開口部の形状によっては、走査方向中央部
において、光量が略均等となり最小となる位置を検出し
にくい場合もある。このため、走査方向中央部以外に走
査方向中央位置を基準に等間隔位置にある２ヶ所の光量
バランスをとる（光量を略均一にする）と共に、該２ヶ
所の光量を走査方向中央部の光ビームの光量の所定比以
上となるように光軸調整された光走査装置では、画像形
成領域はもちろんのこと、画像形成領域外の光量分布に
おいても急激な変化はなく、所定の光量を満足させるこ
とが可能となる。

【００１９】請求項３に記載の発明では、光ビームが通
過する開口部の形状を略矩形型にした光軸調整用開口部
材が、開口部材と交換可能に設けられている。

【００２０】開口部の形状が略矩形型の場合、光源自体
のプロファイル（通常ガウシアン分布）の影響を直接受
けるので、走査方向両端部（始点側及び終点側）の走査
方向中央部との光量比は、ほぼ直線的に変化し、始点側
と終点側との光量分布差がほぼ０になるのは、光源の光
軸と被走査面上の走査方向中央位置とが略一致した場合
のみである。

【００２１】このため、略矩形型の開口部が形成された
光軸調整用開口部材を、開口部と交換可能に設けること
で、光軸調整用開口部材を用いて光源の光軸を調整する
ことができ、光軸を被走査面上の走査方向中央位置に容
易に一致させることができる。そして、光軸調整後に、
ダンベル型の開口部が形成された開口部材に交換するこ
とで、走査方向の光量分布を均一にすることができる。

【００２２】請求項４に記載の発明では、開口部材の同
軸上に回転部材を回転可能に設けており、この回転部材
を回転させることで、光ビームが通過する開口部を走査
方向と直交する方向の長さを走査方向中央部に比して走
査方向両端部を長くした形状（ダンベル型）或いは略矩
形型の形状に変化させることができる。

【００２３】これにより、光軸調整時は略矩形型の開口
部をとし、光軸調整後、ダンベル型の開口部に変化させ
ることで、光軸を被走査面上の走査方向中央位置に容易
に一致させることができると共に、走査方向の光量分布
を均一にすることができる。

【００２４】また、開口部材の同軸上に設けられた回転
部材回転させるだけで、開口部の形状を変化させること
ができるので、軸ずれを防止することができ、結果的
に、より均一な光量分布が得られ、安価で信頼性の高い
光走査装置を得ることができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施形態に
係る光走査装置の概要を説明する。なお、感光体（後述
する）上に潜像が形成される方向を主走査方向とし、こ
の主走査方向に直交する方向を副走査方向とする。

【００２６】図１に示すように、本実施形態に係る光走
査装置１０には、半導体レーザ１２が備えられており、
半導体レーザ１２から出射された光ビームは、コリメー
タレンズ（図示省略）が内装された鏡筒１４へ入射さ
れ、コリメータレンズによって略平行光束とされる。

【００２７】平行光束された光ビームは、板状部材で形
成された開口部材１６の略中央部に設けられた開口部１
８を通過して光束幅が規制され、シリンドリカルレンズ
２０によって所定形状（副走査方向には集束し主走査方
向には長い）の線状光束とされる。線状光束された光ビ
ームは、折り曲げミラー２２によって反射され、Ｆθレ
ンズ２４を透過して光ビームの偏向手段としての回転多
面鏡２６へ正面から入射される。

【００２８】ここで、回転多面鏡２６は正多角柱で形成
され、外周に複数の反射面２８を備えており、Ｆθレン
ズ２４等の光学部品によって、反射面２８の走査方向の
幅よりも大きな幅の光束が整形され、反射面２８の反射
面幅を越える幅の光ビームが反射面２８へ入射される
（いわゆるオーバーフィルド光学系）。

【００２９】一方、回転多面鏡２６へ入射された光ビー
ムは、回転多面鏡２６で反射偏向された後、Ｆθレンズ
２４を透過し、シリンドリカルミラー３０によってｆθ
レンズ２４、回転多面鏡２６の面倒れ補正が行われる
が、Ｆθレンズ２４によって、光ビームは画像記録用の
感光材が塗布されたドラム状の感光体３２の表面に光ス
ポットとして集光され結像されると共に、該光スポット
が感光体３２の表面で等速移動し、これにより、感光体
３２の走査方向で潜像が形成される。

