JP2003252634A - ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用 - Google Patents
ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用Info
- Publication number
- JP2003252634A JP2003252634A JP2003047941A JP2003047941A JP2003252634A JP 2003252634 A JP2003252634 A JP 2003252634A JP 2003047941 A JP2003047941 A JP 2003047941A JP 2003047941 A JP2003047941 A JP 2003047941A JP 2003252634 A JP2003252634 A JP 2003252634A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mixed oxide
- silicon
- oxide powder
- surface area
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/078—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing an oxide of a divalent metal, e.g. an oxide of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
- C01B33/1415—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water
- C01B33/1417—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water an aqueous dispersion being obtained
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/02—Pretreated ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03C2201/42—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn containing titanium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S501/00—Compositions: ceramic
- Y10S501/90—Optical glass, e.g. silent on refractive index and/or ABBE number
Abstract
示すSiO2−TiO2−ガラスの製造方法 【解決手段】 BET表面積5〜500m2/g、粉末
に対する二酸化チタン含有量0.5〜20質量%の、火
炎加水分解法により製造されたケイ素−チタン混合酸化
物粉末と、水と、加熱時に反応混合物から完全に除去で
きるような少なくとも1種のpH値調整物質とを含有
し、前記の粉末は分散液に対して固体含有量40〜80
質量%を示すことを特徴とする、分散液。
Description
造されたSiO2−TiO2−混合酸化物粉末を含有す
る分散液、並びにこの分散液から製造された成形体及び
僅かな熱膨張率を有するガラス成形品に関する。
系は、その良好な熱的特性、その高い屈折率及び低い熱
膨張率を特徴とする。この低い熱膨張率は、広い温度範
囲にわたり寸法精度が保証されなければならない光学部
材の製造のために重要である。
知の製造方法は溶融法である。一方で1700℃と極め
て高い溶融温度が欠点であり、他方でガラス溶融液の冷
却の間に極めて簡単に相分離及び失透が生じることが欠
点である。
の、他の最もよく使用される方法は、ゾルゲル法であ
る。これは、多くの場合に有機金属化合物の加水分解及
び縮合である。
ド及びチタンアルコキシド又は部分的に加水分解したア
ルコキシドの、水の存在での反応によるSiO2−Ti
O2−ガラスの製造を記載している。加水分解後に、こ
の材料は乾燥し、場合により焼結される。
酸塩溶液とpH値>9のコロイド状TiO2を用いた僅
かな熱膨張率(ULE=ultra-low-expansion)を有す
るSiO2−TiO2−ガラスの製造方法を記載してい
る。この得られたガラスは不均一性を示さず、シリカガ
ラスとして低い熱膨張率を示す。こうして製造されたガ
ラスは、TiO2 3〜10質量%を含有する。
形体密度が得られるにすぎないことである。その結果、
乾燥及び焼結時に高い収縮率が生じる。このプロセス工
程は、亀裂形成を回避するために、極めてゆっくりと、
しばしば数日及び数週間にわたり実施しなければならな
い。
造のために気相堆積法、たとえばいわゆるCVD法(C
VD=Chemical Vapor Deposition)を用いることは公
知である。この方法の場合の温度は200〜2000℃
である。この方法を用いて、TiO2 16質量%まで
の透明なガラスの製造が可能である。
1からは、一般にガラスブラック(Glasruss)又はスー
トとして表される粒子の形成下で、ケイ素前駆体及びチ
タン前駆体を炎内で一緒に燃焼させることは公知であ
る。このスート粒子は、担体上に析出され、こうして得
られた多孔体を引き続き約1500℃の高温で乳白のガ
ラス成形品に移行させ、これを再びより高い温度で焼結
させて透明なガラス成形品にする。一般に著しく大きな
ガラス成形品(Boules)は、たとえば切断により、たと
えばレンズの製造のためにより小さな部品に加工され
る。これを比較的大きな光学部品に組み立てることもで
きる。
成形品を許容できる経済的費用でこのプロセスから直接
得ることができないことである。多様な形状を有するガ
ラスを得るためには機械加工が必要である(W. T. Mine
han, G. L. Messing and C.G. Pantano, Titania-silic
a glasses prepared by sintering alkoxide derived s
pherical colloids. J. Non-Cryst. Solids 108 (1989)
163-168)。
堆積法の場合に収量はむしろ低い。
は、たとえばUS5180411に記載されている。そ
れによると3つの異なる形状から出発している。一つは
約0.1〜0.3μmの粒径を有するSiO2及びTi
O2からなる混合酸化物粒子の凝集物である。その他に
SiO2−TiO2−凝集物の表面上の微細な鋭錐石−
TiO2−粒子が存在する。最後に、スート中に約0.
