JP2003246155A - 熱融着性により画像形成がなされる画像形成材料、平版印刷版材料及び平版印刷版の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像形成層塗膜強度、現像性、耐刷性（画像
形成層画像強度）、印刷機の非汚染性が優れ、安定した
湿し水供給ができ、結果として安定した印刷品質を得る
ことの出来る画像形成材料と平版印刷版材料及びそれを
用いた平版印刷版の作製方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に、ポリマー粒子を含有する画
像形成層を有し、該ポリマー粒子の少なくとも１種が熱
融着性ポリマー粒子であり、その熱融着性により画像形
成がなされる画像形成材料において、該熱融着性ポリマ
ー粒子が、ソープフリー重合法により重合して得られる
ポリマーラテックスであることを特徴とする画像形成材
料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷用の画像形成
材料と平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作
製方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の印刷工程は原稿画像からネガもし
くはポジフィルムを作製し、フィルムを介して、アルミ
砂目支持体上に感光層を有する平版印刷版材料に画像を
露光し、アルカリ性現像液で現像処理を行うことで平版
印刷版を作製し、これを印刷機に取り付け印刷を行って
いた。

【０００３】近年、コンピューターの普及に伴い、フィ
ルムなどを介さずに原稿画像の電子データを直接印刷版
に描画するコンピューター・ツー・プレート（以下、Ｃ
ＴＰともいう）技術が普及しつつあり、フィルム作製に
要していた時間短縮、コスト削減が可能となってきてい
る。これらの技術に必要な平版印刷版材料としては、ア
ルミ砂目支持体上に光重合性感光層を有するものや、銀
塩を利用したものなどがあるが、これらの材料は画像形
成のためアルカリ性現像液を使用する。

【０００４】又、ＣＴＰ普及と同期して、印刷現場の作
業環境もオフィス化が進み、また環境適性の面からもア
ルカリ現像を要しない平版印刷版材料が望まれるように
なり、更には全く現像処理を必要としない平版印刷版材
料が望まれるようになってきた。

【０００５】特開平９−１２３３８７号、同９−１２３
３８８号、同９−１３１８５０号、同９−１７１２４９
号、同９−１２７６８３号の各公報には、印刷用親水性
支持体上に親水性結着剤に分散された疎水性熱可塑性重
合体粒子を含有する層を有する平版印刷版材料と、その
作製方法が開示されている。

【０００６】これらの平版印刷版材料では、画像形成層
の画像部は疎水性熱可塑性重合体粒子の熱融着により形
成され、一方非画像部は分散された疎水性熱可塑性重合
体粒子が親水性結着剤と共に水で除去されることにより
形成されるので、水現像処理可能な平版印刷版材料が提
供できる。しかし画像部には、親水性結着剤が混在して
いるため、画像部の強度、耐刷力が劣化し問題であっ
た。本発明者等は種々検討した結果、親水性結着剤製造
時に用いた界面活性剤を狭雑含有する親水性結着剤が混
在していると、画像部の強度、耐刷力が特に著しく劣化
することを見出した。

【０００７】さらに画像描画後、印刷機のシリンダー上
で、印刷用インキ及び／又は湿し水の存在下で現像処理
が可能なので、実質的に現像処理機を必要としない刷版
の作製が可能ではあるが、現像終了までにかなりの時間
を要する。又、現像時の生成物が印刷機の湿し水に流れ
込むため、湿し水供給の経路の汚染が激しく、安定した
湿し水供給ができなくなり、結果として安定した印刷品
質が得られないという問題があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、画像形成
層塗膜強度、現像性、耐刷性（画像形成層画像強度）、
印刷機の非汚染性が優れ、安定した湿し水供給ができ、
結果として安定した印刷品質を得ることの出来る画像形
成材料と平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の
作製方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。

【００１０】１．支持体上に、ポリマー粒子を含有する
画像形成層を有し、該ポリマー粒子の少なくとも１種が
熱融着性ポリマー粒子であり、その熱融着性により画像
形成がなされる画像形成材料において、該熱融着性ポリ
マー粒子が、ソープフリー重合法により重合して得られ
るポリマーラテックスであることを特徴とする画像形成
材料。

【００１１】２．支持体上に、ポリマー粒子を含有する
画像形成層を有し、該ポリマー粒子の少なくとも１種が
熱融着性ポリマー粒子であり、その熱融着性により画像
形成がなされる画像形成材料において、該熱融着性ポリ
マー粒子が、分子内にラジカル重合性不飽和基を有する
界面活性剤の存在下に乳化重合して得られるポリマーラ
テックスであることを特徴とする画像形成材料。

【００１２】３．前記１又は２記載の画像形成材料が光
を吸収して熱に変換する材料を含有することを特徴とす
る画像形成材料。

【００１３】４．前記１〜３の何れか１項記載の画像形
成材料の支持体が印刷用親水性支持体であることを特徴
とする平版印刷版材料。

【００１４】５．前記４記載の平版印刷版材料を印刷機
のシリンダーに固定し、印刷用インクおよび湿し水から
選ばれる少なくとも１種の存在下で現像処理することを
特徴とする平版印刷版の作製方法。

【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
画像形成層にはポリマー粒子の他に、ワックス類、親水
性結着剤、光熱変換剤などを含有させてもよい。

【００１６】本発明の熱融着性ポリマー粒子について説
明する。本発明の熱融着性ポリマー粒子とは、熱により
融着し疎水性表面を形成するポリマー粒子を意味する。
本発明の熱融着性ポリマー粒子としては、ソープフリー
重合法により重合したポリマーラテックス、分子内にラ
ジカル重合性不飽和基を有する界面活性剤の存在下で乳
化重合して得られるポリマーラテックスが挙げられる。

【００１７】本発明で言うポリマーラテックスとは水不
溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水分散媒中に分
散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒
中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル
分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親
水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなど
いずれでもよい。

【００１８】分散粒子の平均粒径は特に限定しないが、
好ましくは１０〜５０００ｎｍ、より好ましくは５０〜
５００ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布
に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つもので
も単分散の粒径分布を持つものでもよい。

【００１９】本発明のポリマーラテックスに用いられる
ポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化
ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマーとし
ては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、ま
た架橋されたポリマーでも良い。またポリマーとしては
単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良
いし、２種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良
い。

