JP2003268136A - プリプレグおよび積層板 - Google Patents

プリプレグおよび積層板

Info

Publication number
JP2003268136A
JP2003268136A JP2002078056A JP2002078056A JP2003268136A JP 2003268136 A JP2003268136 A JP 2003268136A JP 2002078056 A JP2002078056 A JP 2002078056A JP 2002078056 A JP2002078056 A JP 2002078056A JP 2003268136 A JP2003268136 A JP 2003268136A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
prepreg
weight
parts
inorganic filler
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002078056A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4322463B2 (ja
Inventor
Takayuki Baba
孝幸 馬場
Kentaro Yabuki
健太郎 矢吹
Masataka Arai
政貴 新井
Takeshi Hozumi
猛 八月朔日
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2002078056A priority Critical patent/JP4322463B2/ja
Publication of JP2003268136A publication Critical patent/JP2003268136A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4322463B2 publication Critical patent/JP4322463B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、耐熱性、接続信頼性および
ハロゲン化合物およびリン化合物を使用せず難燃性に優
れたプリプレグおよび積層板を提供することである。 【解決手段】 本発明のプリプレグは、シアネート樹
脂と、無機充填材とを含む樹脂組成物を基材に含浸して
得られるプリプレグであって、前記プリプレグを硬化し
て得られる硬化物の厚さ方向の膨張率(α1)が25p
pm/℃以下となることを特徴とするものである。ま
た、本発明の積層板は、上記プリプレグを1枚以上有す
ることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリプレグおよび
積層板に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体の分野では高密度実装技術の進歩
から従来の面実装からエリア実装に移行していくトレン
ドが進行し、BGAやCSPなど新しいパッケージが登
場、増加しつつある。そのため以前にもましてインター
ポーザ用リジッド基板が注目されるようになり、高耐熱
性の要求が高まってきている。
【0003】さらに近年、電子機器の高機能化等の要求
に伴い、電子部品の高密度集積化、更には高密度実装化
等が進んでいる。そのため、これらに使用される高密度
実装対応のプリント配線板等は、従来にも増して、小型
化かつ高密度化が進んでいる。このプリント配線板等の
高密度化への対応としてビルドアップ多層配線板が多く
採用されている。しかし、ビルドアップ多層配線板で
は、微細なビアにより層間接続されるので接続強度が低
下するため、高温多湿雰囲気中での機械的、電気的な接
続信頼性を保持することが困難といった問題点があっ
た。
【0004】また、これら半導体に用いられる樹脂部材
は難燃性が求められることが多い。従来この難燃性を付
与するため、エポキシ樹脂においては臭素化エポキシな
どのハロゲン系難燃剤を用いることが一般的であった。
しかし、ハロゲン含有化合物はダイオキシン発生の原因
となるおそれがあることから、昨今の環境問題の深刻化
とともに、ハロゲン系難燃剤を使用することが回避され
るようになり、広く産業界にハロゲンフリーの難燃化シ
ステムが求められるようになった。このような時代の要
求によってリン系難燃剤が脚光を浴び、リン酸エステル
や赤リンが検討されたが、これらの従来のリン系難燃剤
は加水分解しやすく樹脂との反応に乏しいため、耐半田
耐熱性が低下する等の問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性、接続信頼性およびハロゲン化合物およびリン化合物
を使用せず難燃性に優れたプリプレグおよび積層板を提
供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)記載の本発明により達成される。 (1)シアネート樹脂と、無機充填材とを含む樹脂組成
物を基材に含浸して得られるプリプレグであって、前記
プリプレグを硬化して得られる硬化物の厚さ方向の膨張
率(α1)が25ppm/℃以下となることを特徴とす
るプリプレグ。 (2)前記硬化物のガラス転移温度が210℃以上とな