2〜1μmの直径を有するより大きな鋭錐石結晶が存在
する。この不均質で、さらに付加的に組成が変動する粉
末から均質なガラス成形品を製造することは困難であ
り、高度なプロセス工学的制御が要求される。
堆積しないSiO2−TiO2−スートが廃棄物として
生じるため、この廃棄物を他の方法で使用することが試
みられた。WO00/48775にはSiO2−TiO
2−スートの押出成形によりガラスからなるハニカム構
造体の製造方法が記載されている。この場合、スートは
有機添加物の存在でペーストに加工され、これをまず成
形体に押し出し、次いで加熱により有機成分を除去し、
最終的に焼結させる。この方法の場合の欠点は、燃焼に
よって除去しなければならない有機結合剤を使用するこ
とである。さらに、光学特性のSiO2−TiO2−ガ
ラス成形品は製造できない。
C. G. Pantano著, Titania-silica glasses prepared b
y sintering alkoxide derived spherical colloids.
J. Non-Cryst. Solids 108 (1989) 163-168
は、先行技術の欠点を有していない低い膨張率を示すS
iO2−TiO2−ガラスの製造方法を開発することで
ある。特に、この方法は、前記されたゾル−ゲル法とは
反対に、乾燥及び焼結時に僅かな収縮を示すだけであ
り、長い反応時間を回避すべきである。ガス堆積法とは
反対に、後処理せずにこのプロセスから光学特性の三次
元成形品を直接得ることが可能となるのが好ましい。
水分解法により製造された、BET表面積5〜500m
2/gを有し、粉末に対して二酸化チタン含有量0.5
〜20質量%を有するケイ素−チタン混合酸化物粉末、
さらに水及び加熱時に完全に反応混合物から除去するこ
とができるpH値を調整する物質を含有し、かつこの粉
末は分散液に対して固体含有量40〜80質量%を有す
る分散液である。
より生じた火炎中で、気相の形でケイ素化合物及びチタ
ン化合物を加水分解することであると解釈される。この
場合、まず高分散性の、無孔性の一次粒子が形成され、
これは次の反応過程で集合体になり、これはさらに凝集
物に合体することができる。反応条件の選択により、こ
の合成時に主に球形粒子を得ることもできる。
形成下での原子レベルでの二酸化チタン及び二酸化ケイ
素の完全な混和物であると解釈される。その他に、この
一次粒子は二酸化ケイ素の領域を二酸化チタンの他に有
していることもできる。二酸化ケイ素粉末と二酸化チタ
ン粉末との物理的混合物は本発明により使用された混合
酸化物粉末とは異なり、この物理的混合物の使用は、本
発明による分散液の製造のためには適していない。Si
−O−Ti−結合を有するが、その多孔性構造に基づき
及び製造条件による低い充填度を有することができるゾ
ル及びゲルも、本発明による分散液の形成のために適し
ていない。
粒子(比較的大きな鋭錐石結晶の鋭錐石−TiO2−粒
子の微細な成長を有するような粒子)の凝集物からな
る、US5180411に記載されたような公知のSi
O2−TiO2−スート−粒子とは反対に、本発明によ
る分散液のために使用されるケイ素−チタン−混合酸化
物粒子は、Si−O−Ti−結合を有する均一の粒子で
あり、この粒子は一次粒子内にだけ二酸化ケイ素及び二
酸化チタンの領域を有することができる。
物質由来の痕跡量の不純物、並びにプロセスに起因する
不純物を有することができる。この不純物は0.5質量
%まで、しかしながら一般には100ppmより少ない
ことができる。
混合酸化物粒子は、たとえばDE−A−4235996
に記載された方法により製造することができ、その際、
四塩化ケイ素及び四塩化チタンを混合し、酸素−空気−
混合物と一緒に燃焼させる。
1.12.22のドイツ連邦共和国特許出願10163
938.4〜41に記載された混合酸化物粒子を使用す
ることができる。この粒子は、2つの供給流を別個に1
つのバーナー中へ導入し、そこで燃焼させ、その後で固
体混合酸化物粉末及び熱い気相を冷却し、気相を固体か
ら分離することにより得られる。この場合に、第1の供
給流は蒸発させた二酸化チタン前駆体、有利に四塩化チ
タン、水素及び酸素、有利に酸素含有ガスを含有する。
第2の供給流は蒸発させた二酸化ケイ素前駆体、有利に
四塩化ケイ素、酸素又は酸素含有ガス及び/又は不活性
ガスを含有する。二酸化ケイ素前駆体を含有する供給流
は、この場合に1箇所又は複数箇所で反応室内へ供給す
ることができる。
はDE−A−19650500に記載された方法により
製造することができる。この場合、霧化により得られ
た、チタン化合物の塩の溶液又は懸濁液のエアゾール
を、四ハロゲン化ケイ素、水素又は空気を含有するガス
混合物内へ供給し、これらを均質に混合し、引き続きエ
アゾール−ガス−混合物をバーナー室中のフレーム内で
反応させる。
きるケイ素−チタン−混合酸化物粉末には、二酸化ケイ
素で被覆された、熱分解法により製造された二酸化チタ
ン(たとえば出願日2001.08.08の欧州特許出
願01119108に記載されている)も含まれる。
水中に溶解した塩基に撹拌しながらTiO2分散液及び
たとえばテトラエトキシシラン及び水を添加し、この反
応生成物を分離し、場合により洗浄及び乾燥することに
より得られる。
−表面積は、5〜500m2/gであることができる。
本発明による分散液にとって、BET−表面積20〜3
00m2/gの粉末が特に有利である。
チタン含有量は0.5〜20質量%である。有利な実施
態様の場合には、ケイ素−チタン−混合酸化物の二酸化
チタン含有量は、2〜12質量%、特に有利な実施態様
の場合には、6〜8質量%である。
本発明による分散液は水及び少なくとも1種の、加熱時
に完全に反応混合物から除去できるpH値を調整する物
質を含有する。本発明による分散液は、液相の主成分と
して水を含有する。たとえば結合剤の機能を担う有機化
合物は、本発明による分散液中では存在しない。単にp
