JP2003245596A - ディスプレイパネルのパターン形成方法及び形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスペンサーの加減速に合わせて、高い応
答性で流量を可変でき、ディスペンサーのノズル先端が
塗布領域から非塗布領域へ或いはその逆に移行する際の
流体の高速遮断・高速開放が随意にできるディスプレイ
パネルのパターン形成方法及び装置を提供する。 【解決手段】 ペースト層を形成する有効表示領域６０
ａと、有効表示領域の外側にペースト層を形成しない非
有効表示領域６０ｂを有する基板のうちの有効表示領域
をディスペンサーが相対的に走行しているときはペース
ト吐出し、非有効表示領域のときはペースト吐出を遮断
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＤＰ（Plasma D
isplay Panel）、液晶、有機ＥＬ（Electro‐Luminecen
ce）、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）等のディスプレイパ
ネルを製造する技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】以下、ディスプレイパネルに、蛍光体材
料或いは電極材等によるスクリーンストライプを形成す
る場合を例に挙げ、従来技術の課題について説明する。

【０００３】まず、最初に蛍光体材料の場合について、
説明する。

【０００４】カラー表示を行なうプラズマディスプレイ
パネル（以下ＰＤＰ）では、前面板／背面板にＲＧＢ各
色で発光する蛍光体材料から成る蛍光体層を有する。

【０００５】この蛍光体層は、前面板／背面板に平行線
状に形成された隔壁と隔壁の間（すなわちアドレス電極
上）に、ＲＧＢ各色の蛍光体材料を充填したストライプ
を３組形成し、そのストライプの３組を平行に隣接して
多数配列した構造となっている。この蛍光体層は、スク
リーン印刷方式、フォトリソグラフィ方式等によって形
成される。

【０００６】画面が大型化した場合、従来スクリーン印
刷方式では、スクリーン印刷版を精度良く位置合わせす
ることが難しく、蛍光体材料を充填しようとすると隔壁
の頂上部分にまで材料が載ってしまい、それを除去する
ために研磨行程を導入するなどの方策が必要であった。
また、スキージ圧力の違いによって、蛍光体材料の充填
量が変化し、その圧力調整は極めて微妙であり作業者の
熟練度に依存する部分が多い。そのため、前面板／背面
板の全面にわたって一定の充填量を得ることは容易では
ない。

【０００７】また、感光性の蛍光体材料を使用してフォ
トリソグラフィ方式によって蛍光体層を形成することも
できるが、露光と現像の行程が必要となり、スクリーン
印刷方式と比べて行程数が多くなるため、製造コストが
高くつくという課題があった。

【０００８】カラーブラウン管パネルの蛍光体スクリー
ンストライプは、露光台による写真現像方式で普通製造
される。この方式では、カラー三原色の、まず、１色に
係る蛍光体をパネル全面に塗布する。

【０００９】この塗布方法として、例えば、パネル内面
に蛍光体液を注入後、パネル本体を回転させ、蛍光体液
に遠心力を与えて、蛍光体材料をパネル全面に均一化す
る、いわゆる「振りきり工法」を用いる。

【００１０】次いで、蛍光体が全面に塗布された上記パ
ネルとマスクを合体し、露光台でこのカラー蛍光体のス
トライプ位置のみを露光させ、現像の化学処理を施して
露光域を残置し、残部マスク被覆域を除去する。次に、
カラー三原色の他の各色蛍光体について、同様に、マス
ク露光、現像の写真蝕刻行程を繰り返す。従って、写真
蝕刻行程を三度繰り返すことになる。

【００１１】蛍光体スクリーンストライプを形成する方
法として、他に、静電塗装方式も適用される。この方式
は、原理的には写真現像方式と同様であるが、ストライ
プカラー蛍光体として帯電材を使用し、ドライコーティ
ングによって塗布する点で相違する。

【００１２】上記両方式でブラウン管パネルの蛍光体ス
クリーンストライプを形成する場合、何れの方式の場合
でも、数多くの複雑な行程を経ねばならないため、大規
模の製造装置を必要とする。従って、多量生産に適する
が、多品種少量生産に対しては、効率が悪いという欠点
があった。

【００１３】スクリーンストライプを形成するための課
題、すなわち、ＰＤＰにおけるスクリーン印刷方式、及
びカラーブラウン管パネルにおける「振りきり工法→写
真現像方式」に係る前述した課題を解決するために、デ
ィスペンサーを用いた直接描画方式（ダイレクトパター
ニング）が既に提案されている。

【００１４】図２３は、特許文献１に開示されているも
ので、ＰＤＰを対象とした蛍光体層形成装置及び形成方
法を示すものである。

【００１５】４５０は基板、４５１はこの基板４５０を
載置する載置台、４５２はペースト状の蛍光体を吐出す
るディスペンサー、４５３はディスペンサー４５２の吐
出ノズルである。

【００１６】この吐出ノズル４５３と載置台４５１を相
対的に移動させる搬送部を構成するために、載置台４５
１の両側には、１対のＹ軸方向搬送装置４５４ａ、４５
４ｂが設けられている。また、ディスペンサー４５２が
支持されるＸ軸方向搬送装置４５５が、上記Ｙ軸方向搬
送装置４５４ａ、４５４ｂによってＹ軸方向に移動可能
に搭載されている。さらに、Ｚ軸方向搬送装置４５６
が、上記Ｘ軸方向搬送装置４５５によってＸ軸方向に移
動可能に搭載されている。

【００１７】上記提案によれば、従来のスクリーンマス
クを用いることなく、基板仕様を数値設定するだけで基
板４５０上を移動するノズル４５３から蛍光体が吐出さ
れて基板４５０のリブ間の溝に塗布されるので、任意の
サイズの基板４５０に対して蛍光体層を精度よく形成す
ることができると共に、基板４５０の仕様変更に容易に
対応できる、としている。

【００１８】カラーブラウン管パネルを対象とした蛍光
体層形成装置についても、同様な提案が既に特許文献２
で開示されている。この提案によれば、製造行程及び製
造ラインとも規模を拡大させる必要がなく、単体の装置
でスクリーニングすることを可能にし、また、多品種少
量生産のブラウン管に対して量産効果を上げて製造さ
せ、さらに単体でスクリーニングするため自動化ライン
を小規模なマシンで稼動させる利点がある、としてい
る。

【００１９】ところで、ディスペンサーを用いてパネル
面に蛍光体スクリーンストライプを形成する場合でも、
スクリーン印刷方式と同等の生産タクトが要望される。

【００２０】しかし、塗布装置に配置できるディスペン
サーの本数には制約があり、千本〜数千本のスクリーン
ストライプをできるだけ短時間で描くためには、パネル
とノズル間の相対速度を十分に大きくとる必要がある。

【００２１】そのためには、ディスペンサー、或いはパ
ネルが搭載された搬送台を高精度かつ高速で往復動作さ
せる必要がある。

【００２２】ここで、パネル面は、蛍光体層を形成する
「有効表示領域」（図２の点線で囲まれた四角形の領域
６０ａ）と、この有効表示領域の外周部に配置されて、
蛍光体層を形成しない「非有効表示領域」（図２の四角
形の領域６０ａの外側の四角枠状領域６０ｂ）とを有す
るものとする。

【００２３】また、ディスペンサーは搬送台に搭載され
ているものとし、吐出ノズル１個の挙動に注目する。パ
ネル面の上記「有効表示領域」を連続塗布しながら高速
で走行したノズルは、パネルの端面に接近すると、減速
区間を経て速度を落とし、上記「非有効表示領域」に入
る。この非有効表示領域でＵターンした後、助走区間を
経て、再び、有効表示領域を定常走行する。

【００２４】すなわち、ノズルとパネル間の相対速度
は、Ｕターン区間の前後で大きく変化する。このとき、
ディスペンサーは次のような機能を有することが望まし
い。

【００２５】ノズルとパネル間の相対速度に合わせ
て、流量を可変できる。

【００２６】パネルの端面のＵターン区間（非有効表
示領域を走行する区間）では、吐出量が完全に遮断でき
る。

【００２７】上記Ｕターン区間を経て、塗布開始時の
塗布線の始点部には「細り」又は「切れ」などが発生し
ない。同様に、塗布終了時の塗布線の終点部には、「太
り」又は「溜まり」などが発生しない。

【００２８】上記が実現できない場合、例えば、ノズ
ルとパネル間の相対速度が定常走行の場合と比べて小さ
くなったにもかかわらず、吐出量を低減できなければ、
蛍光塗布線の線幅と厚みは所定のスペックを越えてしま
うことになる。

【００２９】生産タクトを上げる程、立上がり・立下り
時間を短く、かつ相対速度の変化率を大きくとらねばな
らない。すなわち、ディスペンサーには、より一層高い
流量制御のレスポンスが要求される。

【００３０】上記の必要性は次のようである。ノズル
がパネルの端面のＵターン区間（非有効表示領域）を走
行するとき、ノズルとパネル間の相対速度はゼロ及びそ
の前後の極めて低速状態となる。

【００３１】もし、この区間でノズルから材料の流出が
あれば、僅かな流量でも複数本のストライプが重なるた
め、材料がパネル上に堆積することになる。その結果、
堆積した材料が吐出ノズルの先端に附着する。この状態
で再び塗布を開始した場合、吐出ノズルの先端に附着し
た流体塊が不連続にパネル面に散逸し、描画線の精度を
著しく損ねるなどのトラブルが発生した。すなわち、パ
ネルの端面のＵターン区間では、ディスペンサーは吐出
量を完全に遮断できることが好ましい。

【００３２】上記は、ディスペンサー方式が従来方
式、例えばスクリーン印刷方式と同等、或いはそれ以上
の品質を確保するための必須条件である。

【００３３】以上要約すれば、ディスペンサーを用い
て、パネル面に蛍光体スクリーンストライプを高生産効
率で形成するためには、ディスペンサーには流体遮断・
開放が随意にできる機能を有すると共に、高い流量制御
の応答性と高い流量精度を持つのが望ましい。しかしデ
ィスペンサー方式の先行例である、例えば、特許文献
１、特許文献２には、この点の詳細な記載は見当たらな
い。

【００３４】さて、ディスペンサー（液体吐出装置）は
従来から様々な分野で用いられているが、近年の電子部
品の小形化・高記録密度化のニーズにともない、微少量
の流体材料を高精度でかつ安定して供給制御する技術が
要請される様になっている。従来、液体吐出装置とし
て、図２４に示す様なエアー方式によるディスペンサー
が広く用いられており、例えば非特許文献１等にその技
術が紹介されている。

【００３５】この方式によるディスペンサーは、定圧源
から供給される定量の空気を容器６００（シリンダ）内
にパルス的に印加させ、シリンダ内６０１の圧力の上昇
分に対応する一定量の液体をノズル６０２から吐出させ
るものである。

【００３６】

【特許文献１】特開平１０−２７５４３号公報

【特許文献２】特公昭５７−２１２２３号公報

【非特許文献１】「自動化技術‘９３．２５巻７号」

【００３７】

【発明が解決しようとする課題】このエアーの方式のデ
ィスペンサーは次の問題点があった。

【００３８】（１） 吐出圧脈動による吐出量のばらつ
き。

【００３９】（２） 水頭差による吐出量のばらつき。

【００４０】（３） 液体の粘度変化による吐出量変
化。

【００４１】上記（１）の現象は、タクトが短く吐出時
間が短い程顕著に表れる。そのため、エアーパルスの高
さを均一化するための安定化回路を施すなどの工夫がな
されている。

【００４２】上記（２）は、シリンダ内の空隙部６０１
の容積が液体残量Ｈによって異なるため、一定量の高圧
エアーを供給した場合、空隙部６０１内の圧力変化の度
合が、上記液体残量Ｈによって大きく変化してしまうと
いうのがその理由である。液体残量Ｈが低下すれば、塗
布量が、例えば、最大値と比べて５０〜６０％程度減少
してしまうという問題点があった。そのために、吐出毎
に液体残量Ｈを検知し、吐出量が均一になる様に、パル
スの時間幅を調整する等の方策がなされている。

【００４３】上記（３）は、例えば多量の溶剤を含んだ
材料の粘度が、時間とともに変化した場合に発生する。
そのための対策として、時間軸に対する粘度変化の傾向
をあらかじめコンピュータにプログラミングしておき、
粘度変化の影響を補正する様に、例えば、パルス幅を調
節する等の方策がなされていた。

【００４４】上記課題に対するいずれの方策も、コンピ
ュータを含む制御系が繁雑化し、また、不規則な環境条
件（温度等）の変化に対する対応は困難であり、抜本的
な解決案にはならなかった。

【００４５】エアー方式の上記課題に加えて、この方式
のディスペンサーは応答性が悪いという欠点があった。
この欠点は、シリンダ６００に封じ込められた空気の圧
縮性と、エアーを狭い隙間に通過させる際のノズル抵抗
よるものである。すなわち、エアー方式の場合、シリン
ダの容積：Ｃと、ノズル抵抗：Ｒとで決まる流体回路の
時定数：Ｔ＝ＲＣが大きく、入力パルスを印加後、吐出
開始に例えば０．０７〜０．１秒程度の時間遅れを見込
まねばならない。

【００４６】上記エアー方式の欠点を解消するために、
吐出ノズルの入口部にニードルバルブを設けて、このニ
ードルバルブを構成する細径のスプールを軸方向に高速
で移動させることにより、吐出口を開閉させるディスペ
ンサーが実用化されている。しかし、この場合、流体の
遮断時、相対移動する部材間の隙間はゼロとなり、数ミ
クロン〜数十ミクロンの平均粒径の粉体は機械的に圧搾
作用を受け破壊される。その結果発生する様々な不具合
のため、本発明の対象となる蛍光体等の塗布への適用は
困難な場合が多い。

【００４７】以上の理由から、従来ディスペンサーの構
造、或いは適用方法をそのまま導入しても、パネル面に
蛍光体スクリーンストライプを高生産効率で形成するた
めの条件を満足させるのは困難であった。

【００４８】以上、ディスプレイパネルに蛍光体材料に
よるスクリーンストライプを形成する場合を例に挙げ、
従来技術の課題について説明した。蛍光体スクリーンス
トライプ以外の材料、例えば電極材料などによるパター
ン形成の場合でも課題は同様である。

【００４９】そこで、本発明の目的は、ディスペンサー
に高速吐出遮断、高速吐出開放、流量制御の機能を与え
ることにより、ディスプレイパネル面に蛍光体、電極材
などの薄膜パターンを高生産効率で形成するための条
件、 ディスペンサーの加減速に合わせて、高い応答性で流
量を可変できること、 ディスペンサーのノズル先端が塗布領域から非塗布領
域へ、或いはその逆に移行する際の流体の高速遮断・高
速開放が随意にできること、等を満足させるディスプレ
イパネルのパターン形成方法及び形成装置を提供するも
のである。

【００５０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は以下のように構成する。

【００５１】本発明のディスプレイパネルのパターン形
成方法は、大略、基板に対して流量可変式のディスペン
サーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させる
ことにより、所定の位置に順次ペーストを塗布してパタ
ーンを形成するディスプレイパネルのパターン形成方法
において、上記ディスペンサーと上記基板が上記パター
ンを形成しない領域を相対的に走行しているときは上記
ペーストの吐出は遮断状態を保つようにしたものであ
る。

【００５２】本発明の第１態様によれば、基板に対して
流量可変式のディスペンサーを相対的に移動させなが
ら、ペーストを吐出させることにより、上記基板の吐出
すべき位置に、順次、上記ペーストを吐出して、あるパ
ターンのペースト層を形成するディスプレイパネルのパ
ターン形成方法において、上記ペースト層を形成する有
効表示領域と、この有効表示領域の外側に上記ペースト
層を形成しない非有効表示領域を有する上記基板のうち
の上記有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走
行しているときは上記ペーストを吐出する一方、上記非
有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行して
いるときは上記ペーストの吐出を遮断するディスプレイ
パネルのパターン形成方法を提供する。

【００５３】本発明の第２態様によれば、複数本の光吸
収層が表面に並列形成された基板に対してディスペンサ
ーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させるこ
とにより、上記光吸収層間の吐出すべき位置に、順次、
上記ペーストを吐出してあるパターンのペースト層を形
成する第１の態様に記載のディスプレイパネルのパター
ン形成方法において、上記ディスペンサーとして流量可
変式のディスペンサーを使用して上記ペーストの吐出を
制御するディスプレイパネルのパターン形成方法を提供
する。

【００５４】本発明の第３態様によれば、上記ディスペ
ンサーと上記基板の相対速度に合わせて、上記ディスペ
ンサーを制御して上記ペーストの吐出量を可変させる第
２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
法を提供する。

【００５５】本発明の第４態様によれば、上記ペースト
層を形成する有効表示領域と、この有効表示領域の外側
にペースト層を形成しない非有効表示領域を有する上記
基板のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサーが
相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一
方、上記非有効表示領域を、上記ディスペンサーが相対
的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断する
第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成
方法を提供する。

【００５６】本発明の第５態様によれば、上記ディスペ
ンサーとしてねじ溝式のディスペンサーを使用して、上
記ねじ溝式ディスペンサーの回転軸の回転制御により上
記ペーストの吐出を制御する第２の態様に記載のディス
プレイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００５７】本発明の第６態様によれば、上記ディスペ
ンサーとしてねじ溝式のディスペンサーを使用して、上
記ディスペンサーと上記基板が上記非有効表示領域を相
対的に走行しているときは上記ねじ溝式ディスペンサー
の回転軸の回転は停止、或いは上記有効表示領域を走行
しているときに対して上記回転軸を逆転させる第４の態
様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提
供する。

