JP2003258042A - ワイヤボンディング方法 - Google Patents

ワイヤボンディング方法

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JP2003258042A JP2002057597A JP2002057597A JP2003258042A JP 2003258042 A JP2003258042 A JP 2003258042A JP 2002057597 A JP2002057597 A JP 2002057597A JP 2002057597 A JP2002057597 A JP 2002057597A JP 2003258042 A JP2003258042 A JP 2003258042A
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bonding
capillary
wire
ball
electrode pad
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Takaharu Amano
貴晴 天野
Koichi Mitarai
幸一 御手洗
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Toyota Motor Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】超音波振動式の接合時に発生するスクライズア
ウトなどの異物の発生と飛散を防止し、接合点の密着度
の良好なワイヤボンディング方法を提供する。 【解決手段】ボンディング位置の接合表面にボンディン
グ用のキャピラリ1を所定の圧力で接触させて、前記キ
ャピラリ1を所定の振幅で振動させ、電極パッド5の表
面に金属ワイヤ2を押圧する第1工程と、その後に前記
キャピラリ1を前記第1の工程とは異なる振幅で振動さ
せ、及び又は前記第1の工程とは異なる圧力で前記電極
パッド5に金属ワイヤ2を押圧する第2工程とを有し、
前記第2工程において、電極パッド5に印加される圧力
を前記第1工程における圧力より大きく、その振動振幅
を前記第1工程における振動振幅より小さくして行な
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程において半導体チップの電極パッドとリードフレー
ムのインナーリードとを金属ワイヤで接続するワイヤボ
ンディング方法に関し、特に超音波による金属の塑性変
形効果によって接合する、超音波ボンディング方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】一般的な半導体製造プロセスにおいて、
電極パッドとボンディングワイヤーとのボンディング表
面電極パッドのボンディング表面、あるいはインナーリ
ード部とボンディングワイヤーとのボンディング表面電
極パッドのボンディング表面には、プロセスの過程にお
いて有機物が付着したり、酸化物が形成される。一方、
最近の高集積化に対応した多層リードフレームを使用し
た半導体製造装置では、多層リードフレームの製造上、
接着剤等の有機材料からの低分子成分等の微量な有機物
の電極パッドあるいはインナーリード部への付着や、大
気などからの酸素による電極パッド表面あるいはインナ
ーリード部表面への表面酸化膜の形成が避けられない上
に、半導体チップ上のボンディングパッド面積が小さく
なっていくことが避けられない。前記有機物が付着した
り酸化物が形成されてしまうと、ワイヤーボンド接続時
に、ボンディング表面とボンディングワイヤーとの接合
面における電極パッドあるいはインナーリード部とボン
ディングワイヤーとの合金形成が阻害される結果、ボン
ディング強度が低下し、ボンディング歩留まりが低下し
てしまうという問題点があった。
【0003】係る問題点を解決するためにボンディング
用のツールとは全く異なるボンディング表面残渣除去の
ためのツールを用いて突起部を所定の圧力で押し付け
て、接触させた状態ですり合わせるスクラブ動作を予め
行って当該接合表面上の異物を除去するボンディング表
面残渣除去工程を有する装置もあるが、装置が高価であ
ると共に、ボンディング表面残渣除去工程が必要な為
に、ボンディング時間が長くなる。
【0004】一方、近年のボンディング方法には超音波
振動式と呼ばれる接合方法がある。該超音波を用いる接
合方法では針状に形成された細径のキャピラリを用い、
このキャピラリを超音波発振源から導出された超音波ホ
ーンの先端に保持することで、上記キャピラリに超音波
振動を伝達するようにしている。前記の超音波振動式の