H値を調整する物質が有機性の性質であるだけである。
本発明による分散液のpH値は酸性のpH領域(pH値
1〜5)又は塩基性のpH値(8.5〜14)にあるこ
とができる。pH値を調整する化合物として、有利にア
ンモニウム化合物、たとえばアンモニア、フッ化アンモ
ニウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド又は
塩酸、酢酸、ギ酸、ホルメート、アセテートを使用する
ことができる。分散液中のこの反応生成物は、その揮発
性に基づき、本発明による分散液から製造可能なガラス
の熱処理又は焼結の際に加熱により容易に除去される。
pH値の調整のために、この化合物の最小量が分散液中
に必要なだけである。
固体含有量は、40〜80質量%である。この高い充填
度は、僅かな乾燥収縮を示す亀裂のない成形体(グリー
ンボディ)を製造するのに寄与する。本発明による分散
液は、高い充填度(Fuellgrad)であってもなおキャス
ティングすることができる。
散液は、高いBET表面積を有するケイ素−チタン−混
合酸化物粉末と低いBET表面積を有するケイ素−チタ
ン−混合酸化物とを含有することができ、この場合に、
高いBET表面積を有するケイ素−チタン−混合酸化物
の表面積は、低いBET表面積を有するケイ素−チタン
−混合酸化物の表面積の少なくとも2倍であり、低いB
ET表面積を有するケイ素−チタン−混合酸化物対高い
BET表面積を有するケイ素−チタン−混合酸化物の質
量比は60:40〜99.5:0.5である。ケイ素−
チタン−混合酸化物のこの組成物を有する分散液は、特
に極めて低い膨張率を有するガラス成形品の製造のため
に適している。
の製造方法であり、この方法は、ケイ素−チタン−混合
酸化物を水及び少なくとも1種の、加熱時に完全に反応
混合物から除去することができるpH値を調整する物質
からなる媒体中で、分散装置を用いて分散させることを
特徴とする。分散装置として、ディソルバー、歯車ディ
スク装置、ロータ−ステータ装置、ボールミル、撹拌型
ボールミル、遊星式ニーダー、遊星式ミキサー、高圧ホ
モジナイザー又はこれらの装置の組合せを使用すること
ができる。
を使用して製造された、相対成形体密度が40〜85
%、有利に、少なくとも50%、特に有利に60〜80
%である成形体である。本発明による成形体は、亀裂が
なく、高い強度を示す。
あり、この方法は、本発明による分散液を、有利に疎水
性材料からなる型内に流し込み、20〜40℃の温度で
乾燥させ、場合により離型後に60〜120℃の温度で
後乾燥させ、場合により引き続き約800℃(750〜
850℃)の温度でか焼することを特徴とする。この方
法の後で、成形体の乾燥による線収縮は原則として10
%より大きくない。
00℃(750〜850℃)で塩素又はフッ素及び酸素
を含有する雰囲気中で処理することができる。
00m2/gを有しかつ粉末に対して0.5〜20質量
%、有利に2〜12質量%、特に有利に6〜8質量%の
二酸化チタン含有量を有する熱分解法により製造された
ケイ素−チタン−混合酸化物の、最大0.5・10- 6
/Kの熱膨張率を有する光学特性のガラス成形品であ
る。
次の特徴を有することであると解釈される: − 無気泡であること − 検出可能な気孔を有していないこと − 理論値に相当する密度及び屈折率 − X線により非晶質(roentgen-amorph) − ラマンスペクトル分析を用いて結晶性のTiO2−
成分は検出できない − ガラス成形品の熱による線膨張率(CTE)は20
〜900℃の範囲内で0.5・10- 6/Kである − 1000nmで測定してガラス成形品の透過率は9
9%より高い。この場合に、10mmの厚さのディスク
の透過率を測定し、前面側及び背面側での反射損分を補
正する。
方法であり、この方法は、成形体を1050〜1600
℃、有利に1100〜1300℃の温度で、ガス雰囲気
又は真空中で焼結させることを特徴とする。
ルゴン、二酸化炭素、これらのガスの相互の混合物及び
/又は酸素との混合物、又は還元性ガス雰囲気であるこ
とができる。このガス雰囲気は、さらに少量の水蒸気を
含有することができる。
−酸素−ガス雰囲気中で実施することができ、その際に
酸素含有量は0.1〜70、有利に1〜20、特に有利
に2〜5体積%であることができる。
後に完全に又は表面だけ溶融させる他の方法工程を有す
ることができる。
の、たとえばミラー及びレンズでの、極紫外線領域のた
めの機器の部材として、たとえばミラー支持体として、
光導波路の製造のためのプリフォームのための、本発明
によるガラス成形品の使用である。
4つの部材からなる撹拌機(4枚のブレードがそれぞれ
90゜ずらされている)を有する高速ディソルバー(最
大約10000rpm)に、2回蒸留した水53mlを
充填した。25質量%のTMAH(テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド)水溶液1.2gを添加した。その
後に、DE−A−4235996により製造した、Si
O2/TiO2−比93:7及びBET−表面積40m
2/gの熱分解法により製造したSiO2−TiO2−
混合酸化物粉末46gを撹拌混合した。撹拌後に、分散
液のpH値は約9であった。さらにTMAH溶液4.8
gを添加し、引き続きギ酸メチル1.15gを添加し
た。この分散液を場合により篩別(メッシュ幅40μ
m)した。この分散液は約42質量%の充填度を有して
いた。
ク型又はラテックス型に流し込むか又は任意の形状の水
不透過性の閉じたプラスチックシート、たとえばホース
状シートに僅かに加圧しながら封入した。加熱庫内で約
40℃に加熱した後で約4分後に分散液の固化が始ま
り、約2時間後にこの試料は固体であった。
乾燥させた。これとは別に乾燥時間は循環空気庫内で短
縮することができる。
開放し、その後上記のように空気中で乾燥させた。
でそれぞれ1日行った。この時間は空気湿度又は温度プ