【００５８】本発明の第７態様によれば、上記ディスペ
ンサーと上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表
示領域へ相対的に移行するときは、上記ねじ溝式ディス
ペンサーの上記回転軸の回転数を減小させた後に停止さ
せることにより上記吐出を停止させ、或いは、減小させ
た後に停止し、さらに、上記回転軸を逆転させることに
より上記吐出を停止させる第５の態様に記載のディスプ
レイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００５９】本発明の第８態様によれば、上記ディスペ
ンサーと上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表
示領域へ相対的に移行するときは、上記ねじ溝式ディス
ペンサーの上記回転軸の回転数を増加させた後、上記回
転軸の一定回転を維持して吐出を行なうか、或いは、増
加させた後、減小させてしかる後、上記回転軸の一定回
転を維持して吐出を行なう第５の態様に記載のディスプ
レイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００６０】本発明の第９態様によれば、上記ディスペ
ンサーとして複数本のねじ溝式ディスペンサーを使用し
て、上記複数本のねじ溝式ディスペンサーの回転数を個
別に調節して、所定の流量を設定する第５の態様に記載
のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００６１】本発明の第１０態様によれば、上記ディス
ペンサーは、ペースト圧送装置としてシリンダとピスト
ンで形成される流体輸送室に上記ペーストを供給すると
共に、上記シリンダと上記ピストンに相対的な軸方向運
動を与えることにより上記流体輸送室の空間を増減させ
て上記ペーストの吐出量を可変させる第２の態様に記載
のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００６２】本発明の第１１態様によれば、上記シリン
ダと上記ピストンの相対移動面に形成されたねじ溝に相
対的な回転運動を与えて上記ペーストを圧送する第１０
の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法
を提供する。

【００６３】本発明の第１２態様によれば、上記ノズル
先端と上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表示
領域へ相対的に移行するとき、上記流体輸送室の空間を
増大させて上記ペーストの吐出を停止させる第１０の態
様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提
供する。

【００６４】本発明の第１３態様によれば、上記ノズル
先端と上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表示
領域へ相対的に移行するとき、上記シリンダと上記ピス
トンで形成される上記流体輸送室の空間を減少させて上
記ペーストを吐出させる第１０の態様に記載のディスプ
レイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００６５】本発明の第１４態様によれば、上記ノズル
先端と上記基板が上記非有効表示領域を相対的に走行し
ているとき、上記シリンダと上記ピストンで形成される
上記流体輸送室の空間を増大させて上記ペーストの吐出
を停止し続ける第１０の態様に記載のディスプレイパネ
ルのパターン形成方法を提供する。

【００６６】本発明の第１５態様によれば、上記ディス
ペンサーは、ペースト圧送装置としてシリンダとピスト
ンとこのピストンの少なくとも一部を収納するスリーブ
で形成される流体輸送室に上記ペーストを圧送すると共
に、上記シリンダと上記ピストン及び、このピストンと
上記スリーブに相対的な軸方向運動を与えることにより
上記流体輸送室の空間を増減させて上記ペーストの吐出
量を可変させる第２の態様に記載のディスプレイパネル
のパターン形成方法を提供する。

【００６７】本発明の第１６態様によれば、上記シリン
ダと上記ピストンの相対的な変位曲線と、上記ピストン
と上記シリンダの相対的な変位曲線とを概略逆位相とす
るか、或いは移動方向を逆にしつつ、上記ペーストの吐
出開始又は吐出停止を行なう第１５の態様に記載のディ
スプレイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００６８】本発明の第１７態様によれば、上記流量可
変式のディスペンサーは、軸とハウジングとを軸方向に
相対的に駆動することにより、上記軸と上記ハウジング
間の流通路の間隙を変化させて上記ペーストの流体抵抗
の増減を図って上記ペーストの吐出流量制御を行なう第
２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
法を提供する。

【００６９】本発明の第１８態様によれば、上記ディス
ペンサーは、軸とハウジングとを相対的に回転させて上
記ペーストを上記ハウジングの吸入口から吐出口へ圧送
するポンピング圧力を発生させて、上記ペーストを吐出
させる第１７の態様に記載のディスプレイパネルのパタ
ーン形成方法を提供する。

【００７０】本発明の第１９態様によれば、上記軸と上
記ハウジングとの相対移動面に形成された動圧シールに
より、上記ペーストの流出を遮蔽する第１７の態様に記
載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供す
る。

【００７１】本発明の第２０態様によれば、上記ディス
ペンサーは、軸とハウジングを相対的に回転させると共
に、上記軸と上記ハウジングとを相対的に軸方向に移動
させることにより上記軸と上記ハウジング間の動圧シー
ルが形成された流通路の間隙を変化させて、上記ペース
トの流体抵抗の増減を図ることにより上記ペーストの流
量制御を行なう第１９の態様に記載のディスプレイパネ
ルのパターン形成方法を提供する。

【００７２】本発明の第２１態様によれば、基板表面に
並列に設けられた複数本の光吸収層の間にペーストを吐
出してあるパターンのペースト層を形成するディスプレ
イパネルのパターン形成装置であって、基板を載置する
載置台と、上記ペーストを吐出する少なくとも１つのノ
ズルを有するディスペンサーと、上記ノズルと上記載置
台とを相対的に移動させる搬送部と、上記光吸収層間の
所定の位置に順次上記ペーストが吐出されるように上記
搬送部と上記ディスペンサーを制御する制御装置と、を
備えて、上記ディスペンサーはねじ溝式である、ディス
プレイパネルのパターン形成装置を提供する。

【００７３】本発明の第２２態様によれば、上記ディス
ペンサーは、上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有し
かつ内部に流体輸送室が形成されたシリンダと、上記シ
リンダに収納されたピストンと、上記シリンダと上記ピ
ストンで形成される内部空間を増減させるために、上記
シリンダと上記ピストンに相対的な運動を与えるアクチ
ェータと、を備えて、上記吸入孔から上記流体輸送室内
に流入した上記ペーストは、上記内部空間に繋がる流路
を経て上記吐出孔に流出するように構成されている第２
１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装
置を提供する。

【００７４】本発明の第２３態様によれば、上記ディス
ペンサーは、ねじ溝式ディスペンサーに代えて、第１の
アクチェータと、上記第１のアクチェータによって直線
方向に駆動されるピストンと、このピストンを収納しか
つ上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有するハウジン
グと、上記ピストンと同軸上に配置されたシリンダと、
上記ピストンと上記シリンダの間に相対的な回転運動を
与える第２のアクチェータとを備えて、上記ピストンと
上記ハウジングの間に、上記吸入孔及び吐出孔と連絡す
るポンプ室を形成して、上記第１のアクチェータ又は上
記第２のアクチェータの駆動による上記ピストンと上記
シリンダの相対的な回転運動或いは直線運動によって、
上記ポンプ室にポンプ作用が与えられるように構成さ
れ、かつ、上記第１のアクチェータが外部から電気磁気
的な非接触の電力供給されて移動もしくは伸縮すること
により上記ピストンを移動させる第２１の態様に記載の
ディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。

【００７５】本発明の第２４態様によれば、上記ディス
ペンサーは、ねじ溝式ディスペンサーに代えて、軸と、
この軸を収納しかつ上記軸との間で形成されるポンプ室
と外部を連絡する上記ペーストの吸入口及び吐出口有す
るハウジングと、上記軸と上記ハウジングとを相対的に
回転させる装置と、上記軸と上記ハウジング間の軸方向
相対変位を与える軸方向駆動装置と、上記ポンプ室内に
流入された上記ペーストを吐出口側に圧送する装置とを
備えて、上記ポンプ室と上記吐出口の間の上記ペースト
の流体抵抗の増減を図るために、上記軸方向駆動装置に
よって上記軸と上記ハウジング間の間隙が変化するよう
に構成されている第２１の態様に記載のディスプレイパ
ネルのパターン形成装置を提供する。

【００７６】本発明の第２５態様によれば、上記ディス
ペンサーは、ピストンと、上記ピストンを収納しかつ上
記ペーストの吸入口と吐出口とを有するハウジングと、
上記ピストンと上記ハウジングとを相対的に移動させる
第１のアクチェータと、上記ピストンの少なくとも一部
を収納し軸方向に貫通した空間を有するシリンダと、上
記シリンダと上記ハウジングとを相対的に移動させる第
２のアクチェータと、上記ピストンと上記シリンダと上
記ハウジングとで形成されるポンプ室に外部より上記吸
入口から上記ペーストを供給して上記吐出口より吐出さ
せる第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパター
ン形成装置を提供する。

【００７７】本発明の第２６態様によれば、上記ディス
ペンサーは、シリンダに収納されたピストンと、上記シ
リンダと上記ピストンで形成される内部空間を増減させ
るために、上記シリンダと上記ピストンに相対的な運動
を与えるアクチェータと、上記シリンダを収納或いは上
記シリンダと一体化し、かつ、上記ペーストの吸入孔及
び吐出孔とを有するハウジングと、上記ハウジング内部
に形成された流体輸送室から構成され、上記吸入孔から
上記流体輸送室内に流入した上記ペーストは、上記内部
空間に繋がる流路を経て上記吐出孔に流出するように構
成されているディスプレイパネルのパターン形成装置を
提供する。

【００７８】本発明の第２７態様によれば、上記ピスト
ンとその対向面の隙間は、上記ペースト遮断時、吐出材
料に含まれる粒子の粒径よりも大きく形成されているデ
ィスペンサーを用いている、第２６の態様に記載のディ
スプレイパネルのパターン形成装置を提供する。

【００７９】本発明の第２８態様によれば、上記吸入口
から上記吐出ノズルに至る流通路において、上記ペース
ト遮断時の最小隙間は８μｍ以上である、第２７の態様
に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供
する。

【００８０】本発明の第２９態様によれば、上記制御装
置は、上記ペースト層を形成する有効表示領域と、この
有効表示領域の外側に上記ペースト層を形成しない非有
効表示領域を有する上記基板のうちの上記有効表示領域
を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上
記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を上記
ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペー
ストの吐出を遮断するように制御する、第２１の態様に
記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供す
る。

【００８１】本発明の第３０態様によれば、上記ペース
ト層として電極層を形成する有効表示領域と、上記有効
表示領域と隣接して配置され、かつ、連続した上記電極
層と不連続の電極層を形成する準有効表示領域と、上記
有効表示領域と上記準有効表示領域の外側に仮想的に設
けられかつ電極層を形成しない非有効表示領域とを有す
る上記基板のうちの上記有効表示領域と上記準有効表示
領域とを上記ディスペンサーが相対的に走行していると
きは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域
を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上
記ペーストの吐出を遮断するようにした第１の態様に記
載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供す
る。

【００８２】本発明の第３１態様によれば、上記準有効
表示領域内で上記ペーストの吐出が開始されるか、もし
くは上記有効表示領域での吐出が上記準有効表示領域内
で遮断される第２の態様に記載のディスプレイパネルの
パターン形成方法を提供する。

【００８３】本発明の第３２態様によれば、等ピッチで
配設された複数本のノズルを有するディスペンサーによ
り、上記有効表示領域に隣接した上記準有効表示領域内
で上記ペーストの複数本のストライプ状の吐出を開始
後、上記有効表示領域を経由して、上記有効表示領域の
もう一方の側に隣接した上記準有効表示領域内で上記ペ
ーストの上記複数本のストライプ状の吐出を遮断する第
３の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
法を提供する。

【００８４】本発明の第３３態様によれば、等ピッチで
配設された複数本のノズルを有するディスペンサーによ
り、上記準有効表示領域内の上記ペースト層の中で同一
の傾斜角を有する屈曲した複数のストライプ状の電極層
だけを選び、上記準有効表示領域内、及び／又は、上記
有効表示領域内で同時的に上記複数本のストライプ状の
吐出を行なって、上記複数のストライプ状の上記電極層
を形成する第２の態様に記載のディスプレイパネルのパ
ターン形成方法を提供する。

【００８５】本発明の第３４態様によれば、上記準有効
表示領域内で上記ペーストの吐出を遮断するとき、上記
ディスペンサーの内部流路の隙間の増大に伴う負圧の発
生を利用して上記吐出遮断を行なう第３の態様に記載の
ディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。

【００８６】

【発明の実施の形態】本発明の記述を続ける前に、添付
図面において同じ部品については同じ参照符号を付して
いる。

【００８７】以下に、本発明にかかる実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。

【００８８】以下、本発明のディスプレイパネルのパタ
ーン形成方法及び形成装置をプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰ）のＰＤＰ用基板６１への蛍光体層形成
方法及び形成装置に適用した第１実施形態について、図
１の概略斜視図を用いて説明する。

【００８９】５０はパネルの一部を構成するＰＤＰ用基
板６１を載置するための載置台であり、例えば、ＰＤＰ
用基板６１を位置決め保持可能な、単なる固定盤又はＸ
Ｙステージなどで構成される。載置台５０の両側を挟ん
で１対のＹ軸方向搬送装置５１、５２が設けられてい
る。また、Ｘ軸方向搬送装置５３が、Ｙ−Ｙ’方向に移
動可能に、上記Ｙ軸方向搬送装置５１、５２上に搭載さ
れている。さらに、Ｚ軸方向搬送装置５４が、矢印Ｘ−
Ｘ’方向に移動可能に、上記Ｘ軸方向搬送装置５３上に
搭載されている。

【００９０】Ｚ軸方向搬送装置５４には、ディスペンサ
ー５５を離脱可能に装着したシリンジ装着部５６が、Ｚ
−Ｚ’方向に移動可能に搭載されている。

【００９１】Ｙ軸方向搬送装置５１、５２は、エンコー
ダ付きのＹ軸モータ５７ａ、５７ｂの駆動によってＸ軸
方向搬送装置５３をＹ−Ｙ’方向に搬送する。エンコー
ダからのそれぞれの出力情報（言い換えれば搬送位置情
報）は制御装置１００に入力されて、Ｙ軸モータ５７
ａ、５７ｂの動作制御などに使用される。

【００９２】また、Ｘ軸方向搬送装置５３は、エンコー
ダ付きのＸ軸用モータ５８の駆動によってＺ軸方向搬送
装置５４をＸ−Ｘ’方向に搬送する。エンコーダからの
出力情報（言い換えれば搬送位置情報）は制御装置１０
０に入力されて、Ｘ軸用モータ５８の動作制御などに使
用される。

【００９３】また、Ｚ軸方向搬送装置５４は、エンコー
ダ付きのＺ軸用モータ８９の駆動によってシリンジ装着
部５６をＺ−Ｚ’方向に搬送する。エンコーダからの出
力情報（言い換えれば搬送位置情報）は制御装置１００
に入力されて、Ｚ軸用モータ８９の動作制御などに使用
される。

【００９４】Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂはモータドライ
バ９１ａ，９１ｂを介して、Ｘ軸用モータ５８はモータ
ドライバ９２を介して、Ｚ軸用モータ８９はモータドラ
イバ９３を介して、ディスペンサー５５はディスペンサ
ー制御部９４を介して、それぞれ、制御装置１００に接
続されている。Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂ、Ｘ軸用モー
タ５８、Ｚ軸用モータ８９、ディスペンサー５５は、そ
れぞのエンコーダからの出力情報を基に、制御装置１０
０により、動作制御される。

【００９５】なお、Ｘ軸方向搬送装置５３とＹ軸方向搬
送装置５１、５２とにより、吐出ノズルを載置台５０に
対してを相対的に移動させる搬送部の一例を構成として
いる。搬送部の他の例としては、図２７に示しかつ後述
するＸＹテーブルである。

【００９６】ディスペンサー５５には、基板撮像装置の
一例としてのＣＣＤセンサもしくはラインセンサなどの
基板位置検出カメラ９０が固定され、基板位置検出カメ
ラ９０により撮像された画像情報は、制御装置１００に
入力される。制御装置１００には、データ及びプログラ
ムなど記憶するメモリ１０１が接続されている。

【００９７】上記した構成を有する上記パターン形成装
置によって、ＰＤＰ用の基板６１に蛍光層が形成され
る。

【００９８】まず、赤色（Ｒ）蛍光体層形成用のペース
ト状蛍光体を収容したシリンジ５９をディスペンサー５
５に着脱可能に装着する。

【００９９】図２に示すように、ＰＤＰ用基板６１は、
ＰＤＰの有効表示部に対応する蛍光体層を形成する有効
表示領域６０ａと、この有効表示領域６０ａの外側例え
ば外周部に配置されかつ蛍光体層を形成しない非有効表
示領域６０ｂとを有する。この基板６１を載置台５０の
所定位置に載置して固定する。

【０１００】例えば、４２インチのＰＤＰ用基板の場
合、厚さ３．０ｍｍのガラス板からなる基板６１の有効
表示領域６０ａには、予め矢印Ｘ−Ｘ’方向に平行に長
さＬ＝５６０ｍｍ、高さＨ＝１００μｍ、幅Ｗ＝５０μ
ｍのリブ（光吸収層或いは）が、ピッチＰの間隔を保っ
て、１９２１本形成されている。この１９２１本のリブ
によって１９２０本の溝が形成されているので、Ｒ、
Ｇ、Ｂ蛍光体は、それぞれ６４０本（＝１９２０本／
３）の溝に塗布されることになる。

【０１０１】まず、準備動作として、ＰＤＰ用基板６１
に対するディスペンサー５５による蛍光体層の画線の位
置を決める方法について説明する。

【０１０２】例えば、基板位置検出カメラ９０を用い
て、大略四角形のＰＤＰ用基板６１の２箇所（例えば対
角の２箇所）もしくは３箇所に形成された位置合わせマ
ーク（アライメントマーク）をそれぞれ検出する。

【０１０３】次に、基板位置検出カメラ９０によって、
ＰＤＰ用基板６１の光吸収層の位置情報を検出する。こ
のとき、光吸収層は、載置台５０側から投射されてＰＤ
Ｐ用基板６１を貫通した透過光もしくはディスペンサー
５５側に備えた投射光のＰＤＰ用基板６１での反射によ
って検出する。必要ならば画像処理を施すことにより、
白黒を明確にする。求められた光吸収層の位置情報は、
制御装置１００により、メモリ１０１に記憶させる。こ
のとき、全ての光吸収層を検出するようにしてもよい
し、全ての光吸収層から適宜選択された一部の光吸収層
を検出して、他の光吸収層の位置情報は類推するように
してもよい。

【０１０４】また、上記した光吸収層の検出動作の代わ
りに、光吸収層の位置情報を予めメモリ１０１に記憶さ
せておき、記憶された光吸収層の位置情報を制御装置１
００で読み出すようにしてもよい。