【００２０】コポリマーの場合はランダムコポリマーで
もブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は特
に限定しないが、好ましくは数平均分子量で５，０００
〜１，０００，０００、より好ましくは１０，０００〜
１００，０００程度である。分子量が小さすぎるものは
塗膜の力学強度が不十分となる傾向があり、大きすぎる
ものは製膜性が悪くなる傾向にある。本発明に用いられ
るポリマーラテックスのポリマーは２５℃、６０％ＲＨ
での平衡含水率が２質量％以下が好ましく、１質量％以
下のものであることがより好ましい。平衡含水率の定義
と測定法については、例えば「高分子工学講座１４、高
分子材料試験法（高分子学会編、地人書館）」などを参
考にすることができる。

【００２１】コポリマーの場合のモノマー種類として
は、（メタ）アクリル酸エステル単量体、分子内にカル
ボキシル基を有するα，β−エチレン性不飽和単量体、
分子内にグリシジル基を有するα，β−エチレン性不飽
和単量体、分子内にアルコキシシラン基を有するα，β
−エチレン性不飽和単量体、分子内にリン酸基を有する
α，β−エチレン性不飽和単量体、分子内に水酸基を有
するα，β−エチレン性不飽和単量体、分子内にアミド
基又は置換アミド基を有するα，β−エチレン性不飽和
単量体、分子内にアミノ基又は置換アミノ基を有する
α，β−エチレン性不飽和単量体、芳香族モノビニル単
量体、シアン化ビニル単量体、ビニルエステル単量体等
が挙げられる。

【００２２】前記の（メタ）アクリル酸エステル単量体
としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルアクリレ
ート、ｎ−オクチルアクリレート、ｉ−オクチルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ノニル
アクリレート、ｉ−ノニルアクリレート、ｎ−デシルア
クリレート、ｎ−ドデシルアクリレート等のアクリル酸
の炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキルエステ
ル；例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート、ｎ−ドデシルメタクリレート等のメタ
クリル酸の炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル
エステル等を挙げることができる。

【００２３】前記の分子内にカルボキシル基を有する
α，β−エチレン性不飽和単量体としては、分子内に１
つ又は２つ以上のカルボン酸を含むものであり、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコ
ン酸、桂皮酸等が好適に使用できる。

【００２４】前記の分子内にグリシジル基を有するα，
β−エチレン性不飽和単量体としては、例えば、グリシ
ジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチル（メタ）アクレート、グリシジルビニルエ
ーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルビニルエーテ
ル、グリシジル（メタ）アリルエーテル、３，４−エポ
キシシクロヘキシル（メタ）アリルエーテルなどが挙げ
られる。

【００２５】前記の分子内にアルコキシシラン基を有す
るα，β−エチレン性不飽和単量体としては、加水分解
型のものが好適であり、例えば、ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（メト
キシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、
３−メタクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリクロロシラン、３−メタクリロオキシプロピル
トリス（メトオキシ−エトオキシ）シラン等が挙げられ
る。

【００２６】前記の分子内にリン酸基を有するα，β−
エチレン性不飽和単量体としては、例えば、リン酸モノ
ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、リン酸ジヒド
ロキシメチルジ（メタ）アクリレート、リン酸モノヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、リン酸ジヒドロキ
シエチルジ（メタ）アクリレート、リン酸ジ３−ヒドロ
キシプロピルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００２７】前記の分子内に水酸基を有するα，β−エ
チレン性不飽和単量体としては、例えば、２−ヒドロキ
シルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシルプ
ロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシルプロピ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシルブチル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシルブチル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシルブチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アリルエーテ
ル、２−ヒドロキシルプロピル（メタ）アリルエーテ
ル、３−ヒドロキシルプロピル（メタ）アリルエーテ
ル、４−ヒドロキシルブチル（メタ）アリルエーテル、
アリルアルコール等が挙げられる。

【００２８】前記の分子内にアミド基又は置換アミド基
を有するα，β−エチレン性不飽和単量体としては、例
えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチル
アミノプロピルメタクリルアミド等が挙げられる。

【００２９】前記の分子内にアミノ基又は置換アミノ基
を有するα，β−エチレン性不飽和単量体としては、例
えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。

【００３０】前記の芳香族モノビニル単量体としては、
スチレン、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、
ｐ−クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルト
ルエン等が挙げられる。

【００３１】前記のシアン化ビニル単量体としては、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。

【００３２】前記のビニルエステル単量体としては、蟻
酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げら
れる。

【００３３】また、本発明のポリマーラテックスに使用
し得る重合開始剤としては、過硫酸カリウム、過硫酸ナ
トリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、４，４′
−アゾビス−４−シアノバレイックアミド、２，２′−
アゾビス（２−メチルアミドオキシム）ジハイドロクロ
ライド等を挙げることが出来る。

【００３４】本発明のポリマーラテックスの重合系にお
いて、重合開始剤の濃度は使用全モノマーに対して、
０．１５〜０．４５モル％使用するのが好ましい。重合
開始剤の濃度は、出来上がりのポリマーの分子量（また
は重合度）の大きさに関係し、添加量が少ないと大きな
分子量のポリマーが得られるが、残存モノマー量が増加
し、また添加量が多いと小さい分子量のポリマーしか得
られず、被膜を形成した場合に、低い膜強度の塗膜しか
得られない。

【００３５】本発明のポリマーラテックスの重合系にお
いて、溶媒中に総添加モノマー成分の５質量％〜２０質
量％のモノマー成分をプレモノマーとして添加後、重合
開始剤、モノマーを添加すると、安定に重合が進行し、
粘度の経時安定性が向上する。さらに、凝集物の生成を
低減することができ、収率を上げることができる。また
残存モノマー量も低減されるため作業環境上好ましい。

【００３６】重合開始温度は、３０℃〜９０℃が好まし
いが、より好ましくは５０〜９０℃である。

【００３７】本発明での重合開始温度とは、重合開始剤
を添加したときの液温を指す。本発明のソープフリー重
合法により重合して得られるポリマーラテックスについ
て説明する。

【００３８】通常のポリマーラテックスは、高分子合成
により製造される。その合成過程は油溶性単量体を通常
の乳化剤の存在下に乳化重合する方法が採用されてお
り、このような乳化剤としては主にアニオン系界面活性
剤やノニオン系界面活性剤が使用されることが多いが、
これらの界面活性剤は得られる乳化重合物から形成され
る被膜中に残留し、被膜の性質に悪影響を及ぼす。本発
明においては、これらの画像形成材料に本来必要でない
界面活性剤を存在させないことを目的として、ソープフ
リー重合法により合成されたポリマーラテックスを使用
する。

【００３９】本発明におけるソープフリー重合法とは、
界面活性剤を用いずに、好ましくは硫酸根を有するラジ
カル生成重合開始剤だけで油溶性単量体を乳化重合して
乳化重合物を得る方法である。