る上記(1)に記載のプリプレグ。 (3)更に、エポキシ樹脂を含むものである上記(1)
または(2)に記載のプリプレグ。 (4)更に、フェノール樹脂を含むものである上記
(1)ないし(3)のいずれかに記載のプリプレグ。 (5)前記無機充填材の含有量は、樹脂組成物中30〜
80重量%である上記(1)ないし(4)のいずれかに
記載のプリプレグ。 (6)上記(1)ないし(5)のいずれかに記載のプリ
プレグを1枚以上有することを特徴とする積層板。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明のプリプレグおよび
積層板について詳細に説明する。本発明のプリプレグ
は、シアネート樹脂と、無機充填材とを含む樹脂組成物
を基材に含浸して得られるプリプレグであって、前記プ
リプレグを硬化して得られる硬化物の厚さ方向の膨張率
(α1)が25ppm/℃以下となることを特徴とする
ものである。また、本発明の積層板は、上記プリプレグ
を1枚以上有することを特徴とするものである。
【0008】以下、プリプレグに関して説明する。本発
明のプリプレグは、シアネート樹脂と、無機充填材とを
含む樹脂組成物を基材に含浸して得られるプリプレグで
ある。これにより、本発明のプリプレグを積層板にした
場合に高耐熱かつ低熱膨張とすることができる。前記シ
アネート樹脂は、そのプレポリマーをも含む。前記シア
ネート樹脂及び/またはそのプレポリマーは、例えばハ
ロゲン化シアン化合物とフェノール類とを反応させ、必
要に応じて加熱等の方法でプレポリマー化することによ
り得ることができる。具体的には、ノボラック型シアネ
ート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフ
ェノールE型シアネート樹脂、テトラメチルビスフェノ
ールF型シアネート樹脂等のビスフェノール型シアネー
ト樹脂等を挙げることができる。これらの中でもノボラ
ック型シアネート樹脂が好ましい。これにより、架橋密
度増加による耐熱性向上と、積層板の難燃性を向上する
ことができる。ノボラック型シアネート樹脂は、その構
造上ベンゼン環の割合が高く、炭化しやすいためと考え
られる。
【0009】前記ノボラック型シアネート樹脂として
は、例えば式(I)で示されるものを使用することがで
きる。
【化1】 前記式(I)で示されるノボラック型シアネート樹脂の
nは、特に限定されないが、1〜10が好ましく、特に
1〜7が好ましい。これより少ないとノボラック型シア
ネート樹脂は結晶化しやすくなり、汎用溶媒に対する溶
解性が比較的低下するため、取り扱いが困難となる場合
がある。また、これより多いと架橋密度が高くなりす
ぎ、耐水性の低下や、硬化物が脆くなるなどの現象を生
じる場合がある。
【0010】前記シアネート樹脂及び/またはそのプレ
ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、重
量平均分子量500〜4,500が好ましく、特に60
0〜3,000が好ましい。これより小さいとプリプレ
グにタック性が生じ、プリプレグ同士が接触したとき互
いに付着したり、樹脂の転写が生じたりする場合があ
る。また、これより大きいと反応が速くなりすぎ、積層
板とした場合に、成形不良を生じたり、層間ピール強度
が低下したりする場合がある。
【0011】前記シアネート樹脂等の含有量は、特に限
定されないが、樹脂組成物全体の5〜60重量%が好ま
しく、特に10〜50重量%が好ましい。シアネート樹
脂等の含有量が前記下限値未満では、耐熱性や低熱膨張
化する効果が低下する場合があり、前記上限値を超える
と架橋密度が高くなり自由体積が増えるため耐湿性が低
下する場合がある。
【0012】前記無機充填材としては、例えばタルク、
アルミナ、ガラス、シリカ、マイカ等を挙げることがで
きる。これらの中でもシリカが好ましく、溶融シリカが
低膨張性に優れる点で好ましい。その形状は破砕状、球
状があるが、ガラス基材への含浸性を確保するために樹
脂組成物の溶融粘度を下げるには球状シリカを使うな
ど、その目的にあわせた使用方法が採用される。
【0013】前記無機充填材の平均粒径は、特に限定さ
れないが、0.01〜5μmが好ましく、特に0.2〜
2μmが好ましい。無機充填材の平均粒径が前記下限値
未満であるとワニスの粘度が高くなるため、プリプレグ
作製時の作業性に影響を与える場合がある。また、前記
上限値を超えると、ワニス中で無機充填剤の沈降等の現
象が起こる場合がある。更に平均粒径5μm以下の球状
溶融シリカが好ましく、特に平均粒径0.01〜2μm
の球状溶融シリカが好ましい。これにより、無機充填剤
の充填性を向上させることができる。前記無機充填材の
含有量は、樹脂組成物全体の30〜80重量%が好まし
く、特に40〜70重量%が好ましく最も50〜65重
量%が好ましい。無機充填材の含有量が前記範囲内であ
ると低熱膨張、低吸水とすることができる。前記平均粒
径は、例えばレーザー光散乱式粒度分布測定装置を用い
て測定することができる。
【0014】本発明のプリプレグを構成する樹脂組成物
には、特に限定されないが、更にフェノール樹脂を添加
することが好ましい。これにより、シアネート樹脂及び
/またはそのプレポリマーの反応性を向上させることが
でき、これにより積層板の成形性が良好となる。フェノ
ール樹脂としては、例えばノボラック型フェノール樹
脂、レゾール型フェノール樹脂、アリールアルキレン型