【０１０５】次に、上記アライメントマークの位置情報
を基準にして、光吸収層の位置情報を基に、上パターン
形成装置の座標軸からみた塗布開始位置ｂ（ストライプ
を書き始める位置）のＸＹ座標を決定する。この場合、
例えば、上記アライメントマークの位置情報を基準にし
て塗布開始位置ｂのＸＹ座標を決定したのち、光吸収層
の位置情報（例えば、位置ｂと位置ｃとの間の距離情
報）を基に、その他の位置（準備位置ａ、塗布開始位置
ｂ、塗布終了位置ｃ、屈曲位置ｄ、屈曲位置ｅ、塗布開
始位置ｆ、塗布終了位置ｇ、屈曲位置ｈ、．．．．など
の位置）のＸＹ座標を決定する。ここで、塗布開始位置
ｂ及び塗布終了位置ｃ及び塗布開始位置ｆ及び塗布終了
位置ｇは、それぞれ、有効表示領域６０ａと非有効表示
領域６０ｂとの境界位置である。屈曲位置ｄ及び屈曲位
置ｅ及び屈曲位置ｈは、それぞれ、Ｘ又はＸ’方向とＹ
又はＹ’方向との移動方向を切り換えて屈曲するように
ディスペンサー５５を移動させる位置である。

【０１０６】なお、図２の変形例として、図２８には、
塗布開始位置ｂ及び塗布終了位置ｃ及び塗布開始位置ｆ
が、有効表示領域６０ａと非有効表示領域６０ｂとの境
界ではなく、非有効表示領域６０ｂ内に位置する場合を
例示している。よって、一般的に言えば、塗布開始位置
及び塗布終了位置は、それぞれ、非有効表示領域６０ｂ
内の任意の位置か、又は、有効表示領域６０ａと非有効
表示領域６０ｂとの境界位置であり、屈曲位置は、常
に、非有効表示領域６０ｂ内の任意の位置である。

【０１０７】次に、光吸収層の位置情報を検出する際
に、場合によっては、レーザーなどを使用して、Ｚ軸情
報（ディスペンサー５５のノズル先端とその対向面間の
距離であって、うねりや曲がりなどの情報）も読み取
る。ＰＤＰ用基板６１にうねりがある場合、或いは曲面
の場合において、ディスペンサー５５のノズル先端とそ
の対向面間の距離が一定となるようにＺ軸を駆動する際
に、このＺ軸情報は必要である。この場合も、レーザー
などを使用してＺ軸情報を直接的に読み取る代わりに、
先に検出されたＺ軸情報を予めメモリ１０１に記憶させ
ておき、記憶されたＺ軸情報を制御装置１００で読み出
すようにしてもよい。

【０１０８】次に、制御装置１００の制御による吐出動
作について説明する。

【０１０９】最初に、ディスペンサー５５をＲ（赤色）
蛍光体（以下、「Ｒ蛍光体」と称する。）の塗布開始の
ため、準備位置ａまで移動し、Ｚ軸情報を基に、制御装
置１００の動作制御により、Ｚ軸用モータ８９を駆動し
て吐出ノズル６２の先端を所定の高さに位置決めする。

【０１１０】次に、制御装置１００の制御によりＸ軸用
モータ５８を駆動させて吐出ノズル６２を矢印Ｘ方向へ
移動させて、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力
情報により制御装置１００で吐出ノズル６２が塗布開始
位置ｂに位置したことを検出する。すると、制御装置１
００の制御により、吐出ノズル６２からＲ蛍光体の吐出
を開始すると同時に、さらに矢印Ｘ方向へ吐出ノズル６
２を一定速度で移動させてＰＤＰ用の基板６１に対する
ストライプ状の蛍光体塗布を開始する。吐出ノズル６２
が１本のリブの長さＬ（図２）だけ塗布線を描き、Ｘ軸
用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装
置１００で、吐出ノズル６２の先端が有効表示領域６０
ａから非有効表示領域６０ｂに入る塗布終了位置ｃに至
ったことを検出する。すると、制御装置１００の制御に
より、蛍光体の吐出を停止する。その後、制御装置１０
０の制御により、さらに、吐出ノズル６２がＸ方向に移
動され続けて、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出
力情報により制御装置１００で、屈曲位置ｄに至ったこ
とを検出する。すると、Ｘ軸用モータ５８の駆動を停止
して、吐出ノズル６２のＸ方向への移動を停止する。

【０１１１】次に、吐出ノズル６２は蛍光体の吐出を停
止したままで、制御装置１００の制御により、Ｙ軸モー
タ５７ａ、５７ｂが同期駆動されて、吐出ノズル６２は
屈曲位置ｄから屈曲位置ｅに向けて３Ｐ（すなわち、リ
ブ（又は光吸収層）の配置ピッチＰの３倍の間隔）だけ
矢印Ｙ方向へ移動する。すなわち、制御装置１００の制
御により、Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂのエンコーダから
の出力情報により制御装置１００で吐出ノズル６２が屈
曲位置ｅに到達したことが検出されると、Ｙ軸モータ５
７ａ、５７ｂの駆動を停止して、吐出ノズル６２のＹ方
向への移動を停止する。

【０１１２】次に、制御装置１００の制御によりＸ軸用
モータ５８を再び駆動させて吐出ノズル６２を屈曲位置
ｅから塗布開始位置ｆに向けてＸ’方向に移動を開始す
る。Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報によ
り制御装置１００で吐出ノズル６２が塗布開始位置ｆに
到達したことを検出すると、再び、吐出ノズル６２から
Ｒ蛍光体の吐出を開始すると同時に、矢印Ｘ’方向へさ
らに一定速度で吐出ノズル６２を移動させてＰＤＰ用の
基板６１に対するストライプ状の蛍光体塗布を再開す
る。吐出ノズル６２が１本のリブの長さＬ（図２）だけ
塗布線を描き、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出
力情報により制御装置１００で、吐出ノズル６２の先端
が有効表示領域６０ａから非有効表示領域６０ｂに入る
塗布終了位置ｇに至ったことを検出する。すると、制御
装置１００の制御により、蛍光体の吐出を停止する。そ
の後、制御装置１００の制御により、さらに、吐出ノズ
ル６２がＸ’方向に移動され続けて、Ｘ軸用モータ５８
のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で、
屈曲位置ｈに至ったことを検出する。すると、Ｘ軸用モ
ータ５８の駆動を停止して、吐出ノズル６２のＸ’方向
への移動を停止する。

【０１１３】ここで、屈曲位置ｈを先の屈曲位置ｄと読
み替えて、３Ｐ（すなわち、リブ（又は光吸収層）の配
置ピッチＰの３倍の間隔）だけ矢印Ｙ方向へ移動して新
たな準備位置ａまで移動し、再び、上記したような上記
ステップを繰り返し、塗布本数が６４０本になると、Ｒ
蛍光体による作業は終了する。

【０１１４】以上が蛍光体塗布の基本ステップである
が、残されたＧ（緑色）蛍光体（以下、「Ｇ蛍光体」と
称する。）、Ｂ（青色）蛍光体（以下、「Ｂ蛍光体」と
称する。）の塗布については、別途設置されたＧ蛍光体
専用載置台を有するＧ蛍光体用パターン形成装置、Ｂ蛍
光体専用載置台を有するＢ蛍光体用パターン形成装置
に、ＰＤＰ用基板６１を順次移送して、それぞれのパタ
ーン形成装置でパターン形成を行なうようにしてもよ
い。或いは同一のパターン形成装置のＺ軸方向搬送装置
５４に、３種類（Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）
蛍光体塗布用）のディスペンサーをそれぞれ配置して、
それぞれの色毎に蛍光体吐出動作を行なうようにしても
よい。

【０１１５】なお、上記したように、吐出ノズル６２の
始終端の位置（塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、塗布
開始位置ｆ、塗布終了位置ｇなど）と、塗布開始・終了
のタイミング、及び、ディスペンサーすなわち吐出ノズ
ル６２の移動速度と同期した塗布量の制御は、制御装置
１００により、予めプログラミングされた始端と終端位
置情報、及び吐出ノズル６２からの変位・速度情報に基
づいて行なわれる。このようにして、リブ間の溝の内面
形状に沿ったＲ，Ｇ，Ｂの蛍光体層の形成作業がすべて
終了すると、ディスペンサー５５の吐出ノズル６２の先
端位置は、ホームポジション（例えば、図２の準備位置
ａ）に復帰する。以上、スクリーン・ストライプの塗布
行程が終了すると、基板６１を搬送後、蛍光体の乾燥行
程へ移行する。

【０１１６】［１］ ねじ溝式ディスペンサー 以下、本発明の第１実施形態にかかるＰＤＰ用基板６１
への蛍光体層形成方法及び形成装置のより具体的な構造
ついて、図３〜図５（Ｃ）を用いて説明する。

【０１１７】図３において、３５０はねじ溝式のディス
ペンサー（先の説明のディスペンサー５５に相当。）の
回転軸、３５１はこの回転軸の吐出側を収納するスリー
ブ、３５２はこのスリーブ３５１の内面と回転軸３５０
の相対移動面に形成されたねじ溝（溝の部分を黒く塗り
つぶしている）、３５３はスリーブ３５１に形成された
吸入口、３５４はスリーブ３５１の先端に配置された吐
出部、３５５はこの吐出部３５４に設けられた吐出ノズ
ル（先の説明の吐出ノズル６２に相当。）、３５６は回
転軸３５０に固着したモータのロータ、３５７はモータ
のステータ、３５８、３５９は回転軸３５０を支持する
軸受、３６０、３６１は上記軸受３５８、３５９とモー
タステータ３５７を収納する上部ハウジング及び下部ハ
ウジング、３５２はモータの回転数を検出して制御装置
１００に出力するエンコーダである。

【０１１８】さて、第１実施形態におけるスクリーン・
ストライプの形成方法は下記のようである。図２を用い
て説明すると、吐出ノズル３５５、言い換えれば、上記
ねじ溝式のディスペンサーが走行を開始するとき、吐出
ノズル３５５の先端は非有効表示領域６０ｂ内［図２の
準備位置ａ参照］にあるものとする。通常、ディスペン
サーの駆動装置であるＸ軸方向搬送装置５３が駆動を開
始した後、ディスペンサーが定常速度に到達するまでに
は、０．０１〜０．１秒の時定数を必要とする。この制
御系の時定数の大きさは、移載物の質量、モータのパワ
ー、過渡状態における許容される振動の大きさなどによ
って決定される。以下、ディスペンサーの移動速度が、
［１］非有効表示領域内で定常速度になる場合、［２］
有効表示領域内で定常速度になる場合、の２ケースに分
けて説明する。

【０１１９】［１］非有効表示領域内で定常速度になる
場合 図４は、上記第１実施形態における「時間に対するディ
スペンサーの移動速度」を示すものである。図５（Ｃ）
は、「ねじ溝回転数と時間の関係」を示すもので、Ｎｓ
はねじ溝回転数の基本成分である基本入力波形である。
なお、図４〜図５（Ｃ）の横軸での、「ａ，ｂ，ｃ，
ｄ」はそれぞれ準備位置ａ、塗布開始位置ｂ、塗布終了
位置ｃ、屈曲位置ｄを通過する時間を意味する。

【０１２０】基板６１上に塗布される塗布線の単位長さ
当りの総量は、ディスペンサーの速度に逆比例する。ま
た、定常状態では、ねじ溝の回転数と吐出流量Ｑはリニ
アに比例すること注目する。従って、上記第１実施形態
では、ディスペンサーの速度：Ｖｓに逆比例した関係式
で、ねじ溝の回転数の基本成分である基本入力波形：Ｎ
ｓを設定している。

【０１２１】上記第１実施形態では、ディスペンサーの
速度が十分に遅い場合は、回転数の基本入力波形：Ｎｓ
を用いて、始終点を含む連続線を支障なく塗布すること
ができる。

【０１２２】しかし、生産タクトアップを図るために、
例えば、ディスペンサーの速度をＶｓ＞１００ｍｍ／ｓ
ｅｃに設定するたとき、以下述べる問題が発生する。

【０１２３】塗布開始時の課題 上記ノズル先端が上記有効表示領域へ相対的に移行する
と同時に、ねじ溝３５２が形成された回転軸３５０の回
転を急峻に開始する。このとき、回転開始と同時に基板
６１上に描画線は描けず、連続描画線が描けるまでの
間、塗布線の欠落、細り等の不具合が発生する。この理
由は、次のようである。吐出ノズル３５５の先端から流
出した流体は、流出開始直後は流速が小さいためにノズ
ル３５５から分離できず、ノズル先端に表面張力による
流体塊が形成される。流速が上昇して塗布流体の運動エ
ネルギが増加すると、表面張力に打ち勝ち、流体はノズ
ル３５５から離脱する。このとき、ノズル先端の流体塊
も同時に基板６１上に滴下するために、塗布線の欠落、
細りの後に、ボタ落ち部分が生じる。

【０１２４】塗布終了時の課題 塗布の終点においては、次のようである。ノズル先端が
有効表示領域６０ａから非有効表示領域６０ｂへ相対的
に移行する手前で、ねじ溝３５２の回転を急降下させ
る。その結果、基板６１への塗布は停止するが、ノズル
先端から流体流出は完全には止まらないため、ノズル３
５５がＵターン区間（例えば、屈曲位置ｄから屈曲位置
ｅに至る区間）を走行中の間も、ノズル先端の流体塊は
成長し続ける。

【０１２５】ノズル先端が、非有効表示領域６０ｂから
有効表示領域６０ａへ移行する手前で、回転を開始させ
ると、まず最初にノズル先端の流体塊のボタ落ちが発生
する。

【０１２６】以降、前述したように塗布線の欠落、細り
等が生じる。

【０１２７】上記、の課題に対して、上記第１実施
形態では、始終端に係る上述した課題を次の方法で解決
を図っている。

【０１２８】ねじ溝回転数の基本入力波形Ｎｓ［図５
（Ａ）］に、補正項（補正分）ΔＮ［図５（Ｂ）］を加
えた入力波形Ｎｔ［図５（Ｃ）］により、ねじ溝３５２
を回転させる。補正項ΔＮは、ディスペンサーの過渡的
な流量特性を補正するものである。塗布の開始点では、
ねじ溝３５２の回転を加速させた後、すみやかに定常回
転に復帰させる。その結果、吐出開始直後に表面張力に
打ち勝つ大きな運動エネルギが流体に与えられるため
に、ノズル先端に流体塊を作ることなく塗布を開始でき
る。

【０１２９】塗布の終了点では、図５（Ｃ）のごとく、
ねじ溝３５２の回転を急速に減速し停止させる。その結
果、Ｕターン区間（非有効表示領域６０ｂ）を走行する
前段階で、ノズル先端の流体塊を僅少の状態にでき、塗
布開始時のボタ落ちを防止できる。

【０１３０】また、Ｕターン区間を走行時している間、
ねじ溝３５２を緩やかに逆転させて、ノズル先端の流体
塊を若干ノズル内部に吸引させた状態を保つことによ
り、塗布開始時のボタ落ちはさらに効果的に防止でき
る。

【０１３１】［２］有効表示領域内で定常速度になる場
合 この場合も［１］と同様に、ディスペンサーの移動速度
に比例して決まる基本入力波形Ｎｓに、塗布開始時の吐
出遅れと塗布終了時の流体塊の発生を防止する補正項Δ
Ｎを加えた入力波形Ｎｔにより、ねじ溝を回転させれば
よい。

【０１３２】上記ディスペンサーを用いた直接描画方式
でスクリーンストライプを形成する場合、生産タクトの
面からディスペンサーは複数本配置されるのが好まし
い。この場合、各ディスペンサ−の流量をどのように一
致させるかが大きな課題となる。ポンプ部を含むディス
ペンサーの寸法緒元、モータ等の駆動条件を同一に設定
しても、各ディスペンサ−の流量はバラツキが生じる場
合が多い。上記第１実施形態では、流量がねじ溝の回転
数にほぼ比例することを利用して、モータの基本回転
数：Ｎｓを基に、各ディスペンサーの回転数をδＮｓだ
け個別に補正すれば、流量を一致させることができる。
また、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれ蛍光体の流動特性の違いが
流量差をもたらす場合でも、モータの回転数の設定で補
正できる。この方法は、ねじ溝式を用いた以下示す第２
〜５実施形態にも適用できる。

【０１３３】以下、本発明を第２実施形態として、蛍光
体層形成方法及び形成装置に適用したディスペンサーに
ついて、図６〜図１１を用いて説明する。

【０１３４】以下示す第２実施形態のディスペンサー
は、ピストンと該ピストンを収納するスリ−ブの間に、
相対的な回転運動と直線運動を同時に与える「２自由度
アクチュエータ」を有する。すなわち、 第１のアクチュエータでピストンを直線駆動すること
により、ピストンの吐出側端面に正負のスクイーズ圧力
を発生させる。

【０１３５】回転運動を与える第２のアクチュエータ
で、ねじ溝が形成されたピストンを回転させてポンピン
グ圧力を発生させ、塗布流体を吐出側に圧送する。

【０１３６】上記、の組み合わせにより、有効表示
領域と非有効表示領域の境界部における塗布線の高速遮
断・高速開放の制御を実現したものである。

【０１３７】図６において、１は第１のアクチェータで
あり、この第２実施形態では、高い位置決め精度が得ら
れ、高い応答性を持つと共に大きな発生荷重が得られる
超磁歪素子を用いている。２は第１のアクチェータ１に
よって駆動される主軸（ピストン）である。上記第１の
アクチェータ１は、ハウジング３に収納されており、こ
のハウジング３の下端部（フロント側）に、主軸２を収
納するポンプ部４が装着されている。

【０１３８】５は第２のアクチェータであり、主軸２と
ハウジング３の間に相対的な回転運動を与えるものであ
る。モータロータ６は上部主軸７に固着され、また、モ
ータステータ８は上部ハウジング９に収納されている。

【０１３９】１１、１２は、超磁歪素子から構成される
円筒形状のリア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪ロ
ッドである。１３は、超磁歪ロッド１１，１２の長手方
向に磁界を与えるための磁界コイルである。１４、１
５、１６は、超磁歪ロッド１１，１２にバイアス磁界を
与えるためのリア側、中間部、フロント側の永久磁石で
ある。リア側とフロント側の永久磁石１４、１６が、超
磁歪ロッド１１，１２と中間部永久磁石１５を矜持する
形で配置されている。