ロフィールを最適化するか、又はたとえばマイクロ波加
熱の使用によって短縮することができる。乾燥後に試料
の160℃で除去可能な含水量は<0.1%であった。
処理した。さらに、両側にガス接続管を備えたシリカガ
ラス管を利用し、これを電気的に加熱されたマッフル炉
中に導入した。
料の精製を行った。この精製は、半導体品質の塩化水素
ガス50ml/分のガス流で大気圧で実施した。試料付
近の温度は約950℃であった。プロセス時間は試料の
サイズに依存する。10cmの直径を有する試料の場合
に、このプロセスを約4時間続けた。
させた。この場合に3つの焼結法を適用した: A) Thermal Technologie社(Bayreuth在)のタング
ステン抵抗加熱部材を有する真空炉タイプ1100中で
の焼結:圧力<1・10- 4mbar、焼結温度135
0℃、保持時間30分。この試料は焼結後にTiO2の
Ti3+への還元により軽度に青色の変色を呈した。温
度プロフィールの変更(たとえば1260℃、保持時間
300分)により青色の変色を回避することができた。
350℃及び約10mm/分の進行又は(2) 120
0℃、1mm/分の進行で純粋なヘリウム(工業的、5
00ml/分)中での焼結。
ガラス−運転管を備え、試料保持は酸化アルミニウム棒
上に静止させたシリカガラス容器中で行った。この酸化
アルミニウム棒はシリカガラス容器の中心で垂直方向に
中央の帯域焼結炉の過熱区域を通過させてスライドさせ
た。この帯域焼結炉は高さ方向で対象の温度プロフィー
ルを有し、この温度プロフィールは炉のほぼ中央に最大
値がある。この試料はB1の場合に、真空焼結の場合よ
りもより僅かな青色の変色を示した。最適化された温度
プロフィールB2の使用により試料はそれぞれの青色の
変色なしに得られた。
かしながらヘリウム−酸素−混合物を用いる。酸素成分
はヘリウム成分に対して3モル%であった。温度パラメ
ータの変更はB1及びB2に記載したのと同様。
ていた: − 無気泡であること − 検出可能な気孔を有していないこと − 理論値に相当する密度及び屈折率 − X線により非晶質 − ラマンスペクトル分析を用いて結晶性のTiO2−
成分は検出できない − ガラス成形品の熱による線膨張率(CTE)は20
℃〜900℃の範囲内で0.1・10- 6である。
の透過率は99%より高い。この場合に、10mmの厚
さのディスクの透過率を測定し、前面側及び背面側での
反射損分を補正する。
とができる: D) 試料の無接触型溶融:この試料をガラス旋盤上で
無接触で火炎内で区域を移動させて溶融させた。再沸騰
効果又は気泡形成は確認できなかった。
レス:試料を最大2000barで、最高で1600℃
の温度でホットアイソスタティックプレスした。雰囲気
として、アルゴン、窒素、ヘリウム及び酸素(最大12
00℃、2000bar)を使用した。
パリング:この試料を均質な屈折率プロフィールの調整
のためにテンパリングした。これは試料中の虚構温度
(fiktiven Temperatur)の均質化と相関する。
った変色は、この変色が試料において存在する場合には
消失した。この試料は後処理工程の後にさらにX線無定
形である。F)を経過した試料は、次の特性を示してい
た: (Q1) インクルージョンクラス 0〜5。このイン
クルージョンクラスは、コーニング(Corning)社のコ
ーニングコード(Corning Code)7940石英ガラスか
ら引用した。
0mmの試料厚さの場合に屈折率均質性は<0.5・1
0- 6であった。
製造において区別される。この表は例1〜8の分散液の
組成を示す。ガラス成形品の品質は、例1〜6の場合に
例1の品質に相当する。例7は20℃〜900℃の範囲
内で0.2・10- 6/Kであり、僅かに高い膨張率を
示した。
化物から出発せずに、SiO2−粉末及びTiO2−粉
末からの物理的混合物から出発した。得られたガラス成
形品は、使用した方法とは無関係に不透明であった。ラ
マンスペクトル分析及びX線回折を用いて検出して明ら
かな結晶成分を示した。いくつかの試料はかなり青色の
色調を有していた。後処理工程によっても、均質な透明
なガラスは製造できなかった。
混合酸化物粉末;TiO2/TiO2−割合:例1〜
6:93:7、例7:97:3;例8:TiO2−粉末
とTiO 2−粉末との物理的混合物、SiO2/TiO
2−比=97:3 例2 例1と同様であるが、2回蒸留した水53ml、全体で
25質量%のTMAH水溶液6g、熱分解法により製造
されたSiO2−TiO2−混合酸化物粉末105g及
びギ酸メチル1.15gを用いて分散液を製造した。こ
の分散液は約65質量%の充填度を有していた。例1と
比較して僅かな乾燥収縮及び焼結収縮が確認された。
25質量%のTMAH水溶液6g、熱分解法により製造
されたSiO2−TiO2−混合酸化物粉末(BET=
10m2/g)128g、熱分解法により製造されたS
iO2−TiO 2−混合酸化物粉末(BET=50m2
/g)6g(この場合、両方の粉末はSiO2/TiO
2−比93:7を有する)及びギ酸メチル1.15gを
用いて分散液を製造した。この分散液は約70質量%の
固体含有量を有していた。この成形体は高い機械強度及
び僅かな乾燥収縮を示した。
g、SiO2−TiO 2−混合酸化物粉末(BET=4
2m2/g、SiO2/TiO2=93:7)610g
をディソルバーを用いて分散させた。この分散液の固体
含有量は67質量%であった。この分散液を真空中で2
時間撹拌し、この場合、気泡は充分に除去された。その
後、この分散液を60μmメッシュ幅の篩で篩別した。
この試料を例1に記載されたのと同様に開放した型及び
閉鎖した型内に充填した。室温で48時間後に試料を取
り出した。
2/g、SiO2/TiO2=93:7)210gを、
二回蒸留した水300ml中にディソルバーを用いて分
散させた。この分散液の固体含有量は41質量%であっ