接合方法では、前記スクラブ動作をボンディングの際に
行なう。係る方法では超音波振動を印加する際にボンデ
ィング位置接合表面と金属ワイヤが接触して擦れ合い、
その結果スクイズアウトと呼ばれる鉋屑状のチリが発生
する。その結果、前記スクイズアウトなどの異物が飛散
して半導体に付着した場合、半導体の動作不良などが発
生し、信頼性を著しく低減させるいう問題点があった。
【0005】又、ボンディング位置にこの異物が不純物
として混入した場合、このような不純物が混入した状態
でワイヤーボンド接続を行ってしまうと、ボンディング
表面とボンディングワイヤーとの接合面における電極パ
ッドあるいはインナーリード部とボンディングワイヤー
との合金形成が阻害される結果、ボンディング強度が低
下し、ボンディング歩留まりが低下してしまうという問
題点もあった。
【0006】又、上記キャピラリは、上述したように超
音波ホーンを介して支持されいるので、この超音波ホー
ンに撓み等が生じることにより面検出に時間的な遅れが
生じるということがある。また、接合を高速で行おうと
すると、第1のボンディング点と第2のボンディング点
との間に形成されるワイヤが最適なループ形状にならな
いということがある。すなわち、ループ形状の成形は、
上記キャピラリからワイヤを繰り出しつつ行うので、こ
のキャピラリ内における上記ワイヤの挿通抵抗が問題と
なる。
【0007】更に又、上述した接合を繰り返すと、上記
スクイズアウトやワイヤの「かす」等によってキャピラ
リの内部が汚れ、これが挿通抵抗の増大につながるとい
うことがある。すなわち、このような「かす」がキャピ
ラリ内に付着している状態で、上記キャピラリを高速駆
動しようとすると、上記ワイヤがキャピラリ内でひっか
かり、適当なループ形状が得られなかったりワイヤが切
れたりするということがある。このため、ループ形状を
良好にするために第1のボンディング点から第2のボン
ディング点までのキャピラリの移動を高速で行うことに
は限界があり、その分ワイヤボンディングに時間がかか
っているということがある。
【0008】前記問題点を解決する前記超音波振動式の
ボンディング方法として、特開平8−181175号公
報に開示されている「ワイヤボンディング方法」があ
る。係る発明は、キャピラリ内にワイヤを挿通し、該キ
ャピラリの押圧面で上記ワイヤを第1のボンディング点
と第2のボンディング点とに順に押し付け接合する際、
上記第1のボンディング点に対するワイヤの押し付け前
から上記キャピラリに超音波振動を与え、少なくとも第
2のボンディング点に対するワイヤの接合が終了するま
で上記ワイヤに超音波振動を印加し続けるボンディング
方法である。即ち、前記発明は、挿通抵抗の増大を防止
してボンディング速度の向上と、第1のボンディング点
と第2のボンディング点とのワイヤのループ形状を良好
にすることを目的としてなされた発明である。発明の問
題点の理解を容易にするために、その動作を図5、図6
及び図7を用いて以下に説明する。
【0009】図5は、従来のボンディング装置の説明図
である。半導体チップ4の表面に形成されている電極パ
ッド5及びインナーリード部6の各々にキャピラリ1を
接触させワイヤボンディングを行なう装置である。キャ
ピラリ1の先端からクランパ7を介して金属ワイヤ2を
突出させ、該金属ワイヤ2の先端部に球状のボールを形
成し、第1ボンディングである電極パッド5への接続と
第2ボンディングであるインナーリード部6への接続を
行なう。
【0010】図6はキャピラリ1の動作を説明する図で
あって、図6(a)は、前記キャピラリ1の上下方向の
動作を時間との関係で示すものである。キャピラリ1
は、図6(a)に示すように、上記電極パッド5の直上
約0.2〜0.3mmの高さ(点Aで示す)まで高速で
下降駆動され、それ以後は速度を落として等速で下降駆
動される。一方、図6(b)は、キャピラリ1に振動を
与える、図示していない超音波振動子に対する電圧印加
のゲイン切替により発生する超音波振動の振幅を示す図
であり、図6(c)は、前記ゲイン切替を示す図であ
る。この超音波振動の振幅は、前記超音波振動子に設け
られた図示しないセンサあるいはこの超音波振動子に接
続された図示しない超音波発振器に設けられた図示しな
いセンサにより検出するようにする。
【0011】前記図6(b)および(c)に示すよう
に、上記キャピラリ1が点Aに達したならば、第1のゲ
インG1(超音波振動がない状態)が第2のゲインG2
に切替えられ、ボール8は、半導体チップ4の電極パッ
ド5に押し付けられる前から超音波域で振幅AV9で振
動することとなる。図6(a)に示す点Bの高さでボー
ル8と半導体チップ4の電極パッド5とが当接される。
この点B以後、上記ボール8は電極パッド5への押し付
けを開始され、当接した部位から接合されていく。ボー
ル8が電極パッド5に押し付けられ、接合が開始される
と、図6(b)に示すように上記超音波振動の振幅(波
形)が振幅AV9から振幅AV10に減少する。そし
て、図示しない制御部は、この信号に基づいて、図6
(c)に示すように第2のゲイン切替を行い、第2のゲ
インG2は第3のゲインG3に切替えられ超音波振動の
出力を上げる。
【0012】超音波による接合を開始した後、上記キャ
ピラリ1は若干量ではあるが、下降を続け(図6(a)
B〜C間で示す部位)上記ボール8が押し潰されて行
く。なお、ボール8は、押し潰されることによって、上
記電極パッド5との接触面積を次第に広げていく。前記
図6(a)B〜C間で示す間、キャピラリ1の圧力とボ
ール8からの反発力によりボール8には圧力P1が加わ
り、またこの間では図6(b)に示すように点Bでゲイ
ンを第3のゲインG3に切替えてもその振幅AV10は
小さい。ボール8が押し潰されたならば(図6(a)に
示す点Cに相当)上記キャピラリ1の下降は停止し、図
にC〜D間に示すように高さ一定の状態で保持される。
この間も、上記キャピラリ1は上記ボール8に超音波振
動を印加しつづけ、このボール8と電極パッド5との接
合を行う。
【0013】点Bでゲインを第3のゲインG3に切替え
た効果が点Cになると現れて、振幅AV10が増加して
振幅AV11になる。そしてボール8に圧力P1を加え
てから一定時間が経過し、上記ボール8と電極パッド5
とが完全に接合されたならば、上記キャピラリ1は上昇
駆動される(点Dに相当)。キャピラリ1が上昇駆動さ
れたならば、ボール8に印加される圧力が低下して上記
超音波振動子を駆動する図示しない超音波発振器の負荷
が軽減し、超音波振動の振幅(波形)は更に増加して振
幅AV12になるから、これに基づいて上記超音波振動
子に印加する第3のゲイン切替がなされ、第2のゲイン
G2の大きさに戻される。以上の如く、ボール8が電極
パッド5に押し付けられ、接合が開始されると、図6
(a)B〜C間で示す間、キャピラリ1の振動振幅は振
幅AV10に減少する。また、キャピラリ1の下降が停
止している図6(a)C〜D間ではキャピラリ1の振動
振幅はAV11に増加する。
【0014】図7は、前述のワイヤボンディング方法に
おける接合部の接合状態を説明する図であって、図7
(a)は前記ボール8が電極パッド5に圧着された時の
圧着方向の断面図、図7(b)と図7(c)は、ボール
8と電極パッド5の接合点における、ボール8への圧力
方向と接合面方向の圧力分布を、それぞれ説明する図で
ある。
【0015】半導体素子4には電極パッド5が形成され
ていて、該電極パッド5にはその先端がボール状になっ
ている金属ワイヤ2がキャピラリ1により前記ボール8
が所定の圧力で図7(a)の如く圧着される。その結
果、キャピラリ1の形状により、前記ボール8に印加さ
れる圧力が異なる箇所が図7(b)、図7(c)に示す
ように発生する。即ち、キャピラリ1の先端の形状によ
りボール8と電極パッド5の接合点における圧力は、キ
ャピラリ1の先端により圧着される中心から外れた部分
8bが最も圧力が高く、その周辺部分8aと中心部分8
cは圧力が低くなる。その結果、中心から外れた部分8
bと、周辺部分8a及び中心部分8cとの密着力は異な
り、周辺部分8a及び中心部分8cは、密着力が中心か
ら外れた部分8bよりも低くなる。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】前述の特開平8−18
1175号公報に開示されている「ワイヤボンディング
方法」では、図7に示したように、ボール8と電極パッ
ド5の接合点では、キャピラリ1の真下になる箇所での
接合状態がよく、ボール8と電極パッド5との密着力が
強い。しかし、それ以外の周辺8aと中心8cではキャ
ピラリ1からの圧力が小さく接合状態が悪い。この結
果、ボール8の外周部8aと中心部8cとでは、ボール
8と電極パッド5との密着力が弱い。
【0017】一方、前記ボール8と電極パッド5の接合
点においては、半導体素子4や電極パッド5の温度変化
などにより応力が発生する。その応力は前記ボール8の
外周部8aに集中する。かかる応力の発生によりボール
8と電極パッド5との密着力が強いキャピラリ1の真下
になる箇所8bにクラックが発生すると、ボール8全体
の密着力は急激に減少して、半導体素子4の動作の信頼
性が著しく低下する問題点がある。また、ボール8が電
極パッド5に押し付けられ、接合が開始されると、図6
(a)B〜C間で示す間、振幅AV10に減少する。そ
して、キャピラリ1の下降が停止している図6(a)C
〜D間では振幅はAV11に増加する。その結果、ボン
ディング速度の向上と、第1のボンディング点と第2の
ボンディング点とのワイヤのループ形状を良好にするこ
とはできるが、図6(a)B〜C間で示す間、ボンディ
ング位置接合表面と金属ワイヤが接触して擦れ合って発
生する、スクイズアウトと呼ばれる鉋屑状のチリの発生
防止はできない。
【0018】更にまた、図6(a)C〜D間での振幅は
AV11に増加し、前記スクイズアウトなどの異物がキ
ャピラリの振動振幅の増加により飛散して半導体に付着
して、半導体の動作不良などが発生し、信頼性を著しく
低減させるいう問題点があった。更に、図6(a)B〜
C間で示す間はキャピラリの振動振幅は振幅AV10に
減少しているので、接合表面と金属ワイヤとの密着力が
強い接合面が小さく、その小さい接合面の周辺に前記ス
クイズアウトなどの異物が発生してい、図6(a)C〜
D間では、前記接合表面と金属ワイヤとの密着力の強い
接合面が小さいまま、金属ワイヤを接合してしまう問題
点があった。
【0019】前記問題点が残されているのは、ボンディ
ング工程において、挿通抵抗の増大を防止してボンディ
ング速度の向上と、第1のボンディング点と第2のボン
ディング点とのワイヤのループ形状を良好にするため
に、ワイヤに超音波振動を印加し続け、その振動振幅の
出力のみを調整し、ボンディング時の圧力を考慮してい
ないボンディング方法に起因するものである。
【0020】本発明は、係る問題を解決して超音波振動
式の接合時に発生するスクイズアウトなどの異物の発生
を抑制すると共に、発生した前記異物の飛散を防止し、
接合点の密着度の良好なワイヤボンディング方法を提供
し、合わせてこの方法により製造された半導体の信頼性
を向上することを目的としてなされたものである。
【0021】
【課題を解決するための手段】本願発明は、上記目的を
達成するために、ボンディング工程に金属ワイヤの圧力
と振動振幅とをそれぞれ制御する工程を設けたワイヤボ
ンディング方法である。更に詳しくは、請求項1に記載
されたワイヤボンディング方法では、半導体チップの電
極パッドと前記半導体チップを載置するリードフレーム
のインナーリード部とを金属ワイヤを用いて接続するワ
イヤボンディング方法において、ボンディング位置の接
合表面にボンディング用のツールを所定の圧力で接触さ
せて金属ワイヤを所定の振幅で振動させて金属ワイヤを
押圧する第1工程と、該第1工程の後に前記第1の工程
より大きい圧力で前記金属ワイヤを押圧する第2工程と
を有することを特徴とする。
【0022】又、請求項2に記載された発明は、請求項
1に記載のワイヤボンディング方法において、前記第2
工程における金属ワイヤの振動振幅を、前記第1工程に
おける金属ワイヤの振動振幅より小さくすることを特徴
とする。
【0023】さらに、請求項3に記載された発明は、請
求項1に記載のワイヤボンディング方法において、前記
金属ワイヤの振動振幅の変化は、超音波振動子駆動装置
により前記超音波振動子に印加する印加電圧を切り替え
てボンディング用のツールを振動することを特徴とす
る。
【0024】本発明のワイヤボンディング方法によれ
ば、ボンディング用のツール(キャピラリ)の圧力と振
動振幅とを変更する第1工程と第2工程とを設けたこと
により、従来問題であったボール8と電極パッド5との
密着力が強い箇所を、前記キャピラリ1の真下になる箇
所8bからボール8の中心部8cにすることができる。
また、前記キャピラリ1の振動、又は所定の圧力で押圧
されたボール8の振動によって発生するスクイズアウト
の抑制ができる。そして、前記第2工程において、接合
表面に印加される圧力は前記第1工程における圧力より
大きく、好ましくは更にその振動振幅は前記第1工程に
おける振動振幅より小さくする。これにより、前記第1
工程で発生したスクイズアウトを第2工程によりボール
8の外周部8aで押さえ込む。その結果、従来問題であ
ったスクイズアウトなどの異物が飛散して半導体に付着
した場合、半導体の動作不良などが発生し、信頼性を著
しく低減させるいう問題点をなくすことができる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明のワイヤボンディン
グ方法の一実施例について図面を参照して説明する。図
1は、ワイヤボンディング方法の工程を示す概略工程図
であって、その工程は、図1の符号乃至に示す順序
である。図2は、図1の工程及びにおけるボンディ
ング点における接合状態を拡大して示す図であって、図
2(a)、図2(b)は、それぞれ図1の工程及び工
程に対応した図である。図3は接合部の接合状態を説
明する図であって、図3(a)は前記ボール8が電極パ
ッド5に圧着された時の圧着方向の断面図、図3(b)
はボール8と電極パッド5の接合点に置ける断面図、図
3(c)は図3(a)でのボール8の圧力分布を説明す
る図である。
【0026】図4はキャピラリ1の加圧制御および超音
波振動の振幅制御を示す図であって、図4(a)、図4
(b)、図4(c)は、それぞれ加圧制御と振幅制御及
びキャピラリ1の位置を示す図であって、図4(a)
は、超音波振動子駆動装置内に設けられた図示しない超
音波振動子に印加する加圧制御における圧力の切替を示
す図である。また、図4(b)は、振幅制御における超
音波振動の振幅を示すグラフであり、図4(c)は、こ
のキャピラリ1の上下方向の動作t時間との関係で示す
図である。上記キャピラリ1は、この図4(c)に示す
ように、上記半導体チップ4の電極パッドの直上点Aま
で下降駆動され、それ以後は速度を落として下降駆動さ
れる。なお、図4(a)、図4(b)、図4(c)は、
それぞれ時間軸上で同一時刻には同一符号を付してあ
り、また図4(b)の超音波振動周波数は、通常のワイ
ヤボンディング装置に用いられる超音波周波数である。
【0027】前記各図において、図5と同一部分につい
ては同一符号を付して説明する。まず、工程の図(図
1)を参照し、ワイヤボンディング装置の構成について
簡単に説明する。工程の図(図1)において、ワイヤ
ボンディング動作を行うキャピラリ1は、先端が細径に
形成されてなる針状をなし、内部には金属ワイヤ(例え
ば金ワイヤ)2が挿通される挿通孔1aが上下方向全長
に亘って形成されている。前記キャピラリ1は、図示し
ていない周知の超音波ホーンの先端に軸線を略垂直にし
た状態で保持されている。そして、前記超音波ホーンの
他端側は、図示していない周知の超音波振動子駆動装置
に接続されており、超音波振動子に印加する印加電圧が
切り替えられることによりその振動振幅が変化される。
したがって、前記超音波振動子に電圧を印加し、超音波
振動を発振させることで、上記超音波ホーンを介して、
上記キャピラリ1に超音波振動が伝達され、その内部に
挿通されている金属ワイヤ2が振動されるようになって
いる。また、前記超音波振動子駆動装置は図示していな
い回動軸(水平軸)によって揺動自在に設けられてお
り、該回胴軸が揺動することで、上記キャピラリ1を上
下させることができるように構成されている。
【0028】なお、前記回動軸は図示しないモータに連
結され、前記モータが作動することで、上記キャピラリ
1は所定の速度、加速度、圧力で上下駆動されるように
なっている。さらに、上記キャピラリ1は図示していな
いXYテーブルが作動することにより水平方向にも駆動
位置決めができるようになっている。前記キャピラリ1
の横には電気トーチ9が設けられていて、該電気トーチ
9は放電により上記金属ワイヤ2を加熱し、後述するよ
うにして上記金属ワイヤ2の先端部を溶融させて、そこ
にボール状のボール8が形成される。一方、プリント基
板10は、図示していない上面は略平坦に形成されてい
る周知のボンディングステージに保持固定されている。
なお、前記ボンディングステージ内には、図示しないヒ
ータが埋設されており、ボンディングを行う際には、所
定の温度に昇温制御されるようになっている。前記プリ
ント基板10上には半導体チップ4が周知のダイボンデ
ィングにより搭載されている。また、上記プリント基板
10の上面と上記半導体チップ4の上面には、それぞれ
電極パッド11、電極パッド5が形成されている。
【0029】このワイヤボンディング装置は、上記キャ
ピラリ1を、順次上記半導体チップ4の電極パッド5
(第1のボンディング点)とプリント基板10の電極パ
ッド11(第2のボンディング点)とに対向させ、これ
らの間を、上記金属ワイヤ2を用いて接続するものであ
る。なお、接続に用いられる金属ワイヤ2は、上記キャ
ピラリ1の上方に設けられた図示しないワイヤスプール
から導出され、上記キャピラリ1の挿通孔1aに上下方
向に挿通された後、先端部が上記キャピラリ1の下端面
から所定寸法だけ露出されていて、前述のように電気ト
ーチ9により、金属ワイヤ2の先端部に球状のボール8
が形成されている。また、上記キャピラリ1の上方に
は、該キャピラリ1と共に上下するワイヤクランパ7が
設けられている。該ワイヤクランパ7は、必要に応じて
作動し、前記金属ワイヤ2を保持または開放するように
なっている。
【0030】次に、このキャピラリ1および金属ワイヤ
2を用いたワイヤボンディングの工程について、図1、
図2、図3及び図4を参照して説明する。まず、前記キ
ャピラリ1は、図示していないXYテーブルが作動する
ことで半導体チップ4における所定の電極パッド5(第
1のボンディング点)の上方に対向位置決めされる。つ
いで、電気トーチ9が作動し、放電による加熱により上
記金属ワイヤ2の先端部を溶融させ、この金属ワイヤ2
の先端部に球状のボール8を形成する。ボール8が形成
されたならば、上記キャピラリ1は所定量だけ下降駆動
され、図1の工程に示すように、上記ボール8を上記
キャピラリ1の下端に保持する。上記キャピラリ1は、
これ以後、以下に説明するように駆動されワイヤボンデ
ィング動作を行う。
【0031】前記図4(b)および図4(c)に示すよ
うに、キャピラリ1が点B(時刻tb)に達したなら
ば、キャピラリ1は超音波振動を開始する。このこと
で、上記キャピラリ1の下端に保持されたボール8は、
上記半導体チップ4の電極パッド5の押し付けられる前
から超音波域で振動することとなる。なお、前記キャピ
ラリ1の超音波振動の開始は、前記以外に、点A(時刻
ta)に達した時から予め開始してもよい。このキャピ
ラリ1は、点A以後、緩やかに下降し、図4(c)に示
す点Bで上記ボール8を上記半導体チップ4の電極パッ
ド5に当接させる。図1の工程に示すのが、このとき
の状態である。
【0032】上記キャピラリ1は、この点B以後、ボー
ル8が図4(a)に示す圧力P1、及び図4(b)に示
すキャピラリ1の振動振幅AV1で電極パッド5への押
し付けを開始する。その結果、図4(c)時刻tb〜時
刻t1で示す間ボール8が押し潰され、超音波による接
合を開始した後、上記キャピラリ1は若干量ではある
が、点Bから点Cまで下降する。そして、キャピラリ1
は、点Cの時刻t1から時刻t2まで圧力P1、振動振
幅AV1でボール8を電極パッド5に押圧する。この結
果、上記超音波振動により、ボール8は電極パッド5に
当接した中心の部位から接合されていく。
【0033】図2(a)は、前記図1の工程(第1の
工程)におけるボンディング点における接合状態を拡大
して示す図である。図示するように、図4(c)の時刻
tbからt1で示す間、ボンディング位置接合表面と金
属ワイヤ2が接触して擦れ合ってスクイズアウト12が
前記ボール8の周辺に発生する場合がある。上記ボール
8が電極パッド5に押し付けられ、接合が開始され、所
定時間の間(時刻tbからt1で示す間、)小さい圧力
P1と大きな振動振幅AV1でボール8を電極パッド5
に押圧する。圧力P1が小さい結果、ボンディング位置
の接合面の接触面積が小さく、従ってボンディング位置
接合表面の傷が少なく、スクイズアウト12の発生が少
ない。また、振動振幅AV1が大きい結果、ボンディン
グ位置接合表面と金属ワイヤ2が超音波振動により広範
囲のスクラブ動作が行なわれ、ボンディング表面とボン
ディングワイヤーとの接合面の異物を広範囲に除去でき
る。
【0034】上記キャピラリ1は、点Dの時刻t2から
時刻t3まで圧力P2、振動振幅AV2でボール8を電
極パッド5に押圧する。前記図1の工程(第2の工
程)に示すのが、このときの状態である。なお、前記図
1の工程で示した圧力P2と振動振幅AV2と、前記
図1の工程で示した圧力P1と振動振幅AV1とは、
それぞれP2>P1、AV2<AV1の関係がある。圧
力P2が圧力P1に比べて大きい結果、図4(c)時刻
t2〜時刻tcで示すボール8が押し潰される間、上記
キャピラリ1は若干量ではあるが、点Dから点Eまで下
降する。そして、キャピラリ1は、点Dの時刻t2から
時刻t3まで圧力P2、振動振幅AV2でボール8を電
極パッド5に押圧する。この結果、上記超音波振動によ
り、ボール8は電極パッド5に当接した周辺の部位まで
接合されていく。
【0035】図4(c)の時刻t2からt3で示す間、
ボンディング位置接合表面と金属ワイヤ2が接触して、
圧力P2により上記電極パッド5との接触面積を次第に
広げていく。このように圧力が前記図1の工程で示し
た圧力P1より増加することにより、ボール8、電極パ
ッド5に接触した部位(中央部)から周辺部に向かって
順に上記超音波エネルギによってこの電極パッド5に接
合されていく。
【0036】図3は、前記図1の工程(第2の工程)
での接合部の接合状態を説明する図である。図3(a)
は前記ボール8が電極パッド5に最終的に圧力P2で圧
着された時の圧着方向の断面図である。図3(b)は、
図3(a)のボール8と電極パッド5の接合点における
断面における圧力分布を、図3(c)は圧着方向のボー
ル8の圧力分布を、それぞれ説明する図である。
【0037】図3に示すように、ボール8と電極パッド
5の接合面において、ボール8は中心点部分8cの密着
力は第1の工程で大きな振動振幅AV1により表面に付
着した有機物、酸化物が取り除かれ、第2の工程での大
きな圧力P2で押圧される結果、密着力が高く、その周
辺8a、8bでの密着力は前記スクイズアウト12を押
さえ込むために前記中心点部分8cの密着力より低くな
る。前述のように、第1の工程での圧力P1より大きい
第2の工程での圧力P2によりボール8が押し潰される
ことによって、前記第1の工程で発生した僅かなスクイ
ズアウト12が図2(b)に示すようにボール8の下部
周辺に押さえ込まれ、発生したスクイズアウト12の周
囲への飛散が防止される。その結果、異物の除去工程及
び除去ツールを必要としない。
【0038】また、前記図1の工程における振動振幅
AV2は工程における振動振幅AV1よりも小さいこ
とから、たまたまボール8の下部周辺に押さえ込まれな
かったスクイズアウト12の飛散も少なくて済む。更
に、振幅が減少することによって工程で圧着された接
合面が過大な振幅で振動されることがなくなり、既に密
着された中心部における密着度を低下することもない。
また、前記図1の工程における圧力P2は工程にお
ける圧力P1よりも大きいことから、中心における接合
面の密着度は、より強固になる。そして一定時間が経過
し、上記ボール8完全に接合されたならば、第2の工程
を終了し、上記キャピラリ1は超音波振動が停止され時
刻t3から上昇駆動される。なお、前記キャピラリ1の
超音波振動の停止は、キャピラリ1が上昇駆動された後
に停止するようにしてもよい。
【0039】上記キャピラリ1は図1の工程から図1
の工程に示すように、上記金属ワイヤ2を繰り出しつ
つ上昇駆動されると共に水平方向に駆動され、第2のボ
ンディング点であるプリント基板10の電極パッド11
上に対向位置決めされる。そして、上記キャピラリ1は
再び下降駆動され、上述した第1のボンディング点に対
する動作と同様の動作により、上記金属ワイヤ2を上記
プリント基板10の電極パッド11に押し付け、超音波
振動を印加することで接合を行っていく。この場合は、
上記第1のボンディング点の場合と異なり、金属ワイヤ
2自体を押し潰すことで、この金属ワイヤ2を接合す
る。この場合も、上記ワイヤ2の一部が上記電極パッド
10に接触した時点から接合が開始され、図4(a)、
(b)、(c)に示すように圧力と振動振幅とを切り替
える第1工程、第2工程を有するようにしても良く、ま
たは、前記第1工程、又は第2工程のみであってもよ
い。
【0040】図1の工程の後に、工程において、上
記ワイヤクランパ7を作動させ上記金属ワイヤ2を保持
した後、キャピラリ1およびワイヤクランパ7を上昇さ
せることで前記金属ワイヤ2を上方に引上げる。このこ
とで図1の工程に示すように、金属ワイヤ2は、接合
された部位の直上で切断される。金属ワイヤ2が最初に
キャピリ1に通された時以降、図1の工程の後に、工
程で述べたのと同様にして、工程では、電気トーチ
9が作動し、放電による加熱により上記金属ワイヤ2の
先端部を溶融させ、この金属ワイヤ2の先端部に球状の
ボール8を形成する。そして、新たなボール8が形成さ
れたならば図1の工程に戻り、他の接合部の接合が同
様にしてなされる。なお、かかる場合、図1の工程で
のボールの形成工程は省略する。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように、この発明は、ボンデ
ィング工程に金属ワイヤの圧力と振動振幅をそれぞれ制
御する工程を設けたワイヤボンディング方法である。即
ち、半導体チップの電極パッドと前記半導体チップを載
置するリードフレームのインナーリード部とを金属ワイ
ヤを用いて接続するワイヤボンディング方法において、
ボンディング位置の接合表面にボンディング用のツール
を所定の圧力で接触させて金属ワイヤを所定の振幅で振
動させて金属ワイヤを押圧する第1工程と、該第1工程
の後に前記第1の工程より大きい圧力で前記金属ワイヤ
を押圧する第2工程とを有することを特徴とする。
【0042】このように圧力を変化する2つの工程を設
けて、圧力P1より大きい圧力P2によりボール8が押
し潰されることによって、第1の工程で発生した僅かな
スクイズアウト12がボール8の下部周辺に押さえ込ま
れ、発生したスクイズアウト12の周囲への飛散が防止
され、半導体素子の信頼性を向上する効果がある。ま
た、その結果、異物の除去工程及び除去ツールを必要と
せず、装置の低価格化に寄与する効果もある。
【0043】また、前記第2の工程における振動振幅A
V2は、前記第1の工程における振動振幅AV1よりも
小さいことから、たまたまボール8の下部周辺に押さえ
込まれなかったスクイズアウト12の飛散も少なくて済
み、半導体素子の信頼性を向上する効果がある。
【0044】更に、前記第1の工程における振動振幅A
V1よりも第2の工程における振動振幅AV2が減少す
ることによって前記第1の工程で圧着された接合面が過
大な振幅で振動されることがなくなり、既に密着された
中心部における密着度を低下することもなく、同様にし
て半導体素子の信頼性を向上する効果を有する。更にま
た、前記第2の工程における圧力P2は前記第1の工程
における圧力P1よりも大きいことから、中心における
接合面の密着度は、より強固になる効果がある。
【0045】又、振動振幅の変化は、超音波振動子駆動
装置により該超音波振動子に印加する印加電圧を切り替
えて行なうことにより簡単にボンディング工程の制御が
できる。以上述べたように、本発明では、従来の超音波
振動式のボンディング方法では得られなかった、超音波
振動式の接合時に発生するスクイズアウトなどの異物の
発生を抑制、発生した前記異物の飛散を防止、接合点の
密着度の向上が可能になり、この方法により製造された
半導体の信頼性を向上できると共に、合わせて装置の低
減化を可能にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ワイヤボンディング方法の工程を示す概略工程
図であって、その工程は、符号乃至に示す順序であ
る。
【図2】図1の工程及びにおけるボンディング点に
おける接合状態を拡大して示す図であって、図2
(a)、図2(b)は、それぞれ図1の工程工程及び
に対応した図である。
【図3】接合部の接合状態を説明する図であって、図3
(a)は前記ボールが電極パッドに圧着された時の圧着
方向の断面図である。図3(b)は、図3(a)のボー
ルと電極パッドの接合点における断面における圧力分布
を、図3(c)は圧着方向のボールの圧力分布を、それ
ぞれ説明する図である。
【図4】キャピラリの加圧制御および超音波振動の振幅
制御を示す図であって、図4(a)、図4(b)、図4
(c)は、それぞれ加圧制御と振幅制御及びキャピラリ
の位置を示す図である。
【図5】従来のワイヤボンディング装置の説明図であ
る。
【図6】図6はキャピラリの動作を説明する図であっ
て、図6(a)は、キャピラリの上下方向の動作を時間
との関係で示す図、図6(b)は、ゲイン切替により発
生する超音波振動の振幅を示す図、図6(c)は、キャ
ピラリに振動を与える、超音波振動子に対する電圧印加
のゲイン切替を示す図である。
【図7】各種のボンディング方法における接合部の接合
状態を説明する図であって、図7(a)はボールが電極
パッドに圧着された時の圧着方向の断面図、図7(b)
と図7(c)は、それぞれボールと電極パッドの接合点
における、ボールへの圧力分布を説明する図である。
【符号の説明】
1 キャピラリ 2 金属ワイヤ 4 半導体チップ 5 電極パッド 6 インナーリード部 7 クランパ 8 ボール 9 電気トーチ 10 プリント基板 11 電極パッド11 12 スクイズアウト

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体チップの電極パッドと前記半導体チ
    ップを載置するリードフレームのインナーリード部とを
    金属ワイヤを用いて接続するワイヤボンディング方法に
    おいて、ボンディング位置の接合表面にボンディング用
    のツールを所定の圧力で接触させて金属ワイヤを所定の
    振幅で振動させて金属ワイヤを押圧する第1工程と、該
    第1工程の後に前記第1の工程より大きい圧力で前記金
    属ワイヤを押圧する第2工程とを有することを特徴とす
    るワイヤボンディング方法。
  2. 【請求項2】前記第2工程における金属ワイヤの振動振
    幅を、前記第1工程における金属ワイヤの振動振幅より
    小さくすることを特徴とする請求項1に記載のワイヤボ
    ンディング方法。
  3. 【請求項3】前記金属ワイヤの振動振幅の変化は、超音
    波振動子駆動装置により前記超音波振動子に印加する印
    加電圧を切り替えてボンディング用のツールを振動する
    ことを特徴とする請求項1に記載のワイヤボンディング
    方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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