【０１４０】この永久磁石１４〜１６は、超磁歪ロッド
１１，１２に予め磁界をかけて磁界の動作点を高めるも
ので、この磁気バイアスにより磁界の強さに対する超磁
歪の線形性が改善できる。

【０１４１】１７は、超磁歪ロッド１１のリア側に配置
され、磁気回路のヨーク材をであるリア側ヨーク、１８
は超磁歪ロッド１２のフロント側に配置され、ヨーク材
を兼ねたフロント側スリーブ、１９は磁界コイル１３の
外周部に配置された円筒形状のヨーク材である。

【０１４２】超磁歪ロッド１２→永久磁石１５→超磁歪
ロッド１１→永久磁石１４→リア側ヨーク１７→ヨーク
材１９→フロント側スリーブ１８→１６→超磁歪ロッド
１２により、超磁歪ロッド１１，１２の伸縮を制御する
閉ループ磁気回路を形成している。なお、主軸２はこの
磁気回路に影響を与えないように、非磁性材料を用いて
いる。すなわち、超磁歪ロッド１１，１２、磁界コイル
１３、永久磁石１４〜１６、リア側ヨーク１７、フロン
ト側スリーブ１８、ヨーク材１９により、磁界コイル１
３に与える電流で超磁歪ロッド１１，１２の軸方向の伸
縮を制御できる超磁歪アクチェータ（第１のアクチェー
タ１）を構成している。

【０１４３】２０は上部主軸７を回転自在、かつ軸方向
に移動可能に収納するリア側スリーブである。このリア
側スリーブ２０もまた軸受３８により、中間ハウジング
２１に対して回転自在に支持されている。

【０１４４】２２はリア側ヨーク１７とリア側スリーブ
２０の間に装着されたバイアスバネである。このバイア
スバネ２２から加わる軸方向荷重により、超磁歪ロッド
１１，１２はバイアス永久磁石１４〜１６を介在して、
上下のリア側ヨーク１７，フロント側スリーブ１８に押
圧される形で把持されている。この結果、超磁歪ロッド
１１，１２には常に軸方向に圧縮応力が加わるため、繰
り返し応力が発生した場合に、引っ張り応力に弱い超磁
歪素子の欠点が解消される。

【０１４５】フロント側スリーブ１８は主軸２を軸方向
移動可能に収納している。モータ５から伝達された主軸
２の回転動力は、主軸２、フロント側スリーブ１８の間
に設けられた回転伝達キー２３によってフロント側スリ
ーブ１８に伝達される。また、フロント側スリーブ１８
も軸受２４によって、ハウジング３に回転自在に支持さ
れている。

【０１４６】上記構成により、モータ５の回転動力は主
軸２とフロント側スリーブ１８のみに伝達され、脆性材
料である超磁歪素子に捻りトルクは発生しない。

【０１４７】また、リング状に形成された超磁歪素子１
１、１２と永久磁石１４〜１６は、非磁性材料の主軸２
を貫通する形で配置されている。また、主軸２の外周部
と上記超磁歪ロッド及び上記永久磁石の内周部の間の隙
間は十分に小さく設定している。その結果、装置の回転
時に各部材に加わる遠心力の影響によって、上記超磁歪
ロッド及び上記永久磁石の軸芯が大きくずれることはな
い。

【０１４８】すなわち、各部材を貫通して設けられた主
軸２は、脆性材料である超磁歪素子に対して圧縮応力以
外は与えない「保護機能」と、回転時の「軸芯ズレの防
止機能」を兼ねている。

【０１４９】２５は、第２のアクチェータであるモータ
５の上部に配置された上部主軸７の回転位置情報を検出
するためのエンコーダである。また、２６は上部主軸７
（及び主軸２）の上端面２７の軸方向変位を検出するた
めの変位センサーである。

【０１５０】上記構成により、回転運動と微少変位の直
線運動の制御を同時に、かつ独立して行うことができる
「２自由度・複合動作アクチュエータ」が実現できる。
さらに、この第２実施形態では、第１のアクチェータに
超磁歪素子を用いたために、超磁歪ロッド１１，１２
（及び主軸２）を直線運動させるための動力を、外部か
ら非接触で与えることができる。

【０１５１】超磁歪素子に加えた入力電流と変位は比例
するため、変位センサーなしのオープンループ制御で
も、上記主軸２の軸方向位置決め制御は可能である。し
かし、上記第２実施形態のような位置検出手段（機構又
は装置）を設けてフィードバック制御をすれば、超磁歪
素子のヒステリシス特性も改善できるため、より高い精
度の位置決めができる。

【０１５２】さて、上記第２実施形態では、主軸２の軸
方向位置決め機能を用いて、主軸２の定常回転状態を保
ったままで、主軸２の吐出側端面の隙間の大きさを任意
に制御することができる。この機能を用いて、吸入口３
２から吐出ノズル３３に至るいかなる流通路の区間も機
械的に非接触の状態で、始終端における粉粒体の遮断・
開放の制御ができる。その原理をポンプ部４の詳細図で
ある図７、及びピストンの変位と発生圧力の関係を示す
図８〜図１１を用いて説明する。

【０１５３】図７において、２８は主軸２の外表面に形
成された流体を吐出側に圧送するためのラジアル溝（図
６では溝の部分を黒く塗りつぶしている一方、図７では
溝の部分にハッチングしている。）、２９は流体シー
ル、３０はシリンダである。

【０１５４】この主軸２とシリンダ３０の間で、主軸２
とシリンダ３０の相対的な回転によってポンピング作用
を得るためのポンプ室３１（流体輸送室）を形成してい
る。また、シリンダ３０には、ポンプ室３１と連絡する
吸入孔３２が形成されている。３３はシリンダ３０の下
端部に装着された吐出ノズル、３４はシリンダ３０の吐
出側端面に締結された吐出プレートである。３５は主軸
２の吐出側端面、主軸２の吐出側端面３５の対向面３６
の中央部に吐出ノズル３３の開口部３７が形成されてい
る。図４で説明した流体圧送手段（機構又は装置）であ
るラジアル溝２８は、スパイラルグルーブ動圧軸受とし
て知られている公知のものであり、また、ねじ溝ポンプ
としても利用されている。

【０１５５】さて実施形態では、超磁歪素子で駆動され
る主軸２（以下ピストンと呼ぶ。）が回転と同時に高速
の直線運動ができることを利用して、次の方法で塗布線
の始終端に係る課題の解決を図った。

【０１５６】塗布開始時には、ピストンを急速に降下
させると同時にモータの回転を開始する。

【０１５７】塗布終了時には、ピストンを上昇させる
と同時にモータの回転を停止する。

【０１５８】上記第２実施形態では、ピストンを超磁歪
素子で駆動しているため、ピストンの入力信号に対する
出力変位の応答性は、１０−３ｓｅｃ（１０００Ｈｅｒ
ｚ）のオーダーである。隙間の変化に対するスクイーズ
圧力発生の間の時間遅れは僅少であるため、モータで回
転数制御を行った第１実施形態の場合と比べて、流量制
御の応答性は１桁〜２桁高い。

【０１５９】図８は、超磁歪素子によって駆動されるピ
ストンの変位曲線、図９はモータの回転数を、Ｎ＝０ｒ
ｐｍからＮ＝２００ｒｐｍまで立ち上げたときに発生す
るねじ溝のポンピング圧力Ｐｐを示す。図１０はピスト
ンを上昇・下降させることによって発生する、吐出ノズ
ルの上流側におけるスクーズ圧力Ｐｓの解析結果を示
す。図１１は、上記ねじ溝のポンピング圧力Ｐｐとスク
ーズ圧力Ｐｓを合成した圧力Ｐｎ（＝Ｐｐ＋Ｐｓ）であ
る。このスクーズ圧力Ｐｓは、次の（１）式のＲｅｙｎ
ｏｌｄｓ方程式を表１の条件下で解いて求めたものであ
る。

【０１６０】

【数１】 （１）式において、Ｐは圧力、μは流体の粘性係数、ｈ
は対向面間の隙間、ｒは半径方向位置、ｔは時間、Ｕは
ｘ方向相対速度、Ｖはｙ方向相対速度、である。また、
右辺が、隙間が変化するときに発生するスクイーズアク
ション効果をもたらす項である。

【０１６１】（１）塗布開始時 塗布開始前の状態では、モータの回転は停止しており、
ピストンはその対向面との間隙：Ｘｐ＝４０μｍの状態
にある。ｔ＝０．０２秒でピストンが間隙：Ｘｐ＝４０
→３０μｍへ急降下を開始すると、吐出ノズルの上流側
圧力：Ｐｎは急上昇する。その理由は、（１）式のＲｅ
ｙｎｏｌｄｓ方程式がｄｈ／ｄｔ＜０のとき発生するス
クイーズ作用によるものである。スクイーズ作用は、粘
性流体を用いた流体軸受の動圧効果の一種である。この
スクイーズ効果による急峻なピーク圧力（オーバーシュ
ート）の発生により、吐出ノズル先端での表面張力に打
ち勝つ大きな運動エネルギが流体に与えられるために、
ノズル先端に流体塊を作ることなく塗布を開始できる。

【０１６２】始点における塗布線をスムーズに描かせる
ためオーバーシュート圧力は、ピストンのストロークが
大きい程、立ち上がり時間が短い程大きい。すなわち、
吐出ノズル先端の流体の表面張力に打ち勝ちと共に、始
点での塗布線の「太り」にならない範囲で、このオーバ
ーシュート圧力の大きさを設定すればよい。

【０１６３】（２）定常走行時 ０．０３＜ｔ＜０．０７秒の間は、ピストンはその対向
面との間隙：Ｘｐ＝３０μｍの状態を保ちながら、ねじ
溝の回転によるポンピング圧力Ｐｂによる定量吐出によ
り、連続線が塗布される。ピストンとその対向面の間に
も流体抵抗があるが、間隙：Ｘｐ＝３０μｍの流体抵抗
は十分に小さいために、必要流量を吐出させることがで
きた。

【０１６４】この区間ではスクイーズ圧力の発生はな
い。この理由は、スクイーズ圧力は隙間ｈが変化してい
るときのみ発生するからである。

【０１６５】（３）塗布終了時 ｔ＝０．０７秒で，モータの減速と同時に、ピストンが
間隙：Ｘｐ＝３０→４０μｍへ上昇を開始すると、吐出
ノズルの上流側圧力Ｐｎは、図１１で示すように、一時
的に急降下する。圧力が急降下する理由は、ピストンが
急上昇してもスラスト端面とその対向面で形成される空
隙部のギャップはまだ十分に狭く、空隙部の外周部から
中心部の間で、求心方向の流体抵抗があるからである。
この流体抵抗により、容易には外周部から流体は補給さ
れず、圧力は降下する。理論的には、Ｒｅｙｎｏｌｄｓ
方程式（（１）式）のｄｈ／ｄｔ＞０となる逆スクイー
ズ作用とも言うべき効果による。

【０１６６】大きなマイナス圧力となっているのは、Ｒ
ｅｙｎｏｌｄｓ方程式が流体の圧縮性を考慮していない
からである。実際は気泡などの発生により流体圧力は絶
対圧力ゼロ以下（Ｐｎ＜０．０ＭＰａ）にはならない。

【０１６７】この急峻な負圧発生によって、吐出ノズル
からの流体が遮断されるだけでなく、ノズル先端の流体
塊をノズル内部に若干量吸引させるサックバックの効果
が得られる。スクイーズ圧力による負圧発生後は、モー
タの回転は停止しているため、ねじ溝のポンピング圧力
による吐出はない。従って、ノズルが非有効表示領域
（Ｕターン区間）を通過している間、ノズル内部の流体
のメニスカスは、ノズル先端で流体塊を作ることなく同
一の位置を保ち続ける。そのため、前述した流体塊のボ
タ落ちなどのトラブルは回避できる。

【０１６８】なお、実施形態では、ピストンとその対向
面の最小隙間は、Ｘｍｉｎ＝２０μｍに設定している。
実施形態の蛍光体の粒径はφｄ＝７〜９μｍであり、Ｘ
ｍｉｎ＞φｄであるため、吸入口から吐出口に至る通路
で蛍光体の微粒子を機械的に圧搾・破損することはな
い。

【０１６９】すなわち、上記ピストンとその対向面の隙
間は、上記ペースト遮断時、吐出材料に含まれる粒子の
粒径よりも大きく形成されている。上記吸入口から上記
吐出ノズルに至る流通路において、上記ペースト遮断時
の最小隙間は、８μｍ以上が好ましい。

【０１７０】

【表１】

【０１７１】上記第２実施形態では、塗布線の始点・終
点をスムーズに描かせるためのオーバーシュート圧力と
サックバック圧力を、ピストンの軸方向運動によって得
ることができた。上記第２実施形態では、ピストン変位
曲線（図８に一例を示す）は任意の形状を設定すること
ができる。また、ピストンを駆動する超磁歪素子は高い
応答性をもつために、変位曲線が急峻な変化をしても十
分に追従できる。すなわち、超磁歪素子の変位・速度制
御により、モータの回転数制御ではできない微妙な始終
端の吐出圧力と流量の制御ができる。

【０１７２】上記第２実施形態では、超磁歪素子の軸方
向変位の制御と、モータの回転数制御を組み合わせるこ
とにより、連続塗布線の始終端の課題を解決すると共
に、Ｕターン区間において、吐出ノズルから材料のリー
クが無い完全遮断状態を任意の時間保つことができる。
第１実施形態で示したように、モータ回転数の基本入力
波形Ｎｓに、補正項ΔＮを加える方法と上記第２実施形
態の方法を組み合わせてもよい。

【０１７３】Ｕターン区間を十分に短く設定できる場合
は、後述する実施形態のように、モータの回転を維持し
たままで、ピストンのみの駆動により終点での流量遮断
と始点での開放ができる。

【０１７４】上記第２実施形態では、超磁歪素子を用い
た２自由度アクチュエータにより、ピストンに軸方向移
動と回転の両方の機能を与えてポンプ部を構成した。こ
の構成の代わりに、例えば、軸方向に移動しない回転軸
（外周側ピストン）を円筒形状として、この回転軸に中
心軸（内周側ピストン）を挿入し、回転軸をモータで駆
動し、中心軸を固定側に設置された電磁歪素子等で軸方
向に駆動させる構成でもよい。この場合、内周側ピスト
ンの吐出側端面とその対向面の隙間を増減させることに
より、終点での流量遮断と始点での開放ができる。要
は、流体輸送室の空間を増減できればよいのである。ま
た、外周側ピストンとこの外周側ピストンを収納する固
定側の相対移動面にねじ溝を形成すれば、上記第２実施
形態と同様に流体圧送手段（機構又は装置）にできる。

【０１７５】ディスプレイパネルのＰＤＰ用基板６１の
外周部（図２の６３）に障害物（例えばウオール）があ
る場合は、ディスペンサーの本体と障害物が接触しない
範囲で、吐出ノズル３３の全長を長くとればよい。

【０１７６】また、流体圧送手段（機構又は装置）であ
るねじ溝ポンプは、本発明を実施する上で必ずしも必要
ではない。外部に設置された圧力源（ポンプ或いはエア
ー圧）を利用して、流体をポンプ室３１に供給してもよ
い。この場合はピストンにねじ溝は形成する必要は無
い。例えば、流体圧送手段（機構又は装置）にエアー圧
を利用して、かつＵターン区間を十分に短く設定できる
場合は、ピストンのみの駆動により、始終点での流量遮
断と開放の制御をすればよい。

【０１７７】以下、本発明の第３実施形態について、図
１２〜図１６を用いて説明する。第３実施形態は、ディ
スプレイパネルのＰＤＰ用基板６１における塗布行程に
おいては、連続吐布停止後、塗布を再開させるまでの時
間、すなわち、ディスペンサーが非表示領域（Ｕターン
区間）を走行するために与えられる時間は、極めて短い
時間しか許されないという量産上の制約条件を逆に利用
したものである。すなわち、この「短い有限の時間のみ
有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有するマイク
ロ・ディスペンサー（仮称）と、外部に設置された「流
体圧力の発生源」を組み合わせることにより、極めてシ
ンプルな構成で、前述したディスペンサー塗布方式にお
ける始終端の課題を解決したものである。

【０１７８】図１２に、本発明の第３実施形態に適用し
たマイクロ・ディスペンサー２００の正面断面図を示
す。２０１は直動型のアクチュエータであり、超磁歪素
子等による電磁歪型のアクチュエータ、静電型アクチュ
エータ或いは電磁ソレノイド等より構成される。上記第
３実施形態では、高い位置決め精度が得られ、高い応答
性を持つと共に大きな発生荷重が得られる超磁歪素子を
用いた。

【０１７９】２０２は第１のアクチュエータ２０１によ
って駆動されるピストン、２０３はこのピストン２を吐
出側端部で収納する固定スリーブ、２０４はアクチュエ
ータ２０１を収納するハウジング、２０５は固定スリー
ブ２０３を吐出側で固定する下部ハウジングである。２
０６は超磁歪材料から構成される円筒形状の超磁歪ロッ
ドであり、この超磁歪ロッド２０６は第１及び第２バイ
アス永久磁石２０７、２０８を上下に挟んだ形で、上部
ヨーク２０９とヨーク材を兼ねた固定スリーブ２０３の
間に固定されている。２１０は超磁歪ロッド２０６の長
手方向に磁界を与えるための磁界コイル、２１１は円筒
形状のヨークでありハウジング２０４に収納されてい
る。超磁歪ロッド２０６→第１バイアス永久磁石２０７
→上部ヨーク２０９→ヨーク２１１→固定スリーブ２０
３→第２バイアス永久磁石２０８→超磁歪ロッド２０６
により、超磁歪ロッド２０６の伸縮を制御する閉ループ
磁気回路を形成している。すなわち、部材２０６〜２１
１により、磁界コイルに与える電流で超磁歪ロッドの軸
方向の伸縮量を制御できる超磁歪アクチュエータ１を構
成している。ピストン２０２は円筒形状をした上部ヨー
ク２０９と一体化して上方向にも伸びており、上部スリ
ーブ２１２に収納されている。ピストン２０２はこの上
部スリーブ２１２に対して、軸方向に移動可能なよう
に、軸受部２１３によって支持されている。上部スリー
ブ２１２と上部ヨーク２０９の間には、超磁歪ロッド２
０６に機械的な軸方向与圧を与えるバイアスバネ２１４
が設けられている。上部スリーブ２１２の上端の中心部
には、ピストン２０２の端面位置を検出する変位センサ
ー２１５が調節自在に配置されている。２１６はピスト
ン２０２の小径部であるピストン細径軸、２１７は下部
ハウジング２０５に形成された吸入口、２１８はノズル
部、２１９はこのノズル部２１８に形成された吐出ノズ
ルである。吸入口２１７から流入した加圧流体は、固定
スリーブ２０３と下部ハウジング２０５で形成される流
体貯蔵室２２０に流入し、さらに後述する流体絞り部２
２１を経て、吐出ノズル２１９に流入する。ピストン細
径軸２１６の吐出側端面とその対向面及び下部ハウジン
グ２０５の間で、吐出流量を制御する流量制御部２２２
が構成されている。