【００４０】以下に、本発明のソープフリー重合法によ
り重合して得られるポリマーラテックスの合成例を挙げ
るが、本発明はこれらに限定されない。 （本発明のポリマーラテックスＡＬＸ１の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加え
て内温が７０℃となるまで加熱した。プレ重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．１ｇを添加し、モノマーと
してスチレン８０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２０ｇを
混合し、その内１０ｇ（モノマー全体の１０質量％）を
滴下した。２０分後、重合開始剤として過硫酸アンモニ
ウム０．６ｇを添加し、次いで残りのモノマー９０ｇ
（モノマー全体の９０質量％）を約２．５時間かけて滴
下ロートで滴下した。滴下終了から２時間後、後添加重
合開始剤として過硫酸アンモニウムを０．１ｇ添加し、
その後２．５時間反応を続けた。その後冷却しアンモニ
ア水でｐＨ６に調整し疎水性ポリマー粒子を含有するポ
リマーラテックスを得た。得られたポリマーラテックス
は凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別して、目的
とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＡＬＸ２の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加え
て内温が７０℃となるまで加熱した。プレ重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．１ｇを添加し、モノマーと
してスチレン５０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０ｇ、
グリシジルメタクリレート５ｇ、メタクリル酸５ｇを混
合し、その内１０ｇ（モノマー全体の１０質量％）を滴
下した。２０分後、重合開始剤として過硫酸アンモニウ
ム０．６ｇを添加し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モ
ノマー全体の９０質量％）を約２．５時間かけて滴下ロ
ートで滴下した。滴下終了から２時間後、後添加重合開
始剤として過硫酸アンモニウムを０．１ｇ添加し、その
後２．５時間反応を続けた。その後冷却しアンモニア水
でｐＨ６に調整し疎水性ポリマー粒子を含有するポリマ
ーラテックスを得た。得られたポリマーラテックスは凝
集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別して、目的とす
るポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＡＬＸ３の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加え
て内温が７０℃となるまで加熱した。プレ重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．１ｇを添加し、モノマーと
してスチレン６５ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２０ｇ、
グリシジルメタクリレート５ｇ、ビニルトリエトキシシ
ラン１０ｇを混合し、その内１０ｇ（モノマー全体の１
０質量％）を滴下した。２０分後、重合開始剤として過
硫酸アンモニウム０．６ｇを添加し、次いで残りのモノ
マー９０ｇ（モノマー全体の９０質量％）を約２．５時
間かけて滴下ロートで滴下した。滴下終了から２時間
後、後添加重合開始剤として過硫酸アンモニウムを０．
１ｇ添加し、その後２．５時間反応を続けた。その後冷
却しアンモニア水でｐＨ６に調整し疎水性ポリマー粒子
を含有するポリマーラテックスを得た。得られたポリマ
ーラテックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾
別して、目的とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＡＬＸ４の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加え
て内温が７０℃となるまで加熱した。プレ重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．１ｇを添加し、モノマーと
してスチレン５０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０ｇ、
グリシジルメタクリレート５ｇ、ヒドロキシエチルメタ
クリレート５ｇを混合し、その内１０ｇ（モノマー全体
の１０質量％）を滴下した。２０分後、重合開始剤とし
て過硫酸アンモニウム０．６ｇを添加し、次いで残りの
モノマー９０ｇ（モノマー全体の９０質量％）を約２．
５時間かけて滴下ロートで滴下した。滴下終了から２時
間後、後添加重合開始剤として過硫酸アンモニウムを
０．１ｇ添加し、その後２．５時間反応を続けた。その
後冷却しアンモニア水でｐＨ６に調整し疎水性ポリマー
粒子を含有するポリマーラテックスを得た。得られたポ
リマーラテックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼ
で濾別して、目的とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＡＬＸ５の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加え
て内温が７０℃となるまで加熱した。プレ重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．１ｇを添加し、モノマーと
してスチレン５０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０ｇ、
グリシジルメタクリレート５ｇ、アクリルアミド５ｇを
混合し、その内１０ｇ（モノマー全体の１０質量％）を
滴下した。２０分後、重合開始剤として過硫酸アンモニ
ウム０．６ｇを添加し、次いで残りのモノマー９０ｇ
（モノマー全体の９０質量％）を約２．５時間かけて滴
下ロートで滴下した。滴下終了から２時間後、後添加重
合開始剤として過硫酸アンモニウムを０．１ｇ添加し、
その後２．５時間反応を続けた。その後冷却しアンモニ
ア水でｐＨ６に調整し疎水性ポリマー粒子を含有するポ
リマーラテックスを得た。得られたポリマーラテックス
は凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別して、目的
とするポリマーラテックスを得た。 （比較のポリマーラテックスＨＬＸ１の合成）１０００
ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度計、
滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガス
を導入し脱酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加えて内
温が７０℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウムを１．０ｇ添加した後、
モノマーとしてスチレン８０ｇ、ｎ−ブチルアクリレー
ト２０ｇを混合し、その内１０ｇ（モノマー全体の１０
質量％）を１０分かけて滴下した。さらに開始剤として
過硫酸アンモニウム１．０ｇを添加し、次いで残りのモ
ノマー９０ｇ（モノマー全体の９０質量％）を滴下ロー
トで約１．５時間かけて滴下した。滴下終了後４時間そ
のまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応モノマーを
除去する。その後冷却しアンモニア水でｐＨ６に調整し
疎水性ポリマー粒子を含有するポリマーラテックスを得
た。得られたポリマーラテックスは凝集物を除くため、
４枚重ねガーゼで濾別して、比較のポリマーラテックス
ＨＬＸ１を得た。

【００４１】次に、本発明の分子内にラジカル重合性不
飽和基を有する界面活性剤（以下、反応性界面活性剤と
もいう）の存在下で乳化重合して得られるポリマーラテ
ックスについて説明する。

【００４２】本発明で用いられる反応性界面活性剤とし
ては、アニオン系の反応性界面活性剤であり、例えば
（メタ）アリル基、（メタ）アクリル基、スチリル基な
どの分子内にラジカル重合性不飽和基を有する界面活性
剤が単独で又は２種以上組合わせて使用できる。