た。TMAH(25%の溶液)2mlを添加した後に、
SiO2−TiO2−混合酸化物粉末をさらに100g
添加した。分散液の固体含有量はここで51質量%であ
った。その後に塩酸(30質量%)0.5mlを添加
し、この分散液を型内へキャスティングした。乾燥及び
焼結を例1に記載したのと同様に行った。
合酸化物粉末(BET=42m2/g、SiO2/Ti
O2=93:7)全部で610gををディソルバーを用
いて分散させた。この場合に、混合酸化物粉末それぞれ
100gの添加の後に濃塩酸の添加によりpH値をそれ
ぞれpH2.0に調整した。この分散液の固体含有量
は、全ての量の粉末を分散させた後に、67質量%であ
った。
場合に気泡は充分に除去された。その後、分散液を60
μmメッシュ幅の篩で篩別した。この試料を例1に記載
されたのと同様に開放された型に充填した。室温で48
時間後に試料を取り出した。その後、例1と同様に行っ
た。
の熱分解法により製造されたSiO2−TiO2−粉末
を使用した。
g、熱分解法により製造されたSiO2−粉末(BET
=50m2/g;OX50、Degussa AG)220g及び
熱分解法により製造したTiO2−粉末(BET=50
m2/g)17gをディソルバーを用いて分散させた。
分散液中でSiO2/TiO2−比97:3が達成され
た。この分散液の固体含有量は44質量%であった。
場合に気泡は充分に除去された。その後、この分散液を
60μmメッシュ幅の篩で篩別した。この試料を例1に
記載されたのと同様に開放された型及び封鎖された型に
充填した。室温で48時間後に試料を取り出した。他の
工程は例1と同様に行った。
Claims (10)
- 【請求項1】 BET表面積5〜500m2/g、粉末
に対する二酸化チタン含有量0.5〜20質量%の、火
炎加水分解法により製造されたケイ素−チタン混合酸化
物粉末と、水と、加熱時に反応混合物から完全に除去で
きるような少なくとも1種のpH値調整物質とを含有
し、前記の粉末は分散液に対して固体含有量40〜80
質量%を示すことを特徴とする、分散液。 - 【請求項2】 高いBET表面積を有するケイ素−チタ
ン混合酸化物粉末と、低いBET表面積を有するケイ素
−チタン混合酸化物粉末とを含有し、その際、高いBE
T表面積を有するケイ素−チタン混合酸化物粉末の表面
積は、低いBET表面積を有するチタン混合酸化物粉末
の表面積の少なくとも2倍であり、低いBET表面積を
有するケイ素−チタン混合酸化物粉末対高いBET表面
積を有するケイ素−チタン混合酸化物粉末との重量比は
60:40〜99.5:0.5である、請求項1記載の
分散液。 - 【請求項3】 ケイ素−チタン混合酸化物粉末を、水と
加熱時に完全に反応混合物から除去できるような少なく
とも1種のpH値調整物質とからなる媒体中に分散装置
を用いて分散させることを特徴とする、請求項1又は2
記載の分散液の製造方法。 - 【請求項4】 相対成形体密度が40〜85%であるこ
とを特徴とする、請求項1又は2記載の分散液を使用し
て製造された成形体。 - 【請求項5】 請求項1又は2記載の分散液を型に流し
込み、20〜40℃の温度で乾燥させ、離型せずに又は
離型後に60〜120℃で後乾燥させ、場合により引き
続き750〜850℃の温度でか焼することを特徴とす
る、請求項4記載の成形体の製造方法。 - 【請求項6】 成形体を乾燥又は後乾燥後に、塩素、塩
化水素、フッ素及び/又は酸素を含有する雰囲気中で7
50〜850℃で処理する、請求項5記載の方法。 - 【請求項7】 粉末に対して二酸化チタン含有量0.5
〜20質量%を有し、BET表面積5〜500m2/g
を有する熱分解法により製造されたケイ素−チタン−混
合酸化物粉末からなる、最大0.5・10- 6/Kの熱
膨張率を有する光学特性のガラス成形品。 - 【請求項8】 請求項4記載の成形体を1050〜16
00℃の温度でガス雰囲気中で又は真空中で焼結させる
ことを特徴とする、請求項7記載のガラス成形品の製造
方法。 - 【請求項9】 ガラス成形品を焼結後に完全に又は表面
だけ溶融させる、請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 光学機器、たとえばミラー及びレンズ
の分野のため、極紫外線領域用の機器のための部材とし
て、たとえばミラー支持体として、光導波路の製造用の
プリフォームのための、請求項7記載のガラス成形品の
使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10208371A DE10208371A1 (de) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | Dispersion, enthaltend Silicium-Titan-Mischoxidpulver, daraus herstellte Grünkörper und Glasformkörper |
DE10208371.1 | 2002-02-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003252634A true JP2003252634A (ja) | 2003-09-10 |
JP4038137B2 JP4038137B2 (ja) | 2008-01-23 |
Family
ID=27740442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003047941A Expired - Fee Related JP4038137B2 (ja) | 2002-02-27 | 2003-02-25 | ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6849114B2 (ja) |
EP (1) | EP1352878B1 (ja) |
JP (1) | JP4038137B2 (ja) |