【０１８０】図１３は前述した流量制御部２２２の近傍
の拡大図であり、２２３はピストン細径軸２１６（ピス
トン２０２）の吐出側端面、２２４はスリーブ２０３の
吐出側端面、２２５は２２３，２２４の対向面である。
２２６はピストン細径軸２１６と固定スリーブ２０３の
内面の間に設けられた流体シールである。２２８は吐出
ノズルの入口部に形成された液溜まり部である。ピスト
ン細径軸２１６の吐出側端面２２３とその対向面２２５
により、ピストン２０２の上昇・下降によって、容積の
変化するポンプ室２２７（流体輸送室）を形成してい
る。

【０１８１】以下、流体制御部２２２が下記表２の条件
で構成された場合について、前述したＲｅｙｎｏｌｄｓ
方程式（（１）式）を用いて、吐出流量を求める解析を
行なった。

【０１８２】解析条件は、流体の粘度：μ＝１０，００
０ｃｐｓ、体積弾性係数：Ｋ＝３００ｋｇ／ｃｍ^２、
（２９．５ＭＰａ）、境界部（流体絞り部２２１の外周
部）圧力：Ｐｓ＝２０ｋｇ／ｃｍ^２（２．０６ＭＰａ）
である。

【０１８３】

【表２】

【０１８４】上記条件下で得られる吐出流量の解析結果
を図１４に示す。

【０１８５】（１） 解析のスタート段階（ｔ＝０）で
は、流量（圧力）の初期値を適当な値を仮定している
が、すみやかに一定値に収束する。０＜ｔ＜０．０３秒
の間は連続描画の状態にある。

【０１８６】（２） ｔ＝０．０３秒でピストンが上昇
を始めると、吐出流量は急速に低下し、開始から０．０
０３ｓｅｃ（３ｍｓｅｃ）程度の立下り時間でたちまち
吐出は遮断される。

【０１８７】（３） ０．０３＜ｔ＜０．０８秒の区間
では、吐出流量はゼロである。この区間はピストンは一
定の速度で上昇中である。

【０１８８】表２から、実施形態ではピストンストロー
ク：Ｘｓｔ＝５０μｍ、ピストン動作時間：Ｔｐ＝０．
０５ｓｅｃであるため、ピストンの上昇速度：ｖ＝５０
μｍ／０．０５ｓｅｃ＝１．０ｍｍ／ｓｅｃである。

【０１８９】（４） ｔ＝０．０８秒でピストンが停止
すると、以降０．０１ｓｅｃ程度の立ち上がり時間で連
続塗布の状態にすみやかに復帰する。

【０１９０】以上の結果から、応答性の優れたアクチュ
エータを用いて、吐出流路の内部空間を急峻に増大させ
る実施形態の方法により、０．０１秒或いはそれ以下の
オーダーの極めて応答性の優れた流量制御ができること
がわかる。

【０１９１】但し、吐出流量がゼロである時間はピスト
ンが上昇している間だけである。この遮蔽時間は、アク
チュエータの限界ストロークと上昇速度により決まる。

【０１９２】超磁歪素子を用いたアクチェータの場合、
素子１０ｍｍの長さでほぼ１０μｍの変位が得られる。
圧電素子を採用するならば、ほぼその半分の変位とな
る。

【０１９３】従って、図１２の実施形態において、表２
の条件下では、例えば、５０ｍｍの長さの超磁歪素子の
ロット２０６を用いれば、Ｔｐ＝０．０５秒の間、吐出
量をＯＦＦにできる。

【０１９４】上記解析では、液溜り部２２８の容積を大
きく設定し、また、液溜り部２２８の流体の圧縮性を考
慮しているが、非圧縮性に近い流体ならば、前述した立
ちあがり・立下り時間は、アクチュエータの応答性の限
界に近いところまで小さくできる。

【０１９５】ちなみに、超磁歪素子、圧電素子などの電
磁歪素子の場合、通常、１０^―４ｓｅｃのオーダーの応
答性が得られる。

【０１９６】電磁ソレノイド等のアクチェータも適用可
能であり、電磁歪素子と比べて応答性は１桁程悪くなる
が、ストロークの制約（すなわち許容停止時間）は大幅
に緩和される。

【０１９７】本発明の原理を直感的に理解しやすくする
ために、図１３の流量制御部２２２を図１５のような電
気回路モデルに置き換えてみる。

【０１９８】図１５において、Ｐｓは流体絞り部２２１
の境界圧力、Ｒ_０は流体絞り部２２１の流体抵抗、Ｒｎ
は吐出ノズル１９の流体抵抗、Ｑｐはピストン細径軸２
１６の上昇速度とピストン面積で決まる流量源の大き
さ、Ｑｎは吐出ノズル２１９を通過する流量を示す。

【０１９９】ここで、吐出ノズル２１９を通過する流量
Ｑｎは、

【０２００】

【数２】

【０２０１】Ｑｎ＜０のとき、すなわち、次の条件のと
き吐出は遮断される。

【０２０２】

【数３】

【０２０３】上記（３）式から、流量制御を可能にする
ためには、流体絞り部２２１を設けて、かつ、流体絞り
部２２１がある値以上の流体抵抗Ｒ_０を持つことが必要
条件ということが分かる。この流体絞り部に相当する部
分（流路面積が他の通路と比べて絞られた部分）は、流
体の供給源から流量制御部に至る通路のいずれかに設け
れば良い。

【０２０４】ピストンの最下点における対向面との隙間
Ｘｍｉｎを十分に小さく設定した場合は、ピストンの吐
出側端面２２４とその対向面２２５間の半径方向の流体
抵抗Ｒｓにより、この流体抵抗Ｒｓを上記流体抵抗Ｒ_０
に置き換えることができる。この場合は、固定スリーブ
２０３は省略できる。但し、流体抵抗Ｒｓが有効な値を
持つのは、ピストンとその対向面との隙間が十分に小さ
い間だけであり、ピストンが高く上昇した状態では流量
遮断の条件である式（３）は保てなくなる。その結果、
遮断状態を保てる時間は小さくなる。

【０２０５】上記第３実施形態では、「短い有限の時間
のみ有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有するデ
ィスペンサーと、外部に設置された「流体圧力の発生
源」の２つを組み合わせて、描画線の始終端の課題の解
決を図っている。千本〜数千本のスクリーンストライプ
を、高い生産効率でディスプレイパネルに描くために
は、塗布装置に配置できるディスペンサーの本数はでき
るだけ多い方が好ましい。上記第３実施形態の場合、デ
ィスペンサーは細径でかつシンプルな構成にできるた
め、図１６に示すように、マルチヘッド化が容易であ
る。

【０２０６】図１６において、２５０は「短い有限の時
間のみ有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有する
マイクロ・ディスペンサー、２５１は「流体圧力の発生
源」であるマスターポンプ、２５２はガラス基板であ
る。マスターポンプ２５１は、等ピッチで配設された複
数本のマイクロ・ディスペンサーに、同時に、図２５に
示すように、複数本のストライプ状の塗布線を描かせる
ための流量供給能力と、発生圧力が必要である。

【０２０７】ここで、図１６のマルチヘッド化されたパ
ターン形成装置でＰＤＰ用基板６１に、複数の蛍光体ペ
ースト層を同時的に吐出形成する例を図２５に示す。図
２５において、ディスペンサー５５の図２の準備位置
ａ、塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、屈曲位置ｄ、屈
曲位置ｅ、塗布開始位置ｆ、塗布終了位置ｇは、それぞ
れ、１つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準
備位置ａ_１、塗布開始位置ｂ_１、塗布終了位置ｃ_１、屈
曲位置ｄ_１、屈曲位置ｅ_１、塗布開始位置ｆ_１とが対応
し、２つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準
備位置ａ_２、塗布開始位置ｂ_２、塗布終了位置ｃ_２、屈
曲位置ｄ_２、屈曲位置ｅ_２、塗布開始位置ｆ_２とが対応
し、３つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準
備位置ａ_３、塗布開始位置ｂ_３、塗布終了位置ｃ_３、屈
曲位置ｄ_３、屈曲位置ｅ_３、塗布開始位置ｆ_３とが対応
する。そして、これらの３本の塗布線は、３本のマイク
ロ・ディスペンサーが同期して移動することにより、同
時的に吐出されて塗布される。

【０２０８】なお、マスターポンプ２５１は、図１６に
示すように、多数のマイクロ・ディスペンサーに対して
１個配置するものに限らず、任意の本数のマイクロ・デ
ィスペンサーにグループ分けして、各グループに対して
１個配置するようにしてもよいし、１本のマイクロ・デ
ィスペンサーに対して１個配置するようにしてもよい。

【０２０９】上記第３実施形態では、このマスターポン
プ２５１に、第１の実施形態（図３参照）と同様の構造
であるねじ溝ポンプを用いる。ねじ溝ポンプの場合、
粉粒体（蛍光体材料）を機械的に非接触の状態で、吸入
口から吐出口に輸送できる、流量を回転数によって可
変できる、定流量特性が得られる、流動性の悪い蛍
光体材料に、回転によるせん断力を与えることにより低
粘度化が図れる、等の特徴を有する。

【０２１０】マスターポンプとしては、ねじ溝ポンプ以
外にも、ギヤポンプ、トロコイドポンプ、モーノポンプ
などが本発明に適用できる。また、ポンプの代わりに外
部に設置されたエアー源を利用して、エアー圧でもって
マイクロ・ディスペンサーに蛍光体材料を供給すれば、
塗布装置全体は大幅に簡素化される。

【０２１１】なお、回転運動と直線運動の「２自由度ア
クチュエータ」を有する第２実施形態のディスペンサー
の場合でも、直線運動を与えるアクチュエータのストロ
ークを十分大きくとれるならば、Ｕターン区間におい
て、本実施形態と同様の流量制御ができる。すなわち、
モータの回転を維持したままで、ピストンの直線運動の
みを制御することにより、有効表示領域と非有効表示領
域における蛍光体ペーストの吐出遮断・開放を制御でき
る。すなわち、モータの回転状態を維持したままで、 塗布開始時には、ピストンを降下させる。

【０２１２】塗布終了時には、ピストンを上昇させ
る。

【０２１３】この場合、流量制御を可能にするための条
件、流体絞り部を有しかつその流体絞り部がある値以上
の流体抵抗Ｒ_０を持つという条件を満たすためには、ピ
ストンとその対向面間のスラスト抵抗以外に、ねじ溝ポ
ンプ自身が持つ内部抵抗を利用すればよい。ねじ溝ポン
プが定流量特性である程、また、流量が小さい程、吐出
遮断状態を長く保てることができる。

【０２１４】以下、本発明の第４実施形態について、図
１７〜図１９を用いて説明する。第４実施形態は、第３
実施形態におけるピストンとこのピストンを収納するス
リーブのいずれも軸方向移動できる機能を与えることに
より、塗布始終端のさらなる改良を図ったものである。
第３実施形態における「１重ピストン方式」に対して、
以下、第４実施形態のディスペンサーを「２重ピストン
方式」と呼ぶことにする。

【０２１５】図１７において、５０１は上部アクチェー
タ、５０２は下部アクチェータ、５０３はこの下部アク
チェータの自由端側に固定された可動スリーブ、５０４
は上記上部アクチェータの自由端側５０５に固定された
ピストン、５０６はこのピストンの細径部である。５０
７は上記アクチェータ５０１、５０２を収納する上部ハ
ウジングであり、５０８は上記アクチェータ５０１、５
０２を構成する各圧電素子の固定部である。５０９は下
部ハウジングであり、上部ハウジング５０７と締結され
ている。５１０は可動スリーブ５０３と下部ハウジング
５０９間に装着された接触型のシール部、５１１は吸入
口である。

【０２１６】５１２は下部アクチェータ５０２に軸方向
バイアス荷重を与えるためのバイアスバネであり、可動
スリーブ５０３と下部ハウジング５０７間に装着されて
いる。５１３は下部ハウジング５０９に固定された下部
プレート、５１４はこの下部プレートの中心部でピスト
ン細径部５０６の端面５１５の対向面に位置するところ
に形成された吐出口の開口部である。５１６は下部プレ
ート５１３に締結された吐出ノズルである。５１７は可
動スリーブ５０３と下部ハウジング５０９で形成される
空間を利用した流体貯蔵部であり、外部に配置された流
体供給源（図示せず）と、吸入口５１１を介して繋がっ
ている。５１８は、可動スリーブ５０３、ピストン細径
部５０６、下部プレート５１３で形成される空間である
ポンプ室（流体輸送室）である。

【０２１７】５１９はピストン５０４の上端で、上部プ
レート５２０に固定されたピストン用変位センサーであ
り、ピストン５０４の固定側に対する絶対位置を検出す
る。５２１は上部ハウジング５０７の内面に固定された
差動トランス式変位センサーのステータ部、５２２は可
動スリーブ５０３側に固定されたロータ部である。差動
トランスは電気マイクロメータなどに用いられているも
ので、可動スリーブ５０３の軸方向位置を検出する。５
２３は上部アクチェータ５０１（圧電素子）に軸方向バ
イアス荷重を与えるためのバイアスバネであり、ピスト
ン５０４と上部プレート５２０間に装着されている。

【０２１８】上記第４実施形態では、可動スリーブ５０
３の軸方向位置は、差動トランスによる変位センサーに
より、正確に検出できる。そのため、２つのアクチェー
タ５０１、５０２の動作のタイミングを適格に合わせた
制御が可能になると共に、両アクチェータの厳密な変位
と速度制御ができる。

【０２１９】また、上記第４実施形態で示したように、
可動スリーブの位置検出に中空の検出用ロータ５２２と
検出用ステータ５２１から構成される変位センサーを用
いることにより、円筒形状のハウジング５０７，５０９
が細径のままで、ディスペンサ−全体を構成できる。

【０２２０】上記第４実施形態では、２つのアクチェー
タ、２つのセンサー、ピストン、吐出ノズルをいずれも
軸方向に軸対称配置した構成となっている。例えば、超
磁歪素子、圧電素子は、周知のようにその外径を数ミリ
以下の小型化が可能である。

【０２２１】従って、「２重ピストン方式」である上記
第４実施形態を用いれば、第３実施形態と同様に、マス
ターポンプと組み合わせたマルチヘッド・ディスペンサ
ーが容易に実現できる。

【０２２２】図１８（Ａ）は本発明の第４の実施形態を
適用したバルブの時間ｔに対するピストンの変位Ｘｐと
可動スリーブＸｓの一例を示す。図１８（Ｂ）はバルブ
のモデル図を示し、５５０はピストン、５５１は可動ス
リーブ、５５２はポンプ室（流体輸送室）、５５３は吐
出ノズルである。

【０２２３】図１９は、本発明の第４の実施形態を適用
したバルブの「時間に対する吐出ノズル上流側の圧力Ｐ
ｎ特性」を、従来バルブの対比のもとで示すものであ
る。ここで、従来バルブとは、吐出ノズルの入口部にニ
ードルバルブを設けて、このニードルバルブを構成する
スプールを軸方向に移動させることにより、吐出口を開
閉させるディスペンサーの形態を示す。すなわち、流
体の吐出開放時にピストン端面間のギャップを増大させ
る、吐出遮断時にはピストン端面間のギャップを減少
させる構造を示す。従って、第３の実施形態（１重ピス
トン方式）と比べて、ピストンの動作、は逆とな
る。

【０２２４】従来のバルブを用いて、流体を開放するた
めにピストン（図示せず）とその対向面のギャップＸを
増加させたとき、流体輸送室であるポンプ室（図示せ
ず）の容積増大により吐出ノズル上流側（ポンプ室）の
圧力Ｐは、図１８（Ａ）で示すように大きく降下する。
この吐出ノズル上流側の負圧発生は、「描画の始点で線
が描けない」、或いは「描画線の細り」などの要因とな
る。

【０２２５】さらに、流体を遮断するためにギャップＸ
を小さくしたとき、吐出ノズル上流側の圧力Ｐは逆に大
きく増大する。この高圧発生は、流体の圧縮、或いはス
クイーズ作用と呼ばれる流体軸受の動圧効果によるもの
である。この高圧発生が不利な方向に作用して、描画の
終点で「液溜まり発生」の要因となる。

【０２２６】さて、本発明の第４の実施形態を適用した
バルブ用いて、図１８（Ａ）のごとく、ピストン５５０
と可動スリーブ５５１を逆位相で駆動させる。

【０２２７】このとき、ピストン５５０と可動スリーブ
５５１の軸方向移動が逆位相であるために、ポンプ室の
容積変化はキャンセルされる。その結果、「描画線の細
り」「液溜まり発生」などのトラブルが発生する図１９
のＡに対して、図１９にＢで示すごとく、描画開始時の
負圧発生と終了時の高圧発生が低減し、「描画線の細
り」「液溜まり発生」などのトラブルが解消されるので
ある。

【０２２８】なお、ピストン５５０の変位Ｘｐが最下点
の位置にあるＸｐ＝Ｘｐｍｉｎのときでも、Ｘｐｍｉｎ
を十分大きく設定しておけば、ピストン５５０の存在が
流路抵抗（すなわち流量）に与える影響を小さくでき
る。