【００４３】上記アニオン系の反応性界面活性剤の具体
例としては、例えば「アデカリアソープＳＥ−１０
Ｎ」、「アデカリアソープＳＥ−２０Ｎ」、「アデカリ
アソープＳＥ−３０Ｎ」〔以上、旭電化工業（株）
製〕、「アクアロンＨＳ−０５」、「アクアロンＨＳ−
１０」、「アクアロンＨＳ−２０」、「アクアロンＨＳ
−３０」〔以上、第一工業製薬（株）製〕、「ラテムル
Ｓ−１２０」、「ラテムルＳ−１２０Ａ」、「ラテムル
Ｓ−１８０」、「ラテムルＳ−１８０Ａ」〔以上、花王
（株）製〕、「エレミノールＪＳ−２」〔三洋化成工業
（株）製〕、「アントックスＭＳ−６０」〔日本界面活
性剤（株）製〕、「ラテムルＡＳＫ」〔花王（株）製〕
等のアルキルアルケニルコハク酸エステル塩系反応性界
面活性剤、「エレミノールＲＳ−３０」〔三洋化成工業
（株）製〕等のポリオキシアルキレン（メタ）アクリレ
ート硫酸エステル塩系反応性界面活性剤、「ＲＡ−１１
２０」、「ＲＡ−２６１４」〔以上、日本乳化剤（株）
製〕等のポリオキシアルキレンアルキルエーテル脂肪族
不飽和ジカルボン酸エステル塩系反応性界面活性剤、
「アントックスＭＳ−２Ｎ」〔日本乳化剤（株）製〕等
の（メタ）アクリル酸スルホアルキルエステル塩系反応
性界面活性剤、フタル酸ジヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート硫酸エステル塩系反応性界面活性剤、「Ｈ
−３３３０ＰＬ」〔第一工業製薬（株）製〕等のモノも
しくはジ（グリセロール−１−アルキルフェニル−３−
アリル−２−ポリオキシアルキレンエーテル）リン酸エ
ステル塩系反応性界面活性剤などを挙げることができ
る。

【００４４】本発明においては、ノニオン系反応性界面
活性剤を併用することも可能であり、例えば、下記一般
式（１）または（２）で表される反応性界面活性剤を挙
げることができる。

【００４５】

【化１】

【００４６】一般式（１）または（２）中、Ｒ¹は炭素
数６〜１８のアルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を表し、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ、水素原
子またはメチル基を表し、ＥＯは−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−を表
し、Ｘ¹は単結合またはメチレン基を表し、ｍは１〜５
０の整数を表す。

【００４７】上記一般式（１）で表されるノニオン系反
応性界面活性剤の具体例としては、例えば「アデカリア
ソープＮＥ−１０」、「アデカリアソープＮＥ−２
０」、「アデカリアソープＮＥ−３０」〔以上、旭電化
工業（株）製〕等を挙げることができる。また、上記一
般式（２）で表されるノニオン系反応性界面活性剤の具
体例としては、例えば「アクアロンＲＮ−１０」、「ア
クアロンＲＮ−２０」、「アクアロンＲＮ−３０」、
「アクアロンＲＮ−５０」〔以上、第一工業製薬（株）
製〕等を挙げることができる。またその他のノニオン系
反応性界面活性剤としては、例えば「ＲＭＡ−５６
４」、「ＲＭＡ−５６８」〔以上、日本乳化剤（株）
製〕等のポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテ
ル（メタ）アクリレート系反応性界面活性剤；例えば、
「ＲＭＡ−１１１４」〔日本乳化剤（株）製〕等のポリ
オキシアルキレンアルキルフェニルエーテル（メタ）ア
クリレート系反応性界面活性剤；などを挙げることがで
きる。

【００４８】これら反応性界面活性剤の使用量は特に限
定はしないが、本発明のポリマーラテックスを構成する
単量体の合計１００質量部当り、好ましくは０．１〜３
０質量部、より好ましくは２〜２０質量部の範囲で用い
る。

【００４９】本発明のポリマーラテックスを乳化重合し
て合成するに際しては、得られる共重合体水性分散液の
性能に悪影響を及ぼさない範囲において、以上述べた反
応性界面活性剤とともに必要に応じて、通常のアニオン
系及び／又はノニオン系界面活性剤を併用することがで
きる。

【００５０】上記通常のノニオン系界面活性剤類として
特に限定はしないが、例えばポリオキシエチレンラウリ
ルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等
のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；例えば、ポ
リオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類；例えば、ソルビタン
モノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビ
タントリオレエート等のソルビタン高級脂肪酸エステル
類；例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレ
ート等のポリオキシエチレンソルビタン高級脂肪酸エス
テル類；例えば、ポリオキシエチレンモノラウレート、
ポリオキシエチレンモノステアレート等のポリオキシエ
チレン高級脂肪酸エステル類；例えば、オレイン酸モノ
グリセライド、ステアリン酸モノグリセライド等のグリ
セリン高級脂肪酸エステル類；例えば、ポリオキシエチ
レン−ポリオキシプロピレン−ブロックコポリマー；等
を例示することができる。

【００５１】また前記通常のアニオン系界面活性剤類と
しては、例えばオレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸塩
類；例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアルキルアリールスルホン酸塩類；例えば、ラウリル
硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル塩類；例え
ば、ポリエキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウ
ム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類；例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル硫酸エステル塩類；モノオクチルスル
ホコハク酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンラウリルスルホコハク酸ナ
トリウム等のアルキルスルホコハク酸エステル塩及びそ
の誘導体類；等を例示することができる。

【００５２】これら通常の界面活性剤を前記反応性界面
活性剤と併用する場合には、これら通常の界面活性剤を
適宜組合わせて使用するのがよく、その使用量としては
一般に本発明のポリマーラテックスを構成する前記単量
体の合計１００質量部当り０〜１質量部程度の量が好ま
しい。

【００５３】本発明のポリマーラテックスを乳化重合し
て合成するに際しては、得られる共重合体水性分散液の
性能に悪影響を及ぼさない範囲において、以上述べた反
応性界面活性剤及び必要に応じて用いる前記通常のアニ
オン系及び／又はノニオン系界面活性剤とともに水溶性
保護コロイドを併用することもできる。

【００５４】上記の水溶性保護コロイドとしては、例え
ば部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビ
ニルアルコール、変性ポリビニルアルコール等のポリビ
ニルアルコール類；例えば、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチル
セルロース塩等のセルロース誘導体；及びグアガムなど
の天然多糖類；などが挙げられ、これらは、単独でも複
数種併用の態様でも利用できる。水溶性保護コロイドの
使用量としては、本発明のポリマーラテックスを構成す
る前記単量体の合計１００質量部当り０〜０．５質量部
程度が好ましい。