KR (1) | KR100513914B1 (ja) |
AT (1) | ATE427283T1 (ja) |
DE (2) | DE10208371A1 (ja) |
TW (1) | TWI263626B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019172562A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | パナソニック デバイスSunx株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10163939A1 (de) * | 2001-12-22 | 2003-07-10 | Degussa | Schicht erhalten aus einer wässerigen Dispersion enthaltend flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver |
US20030226377A1 (en) * | 2002-03-05 | 2003-12-11 | Barrett W. Tim | Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements |
DE102004001520A1 (de) * | 2004-01-10 | 2005-08-04 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver |
DE102004003450A1 (de) * | 2004-01-22 | 2005-08-18 | Universität des Saarlandes | Verfahren zur Herstellung dotierter oder undotierter Gläser aus Glaspulvern |
DE102004024808B4 (de) * | 2004-05-17 | 2006-11-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil zur Übertragung extrem kurzwelliger ultravioletter Strahlung |
DE102004024500A1 (de) * | 2004-05-18 | 2005-12-15 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver |
US20060179879A1 (en) * | 2004-12-29 | 2006-08-17 | Ellison Adam J G | Adjusting expansivity in doped silica glasses |
EP1858642A2 (en) | 2005-02-17 | 2007-11-28 | Monsanto Technology, LLC | Transition metal-containing catalysts and catalyst combinations including transition metal-containing catalysts and processes for their preparation and use as oxidation catalysts |
EP1752215A1 (de) * | 2005-08-09 | 2007-02-14 | Degussa GmbH | Photokatalysator |
BRPI0708081A2 (pt) * | 2006-02-17 | 2011-05-17 | Monsanto Technology Llc | catalisadores contendo metal de transição e processos para a sua preparação e uso como catalisadores de pilha termoelétrica |
US8053382B2 (en) * | 2007-10-02 | 2011-11-08 | Hitachi, Ltd. | Optical glass |
WO2010139363A1 (de) * | 2009-06-04 | 2010-12-09 | Schurter Ag | Oberflächenbehandlung eines schmelzleiters |
JP5737070B2 (ja) | 2010-09-02 | 2015-06-17 | 信越化学工業株式会社 | チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法 |
WO2013029252A1 (en) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Dow Global Technologies Llc | Solar reflectance coating |
EP3000791B1 (de) * | 2014-09-24 | 2017-04-26 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Fluor- und Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für den Einsatz in der EUV-Lithographie und danach hergestellter Rohling |
JP6881776B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2021-06-02 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 不透明石英ガラス体の調製 |
JP7341220B2 (ja) | 2018-08-02 | 2023-09-08 | コーニング インコーポレイテッド | スートを捕捉する方法 |
WO2020250813A1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 株式会社トクヤマ | 非晶質シリカチタニア複合酸化物粉末、樹脂組成物、分散液、及びシリカ被覆シリカチタニア複合酸化物粉末の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2305659A (en) | 1940-03-13 | 1942-12-22 | Western Electric Co | Magnetic charging apparatus |
US3960855A (en) * | 1972-05-03 | 1976-06-01 | Smithkline Corporation | Substituted sulfonylacetamido cephalosporins |
US4278632A (en) * | 1980-02-08 | 1981-07-14 | Westinghouse Electric Corp. | Method of conforming clear vitreous gal of silica-titania material |
US4786618A (en) * | 1987-05-29 | 1988-11-22 | Corning Glass Works | Sol-gel method for making ultra-low expansion glass |
US5180411A (en) * | 1989-12-22 | 1993-01-19 | Corning Incorporated | Optical waveguide fiber with titania-silica outer cladding and method of manufacturing |
DE4235996A1 (de) * | 1992-10-24 | 1994-04-28 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes Titandioxid-Mischoxid, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung |
DE19650500A1 (de) | 1996-12-05 | 1998-06-10 | Degussa | Dotierte, pyrogen hergestellte Oxide |
US5970751A (en) * | 1998-09-22 | 1999-10-26 | Corning Incorporated | Fused SiO2 -TiO2 glass method |
US6420980B1 (en) | 1998-10-06 | 2002-07-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lossless compression encoding method and device, and lossless compression decoding method and device |
WO2000048775A2 (en) * | 1999-02-18 | 2000-08-24 | Corning Incorporated | Titanium-containing silica glass honeycomb structure from silica soot extrusion |
EP1284277B1 (de) * | 2001-08-08 | 2004-10-20 | Degussa Aktiengesellschaft | Mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloxidpartikel |
DE10163938A1 (de) | 2001-12-22 | 2003-07-10 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver mit an der Oberfläche angereichertem Siliciumdioxid, dessen Herstellung und Verwendung |
-
2002
- 2002-02-27 DE DE10208371A patent/DE10208371A1/de not_active Ceased
- 2002-12-20 AT AT02028579T patent/ATE427283T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-12-20 DE DE50213411T patent/DE50213411D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-20 EP EP02028579A patent/EP1352878B1/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-02-21 TW TW092103694A patent/TWI263626B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-02-25 JP JP2003047941A patent/JP4038137B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-25 US US10/372,411 patent/US6849114B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-02-26 KR KR10-2003-0012048A patent/KR100513914B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019172562A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | パナソニック デバイスSunx株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
JP7213110B2 (ja) | 2018-03-29 | 2023-01-26 | パナソニック デバイスSunx株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI263626B (en) | 2006-10-11 |
KR20030071529A (ko) | 2003-09-03 |
EP1352878A3 (de) | 2004-02-04 |
JP4038137B2 (ja) | 2008-01-23 |
TW200304435A (en) | 2003-10-01 |
ATE427283T1 (de) | 2009-04-15 |
US20030232149A1 (en) | 2003-12-18 |
US6849114B2 (en) | 2005-02-01 |
EP1352878A2 (de) | 2003-10-15 |
DE10208371A1 (de) | 2003-09-11 |
KR100513914B1 (ko) | 2005-09-13 |
DE50213411D1 (de) | 2009-05-14 |
EP1352878B1 (de) | 2009-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4038137B2 (ja) | ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用 | |
KR100716483B1 (ko) | 석영유리 도가니 및 그의 제조 방법 | |
US6380110B1 (en) | Process for making opaque quartz, for carrying out the process suitable SiO2 granulate, and component of opaque quartz glass | |
JP4903288B2 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
CN1012641B (zh) | 制造具有高纯石英玻璃体的制品的方法和用该方法生产的制品 | |
WO2006094878A1 (en) | Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles | |
WO1988003914A1 (en) | Vitreous silica | |
US5604163A (en) | Synthetic silica glass powder | |
US6796143B2 (en) | Process for producing SiO2-TiO2 glasses having a low coefficient of thermal expansion | |
EP1700829A1 (en) | Process for the production of glass-monoliths by means of the sol-gel process | |
JP3092675B2 (ja) | オキシナイトライドガラス及びその製造方法 | |
JPH0940434A (ja) | 高純度石英ガラス及びその製造方法 | |
JP2001220126A (ja) | 結晶質合成シリカ粉体及びこれを用いたガラス成形体 | |
JP4027625B2 (ja) | 低い熱膨張率を有するSiO2−TiO2ガラスの製造方法およびそのガラス | |
JPH0912322A (ja) | 高純度透明石英ガラス及びその製造方法 | |
JPH0517172B2 (ja) | ||
US6988378B1 (en) | Light weight porous structure | |
KR100775777B1 (ko) | 다성분 유리 | |
JP4297578B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
JP2007238419A (ja) | 不透明焼結体 | |
JP2611684B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS62119132A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JP2004018317A (ja) | 透明合成石英ガラスの製造方法 | |
JP2022052419A (ja) | 透明ガラスの製造方法 | |
JPS583981B2 (ja) | 非多孔質の溶融ガラス物体を製造する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070403 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071018 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071102 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4038137 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131109 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |