JP2003239092A - 精製塩化ルテニウムの製造方法 - Google Patents

精製塩化ルテニウムの製造方法

Info

Publication number
JP2003239092A
JP2003239092A JP2002077252A JP2002077252A JP2003239092A JP 2003239092 A JP2003239092 A JP 2003239092A JP 2002077252 A JP2002077252 A JP 2002077252A JP 2002077252 A JP2002077252 A JP 2002077252A JP 2003239092 A JP2003239092 A JP 2003239092A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ruthenium
ions
chloride
ruthenium chloride
acid solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002077252A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3781694B2 (ja
Inventor
Kenichi Takahashi
謙一 高橋
Satoshi Honda
智 本田
Kaoru Yagi
薫 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kojima Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Kojima Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kojima Chemicals Co Ltd filed Critical Kojima Chemicals Co Ltd
Priority to JP2002077252A priority Critical patent/JP3781694B2/ja
Publication of JP2003239092A publication Critical patent/JP2003239092A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3781694B2 publication Critical patent/JP3781694B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ４価ルテニウムイオンと３価ルテニウムイオ
ンが混在する塩化ルテニウム酸水溶液を電解還元し、水
素イオンで４価ルテニウムイオンを３価ルテニウムイオ
ンに還元し、還元剤などによる不純物混入を回避した３
価ルテニウムイオンのみに純化した精製塩化ルテニウム
の製造方法を提供する。 【解決手段】 塩化ルテニウム酸水溶液を陽イオン交換
膜に介して塩酸溶液と接触させ、前記前記塩化ルテニウ
ム酸水溶液中に陰極を挿入し、前記塩酸溶液中に陽極を
挿入して前記陽極と陰極の間に直流電流を流すことによ
り、陰極側において４価ルテニウムイオンを３価ルテニ
ウムイオンに還元して３価ルテニウムイオンに純化する
ことを特徴とする精製塩化ルテニウムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３価ルテニウムイ
オンと４価ルテニウムイオンが混在する塩化ルテニウム
酸水溶液を電解還元することにより３価ルテニウムイオ
ンに純化した精製塩化ルテニウムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ルテニウムは、金属、酸化物及び錯体等
として優れた触媒活性作用を示すため各種合成反応触媒
に用いられている。また、二酸化ルテニウムは、抵抗材
料、各種センサー材料、キャパシタ電極材料及び電磁波
遮蔽材料などに有効とされることから自動車や電子部品
分野で注目されている。上記の触媒や二酸化ルテニウム
の原料として一般に製造されている塩化ルテニウム塩
（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）或いは塩化ルテニウム酸水溶
液（Ｈ３ＲｕＣｌ６）は、その製造工程上、３価ルテニ
ウムイオン６０〜７０％、４価ルテニウムイオン３０〜
４０％の混合物の状態で存在する。この３価ルテニウム
イオンと４価ルテニウムイオンが混在する塩化ルテニウ
ムを触媒材料、電子部品材料に使用すると触媒特性、電
気特性、電磁波遮蔽効果等にバラツキが生じる原因とな
った。また、塩化ルテニウムから有機錯体を合成する際
にも３価ルテニウムイオンと４４価ルテニウムイオンが
混在する塩化ルテニウムを使用すると反応生成物の歩留
まりも悪いことが判明した。
【０００３】上記の４価ルテニウムイオンを還元剤、例
えば、ヒドラジン、ＳＢＨ、ＳＯ２及び蓚酸等によって
３価ルテニウムイオンに還元する方法も試みられている
が、還元剤投入後に生成する残留塩が不純物として塩化
ルテニウム塩中に残留するため、塩化ルテニウム塩の純
度が低下する欠陥があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この様な事
情に着目してなされたものであって、その目的は、塩化
ルテニウム酸水溶液を電解法により水素イオンで４価ル
テニウムイオンを３価ルテニウムイオンに還元し、還元
剤などによる不純物混入を回避した３価ルテニウムイオ
ンのみに純化した精製塩化ルテニウムの製造方法を提供
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、（１）塩化ルテニウム酸水溶液を陽イオ
ン交換膜に介して塩酸溶液と接触させ、前記塩化ルテニ
ウム酸水溶液中に陰極を挿入し、前記塩酸溶液中に陽極
を挿入して前記陽極と陰極の間に直流電流を流すことに
より、陰極側において４価ルテニウムイオンを３価ルテ
ニウムイオンに還元して３価ルテニウムイオンに純化す
ることを特徴とする精製塩化ルテニウムの製造方法、
（２）陽イオン交換膜がフッ素系樹脂交換膜である請求
項１記載の精製塩化ルテニウムの製造方法を提供するも
のである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明を実施するに当たっては、
３価ルテニウムイオンと４価ルテニウムイオンが混在す
る塩化ルテニウム塩（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）を用意
し、これを水に溶解して塩化ルテニウム酸水溶液を調整
すか、一般に金属ルテニウムから製造されている塩化ル
テニウム酸水溶液を図１に示すような電解還元槽１を用
いて４価ルテニウムイオンを３価ルテニウムイオンに還
元して３価ルテニウムイオンに純化した精製塩化ルテニ
ウムを調製する。即ち、図１において電解還元槽１は陽
イオン交換膜６で２室に仕切られており、一方の室に前
記３価ルテニウムイオンと４価ルテニウムイオンが混在
する塩化ルテニウム酸水溶液５を入れ、他方の室には１
〜３Ｍの希塩酸をいれる。上記の陽イオン交換膜６とし
ては例えば、フッ素樹脂系陽イオン交換膜、スチレン−
ビニルベンゼン系陽イオン交換膜等が使用される。そし
て上記塩化ルテニウム酸水溶液５には白金めっきしたチ
タン製の陰極を挿入し、希塩酸溶液中には白金めっきし
たチタン製の陽極を挿入し、陰極と陽極の間に１１〜１
４ｍＡ／ｃｍ２の直流電流を流して電解を行なう。電流
密度が１１ｍＡ／ｃｍ２以下では電解時間が長くなるの
で好ましくない。また、１４ｍＡ／ｃｍ２以上になると
電解効率が上がらず陽イオン交換膜に負荷がかかるので
好ましくない。電解による４価ルテニウムイオンから３
価ルテニウムイオンへの還元率はボルタンメトリー法に
より還元電流の発生状況及び溶液の色調（３価ルテニウ
ムイオンと４価ルテニウムイオンが混在する塩化ルテニ
ウム酸水溶液は茶褐色をしているが、３価ルテニウムイ
オンに純化されると青黒色になる）により評価した。
【０００７】
【実施例】次に実施例により本発明を具体的に説明す
る。本発明は以下に述べる実施例に何ら限定されるもの
ではない。
【０００８】
【実施例１】３価ルテニウムイオンと４価ルテニウムイ
オンが混在する粗製塩化ルテニウム塩（ＲｕＣｌ３・ｎ
Ｈ２Ｏ）を水に溶解して４０ｇ／ｌの塩化ルテニウム酸
水溶液を調製した。次いで、図１に示す電解還元槽１を
用い、フッ素樹脂系陽イオン交換膜６で仕切られた一方
の陰極側室へ上記の塩化ルテニウム酸水溶液２０１を入
れ、他方の陽極側室へ２Ｍ塩酸を、陰極側室の塩化ルテ
ニウム酸水溶液の液面と同じようになるように入れる。
次いで、塩化ルテニウム酸水溶液５中に白金めっきした
チタン製の陰極板３を入れ、白金めっきしたチタン製陽
極板２を２Ｍ塩酸へ挿入して整流器により電極間に２〜
３Ｖ、１２Ａの電流を流した。撹拌のため循環ポンプを
作動させる。２３時間経過後、整流器を停止し、陰極側
室の塩化ルテニウム酸水溶液を取り出し、濾過して不溶
性の未反応物やゴミ等をを除去した後、上記塩化ルテニ
ウム酸水溶液をロータリーエバポレータに投入し、１０
５℃に加熱て蒸発乾固し、３価ルテニウムイオンに純化
した塩化ルテニウム結晶を得た。
【０００９】得られた結晶と、原料として用いた粗製塩
化ルテニウム塩（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）を各々ボルタ
ンメトリー測定器にかけて還元電流の発生状況を測定し
たところ、図２及び図３の結果が得られた。
【００１０】図２からも明らかなように、本発明の方法
によると、電位＋０．３〜＋０．８の範囲で電位差は殆
どゼロに近くなっており、４価ルテニウムイオンは３価
ルテニウムイオンに特価され高純度の塩化ルテニウム結
晶になっていることが解る。一方、原料として用いた粗
製塩化ルテニウム塩は、図３からも明らかなように、電
位＋０．３〜＋０．８の範囲で約＋３００の電位差が生
じている。これは３価ルテニウムイオンと４価ルテニウ
ムイオンが混在しているためである。
【００１１】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されており、
４価ルテニウムイオンと３価ルテニウムイオンが混在す
る粗製塩化ルテニウム塩（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）を電
解還元することによって、上記粗製塩化ルテニウム塩中
に含まれる４価ルテニウムイオンを効率よく３価ルテニ
ウムイオンに転化させることができ、３価ルテニウムイ
オンのみに純化した高純度の塩化ルテニウム結晶を容易
に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造に用いられる電解還元槽の構成
図。
【図２】本発明の実施例１で得られた３価ルテニウムイ
オンのみに純化した高純度の塩化ルテニウム結晶の還元
率をボルタンメトリー測定法によって測定した結果を示
す図。
【図３】粗製塩化ルテニウム結晶をボルタンメトリー測
定法によって測定した結果を示す図。
【符号の説明】
１ 電解還元槽 ２ 陽極板 ３ 陰極板 ４ 希塩酸 ５ 塩化ルテニウム酸水溶液 ６ 陽イオン交換膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G048 AA06 AB01 AC08 AE06 4K021 AB05 AB25 BA04 BB03 DB18 DB21 DB31

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】塩化ルテニウム酸水溶液を陽イオン交換膜
    に介して塩酸溶液と接触させ、前記前記塩化ルテニウム
    酸水溶液中に陰極を挿入し、前記塩酸溶液中に陽極を挿
    入して前記陽極と陰極の間に直流電流を流すことによ
    り、陰極側において４価ルテニウムイオンを３価ルテニ
    ウムイオンに還元して３価ルテニウムイオンに純化する
    ことを特徴とする精製塩化ルテニウムの製造方法。
  2. 【請求項２】陽イオン交換膜がフッ素系樹脂交換膜であ
    る請求項１記載の精製塩化ルテニウムの製造方法。
JP2002077252A 2002-02-14 2002-02-14 ３価塩化ルテニウムの製造方法 Expired - Lifetime JP3781694B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077252A JP3781694B2 (ja) 2002-02-14 2002-02-14 ３価塩化ルテニウムの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077252A JP3781694B2 (ja) 2002-02-14 2002-02-14 ３価塩化ルテニウムの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003239092A true JP2003239092A (ja) 2003-08-27
JP3781694B2 JP3781694B2 (ja) 2006-05-31

Family

ID=27785234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002077252A Expired - Lifetime JP3781694B2 (ja) 2002-02-14 2002-02-14 ３価塩化ルテニウムの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3781694B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066495A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Japan Carlit Co Ltd:The 電気化学キャパシタ用電極及び電気化学キャパシタ
KR100873955B1 (ko) 2007-12-17 2008-12-12 희성금속 주식회사 추출을 이용한 고순도 염화루테늄 화합물의 제조방법
WO2016034301A1 (en) * 2014-09-03 2016-03-10 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Process for the preparation and/or purification of ruthenium(iii) chloride
EP2998275A1 (en) * 2014-09-19 2016-03-23 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Process for the preparation and/or purification of ruthenium(III) chloride

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066495A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Japan Carlit Co Ltd:The 電気化学キャパシタ用電極及び電気化学キャパシタ
JP4521862B2 (ja) * 2004-08-25 2010-08-11 日本カーリット株式会社 電気化学キャパシタ用電極及び電気化学キャパシタ
KR100873955B1 (ko) 2007-12-17 2008-12-12 희성금속 주식회사 추출을 이용한 고순도 염화루테늄 화합물의 제조방법
WO2016034301A1 (en) * 2014-09-03 2016-03-10 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Process for the preparation and/or purification of ruthenium(iii) chloride
US9994458B2 (en) 2014-09-03 2018-06-12 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Process for the preparation and/or purification of ruthenium(III) chloride
EP2998275A1 (en) * 2014-09-19 2016-03-23 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Process for the preparation and/or purification of ruthenium(III) chloride

Also Published As

Publication number Publication date
JP3781694B2 (ja) 2006-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Cañizares et al. Electrochemical synthesis of peroxodiphosphate using boron-doped diamond anodes
JPS6328893A (ja) 第四級アンモニウム水酸化物の純度向上方法
TWI736732B (zh) 過硫酸銨的製造方法
EP0425582A1 (en) Improved process for preparing quaternary ammonium hydroxides
JPH0336914B2 (ja)
JP3781694B2 (ja) ３価塩化ルテニウムの製造方法
JPS63259093A (ja) 廃触媒水溶液から金属ロジウムを回収する電気化学的方法
JPS61238991A (ja) アゼチジン誘導体の製造法並びに該製造法における新規中間体
Yörükoğlu et al. Recovery of europium by electrochemical reduction from sulfate solutions
Jalbout et al. New paired electrosynthesis route for glyoxalic acid
JPS60243293A (ja) ｍ−ハイドロオキシベンジルアルコ−ルの製造法
JPS5983785A (ja) 高濃度硫酸コバルト水溶液の製造方法
EP0201925A1 (en) Process for producing a free amino acid from an alkali metal salt thereof
KR910005058B1 (ko) 파라-아미노페놀의 제조방법
JP5344278B2 (ja) 金属インジウム製造方法及び装置
JP3478893B2 (ja) 高純度コリンの製造方法
JP2585325B2 (ja) 金の溶解方法
JPH0526876B2 (ja)
JPS61231189A (ja) アミノアルコ−ルの製造法
JPH01184293A (ja) ヨウ素及びヨウ素酸塩の製造方法
KR20180036616A (ko) 이산화탄소 환원과 포름산 및 황산칼륨 제조의 복합 공정, 및 상기 복합 공정을 위한 장치
CN116657162B (zh) 一种高纯度过硫酸铵的制备方法
JP3196356B2 (ja) アゾジスルフォネートイオンの製造法
CN1880506A (zh) 利用金刚石膜电极电合成过氧焦磷酸盐的方法
JPS59190378A (ja) テトラヒドロインド−ル誘導体の製法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050607

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050808

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060307

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7