JP2003233177A - 感光性平版印刷版材料及びその処理方法 - Google Patents

感光性平版印刷版材料及びその処理方法

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JP2003233177A
JP2003233177A JP2002032222A JP2002032222A JP2003233177A JP 2003233177 A JP2003233177 A JP 2003233177A JP 2002032222 A JP2002032222 A JP 2002032222A JP 2002032222 A JP2002032222 A JP 2002032222A JP 2003233177 A JP2003233177 A JP 2003233177A
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plate material
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acid
photosensitive lithographic
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Tomohisa Ota
智久 太田
Kazuhiko Hirabayashi
和彦 平林
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐刷力と非画線部の汚れ改良の両立ができ、
高解像度な平版印刷版を得られ、しかもスラッジ性能が
良好で、耐刷力とスラッジ性能が両立した感光性平版印
刷版材料及びその処理方法を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 支持体上に、光重合性層及びオーバーコ
ート層を有する感光性平版印刷版材料中に、101kP
a、25℃での下記水溶液への溶解度が10g/L以上
のエチレン性付加重合性基を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする感光性平版印刷版材料。水溶液:SiO
2換算でのケイ酸濃度が1.0質量%で、pH8.5〜
12.5である水溶液。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
材料及びその処理方法に関するものであり、詳しくは、
スラッジ、耐刷力、汚し回復及びリニアリティに優れた
感光性平版印刷版材料及びその処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、親水化表面処理を行った支持
体上に、光重合性層及び保護層を積層した感光性平版印
刷版材料が知られている。また、特に近年は、迅速に高
解像度の平版印刷版材料を得るため、また、フィルムレ
ス化を目的として、レーザーを使用する画像情報に基づ
くデジタル露光を行い、これを現像して平版印刷版を製
造する方法が汎用化されている。
【0003】例えば一例を挙げると、電子製版システム
や画像処理システム等からの出力信号ないしは通信回線
等により伝送された画像信号により、光源を変調し、感
光性平版印刷版材料に直接走査露光をして、平版印刷版
を形成するシステムが知られている。
【0004】光重合性層は、一般的にアクリル系単量
体、アルカリ可溶性樹脂及び光重合性開始剤、更に必要
に応じて(特にレーザー書込みを行う際)波長に適合さ
せるために増感色素を含有させることが知られている。
【0005】また、酸素による重合阻害を防止する目的
で、保護層(酸素遮断層)を設けることも知られてい
る。
【0006】光重合型の感光性平版印刷材料を露光・製
版する光源としては、Arレーザー(488nm)やF
D−YAGレーザー(532nm)の様な長波長の可視
光源が用いられている。更に近年では、例えば、InG
aN系やZnSe系の材料を用い、350nmから45
0nm域で連続発振可能な半導体レーザーが実用段階と
なっている。これらの短波光源を用いた走査露光システ
ムは、半導体レーザーが構造上、安価に製造できるた
め、十分な出力を有しながら、経済的なシステムを構築
できるといった長所を有する。更に、従来のFD−YA
GやArレーザーを使用するシステムに比較して、より
明るいセーフライト下での作業が可能な感光域がより短
波長な感光性平版印刷版材料が使用できる可能性があ
る。
【0007】光重合型の感光性平版印刷版材料では通
常、画像露光、必要に応じ加熱処理を行った後、保護層
除去のための水洗、未露光部分を溶解除去するための現
像処理、水洗処理、非画像部の親水化のためのフィニッ
シャーガム処理を行い、平版印刷版を得ている。
【0008】このような光重合型の感光性平版印刷版材
料は、一般的には耐刷力が弱く、耐刷力をアップするた
めに水や有機溶剤に溶解しにくい単量体や樹脂を用いる
ことが多い。そのため現像液への溶解性が悪く、スラッ
ジが多量に発生しがちであるため、処理時に平版印刷版
に付着したり、これを防止するために液交換の頻度が増
えたりする弊害があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明に
おいては、光重合性層と支持体との接着性に優れ、耐刷
力と非画線部の汚れ改良の両立が可能であり、更に、高
解像度の平版印刷版を得ることができ、また、スラッジ
の低減が可能であり、従って、スラッジの低減と耐刷力
の両立が可能となる感光性平版印刷版材料及びその処理
方法を得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下により達成された。
【0011】1.支持体上に、高分子結合剤、光重合開
始剤及び着色剤を含有する光重合性層並びにオーバーコ
ート層を有する感光性平版印刷版材料において、該感光
性平版印刷版材料中に、101kPa、25℃での下記
水溶液への溶解度が10g/L以上のエチレン性付加重
合性基を有する化合物を含有することを特徴とする感光
性平版印刷版材料。
【0012】水溶液:SiO2換算でのケイ酸濃度が
1.0質量%で、pHが8.5〜12.5である水溶
液。
【0013】2.前記エチレン性付加重合性基を有する
化合物が、光重合性層に含有されることを特徴とする上
記1に記載の感光性平版印刷版材料。
【0014】3.上記1または2に記載の感光性平版印
刷版材料を、画像露光後、プレヒートして現像処理する
ことを特徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。
【0015】4.前記エチレン性付加重合性基を有する
化合物が、上記一般式(1)〜(4)で表される化合物
の少なくとも1つであることを特徴とする上記1に記載
の感光性平版印刷版材料。
【0016】5.上記4に記載の感光性平版印刷版材料
を、画像露光後、プレヒートして現像処理することを特
徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。
【0017】6.上記1に記載の感光性平版印刷版材料
を、下記水溶液にて現像処理することを特徴とする感光
性平版印刷版材料の処理方法。
【0018】水溶液:SiO2換算でのケイ酸濃度が
1.0質量%で、pH8.5〜12.5であり、更に界
面活性剤を0.1質量%以上5.0質量%含有する水溶
液。
【0019】以下に本発明を更に詳しく説明する。 (金属支持体)本発明に係る感光性平版印刷版材料で用
いる支持体(以下、単に支持体とも言う)は、例えばア
ルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属
板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルム
に前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの等が
使用でき、また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフ
ィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施し
たもの等が使用できるが、アルミニウム支持体が好まし
く使用され、この場合、純アルミニウムまたはアルミニ
ウム合金であっても構わない。
【0020】支持体のアルミニウム合金としては、種々
のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金等
が用いられる。
【0021】当該支持体は、粗面化(砂目立て処理)す
るに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液
を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施す
ことが好ましい。
【0022】上記の粗面化の方法としては、例えば、機
械的方法、電気化学的方法等が挙げられるが、酸性媒体
中で電気化学的に粗面化することが好ましく、この場合
に、機械的に粗面化する方法を組合せてもよい。
【0023】電気化学的に粗面化する方法としては特に
限定されるものではないが、酸性媒体すなわち酸性電解
液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性
電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電
解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電
解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法につ
いては、例えば、特公昭48−28123号公報、英国
特許第896,563号公報、特開昭53−67507
号公報に記載されている方法を用いることができる。
【0024】この粗面化法は、一般には、1〜50ボル
トの範囲の電圧を印加することによって行うことができ
るが、10〜30ボルトの範囲から電圧を設定すること
が好ましい。
【0025】電流密度は、10〜200A/dm2の範
囲を用いることができるが、50〜150A/dm2
範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜500
0c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜
2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。
【0026】この粗面化法を行う温度は、10〜50℃
の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲か
ら選ぶことが好ましい。
【0027】電解液として硝酸系電解液を用いて電気化
学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範
囲の電圧を印加することによって行うことができるが、
10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密
度は、10〜200A/dm 2の範囲を用いることがで
きるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好
ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲
を用いることができるが、100〜2000c/dm2
の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行
う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができる
が、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液
における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解
液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、ア
ルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、シュウ酸
等を加えることができる。
【0028】電解液として塩酸系電解液を用いる場合、
一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加すること
によって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲か
ら選ぶことが好ましい。電流密度は、10〜200A/
dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A
/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、10
0〜5000c/dm2の範囲を用いることができる
が、100〜2000c/dm2、更に200〜100
0c/dm2の範囲から選ぶことが好ましい。電気化学
的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いる
ことができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ま
しい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好
ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、
アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、シュウ酸等を加えることができる。
【0029】上記の電気化学的粗面化法で粗面化した
後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸または
アルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもア
ルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニ
ウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好まし
い。また、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐
酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に
浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【0030】また、機械的に粗面化する方法も特に限定
されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨
法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、
直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラ
シを回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100
μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを
供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。
ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜1
00μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズル
より圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させ
て粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表
面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜
200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/
cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合
わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写するこ
とにより粗面化を行うこともできる。
【0031】上記の方法で粗面化した後、支持体の表面
に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取
り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬すること
が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗
酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられ
る。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水
溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解
量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ
水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロ
ム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施す
ことが好ましい。
【0032】上記の如くの機械的粗面化法、電気化学的
粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、
また、組合せて粗面化してもよいが、組合せて祖面化す
る方法が好ましい。
【0033】次に、上記支持体は、陽極酸化処理を行う
ことができる。本発明において用いることができる陽極
酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用い
ることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持
体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、
硫酸及び/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水
溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電
解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第
1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で電解する方法や、同3,511,661号公
報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム
酸、シュウ酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被
覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましく
は10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、
例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%
液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1lの水
に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被
覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【0034】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、重ク
ロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム
処理等公知の方法を用いて行うことができる。
【0035】更に、これらの処理を行った後に、本発明
においては、上記の支持体の表面をポリビニルホスフォ
ン酸を含有する水系溶媒で処理することが好ましく、水
系溶媒が水溶液であることが好ましい。
【0036】ポリビニルホスフォン酸を含有する水溶液
とは、ポリビニルホスフォン酸を濃度として、0.01
〜30%含有する水溶液が好ましく、特に好ましくは、
0.05〜10%の水溶液を用いることが好ましい。こ
れより含有濃度が小さいと本発明の効果が小さく、多い
と液粘度が高く取り扱いが困難となる場合があり、上記
の範囲を好ましい範囲として用いることができる。
【0037】また、上記水溶液にはポリビニルホスフォ
ン酸以外の化合物を更に含有する場合も好ましく、含有
される化合物としては、従来公知の水溶性樹脂、水分散
性無機微粒子、酸類、塩基類などを挙げることができ
る。
【0038】具体的には、水溶性樹脂としては、これら
親水性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、
ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレ
ングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチル
セルロース、ヒドロキシエチル澱粉、サクローズオクタ
アセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナト
リウム、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリス
チレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミ
ド、無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
【0039】また、水分散性無機微粒子としては、コロ
イダルシリカ、特開2001−232746記載のネッ
クレス状コロイダルシリカ等を挙げられる。
【0040】また、酸類としては、燐酸、硫酸、硝酸、
塩酸、その他の強酸またはその塩が挙げられる。
【0041】また、塩基類としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化アンモ
ニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム及び水酸化テ
トラブチルアンモニウムを挙げることができる。
【0042】本発明に於いて、これらポリビニルホスフ
ォン酸とともに含有して使用できる化合物は、その濃度
として、0〜40%が好ましく、更に、0〜20%の範
囲で含有する場合が好ましい。
【0043】本発明に係るポリビニルホスフォン酸を含
有する水溶液にて処理する処理時間は、0.5秒から3
分以内が好ましく、より好ましくは1秒から1分以内が
好ましく、特に、2秒から30秒が好ましい。これより
少ないと本発明の効果が小さくなる場合もあり、また、
これより多いと生産性の点で劣ることから、上記範囲が
好ましい。
【0044】また、上記水溶液での処理時の処理温度と
しては、水溶液温度及び被処理支持体が、40〜100
℃の範囲にあることが好ましく、より好ましくは50〜
90℃、特に、60〜80℃が好ましい。これより低い
温度では本発明の効果が小さい場合があり、これより高
い温度では生産安定性の観点から、上記した範囲が好ま
しい。
【0045】(エチレン性付加重合性基を有する化合
物)本発明の感光性平版印刷版材料に含有させるエチレ
ン性付加重合性基を有する化合物は、感光性平版印刷版
材料のいずれの層に含有させてもよいが、光重合性層
(以下、単に感光層と称する場合もある)に含有させる
ことが好ましい。
【0046】本発明に係るエチレン性付加重合性基を有
する化合物は、SiO2換算でケイ酸濃度が1質量%
で、pHが8.5以上12.5以下の水溶液への溶解度
(25℃、101kPa)が10g/L以上であれば特
に限定はなく、下記する公知の単量体などから任意に選
択使用することができるが、15g/L以上である場合
が好ましく、更に20g/Lの範囲にあるものが好まし
い。上限は、一律に並ぶものではなく、特に限定されな
いが、実際上で、以上の溶解度があれば、好ましく用い
ることができる。
【0047】また、当該水溶液に、界面活性剤が含有さ
れている場合において上記の溶解度を有する場合も好ま
しく、界面活性剤の添加量としては、0.1質量%以上
5.0質量%以下の範囲である。当該界面活性剤として
は、公知のノニオン系、カチオン系、アニオン系の活性
剤及びフッ素系、シリコン系活性剤等を挙げることがで
きる。
【0048】尚、ここで溶解度とは、通常言われてい
る、溶液と不溶解物とを濾過などで分種して確認する溶
解度を意味する。一方、上記界面活性剤を添加する場合
においては、当該溶解度とは意味が異なるが、液体相と
不溶解物との分種をして確認する意味で同様のものと
し、本発明において、これを溶解度とする。
【0049】また、エチレン性付加重合性基を有する化
合物としては、1分子中にエチレンオキサイド鎖及びま
たはプロピレンオキサイド鎖を有することが好ましく、
更にウレタン結合を有することが好ましい。特に、下記
一般式(1)〜(4)で表される化合物が好適である。
【0050】
【化2】
【0051】上記式中、R1、R2、R5は、それぞれ、
末端にエチレン性付加重合基を有する置換基を表し、好
ましくはアクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタ
クリロイル基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられ
る。R3、R4は、それぞれ、水素原子、メチル基を表
す。p、q及びrは、それぞれ、1以上3以下の整数を
表す。
【0052】一般式(1)〜(3)において、nは1以
上20以下の整数を表し、好ましくは3以上10以下を
表し、mは1以上16以下の整数を表し、好ましくは1
以上10以下を表す。
【0053】また、一般式(4)における、k、m、n
は、それぞれ、1以上20以下の整数を表し、好ましく
は3以上10以下を表す。
【0054】以下に、本発明に係るエチレン性付加重合
性基を有する化合物の具体例を挙げるがこれらに限定さ
れない。本発明に係るエチレン性付加重合性基を有する
化合物は、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリ
レート、ノニルフェノキシポリ(エチレングリコール−
プロピレングリコール)モノアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチ
レングリコール−ポリプロピレングリコールジメタクリ
レート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリ
コール−ポリエチレングリコールジアクリレート、エチ
レンオキサイド(EO)変性ビスフェノールAジメタク
リレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、
エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド変性ビスフ
ェノールAジメタクリレート、プロピレンオキサイドエ
チレンオキサイド(ブロックタイプ)変性ビスフェノー
ルAジメタクリレート、プロピレンオキサイドテトラメ
チレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレー
ト、プロピレンオキサイドテトラメチレンオキサイド変
性ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールF
エチレンオキシド変性(n≒2)ジアクリレート、ビス
フェノールAエチレンオキシド変性(n≒2)ジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート(n≒
4、n≒9、n≒13〜14、n≒12)、トリメチロ
ールプロパンEO変性(n≒1)トリアクリレート、ト
リメチロールプロパンEO変性(n≒2)トリアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコール#200ジアクリレート、ポリエチレ
ングリコール#400ジアクリレート、ポリエチレング
リコール#600ジアクリレート、ビスフェノールAの
EO付加物ジアクリレート、ビスフェノールAのプロピ
レンオキシド付加物ジアクリレート、EO変性トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、2−ヒドロキシ−3
−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ポリテト
ラメチレングリコールジアクリレート、EO変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。
【0055】また、上記したエチレン性付加重合性基を
有する化合物と共に、公知の単量体を使用することがで
きる。これらの具体的なものとしては、例えば、2−エ
チルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−
ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のア
クリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単
官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレー
トをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マ
レエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキ
ノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールの
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートの
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)
−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキ
サンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレー
トのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオ
ールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官
能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの
ε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレ
ート、プロピオン酸−ジペンタエリスリトールトリアク
リレート、プロピオン酸−ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジ
メチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル酸、或いはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに
代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイ
ン酸エステル等を挙げることができ、これらのオリゴマ
ーも使用することができる。
【0056】また、上記単量体によるプレポリマーも上
記同様に使用することができる。プレポリマーとして
は、後述する様な化合物等が挙げることができ、また、
適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、またはメタク
リル酸を導入し、光重合性を付与したプレポリマーも好
適に使用できる。これらプレポリマーは、1種または2
種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び/または
オリゴマーと混合して用いてもよい。
【0057】プレポリマーとしては、例えばアジピン
酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタ
ル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール
酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルター
ル酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒ
ドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プ
ロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレ
ンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサン
ジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価の
アルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)ア
クリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例え
ば、ビスフェノールA−エピクロルヒドリン−(メタ)
アクリル酸、フェノールノボラック−エピクロルヒドリ
ン−(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メ
タ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例
えば、エチレングリコール−アジピン酸−トリレンジイ
ソシアネート−2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポ
リエチレングリコール−トリレンジイソシアネート−2
−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフ
タリルメタクリレート−キシレンジイソシアネート、
1,2−ポリブタジエングリコール−トリレンジイソシ
アネート−2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメ
チロールプロパン−プロピレングリコール−トリレンジ
イソシアネート−2−ヒドロキシエチルアクリレートの
ように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入した
ウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリ
レート、ポリシロキサン−ジイソシアネート−2−ヒド
ロキシエチルアクリレート等のシリコン樹脂アクリレー
ト類、その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アクリ
ロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、ス
ピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げられ
る。
【0058】本発明の感光層には、ホスファゼンモノマ
ー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸EO変
性ジアクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリアク
リレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレー
ト、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステ
ル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレ
タン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成
される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプ
レポリマーを含有することができる。
【0059】本発明に好ましく用いられる単量体とし
て、少なくとも1つのエチレン性二重結合を有を含有す
る燐酸エステル化合物が挙げられる。該化合物は、燐酸
の水酸基の少なくとも一部がエステル化された化合物で
あり、分子内にエチレン性二重結合を有していればよ
く、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化
合物である。
【0060】この他に特開昭58−212994号公
報、同61−6649号公報、同62−46688号公
報、同62−48589号公報、同62−173295
号公報、同62−187092号公報、同63−671
89号公報、特開平1−244891号公報等に記載の
化合物などを挙げることができ、更に「11290の化
学商品」化学工業日報社、p.286〜p.294に記
載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料
編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物な
ども本発明においては好適に用いることができる。これ
らの中で、分子内に2個以上のアクリル基またはメタク
リル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更
に分子量が10,000以下、より好ましくは5,00
0以下のものが好ましい。
【0061】本発明に係る感光層には、上記した本発明
に係るエチレン性付加重合性基を有する化合物を、感光
層を塗布する感光性組成物の1.0〜80.0質量%の
範囲で含有するのが好ましく、より好ましくは3.0〜
70.0質量%の範囲である。
【0062】(高分子結合剤)本発明に係る感光層及び
オーバーコート層等は、高分子結合剤(バインダー)を
含有することが好ましい。当該高分子結合材は、下記
(1)〜(17)に記載のモノマー(単量体)の少なく
とも1種からなるビニル系共重合体を含有することが好
ましい。
【0063】(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばo−(またはp−,m−)ヒドロキシスチレン、o
−(またはp−,m−)ヒドロキシフェニルアクリレー
ト等。
【0064】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−
ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)ア
クリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリ
ルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【0065】(3)アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えばm−(またはp−)アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、m−(またはp−)アミノスルホニ
ルフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)アクリルアミド等。
【0066】(4)スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えばN−(p−トルエンスルホニル)アクリルア
ミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミ
ド等。
【0067】(5)α,β−不飽和カルボン酸類、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【0068】(6)置換または無置換のアルキルアクリ
レート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート等。
【0069】(7)置換または無置換のアルキルメタク
リレート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチ
ル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。
【0070】(8)アクリルアミドまたはメタクリルア
ミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N
−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミ
ド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニル
アクリルアミド、N−(4−ニトロフェニル)アクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N
−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
【0071】(9)弗化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメ
タクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキ
シエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
【0072】(10)ビニルエーテル類、例えば、エチ
ルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【0073】(11)ビニルエステル類、例えばビニル
アセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。
【0074】(12)スチレン類、例えばスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【0075】(13)ビニルケトン類、例えばメチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。
【0076】(14)オレフィン類、例えばエチレン、
プロピレン、i−ブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。
【0077】(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。
【0078】(16)シアノ基を有するモノマー、例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテ
ンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シ
アノエチルアクリレート、o−(またはm−,p−)シ
アノスチレン等。
【0079】(17)アミノ基を有するモノマー、例え
ばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,
N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレ
タンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、N−i−プロピルアクリルアミ
ド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。
【0080】上記高分子結合剤には、必要に応じてポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹
脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合剤が、上記の本
発明に係るビニル系共重合体と併用されてもよい。
【0081】本発明に係る感光層を塗布する組成物中に
おける上記高分子結合剤の含有量は、感光層について1
0〜90質量%の範囲が好ましく、15〜70質量%の
範囲が更に好ましく、20〜50質量%の範囲で使用す
ることが感度の面から特に好ましい。更に、上記のビニ
ル系共重合体は、該高分子結合剤において、50〜10
0質量%であることが好ましく、100質量%であるこ
とがより好ましい。
【0082】本発明に係る高分子結合剤に含まれる重合
体の酸価については、10〜150の範囲で使用するの
が好ましく、30〜120の範囲がより好ましく、50
〜90の範囲で使用することが、感光層全体の極性のバ
ランスをとる観点から特に好ましく、これにより感光層
塗布液での顔料の凝集を防ぐことなどができる。
【0083】(光重合開始剤)本発明に係る光重合性層
(感光層)には活性光線によりラジカルを発生させる化
合物(以下、光重合開始剤とも言う)を用いることが好
ましく、光重合開始剤として好ましく使用できるもの
は、例えばJ.コーサー(J.Kosar)著「ライト
・センシテイブ・システムズ」第5章に記載されるよう
な、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レ
ドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、ハロゲ
ン化合物、光還元性色素などが挙げられ、英国特許第
1,459,563号に開示されている化合物も好まし
い。
【0084】具体的には、以下の例を挙げることができ
るが、これらに限定されない。すなわち、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾイン−i−プロピルエーテル、
α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等の
ベンゾイン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロ
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン誘導体;2−クロロチオキサントン、2−i
−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;
2−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン
等のアントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン、N
−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体;α,α−ジ
エトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キ
サントン、ウラニル化合物の他、特公昭59−1281
号公報、同61−9621号公報並びに特開昭60−6
0104号公報に記載のトリアジン誘導体;特開昭59
−1504号公報、同61−243807号公報に記載
の有機過酸化物;特公昭43−23684号公報、同4
4−6413号公報、同44−6413号公報、同47
−1604号公報並びに米国特許第3,567,453
号に記載のジアゾニウム化合物;米国特許第2,84
8,328号、同2,852,379号並びに同2,9
40,853号に記載の有機アジド化合物;特公昭36
−22062号公報、同37−13109号公報、同3
8−18015号公報並びに同45−9610号公報に
記載のo−キノンジアジド類;特公昭55−39162
号公報、特開昭59−14023号公報並びに「マクロ
モレキュルス(Macromolecules)」10
巻,1307頁(1977年)記載の各種オニウム化合
物;特開昭59−142205号公報に記載のアゾ化合
物;特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第1
09,851号、同126,712号並びに「ジャーナ
ル・オブ・イメージング・サイエンス(J.Imag.
Sci.)」30巻,174頁(1986年)記載の金
属アレン錯体;特願平4−56831号及び同4−89
535号記載の(オキソ)スルホニウム有機硼素錯体;
特開昭59−152396号公報、特開昭61−151
197号公報に記載のチタノセン類;「コーディネーシ
ョン・ケミストリー・レビュー(Coordinati
onChemistry Review)」84巻,
85〜277頁(1988年)並びに特開平2−182
701号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有す
る遷移金属錯体;特開平3−209477号公報に記載
の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;四臭
化炭素、特開昭59−107344号公報に記載の有機
ハロゲン化合物等。
【0085】中でも好ましいものは、チタノセン類であ
る。チタノセン類の具体例としては、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジ
エニル−Ti−ビス―フェニル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−
ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イ
ル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジ
フルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウ
ム(IRUGACURE784:チバスペシャリティー
ケミカルズ社製)等が挙げられるが、これに限定される
ものではない。
【0086】光源にレーザー光を用いる場合、好ましく
は感光層に増感色素を添加することが好ましい。
【0087】可視光から近赤外まで波長増感させる化合
物としては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシ
アニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フ
ルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナ
ジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェ
ニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジ
ン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジ
ゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、
ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合
物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体
等が挙げられ、更に欧州特許568,993号、米国特
許4,508,811号、同5,227,227号、特
開2001−125255号公報、特開平11−271
969号公報等に記載の化合物も用いられる。
【0088】本発明において、上記の光重合開始剤と増
感色素の組合せの好ましい具体例としては、特開200
1−125255公報、特開平11−271969号公
報に記載のある組合せが挙げられる。
【0089】これら重合開始剤の感光層中での含有量は
特に限定されないが、本発明に係るエチレン性付加重合
性基を有する化合物100質量部に対して0.1〜20
質量部が好ましい。また、光重合開始剤と増感色素の配
合比率は、モル比で1:100〜100:1の範囲が、
好ましい。
【0090】(中間層)本発明に係る感光性平版印刷版
材料には中間層が設けられることが好ましく、感光性平
版印刷版材料のいかなる位置に層が設けられていても構
わないが、光重合性層と支持体との間に設けられること
が好ましく、また、中間層の構成は、1層でも、2層以
上の複数層からなる中間層であっても構わない。
【0091】また、感光性平版印刷版材料としての中間
層の厚みは、0.1〜1000mg/m2が好ましく、
より好ましくは0.5〜500mg/m2が好ましく、
特に好ましくは1〜300mg/m2である。これより
少ないと耐刷性が劣化し、これより多いと経時での現像
不良の要因となる場合があり、上記の範囲が好ましい。
この場合の中間層の厚みとは、複数層からなる場合に
は、これらの全てを合計した厚みを言う。
【0092】当該中間層は、上記した高分子結合剤を含
み、そのほかに上記したエチレン性付加重合性基を有す
る化合物などを含有してなることが好ましいが、これら
以外の添加剤を含有していてもよい。
【0093】(オーバーコート層)本発明に係る感光層
の上側には、オーバーコート層(保護層ないし酸素遮断
層とも言う)を設けることが好ましい。該層は、後述す
る現像液(一般にはアルカリ水溶液)への溶解性が高い
ことが好ましい。
【0094】保護層を構成する素材として好ましい例
は、ポリビルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、
膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエ
チル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテー
ト、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、
ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレ
ンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等が
挙げられる。これらの化合物を単独または2種以上併用
し塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化
合物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。
【0095】保護層塗布組成物を調製するには、上記の
素材を適当な溶剤に溶解して塗布液とすることができ、
この塗布液を本発明に係る感光層上に塗布し、乾燥して
保護層を形成することができる。保護層の厚みは感光性
平版印刷版材料として、0.1〜5.0μmが好まし
く、特に好ましくは0.5〜3.0μmである。保護層
には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有
することができる。
【0096】保護層の塗布方法としても、後述する公知
の方法を好適に用いることができる。保護層の乾燥温度
は、感光層の乾燥温度よりも低い方がより好ましい。好
ましくは感光層乾燥温度との差が10℃以上、より好ま
しくは20℃以上である場合が好ましく、その場合の上
限はせいぜい50℃程度が好ましい。
【0097】また、保護層の乾燥温度が、感光層が含有
するバインダーのガラス転移温度(Tg)より低いこと
が好ましい。保護層の乾燥温度と、感光層が含有するバ
インダーのガラス転移温度(Tg)の差は20℃以上で
あることが好ましく、より好ましくは40℃以上であ
り、その差の上限はせいぜい60℃程度が好ましい。 (着色剤)本発明に係る着色剤としては、市販のものを
含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂
新版「顔料便覧」,日本顔料技術協会編(誠文堂新光
社)、カラーインデックス便覧等に述べられているもの
が挙げられ、顔料が好ましい。
【0098】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的に
は、無機顔料(二酸化チタン、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウ
ム、酸化鉄、並びに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウム
のクロム酸塩等)及び有機顔料(アゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等)が挙げ
られる。
【0099】これらの中でも、使用する露光レーザーに
対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持
たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場
合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反
射吸収が0.05以下であることが好ましい。また、顔
料の添加量としては、光重合性層の塗布組成物の固形分
に対し0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは
0.2〜5質量%である。
【0100】露光光源として、アルゴンレーザー(48
8nm)またはSHG−YAGレーザー(532nm)
を使用する場合には、上記の感光波長領域での顔料吸収
及び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料
を用いるのが好ましい。この様なものとしては、例えば
コバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレ
ーキ、フォナトーンブルー6G、ビクトリアブルーレー
キ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブル
ーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、イ
ンジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロン
バイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロン
BC等を挙げることができる。これらの中で、より好ま
しくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレット
である。 (各種添加剤)本発明に係る感光層の塗布組成物には、
上記した成分の他に、感光性平版印刷版材料の製造中或
いは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結
合単量体の不要な重合を阻止するために、重合防止剤を
添加することが望ましい。適当な重合防止剤としてはハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、2
−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ
−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート等が挙げられる。
【0101】重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固
形分の質量に対して、0.01〜5%程度が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するため
にベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体
等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全
組成物の0.5〜10%程度が好ましい。
【0102】また、硬化皮膜の物性を改良するために、
無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレー
ト、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を
加えてもよい。これらの添加量は全固形分の10%以下
が好ましい。
【0103】また、本発明の性能を損わない範囲で、界
面活性剤を塗布性改良剤として含有することができる。
その中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。
【0104】(塗布)本発明に係る感光層や中間層など
の塗布組成物を調製する際に使用する溶剤としては、例
えば、アルコール:多価アルコールの誘導体類では、s
ec−ブタノール、イソブタノール、n−ヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,
5−ペンタンジオール、またエーテル類:プロピレング
リコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、またケトン類、アルデヒド類:ジアセト
ンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサ
ノン、またエステル類:乳酸エチル、乳酸ブチル、シュ
ウ酸ジエチル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられ
る。
【0105】調製された塗布組成物(層塗布液)は、従
来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、感光性平版
印刷版材料を作製することができる。塗布液の塗布方法
としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ
法、ワイヤーバー法、ナイフコータ法、ディップコータ
法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャ
ストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコ
ータ法等を挙げることができる。
【0106】感光層等の乾燥温度は、低いと十分な耐刷
性を得ることができず、また高過ぎるとマランゴニーを
生じてしまうばかりか、非画線部のカブリを生じてしま
う。好ましい乾燥温度範囲としては、60〜160℃の
範囲が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に
好ましくは、90〜120℃の範囲で乾燥することが好
ましい。
【0107】(画像形成方法)本発明の感光性平版印刷
版材料に画像露光する光源としては、例えばレーザー、
発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲン
ランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙
げることができる。キセノンランプ、ハロゲンランプ、
カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、タングステ
ンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等が用いること
ができる。
【0108】一括露光する場合には、感光性平版印刷版
材料上に、所望の露光画像のパターンを遮光性材料で形
成したマスク材料を重ね合わせ、全面に露光すればよ
い。
【0109】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ま
しい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込み
を行うことができる。
【0110】レーザー露光の場合には、光をビーム状に
絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク
材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。ま
た、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を
微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形
成が可能となる。
【0111】レーザー光源としては、アルゴンレーザ
ー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体
レーザー等をいずれも好適に用いることが可能である。
レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面
走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材
料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー
露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移
動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に
記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、
光学系の一部または全部を回転させることにより円周方
向に主走査を行い、光学系の一部または全部をドラムの
軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を
行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラー
とfθレンズ等を組合せてレーザー光の主走査を行い、
記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び
円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記
録には適している。
【0112】(プレヒート)本発明においては、上記す
る画像露光を行った後、現像処理する前または現像処理
しながら感光性平版印刷版材料を加熱処理することが好
ましい。この様に加熱処理することで、感光層と支持体
の接着性が向上し、本発明に係る発明の効果を向上させ
ることができる。
【0113】本発明に係るプレヒートは、例えば、感光
性平版印刷版材料を現像処理する自動現像装置におい
て、現像処理時に搬送される感光性平版印刷版を現像前
に所定の温度範囲に加熱するプレヒートローラによる加
熱する方法を挙げることができる。例えば、プレヒート
ローラは、内部に加熱手段を有する少なくとも1つのロ
ーラを含む1対のローラからなり、加熱手段を有するロ
ーラとしては、熱伝導率の高い金属(例えば、アルミニ
ウム、鉄等)からなる中空パイプの内部に発熱体として
ニクロム線等を埋設し、該金属パイプの外側面をポリエ
チレン、ポリスチレン、テフロン(R)等のプラスチッ
クシートで被覆したものを使用することができる。ま
た、こうしたプレヒートローラの詳細については、特開
昭64−80962号公報を参照することができる。
【0114】本発明における当該プレヒートは、70〜
180℃で、3〜120秒程度行うことが好ましい。
【0115】(現像液)画像露光した感光層は露光部が
硬化する。これをアルカリ現像液で現像処理することに
より、未露光部が除去され画像形成が可能となる。この
様な現像液としては、従来より知られているアルカリ水
溶液が使用できる。例えばケイ酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム;第二燐酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム;重炭酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム;炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム;炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム;ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム;水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム及
び同リチウム等の無機アルカリ剤を使用するアルカリ現
像液が挙げられる。
【0116】また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノ−i−プロピルアミン、
ジ−i−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノ−i−プロパノール
アミン、ジ−i−プロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いることができる。
【0117】これらのアルカリ剤は、単独または2種以
上組合せて用いられる。また、該現像液には、必要に応
じてアニオン性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等
の有機溶媒を加えることができる。
【0118】本発明に係る水溶液は、基本的に、SiO
2換算でのケイ酸濃度が1.0質量%で、pH8.5〜
12.5の範囲である水溶液が好ましく、該水溶液は、
他の添加剤を含有していてもよい。また、当該水溶液
に、更に界面活性剤を0.1質量%以上5.0質量%以
下の範囲で含有する水溶液がより好ましい。また、本発
明に係る水溶液は、上記する現像液の成分を含有するこ
とも好ましい。
【0119】
【実施例】以下、本発明を実施例にて説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。尚、実施例にお
ける「部」は、特に断りがない限り「質量部」を表す。
【0120】(実施例1) (バインダーの合成)窒素気流下の三ツ口フラスコに、
メタクリル酸12部、メタクリル酸メチル70部、アク
リロニトリル8部、メタクリル酸エチル10部、エタノ
ール500部及びα、α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間
反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライ
ド3部及びグリシジルメタクリレート2部を加えて3時
間反応させ、アクリル系共重合体1を得た。GPCを用
いて測定した重量平均分子量は、約50,000、DS
C(示差熱分析法)を用いて測定したガラス転移温度
(Tg)は約85℃であった。
【0121】(支持体の作製)厚さ0.24mmのアル
ミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の
脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム
板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸
漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウ
ム板を、0.3質量%の硝酸水溶液中で、25℃、電流
密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒
間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸
化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行
った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板
を、15%硫酸溶液中で、25℃、電流密度10A/d
2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行っ
た。この時、表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.65
μmであった。
【0122】上記処理を行った後、続けて下記溶液中で
浸漬し処理を行った。 溶液温度 80℃ ビニルホスホン酸 0.2% ポリビニルホスホン酸 1.5% 上記溶液中にアルミニウム板を30秒間通し、乾燥し
た。
【0123】(感光性平版印刷版材料の作製)上記支持
体上に、下記組成の光重合性の感光層塗工液を乾燥時
1.4g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、95
℃で1.5分間乾燥した。その後、更に該感光層上に、
下記組成のオーバーコート層塗工液を乾燥時2.0g/
2になるようアプリケーターで塗布し、75℃で1.
5分間乾燥して、感光層上にオーバーコート層を有する
平版印刷版材料(表中の「No.」で示す各試料)を作
製した。
【0124】 〈感光層塗工液〉 アクリル系共重合体1(合成バインダー,分子量Mw=5万) 35.0部 分光増感色素1 2.0部 分光増感色素2 2.0部 IRGACURE 784(チバスペシャリティケミカルズ製) 4.0部 表1〜表4に示す化合物 50.0部 フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部 2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ −5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート (スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部 フッ素系界面活性剤(FC−431;住友スリーエム社製) 0.5部 メチルエチルケトン(沸点=79.6℃) 80部 シクロペンタノン(沸点=129℃) 820部 〈オーバーコート層塗工液〉 ポリビニルアルコール(GL−03:日本合成化学社製) 89部 水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部 界面活性剤(F142D:大日本インキ工業社製) 0.5部 水 900部
【0125】
【化3】
【0126】(画像形成)この様にして作製した光重合
型平版印刷版材料について、FD−YAGレーザー光源
を搭載したCTP露光装置(Tigercat:ECR
M社製)を用いて2540dpi(dpiとは、2.5
4cm当たりのドット数)の解像度で画像露光を行っ
た。次いで、現像前にオーバーコート層を除去する前水
洗部、下記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着
した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム
液(GW−3:三菱化学社製を2倍希釈したもの)を備
えたCTP自動現像機(PHW32−V:Techni
graph社製)でプレヒート/現像処理を行い、平版
印刷版を得た(プレヒート有無/条件は表1に記載)。
【0127】 〈現像液組成〉(下記添加剤を含有する水溶液) Aケイ酸カリ 8.0質量% ペレックスNBL:花王(株)製 3.0質量% 苛性カリ pH=12.3となる添加量 (平版印刷版の評価)上記のようにして得られた平版印
刷版について、以下の検討ないし評価を行った。尚、実
施例2以下についても同様に行った。
【0128】《感度》画像部の膜減りが観察されず、か
つ、175線・50%の網点露光部が、作製した平版印
刷版面上で50%に再現できる露光量の2倍の光量のレ
ーザーパワーを感度とした。
【0129】《耐刷力》175線の画像を適性露光量で
露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機(三菱重
工業(株)製DAIYA1F−1)で、コート紙、印刷
インキ(東洋インク(株)製トーヨーキングハイエコー
M紅)及び湿し水(東京インク(株)製H液SG−51
濃度1.5%)を用いて印刷を行い、1000枚連続印
刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細
り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指
標とした。耐刷力1回は1000枚連続印刷後クリーナ
ーでふく作業を指す。数値が大きいほど好ましい性能を
示す。尚、表中の比較1及び比較2は、下記の化合物を
用いた。
【0130】
【化4】
【0131】《汚し回復》1000枚連続印刷後クリー
ナーでふき、15分後に印刷を再開し、非画線部の地汚
れがなくなる枚数とした。数値が小さいほど好ましい性
能を示す。
【0132】《90%アミ再現》上記レーザーパワー
(2倍光量)でリニアリティ未補正でアミ点を描画し
て、現像処理し、90%に再現されるはずのアミ点領域
を500倍の光学顕微鏡で撮影し、2mm×2mmの範
囲の画像部の面積を算出してアミ点%として以下の表に
示した。
【0133】《スラッジ》各試料50m2を上記自動現
像機、現像液で無補充ランニングし、1時間静置し現像
液中のスラッジを5段階目視評価した。
【0134】 ランク1:現像タンクの底が見えないくらい多量のスラ
ッジが沈降している ランク2:現像タンクの底が70%をこえ80%までス
ラッジで覆われている ランク3:現像タンクの底が30%をこえ70%までス
ラッジで覆われている(使用下限レベル) ランク4:現像タンクの底が10%から30%までスラ
ッジで覆われている(実用上問題ないレベル) ランク5:スラッジは非常に少なく実用上全く問題ない
レベル。
【0135】以上についての結果を各試料(感光性平版
印刷版材料)の特性と共に表1〜表4に記載した。
【0136】
【表1】
【0137】
【表2】
【0138】
【表3】
【0139】
【表4】
【0140】(実施例2)実施例1の表1のNo.6の
試料(感光性平版印刷版材料)を用いて下記現像液を使
用して上記自動現像機で処理した。プレヒートは100
℃で10秒であった。結果を上記表と同様にして表5に
記載した。
【0141】 〈現像液組成〉(下記添加剤を含有する水溶液) Aケイ酸カリ 8.0質量% 界面活性剤 表5に示す化合物及び濃度 苛性カリ 表5に示すpHとなる量
【0142】
【化5】
【0143】
【表5】
【0144】(実施例3)実施例1の感光層塗工液の分
光増感色素1、2及びIRGACURE 784の代わ
りに、下記化合物1〜7を添加し、また、オーバーコー
ト層には下記化合物8を使用した下記塗工液にて、実施
例1と同様にして、実施例3の試料1〜8を作製した。
【0145】 化合物1 0.7質量部 化合物2 0.7質量部 化合物3 0.7質量部 化合物4 0.7質量部 化合物5 0.7質量部 化合物6 0.7質量部 化合物7 4.0質量部 〈オーバーコート層塗工液〉 ポリビニルアルコール(GL−03:日本合成化学社製) 87部 水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部 化合物8 2部 界面活性剤(F1405:大日本インキ工業社製) 0.5部 水 900部 そして、発振波長405nmのInGaN系半導体レー
ザーを搭載した自作の装置を使用し、実施例1と同様に
露光し、評価し、結果を表6に示した。
【0146】
【表6】
【0147】
【化6】
【0148】
【発明の効果】本発明は、光重合性層と支持体との接着
性に優れ、耐刷力と非画線部の汚れ改良の両立ができ、
更に、高解像度な平版印刷版を得ることができ、しかも
スラッジ性能が良好で、耐刷力とスラッジ性能が両立し
た感光性平版印刷版材料及びその処理方法を提供するこ
とができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC49 BC65 BC66 BC83 CA00 CC11 DA04 FA10 FA12 FA17 2H096 AA06 BA05 EA04 FA01 GA08

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、高分子結合剤、光重合開始
    剤及び着色剤を含有する光重合性層並びにオーバーコー
    ト層を有する感光性平版印刷版材料において、該感光性
    平版印刷版材料中に、101kPa、25℃での下記水
    溶液への溶解度が10g/L以上のエチレン性付加重合
    性基を有する化合物を含有することを特徴とする感光性
    平版印刷版材料。水溶液:SiO2換算でのケイ酸濃度
    が1.0質量%で、pHが8.5〜12.5である水溶
    液。
  2. 【請求項2】 前記エチレン性付加重合性基を有する化
    合物が、光重合性層に含有されることを特徴とする請求
    項1に記載の感光性平版印刷版材料。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の感光性平版印
    刷版材料を、画像露光後、プレヒートして現像処理する
    ことを特徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。
  4. 【請求項4】 前記エチレン性付加重合性基を有する化
    合物が、下記一般式(1)〜(4)で表される化合物の
    少なくとも1つであることを特徴とする請求項1に記載
    の感光性平版印刷版材料。 【化1】 (上記式中、R1、R2、R5は、それぞれ、末端にエチ
    レン性付加重合基を有する置換基を表し、R3、R4は、
    それぞれ、水素原子、メチル基を表す。p、q及びr
    は、それぞれ、1以上3以下の整数を表す。一般式
    (1)〜(3)において、nは1以上20以下の整数を
    表し、mは1以上16以下の整数を表す。また、一般式
    (4)における、k、m、nは、それぞれ、1以上20
    以下の整数を表す。)
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の感光性平版印刷版材料
    を、画像露光後、プレヒートして現像処理することを特
    徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載の感光性平版印刷版材料
    を、下記水溶液にて現像処理することを特徴とする感光
    性平版印刷版材料の処理方法。水溶液:SiO2換算で
    のケイ酸濃度が1.0質量%で、pH8.5〜12.5
    であり、更に界面活性剤を0.1質量%以上5.0質量
    %含有する水溶液。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005100412A1 (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
JP2005325325A (ja) * 2004-04-13 2005-11-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005100412A1 (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
JP2005325325A (ja) * 2004-04-13 2005-11-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
KR100848031B1 (ko) * 2004-04-13 2008-07-23 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 고분자 화합물, 이 고분자 화합물을 함유하는 포토레지스트조성물, 및 레지스트 패턴 형성 방법
US7700259B2 (en) 2004-04-13 2010-04-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Polymer compound, photoresist composition containing such polymer compound, and method for forming resist pattern
JP4694153B2 (ja) * 2004-04-13 2011-06-08 東京応化工業株式会社 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
US8741538B2 (en) 2004-04-13 2014-06-03 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Polymer compound, photoresist composition containing such polymer compound, and method for forming resist pattern

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