フェノール樹脂等が挙げられる。これらの中でもアリー
ルアルキレン型フェノール樹脂が好ましい。これによ
り、さらに吸湿半田耐熱性を向上させることができる。
【0015】前記アリールアルキレン型フェノール樹脂
としては、例えばキシリレン型フェノール樹脂、ビフェ
ニルジメチレン型フェノール樹脂等が挙げられる。ビフ
ェニルジメチレン型フェノール樹脂は、例えば式(II)
で示すことができる。
【化2】 前記式(II)で示されるビフェニルジメチレン型フェノ
ール樹脂のnは、特に限定されないが、1〜12が好ま
しく、特に2〜8が好ましい。これより少ないと耐熱性
が低下する場合がある。また、これより多いと他の樹脂
との相溶性が低下し、作業性が悪くなる場合があるため
好ましくない。
【0016】前述のシアネート樹脂及び/またはそのプ
レポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)とアリ
ールアルキレン型フェノール樹脂との組合せにより、架
橋密度をコントロールし、金属と樹脂との密着性を向上
することができる。
【0017】前記フェノール樹脂の含有量は、特に限定
されないが、樹脂組成物全体の1〜55重量%が好まし
く、特に5〜40重量%が好ましく、最も8〜20重量
%が好ましい。フェノール樹脂が前記下限値未満では耐
熱性が低下する場合があり、前記上限値を超えると低熱
膨張の特性が損なわれる場合がある。前記フェノール樹
脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、重量平均
分子量400〜18,000が好ましく、特に500〜
15,000が好ましい。重量平均分子量が前記範囲よ
り少ないとプリプレグにタック性が生じるなどの問題が
起こる場合が有り、これより多いとプリプレグ作製時、
基材への含浸性が低下し、均一な製品が得られないなど
の問題が起こる場合がある。
【0018】本発明のプリプレグを構成する樹脂組成物
には、特に限定されないが、更にエポキシ樹脂を添加す
ることが好ましい。前記エポキシ樹脂としては、例えば
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アリール
アルキレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中
でもアリールアルキレン型エポキシ樹脂が好ましい。こ
れにより、吸湿半田耐熱性を向上することができる。
【0019】前記アリールアルキレン型エポキシ樹脂と
は、繰り返し単位中に一つ以上のアリールアルキレン基
を有するエポキシ樹脂をいう。例えばキシリレン型エポ
キシ樹脂、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂等が挙
げられる。これらの中でもビフェニルジメチレン型エポ
キシ樹脂が好ましい。ビフェニルジメチレン型エポキシ
樹脂は、例えば式(III)で示すことができる。
【化3】 前記式(III)で示されるビフェニルジメチレン型エポ
キシ樹脂のnは、特に限定されないが、1〜10が好ま
しく、特に2〜5が好ましい。これより少ないとビフェ
ニルジメチレン型エポキシ樹脂は結晶化しやすくなり、
汎用溶媒に対する溶解性が比較的低下するため、取り扱
いが困難となる場合がある。また、これより多いと樹脂
の流動性が低下し、成形不良等の原因となる場合があ
る。
【0020】更に、前述のシアネート樹脂及び/または
そのプレポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)
とフェノール樹脂とアリールアルキレン型エポキシ樹脂
(特にビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂)との組合
せを用いて積層板を作製した場合、優れた寸法安定性を
得ることが出来る。
【0021】前記エポキシ樹脂の含有量は、特に限定さ
れないが、樹脂組成物全体の1〜55重量%が好まし
く、特に2〜40重量%が好ましく、最も5〜20重量
%が好ましい。樹脂が前記下限値未満では、シアネート
樹脂の反応性が低下したり、得られる製品の耐湿性が低
下したり場合があり、前記上限値を超えると耐熱性が低
下する場合がある。前記エポキシ樹脂の重量平均分子量
は、特に限定されないが、重量平均分子量500〜2
0,000が好ましく、特に800〜15,000が好
ましい。重量平均分子量が前記下限値未満であるとプリ
プレグにタック性が生じるなどの問題が起こる場合が有
り、前記上限値を超えるとプリプレグ作製時、基材への
含浸性が低下し、均一な製品が得られないなどの問題が
起こる場合がある。
【0022】前記樹脂組成物には、上記シアネート樹
脂、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂の一部をビニル
エステル樹脂、メラミン樹脂等の他の熱硬化性樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹
脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリエーテルスル
ホン樹脂等の熱可塑性樹脂と併用しても良い。
【0023】前記樹脂組成物には、特に限定されない
が、更にカップリング剤を用いることが好ましい。カッ
プリング剤は樹脂と無機充填剤の界面の濡れ性を向上さ
せることにより、基材に対して樹脂および充填剤を均一
に定着させ、耐熱性、特に吸湿後の半田耐熱性を改良す
るために配合する。カップリング剤としては通常用いら
れるものなら何でも使用できるが、これらの中でもエポ
キシシランカップリング剤、チタネート系カップリング
剤、アミノシランカップリング剤及びシリコーンオイル
型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリ
ング剤を使用することが無機充填剤界面との濡れ性が高
く、耐熱性向上の点で好ましい。本発明でカップリング
剤は、無機充填剤に対して0.05重量%以上、3重量
%以下が望ましい。これより少ないと充填剤を十分に被
覆できず十分な耐熱性が得られない場合があり、これよ
り多いと反応に影響を与え、曲げ強度等が低下するよう
になるためこの範囲での使用が望ましい。
【0024】前記樹脂組成物には、必要に応じて硬化促
進剤を用いてもよい。硬化促進剤としては公知の物を用
いることが出来る。たとえば、ナフテン酸亜鉛、ナフテ
ン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、
ビスアセチルアセトナートコバルト(II)、トリスア
セチルアセトナートコバルト(III)等の有機金属
塩、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシ
クロ[2,2,2]オクタン等の3級アミン類、2−フェ
ニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−エチ
ルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシイミダ
ゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシイミダゾ
ール等のイミダゾール類、フェノール、ビスフェノール
A、ノニルフェノー等のフェノール化合物、酢酸、安息
香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸
等、またはこの混合物が挙げられる。
【0025】前記樹脂組成物には、必要に応じて、上記
成分以外の添加物を特性を損なわない範囲で添加するこ
とが出来る。
【0026】前記基材としては、例えばガラス繊布、ガ
ラス不繊布等のガラス繊維基材、あるいはガラス以外の
無機化合物を成分とする繊布又は不繊布等の無機繊維基
材、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポ
リエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、
フッ素樹脂等の有機繊維で構成される有機繊維基材等が
挙げられる。これら基材の中でも強度、吸水率の点でガ
ラス織布に代表されるガラス繊維基材が好ましい
【0027】前記樹脂組成物を基材に含浸させる方法に
は、例えば基材を樹脂ワニスに浸漬する方法、各種コー
ターによる塗布する方法、スプレーによる吹き付ける方
法等が挙げられる。これらの中でも、基材を樹脂ワニス
に浸漬する方法が好ましい。これにより、基材に対する
樹脂組成物の含浸性を向上することができる。なお、基
材を樹脂ワニスに浸漬する場合、通常の含浸塗布設備を
使用することができる。
【0028】前記樹脂ワニスに用いられる溶媒は、前記
樹脂組成物に対して良好な溶解性を示すことが望ましい
が、悪影響を及ぼさない範囲で貧溶媒を使用しても構わ
ない。良好な溶解性を示す溶媒としては、例えばメチル
エチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。前記
樹脂ワニスの固形分は、特に限定されないが、前記樹脂
組成物の固形分40〜80重量部が好ましく、特に50
〜65重量部が好ましい。これにより、樹脂ワニスの基
材への含浸性を更に向上できる。前記基材に前記樹脂組
成物を含浸させ、所定温度、例えば80〜200℃等で
乾燥させることによりプリプレグを得ることが出来る。
【0029】本発明のプリプレグは、上述のプリプレグ
を硬化して得られる硬化物の厚さ方向の膨張率(α1
が25ppm/℃以下である。すなわち、ガラス転移温
度以下の領域(α1領域)における硬化物の厚さ方向の
膨張率(α1)を前記下限値未満とすることにより、積
層板の接続信頼性を向上することができる。例えば、層
間を接続する銅の膨張率が17ppm/℃であることか
ら、積層板の厚さ方向の線膨張係数が17ppm/℃付
近になれば銅と基材間の熱膨張量の差は少なくなり応力
は軽減する。よって、熱衝撃によるスルーホールメッキ
の断線が減少することにより接続信頼性を向上すること
ができる。また、前記硬化物の厚さ方向の膨張張率(α
1)は、10ppm/℃以上25ppm/℃以下が好ま
しく、特に15ppm/℃以上20ppm/℃以下が好
ましい。線膨張係数が上記範囲内であると、特に積層板
の接続信頼性に優れることができる。前記厚さ方向の膨
脹率は、例えば硬化物を熱機械分析装置(TMA)を用
いて、10℃/minの昇温速度で測定することができ
る。
【0030】前記硬化物のガラス転移温度は、特に限定
されないが、210℃以上が好ましく、特に230℃以
上が好ましい。これにより、α1領域が広くなり加工工