【００３０】ここで、折り曲げミラー２２により反射さ
れた光ビームと回転多面鏡２６の反射面２８により反射
された光ビームとが同一のｆθレンズ２４を通過するた
め、折り曲げミラー２２により反射された光ビームは、
ｆθレンズ２４の斜め上方から入射されるようにし、回
転多面鏡２６の反射面２８により反射された光ビーム
は、反射面２８によって斜め下方へ反射されてｆθレン
ズ２４に入射されるように各光学部品を配設している。

【００３１】次に、本発明の第１の実施形態に係る光走
査装置に用いられる光軸調整方法について説明する。

【００３２】図２（Ａ）に示すように、開口部材１６に
設けられた開口部１８の形状は、開口部１８のＸ方向
（主走査方向）両端部を、中央部に比してＹ方向（副走
査方向）に張り出させ、主走査方向両端部の幅を広くし
ている（以下、「ダンベル型」という。図２（Ｂ）及び
図２（Ｃ）についても同様）。

【００３３】また、図２（Ｂ）では、開口部材３４に設
けられた開口部３６の副走査方向中央部と両端部との段
差部分に傾斜部３６Ａを設けている。さらに、図２
（Ｃ）では、開口部材３８に設けられた開口部３９の副
走査方向中央部から両端部に架けて副走査方向の幅が徐
々に広くなるようにしている。

【００３４】このように、開口部１８、３６、３９の形
状を、走査方向中央部に比して、走査方向両端部が大き
くなるようにすることで、走査方向両端部の光量を増大
させて、オーバーフィルド光学系における光量分布を均
一にしている。

【００３５】ところで、図１に示すように、開口部材１
６は、開口部１８の中心がシリンドリカルレンズ２０等
の光学系部品の光軸と一致するように配設されており、
主走査方向（矢印Ｘ方向）及び副走査方向（矢印Ｙ方
向）について半導体レーザ１２の光軸調整を行う。

【００３６】副走査方向に関しては、半導体レーザ１２
の光軸調整時にシリンドリカルミラー３０の前に位置検
出器４０を配置し、この位置検出器４０によって出力さ
れたデータに基づいて半導体レーザ１２の位置調整を行
う。

【００３７】一方、主走査方向に関しては、半導体レー
ザ１２自体の光軸のバラツキ及び各光学部品を載置する
光学箱の精度が、被走査面である感光体３２の走査方向
での光量分布のバラツキに大きく影響を及ぼしてしま
う。

【００３８】このため、感光体３２の走査方向での光量
分布を均一にするためには、位置検出器４０による位置
調整だけでは不十分である。また、図１３には半導体レ
ーザ１２（光源）のＸ方向の位置と感光体３２の走査方
向両端部（始点側及び終点側）の走査中央部との光量比
の関係が示されているが、感光体３２の始点側と終点側
とで光量差が０になる位置は数カ所（ポジションＡ、
Ｂ、Ｃ）存在するため、感光体３２の始点側と終点側と
で光量差が０になる位置に半導体レーザ１２のＸ方向の
位置を合わせたとしても、半導体レーザ１２の位置が必
ずしも理想位置（ポジションＡ）であるとは限らない。

【００３９】一方、図３には半導体レーザ１２のＸ方向
の位置と感光体３２の走査方向中央部との光量比の関係
が示されており、これによると、半導体レーザ１２の光
軸が感光体３２の走査中央位置と一致するとき、走査中
央位置の光量は、走査中央部の中で最も小さい値をと
る。

【００４０】このため、図４に示すように、半導体レー
ザ１２の光軸調整時に、ｆθレンズ２４とシリンドリカ
ルミラー３０との間の光路内で、感光体３２の走査方向
中央部３２Ａと等価な位置に光量検出器５０を配置し、
この光量検出器５０による出力データに基づき、感光体
３２の走査方向中央部３２Ａで光量が最小となるように
半導体レーザ１２のＸ方向の位置調整を行うことによ
り、半導体レーザ１２の光軸を感光体３２の走査方向中
央位置に一致させることができ、画像形成領域において
均等な光量分布特性を得ることができる。これは、開口
部の形状を図２（Ａ）或いは図２（Ｂ）とした場合、顕
著に現れる。

【００４１】なお、ここでは、光量検出器５０をｆθレ
ンズ２４とシリンドリカルミラー３０との間の光路内に
配置し、ｆθレンズ２４とシリンドリカルミラー３０と
の間の光路内の光量を検出したが、感光体３２上の光量
を直接検出するようにしても良い。

【００４２】また、ここでは、半導体レーザ１２の光軸
調整時に光量検出器５０をｆθレンズ２４とシリンドリ
カルミラー３０との間の光路内に配置したが、このよう
に、光走査装置１０の製造時のみに使用する時はもちろ
んのこと、光走査装置１０内に光量検出器５０を配設し
た状態のまま取り外すことなく、図示しない画像形成装
置に組み込んでも良い。

【００４３】この場合、例えば、半導体レーザ１２に図
示しない駆動装置を設け、ｆθレンズ２４とシリンドリ
カルミラー３０との間の光路内にスプリッタ（図示省
略）を配設して、入射された光ビームを光路に沿って透
過する方向と光路外へ反射する方向とに分けるようにす
る。一方、光量検出器５０は光路外に配設し、スプリッ
タによって反射された光ビームが入射するようにする。
以上のような構成により、光量検出器５０による出力デ
ータに応じて、駆動装置を駆動させ、半導体レーザ１２
の光軸をリアルタイムで調整するようにしても良い。

【００４４】次に、本発明の実施の第１の形態に係る光
走査装置に用いられる光軸調整方法の他の例について説
明する。

【００４５】図５に示すように、ｆθレンズ２４とシリ
ンドリカルミラー３０との間の光路内に、感光体３２の
走査方向中央部３２Ａ及び走査方向中央部３２Ａを基準
に等間隔位置にある２点３２Ｂ、３２Ｃと等価な位置に
光量検出器５０、５２、５４をそれぞれ配置している。

【００４６】開口部の形状によっては、感光体３２の走
査方向中央部において、光量が略均等となり最小となる
位置を検出しにくい場合もある。このため、走査方向中
央部以外に走査方向中央部を基準に等間隔位置にある２
ヶ所の光量バランスをとる（光量を略均一にする）。

【００４７】また、走査方向中央部の光量と比較して所
定比以上になるように、光軸を調整する。これにより、
画像形成領域はもちろんのこと、画像形成領域外の光量
分布においても急激な変化はなく、所定の光量を満足さ
せることが可能となる。

【００４８】本実施例の場合は、開口部材１６の開口部
１８の形状が図２（Ａ）の場合であるが、走査中央光量
と比較して９５％以上という条件を設定することで、理
想の光軸に調整することができる。この所定比は、開口
部の形状によって異なるので、開口部の形状を図２
（Ｂ）或いは図２（Ｃ）を使用する場合は、別途所定比
を設定する必要がある。

【００４９】次に、本発明の第２の実施形態に係る光走
査装置について説明する。なお、第１の実施形態に係る
光走査装置と略同一の内容については説明を割愛する。

【００５０】図６に示すように、略中央部にダンベル型
の開口部３９が形成された開口部材３８と、略矩形型の
開口部４４が形成された光軸調整用開口部材４２と、を
用い、図示しないホルダーによって保持可能とする。そ
して、光軸調整時には光軸調整用開口部材４２を用い、
光軸調整後、開口部材３８に交換する。

【００５１】図７に示すように、略矩形型の開口部４４
の場合、光源自体のプロファイル（通常ガウシアン分
布）の影響を直接受けるので、図８に示すように、半導
体レーザ１２（光源）の光軸と感光体３２の走査方向両
端部（始点側及び終点側）の走査方向中央部との光量比
は、ほぼ直線的に変化し、始点側と終点側との光量分布
差がほぼ０になるのは、半導体レーザ１２の光軸と感光
体３２上の走査方向中央位置とが略一致した場合のみで
ある。

【００５２】また、ダンベル型の開口部３９に比べ、矩
形型の開口部４４の場合は、走査方向両端部の光量分布
差の出力が、半導体レーザ１２の位置に対して大きく変
動するため、光量検出器５０（図４参照）において、多
少の測定誤差が生じても、半導体レーザ１２の光軸調整
に影響を及ぼすことはない。

【００５３】このため、略矩形型の開口部４４が形成さ
れた光軸調整用開口部材４２を用いて光軸調整を行うこ
とで、光軸を感光体３２上の走査方向中央位置に容易に
一致させることができる。そして、光軸調整後に、ダン
ベル型の開口部３９が形成された開口部材３８に交換す
ることで、走査方向の光量分布を均一にすることができ
る。

【００５４】なお、ここでは、ダンベル型の開口部とし
て図２（Ｃ）に示す形状としたが、ダンベル型の開口部
であれば良いため、これに限るものではなく、図２
（Ａ）或いは図２（Ｃ）の形状であっても良い。

【００５５】また、ここでは、光走査装置１０の製造時
に光軸調整用開口部材４２を用いて半導体レーザ１２の
光軸調整を行い、調整後、光軸調整用開口部材４２を取
り除き、開口部材３８に交換するようにしたが、光走査
装置１０を画像形成装置（図示省略）に組み込んだ状態
で光軸調整を行うような構成としても良い。

【００５６】例えば、光軸調整用開口部材４２及び開口
部材３８を走査方向に対して平行に配置するホルダーを
設け、このホルダーに往復駆動装置（図示省略）を配設
し、走査方向に対して平行に移動させるようにする。ホ
ルダーを往復移動させ、半導体レーザ１２の光路上に光
軸調整用開口部材４２或いは開口部材３８を配置する。
これにより、光走査装置１０を画像形成装置に組み込ん
だ状態で光軸調整を行うことができる。

【００５７】次に、本発明の第２の実施形態に係る光走
査装置の他の例について説明する。

【００５８】図９（Ａ）には、コリメータレンズ５９が
内装された鏡筒５６が示されている。鏡筒５６の出射側
には底部５６Ａが設けられており、この底部５６Ａには
ダンベル型の開口部５８が形成されている。

【００５９】また、鏡筒５６の底部５６Ａ側には、図９
（Ｂ）に示す円筒状の蓋体６０（回転部材）が嵌め込み
可能となっており、鏡筒５６の同軸上を回転可能となっ
ている。蓋体６０には略十字状の開口部６４が形成され
ており、この開口部６４の左右方向（走査方向）は開口
部５８と同一形状となるようにし、開口部６４の上下方
向（副走査方向）は略矩形状となるようにしている。

【００６０】図１０（Ａ）に示すように、鏡筒５６の底
部５６Ａ側に蓋体６０を嵌め込み、開口部５８と開口部
６４とを重ね合わせた状態にする。開口部５８及び開口
部６４の開口部分が一致する領域が開口部となるため、
図１０（Ｂ）に示すように、開口部５８と開口部６４と
を重ね合わせて形成された開口部６６は開口部５８と一
致する。また、この状態から図１１（Ａ）に示すよう
に、蓋体６０を９０度回転させると、図１１（Ｂ）に示
すように略矩形型の開口部６８に変化する。

【００６１】以上のような構成により、光軸調整時は図
１１（Ｂ）に示すように、略矩形型の開口部６８とし、
光軸調整後は、蓋体６０を９０度回転させて、図１０
（Ｂ）に示すようにダンベル型の開口部６６に変化させ
ることで、半導体レーザ１２の光軸を感光体３２上の走
査方向中央位置に容易に一致させることができると共
に、走査方向の光量分布を均一にすることができる。

【００６２】また、図９（Ａ）、（Ｂ）に示す鏡筒５６
の同軸上に設けられた蓋体６０を回転させるだけで、開
口部６６（図１０（Ｂ）参照）或いは開口部６８（図１
１（Ｂ）参照）の形状に変化させることができるので、
軸ずれを防止することができ、結果的に、より均一な光
量分布が得られ、安価で信頼性の高い光走査装置を得る
ことができる。

【００６３】

【発明の効果】本発明は上記構成としたので、請求項１
に記載の発明では、被走査面上の走査方向中央部又はそ
の等価位置で光量が最小となるように光軸調整された光
走査装置では、光源の光軸と被走査面上の走査方向中央
位置とが一致し、画像形成領域において均等な光量分布
特性を容易に得ることができる。

【００６４】請求項２に記載の発明では、画像形成領域
はもちろんのこと、画像形成領域外の光量分布において
も急激な変化はなく、所定の光量を満足させることが可
能となる。

【００６５】請求項３に記載の発明では、略矩形型の開
口部が形成された光軸調整用開口部材を、開口部と交換
可能に設けることで、光軸調整用開口部材を用いて光源
の光軸を調整することができ、光軸を被走査面上の走査
方向中央位置に容易に一致させることができる。そし
て、光軸調整後に、ダンベル型の開口部が形成された開
口部材に交換することで、走査方向の光量分布を均一に
することができる。

【００６６】請求項４に記載の発明では、光軸調整時は
略矩形型の開口部とし、光軸調整後、ダンベル型の開口
部に変化させることで、光軸を被走査面上の走査方向中
央位置に容易に一致させることができると共に、走査方
向の光量分布を均一にすることができる。また、開口部
材の同軸上に設けられた回転部材回転させるだけで、開
口部の形状を変化させることができるので、軸ずれを防
止することができ、結果的に、より均一な光量分布が得
られ、安価で信頼性の高い光走査装置を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施形態に係る光走査装置を用いた半
導体レーザのＹ方向の調整方法を示す斜視図である。

【図２】 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ開口部材
の部分断面図であり、開口部材に形成された開口部の形
状を示している。

【図３】 光源位置と走査方向中央部の光量との関係を
示すグラフである。

【図４】 第１の実施形態に係る光走査装置を用いた半
導体レーザのＸ方向の調整方法を示す斜視図である。

【図５】 第１の実施形態に係る光走査装置を用いた半
導体レーザのＸ方向の調整方法の他の例を示す斜視図で
ある。

【図６】 第２の実施形態に係る光走査装置を示す斜視
図である。

【図７】 開口部材の部分断面図であり、略矩形型の開
口部の形状を示している。

【図８】 略矩形型の開口部を用いた場合の光源位置と
走査方向両端部の走査方向中央部との光量比との関係を
示すグラフである。

【図９】 第２の実施形態に係る光走査装置の他の例を
示す説明図であり、（Ａ）は鏡筒の断面図及び右側面図
を示し、（Ｂ）は鏡筒に嵌め込む蓋体の断面図及び右側
面図を示している。

【図１０】 （Ａ）は蓋体が嵌め込まれた鏡筒の右側面
図を示す図であり、（Ｂ）は、（Ａ）によって形成され
た開口部の形状を示している。

【図１１】 （Ａ）は蓋体が嵌め込まれた鏡筒の右側面
図を示す図であり、（Ｂ）は、（Ａ）によって形成され
た開口部の形状を示している。

【図１２】 従来のアンダ−フィルド光学系の概略を
示す説明図であり、（Ａ）は平面図を示し、（Ｂ）は側
面図を示している。

【図１３】 光源位置と走査方向両端部の走査方向中
央部との光量比との関係を示すグラフである。

【符号の説明】

１０ 光走査装置 １２ 半導体レーザ（光軸） １６ 開口部材 ２４ Ｆθレンズ（整形手段） ２６ 回転多面鏡（偏向手段） ３４ 開口部材 ３８ 開口部材 ４２ 光軸調整用開口部材 ５６ 鏡筒（開口部材） ６０ 蓋体（回転部材）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA49 AA53 BA04 BA84 BA85 2H045 AA01 BA41 CB35 DA02 5C051 AA02 CA07 DB22 DB24 DB30 DC07 DE09 DE23 DE30 5C072 AA03 DA02 DA04 DA18 HA02 HA09 HA13 HB08 XA05

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームを出射する光源と、 前記光源からの光ビームを偏向走査する偏向手段と、 前記光源から出射された光ビームを、前記偏向手段の走
   査方向の偏向面幅を越える幅の光ビームに整形する整形
   手段と、 前記光源と前記偏向手段との間の光路内に配置されると
   共に、光ビームが通過する開口部の走査方向と直交する
   方向の長さを、走査方向中央部に比して走査方向両端部
   を長くした開口部材と、 を備え、 被走査面又は前記偏向手段以降の光路での走査方向中央
   部の光ビームの光量が最小であることを特徴とする光走
   査装置。
2. 【請求項２】 前記走査方向中央位置を基準に等間隔位
   置にある２カ所の光ビームの光量が略均一であると共
   に、前記２カ所の光ビームの光量が、走査方向中央部の
   光ビームの光量の所定比以上であることを特徴とする請
   求項１に記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 光ビームを出射する光源と、 前記光源からの光ビームを偏向走査する偏向手段と、 前記光源から出射された光ビームを、前記偏向手段の走
   査方向の偏向面幅を越える幅の光ビームに整形する整形
   手段と、 前記光源と前記偏向手段との間の光路内に配置されると
   共に、光ビームが通過する開口部の走査方向と直交する
   方向の長さを、走査方向中央部に比して走査方向両端部
   を長くした開口部材と、 前記開口部材と交換可能に設けられ、光ビームが通過す
   る開口部の形状を略矩形型にした光軸調整用開口部材
   と、 を有することを特徴とする光走査装置。
4. 【請求項４】 光ビームを出射する光源と、 前記光源からの光ビームを偏向走査する偏向手段と、 前記光源から出射された光ビームを、前記偏向手段の走
   査方向の偏向面幅を越える幅の光ビームに整形する整形
   手段と、 前記光源と前記偏向手段との間の光路内に配置されると
   共に、光ビームが通過する開口部の走査方向と直交する
   方向の長さを、走査方向中央部に比して走査方向両端部
   を長くした開口部材と、 前記開口部材の同軸上に回転可能に設けられ、光ビーム
   が通過する開口部を走査方向と直交する方向の長さを走
   査方向中央部に比して走査方向両端部を長くした形状或
   いは略矩形型の形状に変化させる回転部材と、 を有することを特徴とする光走査装置。