【０２２９】第１、第２のアクチュエータを駆動するド
ライバーはそれぞれ独立して設けてもよいし、或いは１
台でそれぞれのアクチュエータを逆位相で駆動してもよ
い。

【０２３０】ピストン或いは可動スリーブの吐出側端面
とその対向面の形状が平坦面でないバルブの場合でも、
従来バルブが抱える問題点と本発明の第４の実施形態の
適用による効果は同様である。例えば、ピストンの先端
を鋭敏な凸面とし、その対向面を凹面としてバルブを構
成しても、本発明を適用することができる。この場合
は、ピストンの凸面と対向面（固定側）の凹面を近接さ
せることにより流体を遮断する。そのため、図１７の第
４実施形態とは異なり、可動スリーブが上昇してピスト
ンが降下するとき流体は遮断され、逆の場合は流体は開
放される。

【０２３１】この場合は、可動スリーブの変位Ｘｓが最
下点の位置にあるＸｓ＝ＸｓｍｉｎのときでもＸｓｍｉ
ｎが十分大きくなるように設定しておけばよい。

【０２３２】いずれの場合も最適な描画線を描くために
は、適用するプロセスと塗布材料の特性に合わせて、ピ
ストンと可動スリーブの変位曲線を微調整すればよい。

【０２３３】第３実施形態における「１重ピストン方
式」と比べて、「２重ピストン方式」である上記第４実
施形態の長所は次のようである。

【０２３４】塗布開放時及び定常塗布時では、ピストン
５５０の下降と同時に、スリーブ５５１を大きく上昇で
きる。スリーブ５５１とその対向面の隙間：Ｘｓを十分
に大きくとれるため、吸入口から吐出ノズルに至る流通
路に大きな流体抵抗Ｒ_０｛（３）式｝を設けなくてよ
く、十分な吐出流量を確保できる。

【０２３５】また、塗布遮断時には、逆にスリーブ５５
１とその対向面の隙間：Ｘｓを十分に小さくできるた
め、ポンプ室５５２は外部と遮断された密閉状態とな
る。この密閉状態でピストン５５０を上昇することによ
り、ポンプ室５５２の圧力を急速に降下できるため、レ
スポンスの一層高い吐出遮断が可能となる。

【０２３６】上記第４実施形態のディスペンサーでは、
ピストンとスリーブの変位曲線は任意に設定できるた
め、始点におけるオーバーシュート圧力と、終点におけ
るサックバック圧力は要求されるプロセス条件に合わせ
て自由に設定できる。ピストンとスリーブの変位曲線は
完全な逆位相でなくてもよい。

【０２３７】また、超磁歪素子を用いて、第２実施形態
のごとくスリーブを回転させる構造にすれば、動圧シー
ルによる永続的な吐出遮断ができる構成も可能である。

【０２３８】以下、本発明を、第５実施形態として蛍光
体層形成方法及び形成装置に適用したディスペンサーに
ついて、図２０〜２２を用いて説明する。

【０２３９】以下に示す第５実施形態のディスペンサー
は、ピストンに回転運動と直線運動を同時に与える２自
由度アクチュエータを用いているという点は、第２実施
形態同様である。第５実施形態では、流体の遮断方法に
第２〜４実施形態で示したスクイーズ効果を用いるので
はなく、スラスト動圧シールによるくさび効果を利用し
ている。すなわち、 ピストンの吐出側端面とその相対移動面の間にスラス
ト動圧シールを形成し、第１のアクチュエータでピスト
ンを直線駆動させて、ピストン端面間のギャップを調節
することにより、流体の遮断・開放を制御する。

【０２４０】回転運動を与える第２のアクチュエータ
で、ねじ溝が形成されたピストンを回転させて、塗布流
体を吐出側に圧送するポンピング圧力を発生させる。

【０２４１】上記、を同時に実現したものである。

【０２４２】図２０において、１０１は第１のアクチェ
ータであり、第２実施形態同様、超磁歪素子を用いてい
る。１０２は第１のアクチェータ１０１によって駆動さ
れる主軸（ピストン）である。上記第１のアクチェータ
は、下部ハウジング１０３に収納されており、この下部
ハウジング１０３の下端部（フロント側）に、主軸１０
２を収納するポンプ部１０４が装着されている。

【０２４３】１０５は第２のアクチェータであり、主軸
１０２とハウジング１０３の間に相対的な回転運動を与
えるものである。モータロータ１０６は上部主軸１０７
に固着され、また、モータステータ１０８は上部ハウジ
ング１０９に収納されている。

【０２４４】１１１、１１２は超磁歪素子から構成され
る円筒形状のリア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪
ロッドである。１１３は超磁歪ロッド１１，１２の長手
方向に磁界を与えるための磁界コイルである。１１４、
１１５、１１６は超磁歪ロッド１１１，１１２にバイア
ス磁界を与えるためのリア側、中間部、フロント側の永
久磁石である。リア側とフロント側の永久磁石１１４、
１１６が、超磁歪ロッド１１１，１１２と中間部永久磁
石１１５を矜持する形で配置されている。

【０２４５】１１７は超磁歪ロッド１１１のリア側に配
置され、磁気回路のヨーク材をであるリア側ヨーク、１
１８は超磁歪ロッド１１２のフロント側に配置され、ヨ
ーク材を兼ねたフロント側スリーブ、１１９は磁界コイ
ル１１３の外周部に配置された円筒形状のヨーク材であ
る。

【０２４６】すなわち、超磁歪ロッド１１１，１１２、
磁界コイル１１３、永久磁石１１４〜１１６、リア側ヨ
ーク１１７、フロント側スリーブ１１８、ヨーク材１１
９により、磁界コイルに与える電流で超磁歪ロッドの軸
方向の伸縮を制御できる超磁歪アクチェータ（第１のア
クチェータ１０１）を構成している。

【０２４７】１２０は上部主軸７を回転自在、かつ軸方
向に移動可能に収納するリア側スリーブである。このリ
ア側スリーブ１２０もまた、軸受１３９により、中間ハ
ウジング１２１に対して回転自在に支持されている。

【０２４８】１２２はリア側ヨーク１１７とリア側スリ
ーブ１２０の間に装着されたバイアスバネである。この
バイアスバネ１２２から加わる軸方向荷重により、超磁
歪ロッド１１１，１１２はバイアス永久磁石１１４〜１
１６を介在して、上下のリア側ヨーク１１７，フロント
側スリーブ１１８に押圧される形で把持されている。フ
ロント側スリーブ１１８は主軸２を軸方向移動可能に収
納している。モータ１０５から伝達された主軸１０２の
回転動力は、主軸１０２、フロント側スリーブ１１８の
間に設けられた回転伝達キー１２３によってフロント側
スリーブ１１８に伝達される。また、フロント側スリー
ブ１１８も軸受１２４によって、ハウジング１０３に回
転自在に支持されている。

【０２４９】１２５は上部主軸１０７の回転位置情報を
検出するためのエンコーダ、１２６は上部主軸１０７
（及び主軸１０２）の上端面１２７の軸方向変位を検出
するための変位センサーである。

【０２５０】上記構成により、第２の実施形態同様に、
装置の主軸１０２が回転運動と微少変位の直線運動の制
御を同時に、かつ独立して行うことができる「２自由度
・複合動作アクチュエータ」が実現できる。

【０２５１】さて、上記第５実施形態では、主軸１０２
の軸方向位置決め機能を用いて、主軸１０２の定常回転
状態を保ったままで、主軸１０２の吐出側端面の隙間の
大きさを任意に制御することができる。この機能を用い
て、吸入口１３２から吐出ノズル１３３に至るいかなる
流通路の区間も機械的に非接触の状態で、始終端におけ
る粉粒体の遮断・開放の制御ができる。

【０２５２】すなわち、ディスペンサーの吐出ノズル１
３３と基板が有効表示領域６０ａ内［図２参照］を相対
的に走行するときは、主軸１０２は上昇した位置にあ
り、吐出側端面の隙間は十分に大きく、蛍光体ペースト
の吐出は開放されている。また、吐出ノズル１３３と基
板が非有効表示領域６０ｂ内［図２参照］を相対的に走
行を始める手前で主軸１０２は下降を開始する。その結
果、スラスト動圧シールの機能がすみやかに働き、蛍光
体ペーストの吐出は遮断される。

【０２５３】以下、スラスト動圧シールの原理を、ポン
プ部１０４の詳細図である図２１と動圧シールの変位と
発生圧力の関係を示す図２２（Ａ）〜（Ｃ）を用いて説
明する。

【０２５４】１２８は主軸１０２の外表面に形成された
流体を吐出側に圧送するためのラジアル溝（図２０では
溝の部分を黒く塗りつぶしている一方、図２１では溝の
部分にハッチングしている。）、１２９は流体シール、
１３０はシリンダである。

【０２５５】この主軸１０２とシリンダ１３０の間で、
主軸１０２とシリンダ１３０の相対的な回転によってポ
ンピング作用を得るためのポンプ室１３１を形成してい
る。また、シリンダ１３０には、ポンプ室１３１と連絡
する吸入孔１３２が形成されている。１３３はシリンダ
１３０の下端部に装着された吐出ノズル、１３４はシリ
ンダ１３０の吐出側端面に締結された吐出プレートであ
る。１３５は主軸１０２の吐出側端面に締結されたスラ
ストプレートである。主軸１０２の吐出側端面１３６の
対向面１３７の中央部に吐出ノズル１３３の開口部１３
８が形成されている。

【０２５６】また、スラストプレート１３５の吐出側端
面１３６スラスト動圧シールの溝１３９（図２２（Ｂ）
では溝の部分を黒く塗りつぶしている。）が形成されて
いる。

【０２５７】シール用スラスト溝１３９は、スラスト動
圧軸受として知られている公知のものである。

【０２５８】さて、スラスト軸受の発生できるシール圧
力Ｐｓは次式で与えられる。

【０２５９】

【数４】

【０２６０】（４）式において、ωは回転角速度、ｒ_０
はスラスト軸受の外半径、ｒ_ｉはスラスト軸受の内半
径、ｆは溝深さ、溝角度、グルーブ幅とリッジ幅などで
決まる関数である。

【０２６１】図２２（Ｃ）のグラフにおける曲線（Ｉ）
は、下記表３の条件下で、スパイラルグルーブ型スラス
ト溝を用いた場合のギャップδに対するシール圧力Ｐ_Ｓ
の特性を示すものである。図２２（Ｃ）のグラフにおけ
る曲線（ＩＩ）は、軸方向流動が無い場合について、ラ
ジアル溝のポンピング圧力と軸先端のギャップδの関係
を示す一例である。このラジアル溝のポンピング圧力
は、上記スラスト溝同様、ラジアル隙間、溝深さ、溝角
度の選択によって広い範囲で選ぶことができる。しかし
定性的には、ラジアル溝のポンピング圧力Ｐｒは軸先端
の空隙の大きさ（すなわちギャップδの大きさ）に依存
しない。

【０２６２】さて、シール用スラスト溝のギャップδが
十分大きいとき、例えばギャップδ＝１５μｍのとき、
発生圧力はＰ＝０．０６ｋｇ／ｍｍ^２（０．６９ＭＰ
ａ）である。

【０２６３】軸を回転させたままで、主軸１０２の端面
を固定側の対向面に接近させる。ギャップδ＜１０．０
μｍなると、シール圧力がラジアル溝のポンピング圧力
Ｐｒより大きくなり、流体の吐出口側への流出は遮断さ
れる。

【０２６４】図２１は流体の流出が遮断された状態を示
し、吐出ノズルの開口部１３８近傍の流体は、スラスト
溝１３９によって遠心方向のポンピング作用［図２１の
矢印参照］を受けているために、開口部１３８近傍は負
圧（大気圧以下）となる。この効果により、遮断後、吐
出ノズル１３３内部に残存していた流体は再びポンプ内
部に吸引される。その結果、吐出ノズル先端で表面張力
による流体魂ができることはなく、糸引き、洟垂れが解
消されるのである。

【０２６５】さて、本発明の上記第５実施形態では、回
転軸を１０〜数１０μｍ程度軸方向に移動させることに
より、流体の吐出状態のＯＮ，ＯＦＦを自在に制御する
ことができる。

【０２６６】本発明の上記実施形態のポイントを要約す
れば、スラスト溝によるシール圧力は、ギャップδが小
さくなると急激に増大するのに対して、ラジアル溝のポ
ンピング圧力はギャップδの変化に対して極めて鈍感で
ある、という点を利用している。

【０２６７】なお、ラジアル溝、スラスト溝いずれも回
転側、固定側のどちらに形成してもよい。

【０２６８】また、微少粒子が含まれた蛍光体、電極材
料のような粉粒体を塗布する場合は、ギャップδの最小
値δｍｉｎは微少粒子径φｄよりも大きく設定すればよ
い。

【０２６９】

【数５】δｍｉｎ＞φｄ ……（５）

【０２７０】同一の発生圧力に対して、より大きなギャ
ップを得るためには、回転数を高くするか、スラストプ
レート１３５の外径を大きくかつ溝深さ、溝角度等に適
切な値を選べば良い。

【０２７１】

【表３】

【０２７２】上記第５実施形態では、スラスト動圧シー
ルが形成された吐出部に蛍光体ペーストを供給する圧力
源として、ねじ溝ポンプを用いた。このねじ溝ポンプの
代わりに、外部に設置されたポンプを塗布流体の圧力源
としてもよい。或いは、工場内で常備されたエアー圧で
もよい。要は、スラスト動圧シールが発生できる最大シ
ール圧力以下に、圧力源の供給圧を設定すればよい。

【０２７３】以下、上記第１〜５実施形態ともである
が、高粘度流体を吐出させる場合、ポンピング圧力、ス
クイーズ圧力共極めて大きな流体圧の発生が予想され
る。この場合、ピストンを駆動する第１のアクチェータ
には、高い流体圧に抗する大きな推力が要求されるた
め、数百〜数千Ｎの力が容易に出せる電磁歪型アクチェ
ータの適用が効果的である。電磁歪素子は、数ＭＨＺ以
上の周波数応答性を持っているため、主軸を高い応答性
で直線運動させることができる。そのため、高粘度流体
の吐出量を高いレスポンスで高精度に制御できる。

【０２７４】また、軸方向駆動手段（機構又は装置）に
超磁歪素子を用いた場合、圧電素子を用いる場合と比べ
て、伝導ブラシも省略できることから、モータ（回転手
段（機構又は装置））の負荷を軽減できると共に、全体
構成が極めてシンプルとなるため、可動部の慣性モーメ
ントを極力小さくでき、ディスペンサーの細径化が可能
である。

【０２７５】以上、ＰＤＰ用基板として背面板に蛍光体
を塗布する場合の実施形態について説明したが、本発明
は、別の実施形態として、例えばＰＤＰ用基板としての
表面板の電極形成にも適用することができる。

【０２７６】図２６はＰＤＰ用表面板の別の例を示すも
ので、７００はＰＤＰの有効表示部に対応する「有効表
示領域」（バス電極部）であり、蛍光体が塗布される背
面板の前述した有効表示領域６０ａ（図２参照）と表裏
一体の領域である。７０１Ａ、７０１Ｂは端子部であ
り、「準有効表示領域」と呼ぶことにする。有効表示領
域７００、端子部７０１Ａ、端子部７０１Ｂでガラス基
板より構成されるＰＤＰ表面板７０２を構成している。
７０３はタブ接合部である。

【０２７７】７０４は表面板７０２の外部の両側部（図
２６の左右の側部）に設けられたペースト塗布のための
仮想領域であり、「非有効表示領域」と呼ぶことにす
る。

【０２７８】例えば、表面板の左側端部を始点位置（塗
布開始位置）Ａ（或いは終点位置（塗布終了位置））と
する、電極層の一例としての電極線７０５は、準有効表
示領域７０１Ａ内でかつ塗布開始位置Ａから屈曲位置Ｂ
までのタブ接合部７０３と、準有効表示領域７０１Ａ内
でかつ屈曲位置Ｂから屈曲位置Ｃまでの傾斜部と、準有
効表示領域７０１Ａ内でかつ屈曲位置Ｃから有効表示境
界位置Ｄまでの有効表示境界近傍部と、有効表示領域７
００内でかつ有効表示境界位置Ｄから有効表示境界位置
Ｅまでの有効表示直線部と、準有効表示領域７０１Ａ内
でかつ有効表示境界位置Ｅから塗布終了位置Ｆまでの終
了近傍直線部とより構成されている。従って、電極線７
０５は、準有効表示領域７０１Ａを通過して、有効表示
境界位置Ｄで有効表示領域７００に入る。さらに有効表
示領域７００を通過した電極線７０５は、有効表示境界
位置Ｅで右側の準有効表示領域７０１Ｂに入り、その直
後に塗布終了位置Ｆで停止する。すなわち、準有効表示
領域７０１Ｂ内の塗布終了位置Ｆは、電極線７０５の終
点位置（塗布終了位置）（或いは始点位置（塗布開始位
置））となる。他の電極線７０８，７０９，７０７も全
く同一構成であり、さらに、電極層の一例としての別の
電極線７０６，７１１，７１０は、塗布開始位置が表面
板の右側端部を始点位置（塗布開始位置）Ｇとなり、左
右反対になるだけで、基本的な構成は同じである。よっ
て、電極線７０６，７１１，７１０のそれぞれの傾斜部
は同一の傾斜角であり、電極線７０５，７０８，７０
９，７０７のそれぞれの傾斜部は同一の傾斜角である。

【０２７９】電極線７０５に隣接した電極線７０６は、
電極線７０５に対して始点位置、終点位置の位置は左右
逆に形成される。電極線７０６に隣接した電極線７０７
は、電極線７０６に対して始点位置、終点位置の位置は
左右逆に形成される。このように、実施形態のＰＤＰで
は、左右の準有効表示領域で停止位置を有する電極線が
交互に入れ替わるように形成される。

【０２８０】さて、まず、塗布方法の具体例（Ｉ）につ
いて説明する。ＰＤＰの表面板の電極形成を目的とし
た、この実施形態では、前述した第２実施形態と同様な
方法を適用する。すなわち、「２自由度アクチュエー
タ」を有するディスペンサを用いて、 第１のアクチュエータでピストンを直線駆動すること
により、ピストンの吐出側端面に正負のスクイーズ圧力
を発生させる。

【０２８１】回転運動を与える第２のアクチュエータ
で、ねじ溝が形成されたピストンを回転させてポンピン
グ圧力を発生させ、塗布流体を吐出側に圧送する。

【０２８２】上記、の組み合わせにより、（１）
有効表示領域における連続線塗布と、（２） 有効表示
領域と非有効表示領域の境界部における塗布線の遮断・
開放の制御と、（３） 準有効表示領域内での塗布線の
遮断・開放の制御と、を実現するものである。

【０２８３】以下、電極線７０５に注目し、電極材であ
る銀ペーストを塗布する場合について説明する。

【０２８４】（ｉ）塗布開始時 塗布開始前の状態では、吐出ノズル３３（第２実施形態
の図６参照）の先端は準有効表示領域７０１Ａの領域に
ある。このとき、モータの回転は停止しており、ピスト
ン（主軸２）は上昇した位置にある。ディスペンサー
は、準有効表示領域７０４内の電極線７０７の塗布開始
位置Ａ'から図２６の下向きに走行開始した後、塗布開
始位置Ａを通過する直前のタイミングで、モータを回転
させると同時にピストンを降下させる。既に述べたよう
に、塗布開始位置Ａにおける塗布線をスムーズに描かせ
るため、オーバーシュート圧力は、ピストンのストロー
クが大きい程、立ち上がり時間が短い程、大きい。すな
わち、吐出ノズル先端の流体の表面張力に打ち勝つと共
に、塗布開始位置Ａでの塗布線の「太り」にならない範
囲で、このオーバーシュート圧力の大きさを設定すれば
よい。

【０２８５】（ｉｉ）準有効表示領域内での走行 ピストンは、その対向面との間隙を一定に保ちながら、
ねじ溝のポンピング圧力による定量吐出により、塗布開
始位置Ａから屈曲位置Ｂ及び屈曲位置Ｃを経て有効表示
境界位置Ｄまで、連続線を塗布する。この区間ではスク
イーズ圧力の発生はない。実施形態では、準有効表示領
域７０１Ａ内の電極線７０５の線幅は、例えば、ｂ_２＝
０．１ｍｍであり、有効表示領域７００内の線幅：ｂ_１
＝０．０７５ｍｍより大きかった。そのため、吐出ノズ
ルが準有効表示領域内７０１Ａ及び７０１Ｂを走行する
ときは、有効表示領域７００を走行するときよりも、ね
じ溝の回転数を上げた状態で塗布する。

【０２８６】（ｉｉｉ）有効表示領域内での走行 有効表示境界位置Ｄから有効表示境界位置Ｅにかけての
区間では、ピストンは、その対向面との間隙を一定に保
ちながら、線幅：ｂ_１＝０．０７５ｍｍを保つように、
ねじ溝の回転数を上記（ｉｉ）よりも下げた状態で塗布
を行なう。

【０２８７】（ｉｖ）準有効表示領域内での走行及び遮
断 有効表示境界位置Ｅを通過した後の塗布終了位置Ｆまで
の塗布条件は、上記（ｉｉ）と同様である。塗布終了位
置Ｆに到達する直前のタイミングで、モータを停止させ
ると同時にピストンを急上昇させる。このとき、ｈは対
向面間の隙間、ｔは時間として、（ｄｈ／ｄｔ）＞０と
したときの負圧発生の効果により、吐出は一瞬にして遮
断される。その後、吐出ノズル先端は、吐出遮断状態の
まま、塗布終了位置Ｆの位置から、最短距離にある準有
効表示領域７０４の右端の位置Ｇ’にすみやかに移行
し、位置Ｇを始点位置として塗布を開始する。

【０２８８】以降、上記（ｉ）〜（ｉｖ）と同様な方法
で連続線を繰り返し塗布していく。

【０２８９】以上述べた方法により、吐出ノズル３３
と、表面板を位置決め保持するＸＹステージとを相対的
に走行させる時間のロスを極力低減することができて効
率の良い塗布ができる。

【０２９０】上記（ｉｖ）の行程において、準有効表示
領域７０１Ａ，７０１Ｂ内でピストンを上昇させて吐出
を遮断しているが、この方法により、描画線の塗布終了
位置Ｆを確実なタイミングでかつ極めて高品位に形成で
きる。すなわち、塗布終了位置Ｆにおける描画線の「太
り」又は「溜まり」などが発生しない。もし「太り」又
は「溜まり」が大きく発生すれば、近接する電極線間で
の電気特性に重大な影響を与えてしまう。終端位置Ｆを
逆に始点位置として描画線を描く方法もあるが、最適な
オーバーシュート圧力の設定方法が終端制御の場合と比
べてややデリケートとなる。有効表示領域７００内の線
幅と、準有効表示領域内７０１Ａ、７０１Ｂの線幅の設
定は、ねじ溝の回転数以外では、吐出ノズルとステージ
の相対速度を調節してもよい。

【０２９１】次に、塗布方法の具体例（ＩＩ）として、
マルチヘッドで電極線を塗布する場合について述べる。
マルチヘッドのシステムとしては、１個のマスターポン
プと複数個のマイクロポンプの組み合わせによる、例え
ば図１６に示す様な構成でもよい。

【０２９２】準有効表示領域内７０１Ａ及び７０１Ｂで
は、各電極線の傾斜角が異なるために、並列ピッチで配
置されたマルチヘッドでは、同時に準有効表示領域内の
複数本の電極線を塗布することは困難である。そのため
に、次の方法で塗布を行った。

【０２９３】まず、ステップＳ１として、電極線７０５
を描く場合、準有効表示領域内７０１Ａの位置Ｃを始点
として有効表示領域７００を通過し、準有効表示領域内
７０１Ｂの位置Ｆで塗布を終了させる。このとき同時
に、同一のパターンを有する他の電極線（例えば７０
７）も、並列ピッチで配置されたヘッドにより、位置
Ｃ’を始点として、位置Ｆ’で塗布を終了させる。マル
チヘッド全体を左側から右側へ走行させた後、次は、ヘ
ッド全体を右側から左側へ走行させて塗布する。この繰
り返し動作により、複数平行線から構成される電極線塗
布は完了する。

【０２９４】次に、ステップＳ２の塗布に進む。準有効
表示領域７０１Ａ，７０１Ｂ内において、傾斜角が異な
る各電極線をマルチヘッドで描く場合は次のような方法
を用いる。準有効表示領域７０１Ａ，７０１Ｂ内におい
て、それぞれの傾斜角が異なる電極線から構成される電
極線のグループをＡＡ_１〜ＡＡ_ｎ（図２６参照、ｎはグ
ループの総数）とすると、このグループはＰＤＰの表面
板では複数セット形成される。そこで、複数個のグルー
プＡＡ_１〜ＡＡ_ｎの中から同一の傾斜角を有する電極線
を選び、それをグループＢＢとする。グループＢＢは、
例えば、電極線７０５、７０８、７０９である。グルー
プＢＢの各電極線は、ノズルとＰＤＰの表面板を保持す
るＸＹステージとを相対的にＸＹ方向に移動させれば、
同時に塗布することができる。

【０２９５】以上、マルチヘッドを用いて、有効表示領
域内で複数平行線の電極線を描くプロセス（ステップＳ
１）と、準有効表示領域内において、同一傾斜角の電極
線を描くプロセス（ステップＳ２）を分けて行う場合に
ついて説明した。

【０２９６】有効表示領域内での複数電極線の塗布（ス
テップＳ１）は、電極線の長さが長いためにヘッド数が
多いほど、生産タクトの点で有利となる。

【０２９７】準有効表示領域内での電極線の塗布（ステ
ップＳ２）は、マルチヘッドの中から、ふさわしい位置
にあるヘッド（図２６ではｎ＝３個）だけを選び、塗布
に用いることになる。この場合、ステップＳ１と比べ
て、塗布の繰り返し回数が多くなるが、準有効表示領域
内での電極線は長さが短いために、さほどのタクトの遅
れにはならない。上記準有効表示領域内での塗布方法で
は、塗布線の「始端」と「終端」の両方に高品位の塗布
が要求される。マルチヘッドを１個のマスターポンプと
複数個のマイクロポンプの組み合わせで構成し、かつ、
このマイクロポンプに第４実施形態で説明した「２重ピ
ストン方式」を用いれば、描画線の始終端は共に高品位
で描くことができる。

【０２９８】さらに、塗布方法の具体例（ＩＩＩ）とし
て、マルチヘッドで、有効表示領域７００と準有効表示
領域７０１Ａ、７０１Ｂ内にある電極線を一気に描く場
合について述べる。この場合は、描画線は、例えば「終
端」のみの制御で良く、マルチヘッドのヘッド数は、グ
ループＡＡ_１〜ＡＡ_ｎの数（図２６ではｎ＝３個）だけ
でよい。マルチヘッドのシステム構成としては、１個の
マスターポンプと複数個のマイクロポンプの組み合わせ
による、例えば図１６に示す様な構成でもよい。マイク
ロポンプは、ピストンの上昇・下降に伴う負圧・正圧の
発生を利用して、描画線の始終端の制御を行う方法を用
いれば、シンプルな構造を採用できる。或いは、上記具
体例（Ｉ）で説明した、２自由度アクチュエータを有す
るディスペンサを複数本配列してもよい。

【０２９９】具体的には、図２６において、同一の傾斜
角を有する電極線として、例えば、電極線７０５、７０
８、７０９を選ぶ。各ヘッドのノズル間の間隔は、電極
層の塗布パターンから予め決められているものである。
以降の各ヘッドの塗布方法は、具体例（Ｉ）と同様な方
法が採用できるため、詳細は省略する。

【０３００】また、上記基板に対して上記ディスペンサ
ーが相対的に走行する別の例として、図２７に示すよう
に、ディスペンサー３０４を固定フレーム３０３に取付
けた状態で、ＸＹステージを直交するＸＹ方向に移動さ
せる機構について説明する。Ｚ軸用モータ３０２により
Ｚ軸方向にのみ昇降可能にディスペンサー３０４を固定
フレーム３０３に取付けた状態で、ＸＹステージを直交
するＸＹ方向に移動させる機構について説明する。これ
に対して、固定フレーム側に固定されたＸ軸用モータ３
００の駆動により、Ｙ軸テーブル３０７がＸ方向に進退
し、Ｙ軸テーブル３０７に固定されたＹ軸用モータ３０
１の駆動により、基板３０６が位置決め保持される基板
載置テーブル３０５がＹ方向に進退する。

【０３０１】このように構成すれば、ディスペンサー３
０４は、Ｚ軸用モータ３０２によりＺ軸方向にのみ昇降
させるだけで、ＸＹ方向に対しては、基板載置テーブル
３０５がそれぞれの方向に移動することにより、上記基
板に対する上記ディスペンサーの相対的な走行を実現す
ることができる。

【０３０２】上記実施形態において、上記ディスペンサ
ーと上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表示領
域へ相対的に移行するとき、上記ねじ溝式ディスペンサ
ーの上記回転軸の回転数を減小させた後に停止させるこ
とにより上記吐出を停止させ、或いは、減小させた後に
停止し、さらに、上記回転軸を例えば１０ｍｓｅｃ以下
の間のみ逆転させて例えば１０μｍ程度ペーストを持ち
上げることにより上記吐出を停止させるようにしてもよ
い。

【０３０３】また、これに代えて、上記ディスペンサー
と上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表示領域
へ相対的に移行するとき、上記ねじ溝式ディスペンサー
の上記回転軸の回転数を増加させた後、上記回転軸の一
定回転を維持して吐出を行なうか、或いは、増加させた
後、減小させてしかる後、上記回転軸の一定回転を維持
して吐出を行なうようにしてもよい。

【０３０４】さらに、上記実施形態において、複数本の
ねじ溝式ディスペンサーが配置されているとき、複数本
のねじ溝式ディスペンサーの回転数を個別に調節して、
所定の流量を設定することもできる。

【０３０５】上記種々の実施形態では、ピストンに軸方
向駆動させる装置に超磁歪アクチュエータを用いてい
る。しかしながら、もし、描画線の始終端を、それ程、
高品位に形成する必要がなければ、超磁歪アクチュエー
タの代わりに、応答性は低下するが、リニアモータ、電
磁ソレノイド等を用いてもよい。

【０３０６】以上、ディスプレイパネルに連続線を描く
連続塗布の実施形態について説明したが、本発明は、間
欠塗布にも適用できる。この場合も、塗布開始と終了時
における始終端制御の考え方を適用することができる。
或いは、超高速の間欠塗布で、隣接する流体塊を自然流
動により連結させて、擬似的な連続線にする塗布にも適
用できる。

【０３０７】なお、上記様々な実施形態のうちの任意の
実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有
する効果を奏するようにすることができる。

【０３０８】本発明は、添付図面を参照しながら好まし
い実施形態に関連して充分に記載されているが、この技
術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白で
ある。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲に
よる本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に
含まれると理解されるべきである。

【０３０９】

【発明の効果】本発明のディスプレイパネルのパターン
形成方法及び形成装置により、従来のスクリーンマスク
を用いることなく、例えば基板仕様を数値設定するだけ
で、任意のサイズの基板に対して、例えば蛍光体層、電
極層などを精度よく形成することができると共に、基板
の仕様変更に容易に対応できる。また、高速プロセスに
対応できるために、従来工法と比べても生産タクトの点
で遜色がなく、廃棄する材料がないために、材料ロスを
大幅に削減できる。

【０３１０】製造行程及び製造ラインとも規模を拡大さ
せる必要がなく、単体の装置でスクリーニングすること
を可能にし、また、多品種少量生産のディスプレイパネ
ルに対して量産効果を上げて製造させ、さらに単体でス
クリーニングするため自動化ラインを小規模なマシンで
稼動できる。その効果は絶大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のディスプレイパネルのパターン形成
方法を実施するためのパターン形成装置を、第１実施形
態として、ＰＤＰ用基板の蛍光体層形成装置に適用した
場合の概略斜視図である。

【図２】 上記ＰＤＰ用基板の有効表示領域と非有効表
示領を示す図である。

【図３】 本発明に適用した第１実施形態によるディス
ペンサーを示す正面断面図である。

【図４】 第１実施形態において、時間に対するディス
ペンサーの移動速度を示す図である。

【図５】 （Ａ）は第１実施形態における時間に対する
ねじ溝回転数基本成分を示す図、（Ｂ）は第１実施形態
における時間に対するねじ溝回転数補正分を示す図、
（Ｃ）は第１実施形態における時間に対するねじ溝回転
数を示す図である。

【図６】 本発明に適用した第２実施形態によるディス
ペンサーを示す正面断面図である。

【図７】 図６の吐出部詳細図である。

【図８】 第２実施形態において、時間に対するピスト
ン変位を示す図である。

【図９】 第２実施形態において、時間に対するねじ溝
圧力を示す図である。

【図１０】 第２実施形態において、時間に対するスク
イーズ圧力を示す図である。

【図１１】 第２実施形態において、時間に対する吐出
ノズル上流側圧力を示す図である。

【図１２】 本発明に適用した第３実施形態によるディ
スペンサーを示す正面断面図である。

【図１３】 図１２の流量制御部詳細図である。

【図１４】 第３実施形態において、時間に対する吐出
流量を示す図である。

【図１５】第３実施形態において、流量制御部の電気回
路モデルを示す図である。

【図１６】 本実施形態のパターン形成装置をＣＲＴの
蛍光体層装置やＰＤＰ用基板のパターン形成装置などに
適用して多数のスクリーンストライプを同時的に描く場
合の概略斜視図である。

【図１７】 本発明に適用した第４実施形態によるディ
スペンサーを示す正面断面図である。

【図１８】 （Ａ），（Ｂ）は、それぞれ、第４の実施
形態において、時間に対するピストンとスリーブの変位
を示す図である。

【図１９】 第４の実施形態において、時間に対する吐
出ノズル上流側圧力を示す図である。

【図２０】 本発明に適用した第５実施形態によるディ
スペンサーを示す正面断面図である。

【図２１】 第５の実施形態において、ポンプ部の拡大
図である。

【図２２】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、それぞれ、第
５の実施形態において、シール圧力とギャップの関係を
示す図である。

【図２３】 従来に提案されたディスペンサー方式蛍光
体層装置の概略斜視図である。

【図２４】 従来のエアー式ディスペンサーを示す図で
ある。

【図２５】 図１６のパターン形成装置により、複数本
のマイクロ・ディスペンサーで、同時に、複数の塗布線
を描かせる状態を説明するための説明図である。

【図２６】 上記実施形態のパターン形成装置により、
ＰＤＰ用基板の電極線を描く状態を説明するための説明
図である。

【図２７】 本発明の別の実施形態にかかるパターン形
成装置であって、ディスペンサーを固定してパネル側を
移動させるパターン形成装置の斜視図である。

【図２８】図２の変形例にかかる上記ＰＤＰ用基板の有
効表示領域と非有効表示領を示す図である。

【符号の説明】

１…第１のアクチェータ、２…主軸、３…ハウジング、
４…ポンプ部、５…第２のアクチェータ、６…モータロ
ータ、７…上部主軸、８…モータステータ、９…上部ハ
ウジング、１１，１２…リア側超磁歪ロッド及びフロン
ト側超磁歪ロッド、１３…磁界コイル、１４、１５、１
６…リア側、中間部、フロント側の永久磁石、１７…リ
ア側ヨーク、１８…フロント側スリーブ、１９…ヨーク
材、２０…リア側スリーブ、２１…中間ハウジング、２
２…バイアスバネ、２３…回転伝達キー、２４…軸受、
２５…エンコーダ、２６…変位センサー、２７…上端
面、２８…ラジアル溝、２９…流体シール、３０…シリ
ンダ、３１…ポンプ室、３２…吸入口、３３…吐出ノズ
ル、３４…吐出プレート、３５…吐出側端面、３６…対
向面、３７…開口部、３８…軸受、５０…載置台、５
１，５２…Ｙ軸方向搬送装置、５３…Ｘ軸方向搬送装
置、５４…Ｚ軸方向搬送装置、５５…ディスペンサー、
５６…シリンジ装着部、５７ａ、５７ｂ…Ｙ軸モータ、
５８…Ｘ軸用モータ、５９…シリンジ、６０ａ，７００
…有効表示領域、６０ｂ，７０４…非有効表示領域、６
１…ＰＤＰ用基板、６２…吐出ノズル、６３…ＰＤＰ用
基板の外周部、８９…Ｚ軸用モータ、９０…基板位置検
出カメラ、９１ａ，９１ｂ…モータドライバ、９２…モ
ータドライバ、９３…モータドライバ、９４…ディスペ
ンサー制御部、１００…制御装置、１０１…メモリ、１
０２…主軸、１０３…下部ハウジング、１０４…ポンプ
部、１０５…第２のアクチェータ、１０６…モータロー
タ、１０７…上部主軸、１０８…モータステータ、１０
９…上部ハウジング、１１１，１１２…リア側超磁歪ロ
ッド及びフロント側超磁歪ロッド、１１３…磁界コイ
ル、１１４，１１５，１１６…リア側、中間部、フロン
ト側の永久磁石、１１７…リア側ヨーク、１１８…フロ
ント側スリーブ、１１９…ヨーク材、１２０…リア側ス
リーブ、１２１…中間ハウジング、１２２…バイアスバ
ネ、１２３…回転伝達キー、１２４…軸受、１２５…エ
ンコーダ、１２６…変位センサー、１２７…上端面、１
２８…ラジアル溝、１２９…流体シール、１３０…シリ
ンダ、１３１…ポンプ室、１３２…吸入孔、１３３…吐
出ノズル、１３４…吐出プレート、１３５…スラストプ
レート、１３６…吐出側端面、１３７…対向面、１３８
…開口部、１３９…軸受、２００…マイクロ・ディスペ
ンサー、２０１…直動型のアクチュエータ、２０２…ピ
ストン、２０３…固定スリーブ、２０４…ハウジング、
２０５…下部ハウジング、２０６…超磁歪ロッド、２０
７，２０８…第１及び第２バイアス永久磁石、２０９…
上部ヨーク、２１０…磁界コイル、２１１…ヨーク、２
１２…上部スリーブ、２１３…軸受部、２１４…バイア
スバネ、２１５…変位センサー、２１６…ピストン細径
軸、２１７…吸入口、２１８…ノズル部、２１９…吐出
ノズル、２２０…流体貯蔵室、２２１…流体絞り部、２
２２…流量制御部、３００…Ｘ軸用モータ、３０１…Ｙ
軸用モータ、３０２…Ｚ軸用モータ、３０３…固定フレ
ーム、３０４…ディスペンサー、３０５…基板載置テー
ブル、３０６…基板、３０７…Ｙ軸テーブル、７０１
Ａ、７０１Ｂ…準有効表示領域、７０２…ＰＤＰ表面
板、７０３…タブ接合部、７０５、７０８、７０９…電
極線、７０６…電極層、ａ…準備位置、ｂ，ｆ…塗布開
始位置、ｃ，ｇ…塗布終了位置、ｄ，ｅ，ｈ…屈曲位
置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 7/00 Ｂ０５Ｄ 7/00 Ｈ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ 11/02 11/02 Ｂ (72)発明者 古川 貴之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 松尾 孝二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 兼久 孝 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大久保 貴史 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 ▲吉▼田 隆弘 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC06 AC08 AC84 CA22 CA48 CB09 DA06 DB13 DC24 EA05 EA45 4F041 AA02 AA05 AB01 BA02 BA10 BA12 BA23 BA34 BA38 BA56 4F042 AA02 AA06 AA27 AB00 BA05 BA06 BA12 BA25 CB24 5C028 FF01 FF16 5C040 GC19 GG09 JA13 MA26

Claims (34)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板（６１）に対して流量可変式のディ
   スペンサー（５５）を相対的に移動させながら、ペース
   トを吐出させることにより、上記基板の吐出すべき位置
   に、順次、上記ペーストを吐出して、あるパターンのペ
   ースト層を形成するディスプレイパネルのパターン形成
   方法において、 上記ペースト層を形成する有効表示領域（６０ａ，７０
   ０）と、この有効表示領域の外側に上記ペースト層を形
   成しない非有効表示領域（６０ｂ，７０４）を有する上
   記基板のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサー
   が相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する
   一方、上記非有効表示領域を上記ディスペンサーが相対
   的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断する
   ディスプレイパネルのパターン形成方法。
2. 【請求項２】 複数本の光吸収層が表面に並列形成され
   た基板に対してディスペンサーを相対的に移動させなが
   ら、ペーストを吐出させることにより、上記光吸収層間
   の吐出すべき位置に、順次、上記ペーストを吐出してあ
   るパターンのペースト層を形成する請求項１に記載のデ
   ィスプレイパネルのパターン形成方法において、 上記ディスペンサーとして流量可変式のディスペンサー
   を使用して上記ペーストの吐出を制御するディスプレイ
   パネルのパターン形成方法。
3. 【請求項３】 上記ディスペンサーと上記基板の相対速
   度に合わせて、上記ディスペンサーを制御して上記ペー
   ストの吐出量を可変させる請求項２に記載のディスプレ
   イパネルのパターン形成方法。
4. 【請求項４】 上記ペースト層を形成する有効表示領域
   （６０ａ）と、この有効表示領域の外側にペースト層を
   形成しない非有効表示領域（６０ｂ）を有する上記基板
   のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサーが相対
   的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一方、
   上記非有効表示領域を、上記ディスペンサーが相対的に
   走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断する請求
   項２に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法。
5. 【請求項５】 上記ディスペンサーとしてねじ溝式のデ
   ィスペンサーを使用して、上記ねじ溝式ディスペンサー
   の回転軸の回転制御により上記ペーストの吐出を制御す
   る請求項２に記載のディスプレイパネルのパターン形成
   方法。
6. 【請求項６】 上記ディスペンサーとしてねじ溝式のデ
   ィスペンサーを使用して、上記ディスペンサーと上記基
   板が上記非有効表示領域を相対的に走行しているときは
   上記ねじ溝式ディスペンサーの回転軸の回転は停止、或
   いは上記有効表示領域を走行しているときに対して上記
   回転軸を逆転させる請求項４に記載のディスプレイパネ
   ルのパターン形成方法。
7. 【請求項７】 上記ディスペンサーと上記基板が上記有
   効表示領域から上記非有効表示領域へ相対的に移行する
   ときは、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回
   転数を減小させた後に停止させることにより上記吐出を
   停止させ、或いは、減小させた後に停止し、さらに、上
   記回転軸を逆転させることにより上記吐出を停止させる
   請求項５に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
   法。
8. 【請求項８】 上記ディスペンサーと上記基板が上記非
   有効表示領域から上記有効表示領域へ相対的に移行する
   ときは、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回
   転数を増加させた後、上記回転軸の一定回転を維持して
   吐出を行なうか、或いは、増加させた後、減小させてし
   かる後、上記回転軸の一定回転を維持して吐出を行なう
   請求項５に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
   法。
9. 【請求項９】 上記ディスペンサーとして複数本のねじ
   溝式ディスペンサーを使用して、上記複数本のねじ溝式
   ディスペンサーの回転数を個別に調節して、所定の流量
   を設定する請求項５に記載のディスプレイパネルのパタ
   ーン形成方法。
10. 【請求項１０】 上記ディスペンサーは、ペースト圧送
    装置としてシリンダとピストンで形成される流体輸送室
    に上記ペーストを供給すると共に、上記シリンダと上記
    ピストンに相対的な軸方向運動を与えることにより上記
    流体輸送室の空間を増減させて上記ペーストの吐出量を
    可変させる請求項２に記載のディスプレイパネルのパタ
    ーン形成方法。
11. 【請求項１１】 上記シリンダと上記ピストンの相対移
    動面に形成されたねじ溝に相対的な回転運動を与えて上
    記ペーストを圧送する請求項１０に記載のディスプレイ
    パネルのパターン形成方法。
12. 【請求項１２】 上記ノズル先端と上記基板が上記有効
    表示領域から上記非有効表示領域へ相対的に移行すると
    き、上記流体輸送室の空間を増大させて上記ペーストの
    吐出を停止させる請求項１０に記載のディスプレイパネ
    ルのパターン形成方法。
13. 【請求項１３】 上記ノズル先端と上記基板が上記非有
    効表示領域から上記有効表示領域へ相対的に移行すると
    き、上記シリンダと上記ピストンで形成される上記流体
    輸送室の空間を減少させて上記ペーストを吐出させる請
    求項１０に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
    法。
14. 【請求項１４】 上記ノズル先端と上記基板が上記非有
    効表示領域を相対的に走行しているとき、上記シリンダ
    と上記ピストンで形成される上記流体輸送室の空間を増
    大させて上記ペーストの吐出を停止し続ける請求項１０
    に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法。
15. 【請求項１５】 上記ディスペンサーは、ペースト圧送
    装置としてシリンダとピストンとこのピストンの少なく
    とも一部を収納するスリーブで形成される流体輸送室に
    上記ペーストを圧送すると共に、上記シリンダと上記ピ
    ストン及び、このピストンと上記スリーブに相対的な軸
    方向運動を与えることにより上記流体輸送室の空間を増
    減させて上記ペーストの吐出量を可変させる請求項２に
    記載のディスプレイパネルのパターン形成方法。
16. 【請求項１６】 上記シリンダと上記ピストンの相対的
    な変位曲線と、上記ピストンと上記シリンダの相対的な
    変位曲線とを概略逆位相とするか、或いは移動方向を逆
    にしつつ、上記ペーストの吐出開始又は吐出停止を行な
    う請求項１５に記載のディスプレイパネルのパターン形
    成方法。
17. 【請求項１７】 上記流量可変式のディスペンサーは、
    軸とハウジングとを軸方向に相対的に駆動することによ
    り、上記軸と上記ハウジング間の流通路の間隙を変化さ
    せて上記ペーストの流体抵抗の増減を図って上記ペース
    トの吐出流量制御を行なう請求項２に記載のディスプレ
    イパネルのパターン形成方法。
18. 【請求項１８】 上記ディスペンサーは、軸とハウジン
    グとを相対的に回転させて上記ペーストを上記ハウジン
    グの吸入口から吐出口へ圧送するポンピング圧力を発生
    させて、上記ペーストを吐出させる請求項１７に記載の
    ディスプレイパネルのパターン形成方法。
19. 【請求項１９】 上記軸と上記ハウジングとの相対移動
    面に形成された動圧シールにより、上記ペーストの流出
    を遮蔽する請求項１７に記載のディスプレイパネルのパ
    ターン形成方法。
20. 【請求項２０】 上記ディスペンサーは、軸とハウジン
    グを相対的に回転させると共に、上記軸と上記ハウジン
    グとを相対的に軸方向に移動させることにより上記軸と
    上記ハウジング間の動圧シールが形成された流通路の間
    隙を変化させて、上記ペーストの流体抵抗の増減を図る
    ことにより上記ペーストの流量制御を行なう請求項１９
    に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法。
21. 【請求項２１】 基板表面に並列に設けられた複数本の
    光吸収層の間にペーストを吐出してあるパターンのペー
    スト層を形成するディスプレイパネルのパターン形成装
    置であって、 基板を載置する載置台と、 上記ペーストを吐出する少なくとも１つのノズルを有す
    るディスペンサーと、 上記ノズルと上記載置台とを相対的に移動させる搬送部
    と、 上記光吸収層間の所定の位置に順次上記ペーストが吐出
    されるように上記搬送部と上記ディスペンサーを制御す
    る制御装置と、を備えて、 上記ディスペンサーはねじ溝式である、ディスプレイパ
    ネルのパターン形成装置。
22. 【請求項２２】 上記ディスペンサーは、 上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有しかつ内部に流
    体輸送室が形成されたシリンダと、 上記シリンダに収納されたピストンと、 上記シリンダと上記ピストンで形成される内部空間を増
    減させるために、上記シリンダと上記ピストンに相対的
    な運動を与えるアクチェータと、 とを備えて、 上記吸入孔から上記流体輸送室内に流入した上記ペース
    トは、上記内部空間に繋がる流路を経て上記吐出孔に流
    出するように構成されている請求項２１に記載のディス
    プレイパネルのパターン形成装置。
23. 【請求項２３】 上記ディスペンサーは、ねじ溝式ディ
    スペンサーに代えて、 第１のアクチェータと、 上記第１のアクチェータによって直線方向に駆動される
    ピストンと、 このピストンを収納しかつ上記ペーストの吸入孔及び吐
    出孔とを有するハウジングと、 上記ピストンと同軸上に配置されたシリンダと、 上記ピストンと上記シリンダの間に相対的な回転運動を
    与える第２のアクチェータとを備えて、 上記ピストンと上記ハウジングの間に、上記吸入孔及び
    吐出孔と連絡するポンプ室を形成して、上記第１のアク
    チェータ又は上記第２のアクチェータの駆動による上記
    ピストンと上記シリンダの相対的な回転運動或いは直線
    運動によって、上記ポンプ室にポンプ作用が与えられる
    ように構成され、かつ、上記第１のアクチェータが外部
    から電気磁気的な非接触の電力供給されて移動もしくは
    伸縮することにより上記ピストンを移動させる請求項２
    １に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置。
24. 【請求項２４】 上記ディスペンサーは、ねじ溝式ディ
    スペンサーに代えて、 軸と、 この軸を収納しかつ上記軸との間で形成されるポンプ室
    と外部を連絡する上記ペーストの吸入口及び吐出口有す
    るハウジングと、 上記軸と上記ハウジングとを相対的に回転させる装置
    と、 上記軸と上記ハウジング間の軸方向相対変位を与える軸
    方向駆動装置と、 上記ポンプ室内に流入された上記ペーストを吐出口側に
    圧送する装置とを備えて、 上記ポンプ室と上記吐出口の間の上記ペーストの流体抵
    抗の増減を図るために、上記軸方向駆動装置によって上
    記軸と上記ハウジング間の間隙が変化するように構成さ
    れている請求項２１に記載のディスプレイパネルのパタ
    ーン形成装置。
25. 【請求項２５】 上記ディスペンサーは、 ピストンと、 上記ピストンを収納しかつ上記ペーストの吸入口と吐出
    口とを有するハウジングと、 上記ピストンと上記ハウジングとを相対的に移動させる
    第１のアクチェータと、 上記ピストンの少なくとも一部を収納し軸方向に貫通し
    た空間を有するシリンダと、 上記シリンダと上記ハウジングとを相対的に移動させる
    第２のアクチェータと、 上記ピストンと上記シリンダと上記ハウジングとで形成
    されるポンプ室に外部より上記吸入口から上記ペースト
    を供給して上記吐出口より吐出させる請求項２１に記載
    のディスプレイパネルのパターン形成装置。
26. 【請求項２６】 上記ディスペンサーは、 シリンダに収納されたピストンと、 上記シリンダと上記ピストンで形成される内部空間を増
    減させるために、上記シリンダと上記ピストンに相対的
    な運動を与えるアクチェータと、 上記シリンダを収納或いは上記シリンダと一体化し、か
    つ、上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有するハウジ
    ングと、 上記ハウジング内部に形成された流体輸送室から構成さ
    れ、 上記吸入孔から上記流体輸送室内に流入した上記ペース
    トは、上記内部空間に繋がる流路を経て上記吐出孔に流
    出するように構成されているディスプレイパネルのパタ
    ーン形成装置。
27. 【請求項２７】 上記ピストンとその対向面の隙間は、
    上記ペースト遮断時、吐出材料に含まれる粒子の粒径よ
    りも大きく形成されているディスペンサーを用いてい
    る、請求項２６に記載のディスプレイパネルのパターン
    形成装置。
28. 【請求項２８】 上記吸入口から上記吐出ノズルに至る
    流通路において、上記ペースト遮断時の最小隙間は８μ
    ｍ以上である、請求項２７に記載のディスプレイパネル
    のパターン形成装置。
29. 【請求項２９】 上記制御装置は、上記ペースト層を形
    成する有効表示領域（６０ａ，７００）と、この有効表
    示領域の外側に上記ペースト層を形成しない非有効表示
    領域（６０ｂ，７０４）を有する上記基板のうちの上記
    有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行して
    いるときは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表
    示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行していると
    きは上記ペーストの吐出を遮断するように制御する、請
    求項２１に記載のディスプレイパネルのパターン形成装
    置。
30. 【請求項３０】 上記ペースト層として電極層（７０
    ５）を形成する有効表示領域（７００）と、上記有効表
    示領域と隣接して配置され、かつ、連続した上記電極層
    と不連続の電極層（７０６）を形成する準有効表示領域
    （７０１Ａ、７０１Ｂ）と、上記有効表示領域と上記準
    有効表示領域の外側に仮想的に設けられかつ電極層を形
    成しない非有効表示領域（７０４）とを有する上記基板
    のうちの上記有効表示領域と上記準有効表示領域とを上
    記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペ
    ーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を上記ディ
    スペンサーが相対的に走行しているときは上記ペースト
    の吐出を遮断するようにした請求項１に記載のディスプ
    レイパネルのパターン形成方法。
31. 【請求項３１】 上記準有効表示領域内で上記ペースト
    の吐出が開始されるか、もしくは上記有効表示領域での
    吐出が上記準有効表示領域内で遮断される請求項２に記
    載のディスプレイパネルのパターン形成方法。
32. 【請求項３２】 等ピッチで配設された複数本のノズル
    を有するディスペンサーにより、上記有効表示領域に隣
    接した上記準有効表示領域内で上記ペーストの複数本の
    ストライプ状の吐出を開始後、上記有効表示領域を経由
    して、上記有効表示領域のもう一方の側に隣接した上記
    準有効表示領域内で上記ペーストの上記複数本のストラ
    イプ状の吐出を遮断する請求項３に記載のディスプレイ
    パネルのパターン形成方法。
33. 【請求項３３】 等ピッチで配設された複数本のノズル
    を有するディスペンサーにより、上記準有効表示領域内
    の上記ペースト層の中で同一の傾斜角を有する屈曲した
    複数のストライプ状の電極層だけを選び、 上記準有効表示領域内、及び／又は、上記有効表示領域
    内で同時的に上記複数本のストライプ状の吐出を行なっ
    て、上記複数のストライプ状の上記電極層を形成する請
    求項２に記載のディスプレイパネルのパターン形成方
    法。
34. 【請求項３４】 上記準有効表示領域内で上記ペースト
    の吐出を遮断するとき、上記ディスペンサーの内部流路
    の隙間の増大に伴う負圧の発生を利用して上記吐出遮断
    を行なう請求項３に記載のディスプレイパネルのパター
    ン形成方法。