程中の銅との熱膨張差が少なくなり接続信頼性を向上す
ることができる。また、弾性率の低下も抑えられ金ワイ
ヤーのボンディング性、半導体チップのバンプ接続性も
向上させることが出来る。前記ガラス転移温度は、例え
ば硬化物を熱機械分析装置(TMA)、動的粘弾性分析
装置(DMA)、熱示差分析(DSC)を用いて測定す
ることができる。なお、前記硬化物を硬化する条件は、
例えばプリプレグを190〜210℃で、30〜120
分加熱する場合を挙げることができる。
【0031】次に、本発明の積層板について説明する。
本発明の積層板は、上記のプリプレグのプリプレグを少
なくとも1枚以上有することを特徴とするものである。
これにより、耐熱性、低膨張性および難燃性に優れた積
層板を得ることができる。例えば、プリプレグ1枚のと
きは、その上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。ま
た、プリプレグを2枚以上積層することもできる。プリ
プレグ2枚以上積層するときは、積層したプリプレグの
最も外側の上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。次
に、プリプレグと金属箔とを重ねたものを加熱加圧成形
することで積層板を得ることができる。前記加熱する温
度は、特に限定されないが、120〜220℃が好まし
く、特に150〜200℃が好ましい。前記加圧する圧
力は、特に限定されないが、1.5〜5MPaが好まし
く、特に2〜4MPaが好ましい。また、必要に応じて
高温槽等で150〜300℃の温度で後硬化を行っても
かまわない。
【0032】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例を用いて
詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。 (実施例1) 樹脂ワニスの調製 ノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社
製、プリマセット PT−60)20重量部、ビフェニ
ルジメチレン型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、N
C−3000P)11重量部、ビフェニルジメチレン型
フェノール樹脂(明和化成株式会社製、MEH−785
1−S)9重量部、およびエポキシシラン型カップリン
グ剤(日本ユニカー株式会社製、A−187)0.3重
量部をメチルエチルケトンに常温で溶解し、球状溶融シ
リカSO−32R(株式会社アドマテックス社製)60
重量部を添加し、高速攪拌機を用いて10分攪拌して、
樹脂ワニスを得た。
【0033】プリプレグの製造 上述の樹脂ワニスをガラス織布(厚さ200μm、日東
紡績製、WEA−7628)に含浸し、120℃の加熱
炉で2分乾燥してワニス固形分(プリプレグ中に樹脂と
シリカの占める成分)が約50%のプリプレグを得た。
【0034】積層板の製造 上述のプリプレグを所定枚数重ね、両面に18μmの銅
箔を重ねて、圧力4MPa、温度200℃で2時間加熱
加圧成形することによって両面銅張積層板を得た。
【0035】(実施例2)樹脂ワニスの配合を以下のよ
うにした以外は、実施例1と同様にした。ノボラック型
シアネート樹脂を30重量部、球状溶融シリカを50重
量部とし、その他は実施例1と同様にした。
【0036】(実施例3)樹脂ワニスの配合を以下のよ
うにした以外は、実施例1と同様にした。ノボラック型
シアネート樹脂を40重量部、ビフェニルジメチレン型
エポキシ樹脂を8重量部、ビフェニルジメチレン型フェ
ノール樹脂を7重量部、球状溶融シリカを45重量部と
し、その他は実施例1と同様にした。
【0037】(実施例4)樹脂ワニスの配合を以下のよ
うにした以外は、実施例1と同様にした。ノボラック型
シアネート樹脂を20重量部、ビフェニルジメチレン型
エポキシ樹脂を6重量部、ビフェニルジメチレン型フェ
ノール樹脂を4重量部、球状溶融シリカを70重量部と
し、その他は実施例1と同様にした。
【0038】(実施例5)樹脂ワニスの配合を以下のよ
うにした以外は、実施例1と同様にした。ノボラック型
シアネート樹脂として、ロンザジャパン株式会社製、プ
リマセット PT−60 30重量部およびプリマセッ
ト PT−30(重量平均分子量約700)10重量部
を用いた。エポキシ樹脂として、ビフェニルジメチレン
型エポキシ樹脂8重量部を用いた。フェノール樹脂とし
て、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂5重量部お
よびノボラック樹脂(PR−51714 水酸基当量1
03 住友ベークライト株式会社製)2重量部を用い
た。無機充填材として、球状溶融シリカSO−32R
(平均粒径1.5μm)40重量部およびSFP−10
X(平均粒径0.3μm:電気化学工業株式会社製)5
重量部を用いた。
【0039】(実施例6)無機充填材として以下のもの
を用いた以外は、実施例1と同様とした。球状溶融シリ
カ FB−5SDX(平均粒径4.4μm:電気化学工
業株式会社製)を用いた。
【0040】(実施例7)シアネート樹脂として以下の
ものを用いた以外は、実施例1と同様にした。ビスフェ
ノールA型シアネート樹脂 AroCy B−30(旭
化成エポキシ株式会社製)を用いた。
【0041】(比較例1)シアネート樹脂を用いずに、
樹脂ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1
と同様にした。ビフェニルアルキレン型エポキシ樹脂
NC−3000P(エポキシ当量275:日本化薬株式
会社製)22.5重量部、ビフェニルジメチレン型フェ
ノール樹脂17.5重量部とした以外は、実施例1と同
様とした。
【0042】(比較例2)無機充填材を用いずに、樹脂
ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同
様にした。ノボラック型シアネート樹脂を50重量部、
ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂を28重量部、ビ
フェニルジメチレン型フェノール樹脂22重量部とした
以外は、実施例1と同様にした。
【0043】(比較例3)樹脂ワニスの配合を以下のよ
うにした以外は、実施例1と同様にした。ノボラック型
シアネート樹脂を40重量部、ビフェニルジメチレン型
エポキシ樹脂を20重量部、ビフェニルジメチレン型フ
ェノール樹脂を15重量部、球状溶融シリカを25重量
部とし、その他は実施例1と同様にした。
【0044】実施例および比較例で得られた積層板につ
いて、次の評価を行った。評価項目を、評価方法と共に
示す。得られた結果を表1に示す。 線膨張係数 厚さ1.2mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、
得られた積層板から2mm×2mmのテストピースを切
り出し、TMAを用いて厚み方向(Z方向)の線膨張係
数を5℃/分で測定した。
【0045】ガラス転移温度 厚さ0.6mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、
得られた積層板から10mm×60mmのテストピース
を切り出し、TAインスツルメント社製動的粘弾性測定
装置DMA983を用いて3℃/分で昇温し、tanδ
のピーク位置をガラス転移温度とした。
【0046】難燃性 UL−94規格に従い、1mm厚のテストピースを垂直
法により測定した。
【0047】吸水率 厚さ0.6mmの両面銅張り積層板を全面エッチング
し、得られた積層板から50mm×50mmのテストピ
ースを切り出し、JIS6481に従い測定した。
【0048】吸湿はんだ耐熱性 厚さ0.6mmの両面銅張積層板から50mm×50m
mに切り出し、JIS6481に従い半面エッチングを
行ってテストピースを作成した。125℃のプレッシャ
ークッカーで処理した後、260℃のはんだ槽に銅箔面
を下にして浮かべ、180秒後にフクレが発生する処理
時間を計測した。
【0049】接続信頼性 厚さ0.4mmの4層板(デージーチェーン)を作製
し、260℃60秒、常温60秒のホットオイル試験を
行った。100穴あたりの導通抵抗が初期値の120%
に変化するまでのサイクル数を測定した。
【0050】
【表1】
【0051】表中の樹脂等について、以下に詳細に示
す。 ・プリマセット PT−60(ノボラック型シアネート
樹脂、重量平均分子量約2600):ロンザジャパン株
式会社製 ・プリマセット PT−30(ノボラック型シアネート
樹脂、重量平均分子量約700):ロンザジャパン株式
会社製 ・Arocy B−30(ビスフェノールA型シアネー
ト樹脂):旭化成エポキシ株式会社製 ・NC−3000P(ビフェニルアルキレン型エポキシ
樹脂、エポキシ当量275):日本化薬株式会社製 ・MEH−7851−S(ビフェニルアルキレン型ノボ
ラック樹脂、水酸基当量203):明和化成株式会社製 ・PR−51714(ノボラック樹脂、水酸基当量10
3 重量平均分子量約1600):住友ベークライト株
式会社製 ・SO−32R(球状溶融シリカ、平均粒径1.5μ
m):株式会社アドマテックス製 ・SFP−10X(球状溶融シリカ、平均粒径0.3μ
m):電気化学工業株式会社製 ・FB−5SDX(球状溶融シリカ、平均粒径4.4μ
m):電気化学工業株式会社製 ・A−187(エポキシシラン型カップリング剤):日
本ユニカー株式会社製
【0052】表から明らかなように、実施例1〜7は、
ガラス転移温度が高く、難燃性に優れ、ホットオイル試
験のサイクル数にも優れていたことより、耐熱性、難燃
性、接続信頼性に優れていることが確認された。また、
実施例1〜6は、難燃性がV−0であり、特に難燃性に
優れていた。また、実施例1、2および6、7は、吸湿
半田耐熱性にも優れていた。
【0053】
【発明の効果】本発明によれば、耐熱性、接続信頼性お
よび難燃性に優れたプリプレグおよび積層板を得ること
ができる。また、ノボラック型シアネート樹脂を用いた
場合、特に難燃性に優れたプリプレグおよび積層板を得
ることができる。また、無機充填材を特定の含有量にし
た場合、特に低吸水化することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八月朔日 猛 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4F072 AB04 AB05 AB06 AB07 AB09 AD13 AD23 AF01 AG03 AG16 AH22 AH25 AL13 4J002 CM021 FD016 GQ00 GQ05