【００５５】以下に、本発明の分子内にラジカル重合性
不飽和基を有する界面活性剤の存在下で乳化重合して得
られるポリマーラテックスの合成例を挙げるが、本発明
はこれらに限定されない。 （本発明のポリマーラテックスＢＬＸ１の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ、蒸留水３５０ｍｌを加
えて内温が７０℃となるまで加熱した。分散剤として本
発明に係わるアニオン系反応性界面活性剤エレミノール
ＪＳ−２を添加し、モノマーとしてスチレン８０ｇ、ｎ
−ブチルアクリレート２０ｇを混合し、その内１０ｇ
（モノマー全体の１０質量％）を滴下した。２０分後、
重合開始剤として過硫酸アンモニウム１．０ｇを添加
し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モノマー全体の９０
質量％）を、約１．５時間かけて滴下ロートで滴下し
た。滴下終了から２時間後、更に重合開始剤を０．１ｇ
添加し、その後２．５時間反応を続けた。その後冷却し
アンモニア水でｐＨ６に調整し、疎水性ポリマー粒子を
含有するポリマーラテックスを得た。得られたポリマー
ラテックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別
して、目的とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＢＬＸ２の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ、蒸留水３５０ｍｌを加
えて内温が７０℃となるまで加熱した。分散剤として本
発明に係わるアニオン系反応性界面活性剤エレミノール
ＪＳ−２を添加し、モノマーとしてスチレン６５ｇ、ｎ
−ブチルアクリレート２０ｇ、グリシジルメタクリレー
ト１０ｇ、メタクリル酸５ｇを混合し、その内１０ｇ
（モノマー全体の１０質量％）を滴下した。２０分後、
重合開始剤として過硫酸アンモニウム１．０ｇを添加
し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モノマー全体の９０
質量％）を約１．５時間かけて滴下ロートで滴下した。
滴下終了から２時間後、更に重合開始剤を０．１ｇ添加
し、その後２．５時間反応を続けた。その後冷却しアン
モニア水でｐＨ６に調整し、疎水性ポリマー粒子を含有
するポリマーラテックスを得た。得られたポリマーラテ
ックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別し
て、目的とするポリマーラテックスを得た。

【００５６】（本発明のポリマーラテックスＢＬＸ３の
合成）１０００ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹
拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を
施し、窒素ガスを導入し脱酸素を行いつつ、蒸留水３５
０ｍｌを加えて内温が７０℃となるまで加熱した。分散
剤として本発明に係わるアニオン系反応性界面活性剤エ
レミノールＲＳ−３０を添加し、モノマーとしてスチレ
ン４０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート６０ｇを混合し、そ
の内１０ｇ（モノマー全体の１０質量％）を滴下した。
２０分後、重合開始剤として過硫酸アンモニウム１．０
ｇを添加し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モノマー全
体の９０質量％）を約１．５時間かけて滴下ロートで滴
下した。滴下終了から２時間後、更に重合開始剤を０．
１ｇ添加し、その後２．５時間反応を続けた。その後冷
却しアンモニア水でｐＨ６に調整し、疎水性ポリマー粒
子を含有するポリマーラテックスを得た。得られたポリ
マーラテックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで
濾別して、目的とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＢＬＸ４の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ、蒸留水３５０ｍｌを加
えて内温が７０℃となるまで加熱した。分散剤として本
発明に係わるアニオン系反応性界面活性剤エレミノール
ＲＳ−３０を添加し、モノマーとしてスチレン５５ｇ、
ｎ−ブチルアクリレート３０ｇ、グリシジルメタクリレ
ート１０ｇ、メタクリル酸５ｇを混合し、その内１０ｇ
（モノマー全体の１０質量％）を滴下した。２０分後、
重合開始剤として過硫酸アンモニウム１．０ｇを添加
し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モノマー全体の９０
質量％）を約１．５時間かけて滴下ロートで滴下した。
滴下終了から２時間後、更に重合開始剤を０．１ｇ添加
し、その後２．５時間反応を続けた。その後冷却しアン
モニア水でｐＨ６に調整し、疎水性ポリマー粒子を含有
するポリマーラテックスを得た。得られたポリマーラテ
ックスは凝集物を除くため、４枚重ねガーゼで濾別し
て、目的とするポリマーラテックスを得た。 （本発明のポリマーラテックスＢＬＸ５の合成）１００
０ｍｌの四ツ口フラスコにフルゾーン翼撹拌機、温度
計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素
ガスを導入し脱酸素を行いつつ、蒸留水３５０ｍｌを加
えて内温が７０℃となるまで加熱した。分散剤として本
発明に係わるアニオン系反応性界面活性剤エレミノール
ＲＳ−３０を添加し、モノマーとしてスチレン６５ｇ、
ｎ−ブチルアクリレート２０ｇ、グリシジルメタクリレ
ート５ｇ、ビニルトリエトキシシラン１０ｇを混合し、
その内１０ｇ（モノマー全体の１０質量％）を滴下し
た。２０分後、重合開始剤として過硫酸アンモニウム
１．０ｇを添加し、次いで残りのモノマー９０ｇ（モノ
マー全体の９０質量％）を約１．５時間かけて滴下ロー
トで滴下した。滴下終了から２時間後、更に重合開始剤
を０．１ｇ添加し、その後２．５時間反応を続けた。そ
の後冷却しアンモニア水でｐＨ６に調整し、疎水性ポリ
マー粒子を含有するポリマーラテックスを得た。得られ
たポリマーラテックスは凝集物を除くため、４枚重ねガ
ーゼで濾別して、目的とするポリマーラテックスを得
た。

【００５７】本発明において、画像形成層中の本発明の
熱融着性ポリマー粒子の含有量は、画像形成を可能とす
るために、通常７０質量％以上、好ましくは９５質量％
以上である。画像形成層に本発明の熱融着性ポリマー粒
子を含有させることにより、適度な被膜形成性が付与さ
れ、擦過性などが向上し、画像形成材料の取り扱い性が
向上する。また低い温度で融着が可能であるため、少な
い露光エネルギーで画像形成ができることにも寄与す
る。

【００５８】又、画像形成層に本発明の熱融着性ポリマ
ー粒子を含有させることにより、画像部にハード成分を
付与することができ耐刷性を向上させることが可能とな
る。また非画像部においては、低温での融着を防ぎ、保
存時のかぶりを防止できる。

【００５９】本発明に利用可能なワックス類としてはカ
ルナウバワックス、蜜ろう、鯨ろう、木ろう、ホホバ
油、ラノリン、オゾケライト、パラフィンワックス、モ
ンタンワックス類、キャンデリンワックス、セレシンワ
ックス、マイクロクリスタリンワックス、ライスワック
スなどの天然ワックス、ポリエチレンワックス、フィッ
シャートロプシュワックス、モンタンワックス誘導体、
パラフィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワッ
クス誘導体、高級脂肪酸等が挙げられる。

【００６０】本発明において、画像形成層には被膜性を
向上させるために、親水性結着剤を少量含有させても良
い。親水性結着剤としては公知の親水性高分子が利用で
き、水溶性（コ）ポリマー、即ち、合成ホモポリマーも
しくはコポリマーが用いられる。例えばポリビニルアル
コール、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリ
ルアミド、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、ポリビニルメチルエーテル、又は天然結合剤、例え
ばゼラチン、多糖類、デキストラン、プルラン、セルロ
ース、アラビアゴム、アルギニン酸等が挙げられる。ま
た親水性結着剤は、フェノール性ヒドロキシ基及び／又
はカルボキシル基を有する水に不溶性、アルカリ溶解性
又は膨潤性樹脂であっても良い。

【００６１】本発明において、画像形成層における親水
性結着剤の含有量は、印刷機上の現像性を速めるため、
また印刷機の汚染を防止するために、画像形成層の被膜
形成を確保できる範囲で少ない方が好ましい。画像形成
層の構成成分の５質量％以下が好ましく、全く含有しな
いのがより好ましい。親水性結着剤の量が５質量％を越
えると、印刷機上現像性が遅く、また現像物中のポリマ
ー粒子が親水性結着剤と共に湿し水に混入やすくなる傾
向があり、そうなると印刷機、とりわけ湿し水供給部を
汚染してしまう。

【００６２】本発明において、画像形成層には、レーザ
ー記録するために、レーザー光を吸収して熱に変換する
光熱変換剤が含有されていても良い。光熱変換剤として
はカーボンブラック、チタンブラック、金属カーバイ
ド、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、青銅構造酸化物及
び構造的に青銅属に関連するがＡ成分がない酸化物、例
えばＷＯ_2.9、導電性ポリマー分散液、例えばポリピロ
ール又はポリアニリンに基づく導電性ポリマー分散液や
シアニン系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリ
ウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラ
キノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ
系、チオアミド系の有機金属錯体などが好適に用いられ
る。

【００６３】具体的には特開昭６３−１３９１９１号、
同６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、同
１−２８０７５０号、同１−２９３３４２号、同２−２
０７４号、同３−２６５９３号、同３−３０９９１号、
同３−３４８９１号、同３−３６０９３号、同３−３６
０９４号、同３−３６０９５号、同３−４２２８１号、
同３−９７５８９号、同３−１０３４７６号等に記載の
化合物が挙げられる。

【００６４】本発明の画像形成材料の支持体としては公
知のものが利用でき、例えばアルミニウム、ステンレ
ス、クロム、ニッケル等の金属板；ポリエステルフィル
ム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等
のプラスチックフィルム；紙、合成紙等；樹脂コーティ
ングした紙に前述の金属薄膜をラミネート又は蒸着した
もの；等が利用できる。

【００６５】これらの支持体には、レーザー記録をする
ために光熱変換機能を付与することができ、たとえば、
上記支持体上に、カーボンブラックや特開昭５２−２０
８４２号公報に記載の金、銀、アルミニウム、クロム、
ニッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン等の
メタルブラックの蒸着層、蒸着膜を形成する方法が挙げ
られる。またプラスチックフィルムの場合には、前述し
た光熱変換剤をフィルム成形前に練り混んでおく方法も
挙げられる。

【００６６】本発明の画像形成材料は支持体として印刷
用親水性支持体を用いることもできる。印刷用親水性支
持体としては表面を砂目立て、陽極酸化処理、封孔処理
を施したアルミニウム板が挙げられる。砂目立て処理の
方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチ
ングする方法が挙げられる。機械的方法としては、例え
ば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。

【００６７】アルミニウム材の組成等に応じて上述の各
種方法を単独もしくは組合せて用いることができる。好
ましいのは電解エッチングによる方法である。電解エッ
チングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸を単独な
いし２種以上混合した浴で行われる。砂目立て処理の
後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水溶液によって
デスマット処理を行い中和して水洗する。

【００６８】陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を一種または二種以
上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化被覆量は、通常１〜５
０ｍｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍ
ｇ／ｄｍ²である。封孔処理としては、沸騰水処理、水
蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理
等が具体例として挙げられる。

【００６９】この他にアルミニウム板支持体に対して、
水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の
水溶液による下引き処理を施すこともできる。親水性支
持体はその表面の水に対する接触角が６０度以下である
ことが好ましく、より好ましくは４０度以下である。

【００７０】親水性支持体の厚さは、通常５０〜１００
０μｍ、好ましくは７５〜５００μｍの範囲であるもの
を好適に使用することができる。

【００７１】感光層側の表面粗さがＲａ値で０．２〜
０．８μｍの範囲及び／又はＲｚ値で３．０〜６．０μ
ｍの範囲であるアルミニウム支持体を用いることが好ま
しい。封孔処理された親水性支持体には、珪酸ナトリウ
ムなどで親水化処理することができる。

【００７２】印刷用親水性支持体としては、上述した支
持体に親水性層を塗設することにより作製することもで
きる。親水性層としては、親水性結着剤を架橋すること
で層を形成したもの、金属酸化物微粒子など高親水性の
粒子を自己造膜させたものが挙げられる。

【００７３】親水性層を構成する親水性結着剤として
は、親水性（コ）ポリマー、例えば、ポリビニルアルコ
ール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メ
チロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル
酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマー又はコポリマーなどのア
クリル樹脂、あるいはマレイン酸／ビニルメチルエーテ
ルコポリマー、ポリエステル類、ポリウレタン類、セル
ロース類、ゼラチン等を用いることができる。

【００７４】親水性結着剤を架橋するための架橋剤とし
ては、たとえばメラミン樹脂、ホルムアルデヒド、グリ
オキサル、ポリイソシアナート、加水分解テトラ−アル
キルオルトシリケート等が利用できる。

【００７５】金属酸化物微粒子としては、コロイダルシ
リカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化
物のゾルが挙げられる。金属酸化物微粒子の形態として
は、球状、針状、羽毛状、その他のいずれの形態でも良
い。平均粒径としては３〜１００ｎｍであることが好ま
しく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用
することもできる。また、粒子表面に表面処理がなされ
ていても良い。上記のなかでも特にコロイダルシリカが
比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高く好まし
い。

【００７６】親水性層には、親水性、保水性を高めるた
め、また親水性層表面粗さを好適な範囲にするため、多
孔質無機粒子を含有していても良い。多孔質無機粒子と
しては、多孔質シリカまたは多孔質アルミノシリケート
粒子、あるいはゼオライト粒子が好ましい。又、多孔質
粒子は塗布層全体の３０〜９５質量％であることが好ま
しい。

【００７７】粒子の多孔性としては、分散前の状態で、
細孔容積で１．０ｍｌ／ｇ以上であることが好ましく、
１．２ｍｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．８
〜２．５ｍｌ／ｇであることが特に好ましい。

【００７８】多孔質無機粒子の粒径としては、親水性層
に含有されている状態で、実質的に１μｍ以下であるこ
とが好ましく、さらには０．５μｍ以下であることが好
ましい。１μｍより大きい粗大な多孔質無機粒子を除去
するために、親水性層塗布液を機械的に分散処理を行
い、粗大粒子を破砕してもよい。

【００７９】上記親水性層にはレーザー記録をするため
に光熱変換機能を付与することができ、前述した光熱変
換剤を含有させることができる。

【００８０】本発明の画像形成材料はサーマルヘッドに
より潜像付与が可能である。また、画像形成層及び／又
は支持体に光熱変換機能がある場合には、レーザー光線
による記録も可能である。レーザー光源としてはアルゴ
ンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー、ＹＡＧレーザ
ー、半導体レーザーなどが挙げられる。

【００８１】潜像が付与された画像形成材料は水やアル
カリ性の現像液などで現像処理が可能である。支持体と
して、親水性支持体を使用する場合、上記の現像処理方
法の他に、画像形成材料を印刷機のシリンダーに取り付
け、シリンダーを回転させながら印刷用インキ供給及び
／又は印刷用湿し水を供給することにより、印刷機上で
現像することが出来る。又、同様に印刷用インキ供給及
び／又は印刷用湿し水を供給しながらシリンダーを数回
回転させた後、印刷用紙を搬送することにより、現像物
を印刷用紙で除去する方法も採ることが出来る。更には
シリンダーに画像形成材料を取り付けた後、いきなり印
刷状態（シリンダー回転と同時に印刷用インキ供給、印
刷用湿し水供給及び紙の搬送を行う）にすることによ
り、印刷機上で現像することが出来る。

【００８２】

【実施例】次に本発明を実施例にて更に説明するが、本
発明の態様はこれに限定されるものではない。 ＜親水性支持体１の作製＞厚さ２００μｍのＰＥＴフィ
ルムに１５Ｗ／（ｍ²・ｍｉｎ）の条件でコロナ放電処
理を行った後、コロナ面に下記組成からなる下引層塗布
液をワイヤーバー＃９を用いて塗布し、１５０℃、１０
分間乾燥させ乾燥膜厚約３μｍからなる下引層を有する
支持体を得た。 −下引層組成− バイロン２００（線状ポリエステル樹脂；東洋紡績社製） ３．６質量部 コロネート３０４１（イソシアネート架橋剤、固型分５０％溶液；日本ポリウ レタン工業社製） １．０質量部 メチルエチルケトン ３６．５質量部 下記組成のものをガラスビーズを用いて１時間ミル分散
し、親水性層塗布液を得た。得られた塗布液をワイヤー
バー＃１０で上記下引層を有する支持体上に塗布し１０
０℃、１０分間乾燥させて、乾燥膜厚約３μｍからなる
親水性層を有する親水性支持体１を得た。 −親水性層組成− チタンブラック１３Ｍ（三菱マテリアル社製） １．６質量部 ＡＭＴシリカ（多孔質粒子、水澤化学工業社製） ６．４質量部 スノーテックＯＳ（コロイダルシリカ；固型分２０％、日産化学工業社製） １９．２質量部 Ｚ−１００（反応性ポリビニルアルコール；日本合成化学工業社製） ０．９質量部 スミレーズレジン６１３（メラミン樹脂；固型分８０％、住友化学工業社製） ０．１０質量部 ＡＣＸ−Ｐ（反応促進触媒；固型分３５％、住友化学工業社製） ０．０２質量部 スミコランダムＡＡ−５（アルミナ粒子、住友化学工業社製） ３．２質量部 純水 ４８．６質量部 ＜親水性支持体２の作製＞厚さ２００μｍのＰＥＴフィ
ルムに１５Ｗ／（ｍ²・ｍｉｎ）の条件でコロナ放電処
理を行った後、コロナ面に下記組成からなる下引層塗布
液をワイヤーバー＃９を用いて塗布し、１５０℃、１０
分間乾燥させ乾燥膜厚約３μｍからなる下引層を有する
支持体を得た。 −下引層組成− バイロン２００（線状ポリエステル樹脂；東洋紡績社製） ３．６質量部 コロネート３０４１（イソシアネート架橋剤、固型分５０％溶液；日本ポリウ レタン工業社製） １．０質量部 メチルエチルケトン ３６．５質量部 下記組成をガラスビーズを用いて１時間ミル分散し、親
水性層塗布液を得た。得られた塗布液を上記下引層を有
する支持体上にワイヤーバー＃１０で塗布し１００℃、
１０分間乾燥させて、乾燥膜厚約３μｍからなる親水性
層を有する親水性支持体２を得た。 −親水性層組成− ＡＭＴシリカ（多孔質粒子、水澤化学工業社製） ７．０質量部 スノーテックスＯＳ（コロイダルシリカ；固型分２０％、日産化学工業社製） ２２．４質量部 Ｚ−１００（反応性ポリビニルアルコール、日本合成化学工業社製） １．０質量部 スミレーズレジン６１３（メラミン樹脂；固型分８０％、住友化学工業社製） ０．１２質量部 ＡＣＸ−Ｐ（反応促進触媒；固型分３５％、住友化学工業社製） ０．０３質量部 スミコランダムＡＡ−５（アルミナ粒子、住友化学工業社製） ３．２質量部 純水 ４６．２質量部 ＜親水性支持体３の作製＞厚さ０．２４ｍｍのアルミニ
ウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれ
た５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間脱脂処
理を行なった後水洗した。この脱脂したアルミニウム板
を、２５℃に保たれた１０％塩酸水溶液中に１分間浸漬
して中和した後水洗した。

【００８３】次いで、このアルミニウム板を０．３質量
％の硝酸水溶液において、温度２５℃、電流密度１００
Ａ／ｄｍ²の条件で交流電流により６０秒間電解粗面化
を行なった後、６０℃に保たれた５％水酸化ナトリウム
水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行なった。

【００８４】デスマット処理を行なった粗面化アルミニ
ウム板を１５％硫酸溶液中で、温度２５℃、電流密度１
０Ａ／ｄｍ²、電圧１５Ｖの条件で１分間陽極酸化処理
を行ない、更に３％硅酸ソーダ、温度９０℃で封孔処理
を行なって親水性支持体３を作製した。珪酸処理後の支
持体上のＲａは０．４３μｍであった。 ＜平版印刷版材料試料Ｎｏ．１０１〜１１５の作製＞表
１記載のように、親水性支持体上に下記の各画像形成層
塗布液（メチルエチルケトン溶液）をワイヤーバー＃５
で塗布し、５０℃、３分間乾燥して積層し画像形成材料
の平版印刷版材料試料Ｎｏ．１０１〜１１５を作製し
た。画像形成層は乾燥質量で１．０ｇ／ｍ²であった。 −画像形成層塗布液− 乾燥質量 本発明ポリマー粒子（表１に記載） ０．７０ｇ／ｍ² ＫＬ０５（ケン化度約８０％のポリビニルアルコール；日本合成化学社製） ０．３０ｇ／ｍ² ＜評価方法＞ −画像形成層塗膜強度− 作製した平版印刷版材料の画像形成層塗膜強度を、指で
擦ることにより下記の様に目視で評価した。

【００８５】５…指の擦り跡が見られず、印刷に十分使
用できるレベル ４…指の擦り跡がわずかに見られるが、印刷には使用で
きるレベル ３…指の擦り跡があるが、印刷には使用できるレベル ２…指の擦り跡が多く見られ、印刷には使用できないレ
ベル １…指の擦り跡状に画像形成層の欠落があり、印刷には
使用できないレベル −現像性− 作製した平版印刷版材料に半導体レーザー（波長８３０
ｎｍ、出力１００ｍＷ）で画像露光を行った。レーザー
光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであっ
た。また解像度は走査方向、副走査方向とも２０００ｄ
ｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４０ｃｍ当たり
のドット数を表す）とした。

【００８６】画像描画した平版印刷版を現像処理するこ
となく印刷機（ハイデルＧＴＯ）のシリンダーに設置
し、エッチング液としてＳＥＵ−３（コニカ社製）の４
５倍水希釈液を用い、インキとしてハイエコー紅（東洋
インキ製造株式会社製）を用い、印刷を行った。

【００８７】得られた印刷物の非画像部反射濃度が０．
０５以下になった時点を現像終点として、印刷開始から
反射濃度が０．０５以下になるまでの印刷枚数を求め、
現像性の指標とした。 −耐刷性− 上記現像性の評価の場合と同様にして印刷を行い、得ら
れた印刷物の画像の１７５線相当の細線にカスレが生じ
るまでの印刷枚数を求め、耐刷性の指標とした。 −印刷機の非汚染性− 各平版印刷版材料を印刷機上で連続５回現像処理を行っ
た後、湿し水を供給するためのモルトンを２４時間放置
することにより乾燥させた。乾燥させたモルトンを再度
印刷機に設置し、ポジ型ＰＳ版ＶＳ（富士写真フィルム
工業社製）を用いて印刷を行い以下の基準にて評価し
た。

【００８８】○…吸水性は劣化せず、印刷初期から非画
像部の汚れが発生しないレベル △…印刷初期において吸水性は劣化していたが、時間と
共に元の吸水性に回復し、十分印刷に使えるレベル ×…吸水性がなく、印刷時に水供給できず使えないレベ
ル 結果を表１に示す。

【００８９】

【表１】

【００９０】表１から明らかなように、本発明のごと
く、１）ソープフリー重合法により重合して得られるポ
リマーラテックスを熱融着性ポリマー粒子として含む画
像形成層を有すること（本発明の請求項１の発明の構
成）、２）分子内にラジカル重合性不飽和基を有する界
面活性剤の存在下で乳化重合して得られるポリマーラテ
ックスを熱融着性ポリマー粒子として含む画像形成層を
有すること（本発明の請求項２の発明の構成）、更に
は、本発明の請求項３、４または５の発明の構成によ
り、画像形成層の塗膜強度、現像性、耐刷性（画像形成
層画像部強度）、印刷機の非汚染性が優れ、安定した湿
し水供給ができ、結果として安定した印刷品質を得るこ
との出来る画像形成材料と平版印刷版材料及びそれを用
いた平版印刷版の作製方法を提供できることがわかる。

【００９１】

【発明の効果】本発明により、画像形成層塗膜強度、現
像性、耐刷性（画像形成層画像部強度）、印刷機の非汚
染性が優れ、安定した湿し水供給ができ、結果として安
定した印刷品質を得ることの出来る画像形成材料と平版
印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提
供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平岡 三郎 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 CB60 CC11 CC20 DA36 FA10 2H096 AA06 BA01 BA20 EA04 EA23 2H111 HA14 HA18 HA23 HA35 2H114 AA04 AA14 AA22 AA23 AA24 AA27 BA02 BA05 BA10 DA41 DA75 EA01 EA03 EA04 EA08 GA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、ポリマー粒子を含有する画
   像形成層を有し、該ポリマー粒子の少なくとも１種が熱
   融着性ポリマー粒子であり、その熱融着性により画像形
   成がなされる画像形成材料において、該熱融着性ポリマ
   ー粒子が、ソープフリー重合法により重合して得られる
   ポリマーラテックスであることを特徴とする画像形成材
   料。
2. 【請求項２】 支持体上に、ポリマー粒子を含有する画
   像形成層を有し、該ポリマー粒子の少なくとも１種が熱
   融着性ポリマー粒子であり、その熱融着性により画像形
   成がなされる画像形成材料において、該熱融着性ポリマ
   ー粒子が、分子内にラジカル重合性不飽和基を有する界
   面活性剤の存在下に乳化重合して得られるポリマーラテ
   ックスであることを特徴とする画像形成材料。
3. 【請求項３】 前記請求項１又は２記載の画像形成材料
   が光を吸収して熱に変換する材料を含有することを特徴
   とする画像形成材料。
4. 【請求項４】 前記請求項１〜３の何れか１項記載の画
   像形成材料の支持体が印刷用親水性支持体であることを
   特徴とする平版印刷版材料。
5. 【請求項５】 前記請求項４記載の平版印刷版材料を印
   刷機のシリンダーに固定し、印刷用インクおよび湿し水
   から選ばれる少なくとも１種の存在下で現像処理するこ
   とを特徴とする平版印刷版の作製方法。