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シアネート樹脂と、無機充填材とを含む
    樹脂組成物を基材に含浸して得られるプリプレグであっ
    て、 前記プリプレグを硬化して得られる硬化物の厚さ方向の
    膨張率(α1)が25ppm/℃以下となることを特徴
    とするプリプレグ。
  2. 【請求項2】 前記硬化物のガラス転移温度が210℃
    以上となる請求項1に記載のプリプレグ。
  3. 【請求項3】 更に、エポキシ樹脂を含むものである請
    求項1または2に記載のプリプレグ。
  4. 【請求項4】 更に、フェノール樹脂を含むものである
    請求項1ないし3のいずれかに記載のプリプレグ。
  5. 【請求項5】 前記無機充填材の含有量は、樹脂組成物
    中30〜80重量%である請求項1ないし4のいずれか
    に記載のプリプレグ。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかに記載のプ
    リプレグを1枚以上有することを特徴とする積層板。
JP2002078056A 2002-03-20 2002-03-20 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板 Expired - Fee Related JP4322463B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002078056A JP4322463B2 (ja) 2002-03-20 2002-03-20 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002078056A JP4322463B2 (ja) 2002-03-20 2002-03-20 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009091830A Division JP5476772B2 (ja) 2009-04-06 2009-04-06 プリプレグおよび積層板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003268136A true JP2003268136A (ja) 2003-09-25
JP4322463B2 JP4322463B2 (ja) 2009-09-02

Family

ID=29205921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002078056A Expired - Fee Related JP4322463B2 (ja) 2002-03-20 2002-03-20 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4322463B2 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005092945A1 (ja) * 2004-03-29 2005-10-06 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、基材付き絶縁シートおよび多層プリント配線板
JP2007002071A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2007197706A (ja) * 2005-12-28 2007-08-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd ソルダーレジスト用樹脂組成物およびソルダーレジスト用樹脂シート、回路基板並びに回路基板の製造方法、回路基板を用いた半導体パッケージ。
KR100823998B1 (ko) * 2007-05-28 2008-04-23 전자부품연구원 동박적층판, 인쇄회로기판 및 동박적층판의 제조방법
WO2008126411A1 (ja) * 2007-04-10 2008-10-23 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、半導体装置、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板の製造方法
JP2011179001A (ja) * 2011-03-28 2011-09-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
WO2012018126A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 日立化成工業株式会社 相容化樹脂の製造法、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板
JP2012057169A (ja) * 2011-11-14 2012-03-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2013030794A (ja) * 2005-12-01 2013-02-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、基板および半導体装置
JP2013189579A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Hitachi Chemical Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物、およびこれを用いたプリプレグ、積層板
KR20140042738A (ko) 2012-09-28 2014-04-07 파나소닉 주식회사 프리프레그, 금속 클래드 적층판, 프린트 배선판, 다층 프린트 배선판
WO2014112464A1 (ja) 2013-01-15 2014-07-24 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属箔張積層板及びプリント配線板
JP2014141689A (ja) * 2014-05-16 2014-08-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2019056040A (ja) * 2017-09-20 2019-04-11 横浜ゴム株式会社 繊維強化複合材料用シアネートエステル樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5085125B2 (ja) * 2004-03-29 2012-11-28 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、基材付き絶縁シートおよび多層プリント配線板
WO2005092945A1 (ja) * 2004-03-29 2005-10-06 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、基材付き絶縁シートおよび多層プリント配線板
TWI458777B (zh) * 2004-03-29 2014-11-01 Sumitomo Bakelite Co 樹脂組成物,附有樹脂之金屬箔,附有基材之絕緣片材及多層印刷佈線板
JPWO2005092945A1 (ja) * 2004-03-29 2008-02-14 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、基材付き絶縁シートおよび多層プリント配線板
US7655871B2 (en) 2004-03-29 2010-02-02 Sumitomo Bakelite Company Limited Resin composition, resin-attached metal foil, base material-attached insulating sheet and multiple-layered printed wiring board
JP2007002071A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2013030794A (ja) * 2005-12-01 2013-02-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、基板および半導体装置
JP2007197706A (ja) * 2005-12-28 2007-08-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd ソルダーレジスト用樹脂組成物およびソルダーレジスト用樹脂シート、回路基板並びに回路基板の製造方法、回路基板を用いた半導体パッケージ。
JPWO2008126411A1 (ja) * 2007-04-10 2010-07-22 住友ベークライト株式会社 エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、半導体装置、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板の製造方法
JP5493853B2 (ja) * 2007-04-10 2014-05-14 住友ベークライト株式会社 エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、半導体装置、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板の製造方法
US8465837B2 (en) 2007-04-10 2013-06-18 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Epoxy resin composition, prepreg, laminate board, multilayer printed wiring board, semiconductor device, insulating resin sheet, and process for manufacturing multilayer printed wiring board
KR101141902B1 (ko) * 2007-04-10 2012-05-03 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 에폭시 수지 조성물, 프리프레그, 적층판, 다층 프린트 배선판, 반도체 장치, 절연 수지 시트, 다층 프린트 배선판의 제조 방법
WO2008126411A1 (ja) * 2007-04-10 2008-10-23 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、半導体装置、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板の製造方法
KR100823998B1 (ko) * 2007-05-28 2008-04-23 전자부품연구원 동박적층판, 인쇄회로기판 및 동박적층판의 제조방법
WO2012018126A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 日立化成工業株式会社 相容化樹脂の製造法、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板
JP2011179001A (ja) * 2011-03-28 2011-09-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2012057169A (ja) * 2011-11-14 2012-03-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2013189579A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Hitachi Chemical Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物、およびこれを用いたプリプレグ、積層板
KR20140042738A (ko) 2012-09-28 2014-04-07 파나소닉 주식회사 프리프레그, 금속 클래드 적층판, 프린트 배선판, 다층 프린트 배선판
CN103709427A (zh) * 2012-09-28 2014-04-09 松下电器产业株式会社 预浸料坯、覆金属层叠板、印刷布线板及多层印刷布线板
WO2014112464A1 (ja) 2013-01-15 2014-07-24 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属箔張積層板及びプリント配線板
KR20150105417A (ko) 2013-01-15 2015-09-16 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 수지 조성물, 프리프레그, 적층판, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판
US10138393B2 (en) 2013-01-15 2018-11-27 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resin composition, prepreg, laminate, metal foil-clad laminate, and printed-wiring board
JP2014141689A (ja) * 2014-05-16 2014-08-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP7357431B2 (ja) 2017-09-20 2023-10-06 横浜ゴム株式会社 繊維強化複合材料用シアネートエステル樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料
JP2019056040A (ja) * 2017-09-20 2019-04-11 横浜ゴム株式会社 繊維強化複合材料用シアネートエステル樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料

Also Published As

Publication number Publication date
JP4322463B2 (ja) 2009-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3946626B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板
JP2010174242A (ja) ビフェニルアラルキル型シアン酸エステル樹脂、並びにビフェニルアラルキル型シアン酸エステル樹脂を含む樹脂組成物、及び、当該樹脂組成物を用いてなるプリプレグ、積層板、樹脂シート、多層プリント配線板、並びに半導体装置
JP3821728B2 (ja) プリプレグ
JP4132703B2 (ja) 銅張積層板用プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板
JP5230059B2 (ja) プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP4322463B2 (ja) 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板
JP5157103B2 (ja) プリプレグ、基板および半導体装置
JP5303826B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板
JP4132755B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板
JP2008244189A (ja) 回路基板および半導体装置
JP2004277671A (ja) プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板
JP2003213019A (ja) プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板
JP2006312751A (ja) 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板
JP5428212B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板
JP5476772B2 (ja) プリプレグおよび積層板
JP4150178B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板
JP2009067852A (ja) ガラス繊維織布入り絶縁樹脂シート、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置
JP2005209489A (ja) 絶縁シート
JP4840303B2 (ja) ガラス繊維織布入り絶縁樹脂シート、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置
JP4501475B2 (ja) 絶縁層付き金属箔及び多層プリント配線板
JP5929639B2 (ja) シアン酸エステル化合物、樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂シート、多層プリント配線板、および半導体装置
JP2004359853A (ja) 樹脂組成物、樹脂付き金属箔および多層プリント配線板
JP4517699B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグおよび積層板
JP5835401B2 (ja) プリプレグ、回路基板および半導体装置
JP2003206360A (ja) プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041209

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20051221

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20060202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060410

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060410

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20060411

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060613

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060810

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061003

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061201

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070123

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20070119

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20070216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090603

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4322463

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130612

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140612

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees