JP2003231725A - 活性エネルギー線硬化性組成物、及び光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて
好適な樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 本発明の組成物は、ウレタン（メタ）ア
クリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合
物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）
１５〜９５質量部、下記一般式（ｉ）で表される（メ
タ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）５〜８５質量部、
および前記成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和
化合物（Ｃ）０〜８０質量部（但し、成分（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）の合計量は１００質量部とする）を含有
することを特徴とする。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクの硬化
物層を形成する際に用いて好適な活性エネルギー線硬化
性組成物、及び該組成物を用いて形成された硬化物層を
有する光ディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、情報記録媒体として、ＣＤ
（コンパクトディスク）、追記型光ディスク、光磁気デ
ィスク、相変化型光ディスク等の光ディスクが広く用い
られている。かかる光ディスクとしては、ピット、グル
ーブ等の微細な凹凸を形成した透明樹脂基板の記録面
に、金属薄膜からなる記録膜と、該記録膜の劣化を防止
するための光硬化性樹脂組成物からなる保護層とが順次
積層形成されたものが一般的であり、保護層形成用の光
硬化性樹脂組成物としては、特開平２−１２３１７２号
公報、特開平３−１３１６０５号公報、特開平４−２６
４１６７号公報等に開示されている。

【０００３】また、近年、高い記憶容量が得られること
から、複数の光ディスク基板を、光硬化性樹脂組成物か
らなる接着剤兼光透過層を介して貼着したＤＶＤ（デジ
タルビデオディスク、あるいはデジタルバーサタイルデ
ィスク）をはじめとする多層記録型光ディスクが開発さ
れている（例えば、特開平８−２１２５９７号公報
等）。また、かかる多層記録型光ディスクの接着剤兼光
透過層形成用の光硬化性樹脂組成物としては、特開平１
０−２４５４６７号公報、特開２０００−３４５１１１
号公報等に開示されている。

【０００４】また、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクよ
りも高い記憶容量が得られ、高品位の動画情報等を長時
間録画することが可能な高密度光ディスクが提案されて
いる（特開平８−２３５６３８号公報等）。この高密度
型光ディスクは、透明又は不透明の基板上に、記録膜と
光硬化性樹脂組成物からなる光透過層とが順次積層形成
されて概略構成され、光透過層を介して、記録膜に記録
光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）を入射さ
せ、記録又は再生を行うことが可能なものである。かか
る高密度光ディスクの光透過層形成用の光硬化性樹脂組
成物としては、上述したＣＤ等の従来の光ディスクの保
護層用材料、あるいはＤＶＤ等の多層記録型光ディスク
の接着剤兼光透過層用材料を適用することができると思
われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
で光ディスク用として提案されている光硬化性樹脂組成
物では、以下のような課題があった。すなわち、ＣＤ等
の従来の光ディスクの保護層用の光硬化性樹脂組成物で
は、特開平２−１２３１７２号公報、特開平３−１３１
６０５号公報、特開平４−２６４１６７号公報等に開示
されているように、記録膜との密着性を高めるために、
ＣＯＯＨ基含有アクリル酸エステルやリン酸エステル系
モノマー等の酸性モノマーを多量に配合する必要があっ
た。

【０００６】記録膜材料として、従来はアルミ合金が広
く用いられていたのに対し、近年は反射率の高さから銀
又は銀合金が広く用いられているが、銀又は銀合金製の
記録膜上に、酸性モノマーを多量に含有する光硬化性樹
脂組成物を用いてＣＤ等の従来の光ディスクの保護層や
高密度光ディスクの光透過層を形成すると、高温高湿の
保存環境下において、記録膜が腐食されてしまい、記録
膜としての機能が低下する傾向にあった。

【０００７】また、このような酸性モノマーを多量に含
有する光硬化性樹脂組成物を用いて、ＣＤ等の従来の光
ディスクの保護層や高密度光ディスクの光透過層を形成
すると、該組成物の硬化収縮率が高いため、光ディスク
に大きな初期反りが発生する恐れもあった。また、初期
反りが大きくなくとも、高温下で長期間保存した場合
に、硬化物が柔軟になるので、硬化物内部に蓄積された収
縮応力が緩和する方向に収縮し、光ディスクの反り量が
増大する傾向もあった。

【０００８】また、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの
接着剤兼光透過層用の光硬化性樹脂組成物としては、特
開平１０−２４５４６７号公報、特開２０００−３４５
１１１号公報等に開示されているように、光ディスク用
基板や記録膜との密着性を向上させるために、希釈モノ
マーとしてＯＨ基含有モノマーを含有する光硬化性樹脂
組成物など、軟質な硬化物が得られる光硬化性樹脂組成
物が提案されている。

【０００９】かかる光硬化性樹脂組成物を用いて、多層
記録型光ディスクの接着剤兼光透過層や高密度光ディス
クの光透過層を形成する場合には、これらの層が軟質な
ものとなるため、基板を変形させる力が弱く、光ディス
クの反りの問題は発生しないが、形成される接着剤兼光
透過層や光透過層が軟質なものとなるため、これらの層
の機械的強度が不十分となる恐れがあった。また、記録
膜が銀又は銀合金等からなる場合には、高温高湿の保存
環境下において、記録膜が腐食されてしまい、記録膜と
しての機能が低下する傾向にあった。

【００１０】そこで、本発明は上記課題を解決するため
になされたものであり、光ディスクの基板や記録膜への
密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低く、硬化後
の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止することがで
き、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適な
樹脂組成物、及び該組成物を用いて形成された硬化物層
を有する光ディスクを提供することを目的とする。な
お、本明細書において、「光ディスクの硬化物層」と
は、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層、ＤＶＤ等の多
層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層、高密度光ディ
スクの光透過層等、光ディスクを構成する硬化物層全般
を意味しているものとする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するべく検討を行った結果、以下の活性エネルギー
線硬化性組成物及び光ディスクを発明した。本発明の活
性エネルギー線硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アク
リレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物
のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）１
５〜９５質量部、下記一般式（ｉ）で表される（メタ）
アクリル酸エステル化合物（Ｂ）５〜８５質量部、およ
び前記成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合
物（Ｃ）０〜８０質量部（但し、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）の合計量は１００質量部とする）を含有すること
を特徴とする。

【化２】 （但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のア
ルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数
４〜６のアルキルカルボキシレート基、Ｒ４は水素原子
又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）

【００１２】また、本発明の活性エネルギー線硬化性組
成物において、オリゴマー成分（Ａ）がウレタン（メ
タ）アクリレート化合物である場合には、オリゴマー成
分（Ａ）として、分子内に少なくとも１個のアミド基を
有するウレタン（メタ）アクリレート化合物が好適であ
り、その中でも特に、下記成分（ａ１）〜（ａ４）を反
応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物
が好適である。 （ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少な
くとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物 （ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物 （ａ３）ジイソシアネート化合物 （ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル

【００１３】ここで、成分（ａ１）としては、環状ヒド
ロキシカルボン酸エステルとアミン化合物を反応させて
得られるアミド含有化合物が好適である。また、成分
（ａ２）としては、ポリエーテルジオール、ポリエステ
ルジオール、及びポリカーボネートジオールから選ばれ
る少なくとも１種のジオール化合物が好適である。ま
た、成分（ａ３）としては、脂環式ジイソシアネートが
好適である。

【００１４】また、本発明の活性エネルギー線硬化性組
成物において、オリゴマー成分（Ａ）がエポキシ（メ
タ）アクリレート化合物である場合には、オリゴマー成
分（Ａ）として、ビスフェノール型エポキシ（メタ）ア
クリレート化合物類が好適である。

【００１５】また、本発明の光ディスクは、以上の活性
エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された硬化物層
を有することを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 ［活性エネルギー線硬化性組成物］本発明の活性エネル
ギー線硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート
化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの
少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）と、下記一
般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合
物（Ｂ）と、成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽
和化合物（Ｃ）とを含有することを特徴としている。な
お、成分（Ｃ）は任意成分であり、必要に応じて添加さ
れる成分である。

【化３】 （但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のア
ルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数
４〜６のアルキルカルボキシレート基、Ｒ４は水素原子
又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）

【００１７】以下、各成分について詳述する。 ＜オリゴマー成分（Ａ）＞本発明において、ウレタン
（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリ
レート化合物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー
成分（Ａ）は、組成物に低収縮性を付与すると共に、得
られる硬化物層に記録膜保護性能および機械的強度を付
与する成分である。

【００１８】オリゴマー成分（Ａ）としては、ウレタン
（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリ
レート化合物のうちの少なくとも１種であれば、特に限
定されるものではないが、以下の化合物を例示すること
ができる。

【００１９】ウレタン（メタ）アクリレート化合物とし
ては、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシ
アナトシクロヘキシル）メタン、ビス（４−イソシアナ
トフェニル）メタン、ビス（３−クロロ−４−イソシア
ナトフェニル）メタン、２、４−トリレンジイソシアネ
ート、２、６−トリレンジイソシアネート、トリス（４
−イソシアナトフェニル）メタン、１，２−キシリレン
ジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネー
ト、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４
−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシ
リレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレン
ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシア
ネート等の１種又は２種以上の混合物に、分子内に、１
個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基及び1個のヒド
ロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸
エステルの１種又は２種以上の混合物を反応させて得ら
れるウレタンポリ（メタ）アクリレート類；アルカンジ
オール、ポリエーテルジオール、ポリブタジエンジオー
ル、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオー
ル、アミドジオール、スピログリコール化合物等の１種
又は２種以上の混合物からなるアルコール類とジイソシ
アネート化合物とを反応させて得られるウレタンプレポ
リマー類に、分子内に、１個以上の（メタ）アクリロイ
ルオキシ基及び1個のヒドロキシ基を有するヒドロキシ
基含有（メタ）アクリル酸エステルとを反応させて得ら
れるウレタンポリ（メタ）アクリレート類等を例示する
ことができる。

【００２０】中でも特に、硬化収縮率を低減できるこ
と、及び硬化後の機械的強度を向上できることから、分
子内に少なくとも１個のアミド基を含有するウレタン
（メタ）アクリレートが好適である。かかるウレタン
（メタ）アクリレートとしては、下記成分（ａ１）〜
（ａ４）を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリ
レート等を例示することができる。 （ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少な
くとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物
（アミドヒドロキシ化合物） （ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物 （ａ３）ジイソシアネート化合物 （ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル

【００２１】アミドヒドロキシ化合物（ａ１）は、得ら
れる組成物の硬化収縮率を低く維持しながら、硬化後の
機械的強度（靱性）を向上するための成分であり、成分
（ａ１）としては、環状ヒドロキシカルボン酸エステル
とアミン化合物（アンモニア、又は１個の第一級又は第
二級アミノ窒素を含む化合物）とを反応させて得られる
アミド含有化合物が好適である。

【００２２】ここで、環状ヒドロキシカルボン酸エステ
ルとしては、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクト
ン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等を例示
することができる。これらは１種を単独で又は２種以上
を併用して用いることができるが、低粘度であることか
ら、これらの中でも特に、γ−ブチロラクトン、γ−バ
レロラクトンが好適である。

【００２３】また、１個の第一級又は第二級アミノ窒素
を含む化合物としては、エタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエ
タノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、２−
アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−エチル−
１，３−プロパンジオール、６−アミノ−１−ヘキサノ
ール、１，４−ジアミノブタン、１，２−ジアミノシク
ロヘキサン、１，１０−ジアミノデカン等を例示するこ
とができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用
して用いることができる。これらの中でも特に、低コス
トであることから、エタノールアミン、ジエタノールア
ミン、Ｎ−メチルエタノールアミンが好適である。

【００２４】環状ヒドロキシカルボン酸エステルと、ア
ミン化合物（アンモニア又は１個の第一級又は第二級ア
ミノ窒素を含む化合物）の反応は、例えば、当モル量の
両者を混合し、約１００℃で６〜２４時間加熱すること
により行われる。成分（ａ１）としては、環状ヒドロキ
シカルボン酸エステルと、アミン化合物（アンモニア、
又は１個の第一級又は第二級アミノ窒素を含む化合物）
との反応生成物の中でも特に、低粘度であることから、
Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒド
ロキシプロピルアミド等が好適である。

【００２５】多価アルコール化合物（ａ２）は、成分
（ａ１）を除くものであり、得られるウレタン（メタ）
アクリレート化合物の硬化後の柔軟性と伸度を向上する
ための成分である。

【００２６】成分（ａ２）としては、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリ
コール、１−メチルブチレングリコール等のポリエーテ
ルジオール類；ネオペンチルグリコール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオー
ル、３−メチルペンタンジオール、２，４−ジエチルペ
ンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，
４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロヘキ
サンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノー
ル、シクロヘキサンジオール、水添ビスフェノールＡ、
ビスフェノールＡ等のジオール類；前記ジオール類にエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオ
キサイド等のアルキレンオキサイドを付加したポリエー
テル変性ジオール類；前記ジオール類と、コハク酸、フ
タル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テレフタル酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基
酸類又はこれら多塩基酸の酸無水物類との反応によって
得られるポリエステルジオールや、前記ジオール類と、
ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロ
ラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類との反応
によって得られるポリカプロラクトンジオール等のポリ
エステルジオール類；前記ジオール類及び前記多塩基酸
類と、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−
バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類と
の反応によって得られるカプロラクトン変性ポリエステ
ルジオール類；芳香族ポリカーボネートや、脂肪族ポリ
カーボネート等のポリカーボネートジオール類；ポリブ
タジエンジオール類等を例示することができる。これら
は１種を単独で又は２種以上を併用して用いることがで
きる。

【００２７】中でも特に、得られるウレタン（メタ）ア
クリレート化合物の硬化後の強伸度特性を向上できるこ
とから、ポリエーテルジオール類、ポリエステルジオー
ル類、ポリカーボネートジオール類が好適である。ま
た、その中でも特に、ポリブチレングリコール、ポリカ
プロラクトンジオール、脂肪族ポリカーボネートジオー
ルが好適である。

【００２８】また、得られる組成物の硬化収縮率を低減
できることから、成分（ａ２）の分子量は３００以上で
あることが好ましい。また、得られる組成物の低粘度化
を図ることができることから、成分（ａ２）の分子量は
２０００以下であることが好ましい。

【００２９】ジイソシアネート化合物（ａ３）は、上記
２種のアルコール成分（ａ１）、（ａ２）にウレタン結
合を導入し、得られる組成物の硬化後の機械的強度（靱
性）を増すための成分である。また、ヒドロキシ基含有
（メタ）アクリル酸エステル（ａ４）を付加するための
ウレタン（メタ）アクリレート合成における必須成分で
もある。

【００３０】成分（ａ３）としては、イソホロンジイソ
シアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）
メタン、ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン、ビ
ス（３−クロロ−４−イソシアナトフェニル）メタン、
２、４−トリレンジイソシアネート、２、６−トリレン
ジイソシアネート、トリス（４−イソシアナトフェニ
ル）メタン、１，２−キシリレンジイソシアネート、
１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キ
シリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジ
イソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、
ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジ
イソシアネート等を例示することができる。これらは１
種を単独で又は２種以上を併用して用いることができ
る。

【００３１】中でも特に、得られる組成物の硬化物が機
械的強度に優れることから、イソホロンジイソシアネー
ト、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、
２、４−トリレンジイソシアネート、２、６−トリレン
ジイソシアネート、１，２−キシリレンジイソシアネー
ト、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水
添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレ
ンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリ
ンジイソシアネートが好適である。

【００３２】その中でも特に、硬化物に優れた機械的強
度（靭性）と難黄変性を付与できることから、イソホロ
ンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘ
キシル）メタン、１，２−水添キシリレンジイソシアネ
ート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、水添
テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ノルボルナ
ンジイソシアネート、デカリンジイソシアネート等の脂
環式ジイソシアネート化合物が好適である。中でも、光
ディスクの記録膜保護性能向上（記録膜の腐食防止）の
観点から、加水分解性塩素量が１００ｐｐｍ以下のジイ
ソシアネート化合物が、最適である。

【００３３】ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エス
テル（ａ４）は、成分（ａ１）〜（ａ３）を反応させて
得られるポリウレタン前駆体の末端に付加する成分であ
り、この成分を付加することにより、得られるウレタン
（メタ）アクリレート化合物にラジカル反応性を付与す
ることができる。

【００３４】成分（ａ４）としては、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリ
レート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
とカプロラクトンの付加物、４−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、トリメチ
ロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート等を例示することができる。これらは１種を単
独で又は２種以上を併用して用いることができる。

【００３５】中でも特に、得られる組成物の低粘度化を
図ることができることから、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
トが好適である。

【００３６】ウレタン（メタ）アクリレート化合物の合
成方法としては、特に限定されるものではなく、公知の
合成方法を採用することができる。例えば、成分（ａ
１）と成分（ａ２）の混合物１モルと、合成触媒として
機能するジラウリル酸ジノルマルブチル錫を最終総量に
対して５０〜３００ｐｐｍ合成釜内に仕込み、これを４
０〜８０℃で加熱・攪拌しながら、成分（ａ３）２モル
を滴下することにより、前駆体のイソシアネート末端ポ
リウレタンが得られる。これにさらに、成分（ａ４）２
モルを滴下し、６０〜８０℃で４〜８時間保持すること
により、ウレタン（メタ）アクリレート化合物が得られ
る。なお、ウレタン（メタ）アクリレート中に残存する
成分（ａ４）は、硬化物の耐水性向上の観点から、１％
未満に抑えることが好ましい。

【００３７】エポキシ（メタ）アクリレート化合物とし
ては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹
脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、ビスフェノキシフルオレンジグリ
シジルエーテル、ビスフェノキシフルオレンエタノール
ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、シクロ
ヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリシク
ロデカンジメタノールジグリシジルエーテル等のエポキ
シ樹脂に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダ
イマー、カプロラクトン変性（メタ）アクリル酸等の不
飽和一塩基酸類を反応させて得られるエポキシ（メタ）
アクリレート類等を例示することができる。

【００３８】中でも、得られる組成物の低粘度を図るこ
とができると共に、硬化後の耐熱性を向上できることか
ら、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＳ型エポキシ（メタ）アクリレー
ト、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）
アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メ
タ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ
（メタ）アクリレート等のビスフェノール型エポキシ
（メタ）アクリレート類が好適であり、その中でも、ビ
スフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート及びビ
スフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートが特に
好適である。

【００３９】エポキシ（メタ）アクリレート化合物の合
成方法としては、特に限定されるものではなく、公知の
合成方法を採用することができる。例えば、原料である
エポキシ樹脂と、該エポキシ樹脂のエポキシ当量に対応
する（メタ）アクリル酸とを混合した後、合成触媒とし
て機能するジメチルアミノエチルメタクリレート等の３
級アミン化合物を最終総量に対して０．１〜１％を添加
し、これを８０〜１００℃で、１２〜３６時間、加熱・
攪拌することにより、エポキシ（メタ）アクリレート化
合物が得られる。エポキシ（メタ）アクリレートの酸価
は、硬化物の耐水性向上及び記録膜保護性能向上（記録
膜の腐食防止）の観点から、３ｍｇＫＯＨ／ｇ未満に抑
えることが好ましい。

【００４０】なお、エポキシ（メタ）アクリレートの原
料であるエポキシ樹脂には塩素が含まれていないことが
好ましい。塩素を含有している場合には、エポキシ樹脂
の全塩素含有量が２０００ｐｐｍ以下であることが好ま
しく、１５００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
エポキシ樹脂の全塩素含有量が２０００ｐｐｍを超える
場合には、これを原料として合成されたエポキシ（メ
タ）アクリレートを用いて得られる組成物により光ディ
スクの硬化物層を形成すると、塩素により記録膜が腐食
される傾向にある。

【００４１】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
おいて、成分（Ａ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）の合計１００質量部中１５〜９５質量部であるこ
とが好ましく、２０〜９０質量部であることがより好ま
しい。成分（Ａ）の含有量が１５質量部より少ないと、
得られる組成物の硬化性が低下する傾向にあると共に、
得られる組成物を用いて形成される光ディスクの硬化物
層の記録膜保護性能が低下する（光ディスクの記録膜が
腐食する）傾向にある。また、成分（Ａ）の含有量が９
５質量部を超えると、得られる組成物の粘度が高くな
り、光ディスクの硬化物層を形成する際の作業性が低下
する傾向にある。

【００４２】＜（メタ）アクリル酸エステル化合物
（Ｂ）＞本発明者らは、特定の（メタ）アクリル酸エス
テル化合物（Ｂ）を配合することにより、得られる組成
物を用いて形成される光ディスクの硬化物層の基板や記
録膜に対する密着性を向上できることを見出した。ま
た、得られる組成物を用いて、光ディスクの硬化物層を
形成しても、銀又は銀合金等からなる記録膜は優れた耐
腐食性を発現し、得られる硬化物層は記録膜保護性能に
も優れることを見出した。また、成分（Ｂ）は、低粘度
でありながら、皮膚刺激性も低いため、オリゴマー成分
（Ａ）の希釈剤としても有用である。

【００４３】成分（Ｂ）は上記一般式（ｉ）で表される
（メタ）アクリル酸エステルであり、これらは１種を単
独で又は２種以上を併用して用いることができる。成分
（Ｂ）としては、２−メチル−２−エチル−１，３−ジ
オキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル
−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル
（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロ
ピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレ
ート、２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニ
ルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペン
チル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレ
ート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラ
ニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エ
チル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）
アクリレート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３
−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレー
ト、２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオ
キソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−
メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチルエ
トキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチ
ル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）ア
クリレート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオ
キソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−
メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルプ
ロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−イソ
プロピル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ
（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロ
ピル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メ
タ）アクリレート、２−メチル−２−ブチル−１，３−
ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレー
ト、２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニ
ルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル
−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポ
キシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−
１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリ
レート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオ
キソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−
メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニ
ルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−
２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ
（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチル−
１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリ
レート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソ
ラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、カプロラ
クトン変性２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソ
ラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変
性２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラ
ニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン２−
メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニ
ルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２
−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチル
（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル
−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メ
タ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２
−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）ア
クリレート等を例示することができる。

【００４４】中でも特に、それ自身が低粘度であり、希
釈性が良好なことから、２−メチル−２−エチル−１，
３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート及び２
−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニル
メチル（メタ）アクリレートが好適である。

【００４５】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
おいて、成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）の合計１００質量部中５〜８５質量部であること
が好ましく、１０〜８０質量部であることがより好まし
い。成分（Ｂ）の含有量が５質量部より少ないと、得ら
れる組成物の粘度が高くなり、光ディスクの硬化物層を
形成する際の作業性が低下する傾向にある。また、成分
（Ｂ）の含有量が８５質量部を超えると、得られる組成
物の硬化性が低下する傾向にあると共に、硬化後の硬度
が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。

【００４６】＜エチレン性不飽和化合物（Ｃ）＞本発明
の活性エネルギー線硬化性組成物には、成分（Ａ）、
（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）を併用する
ことができる。成分（Ｃ）は希釈剤若しくは架橋剤とし
て機能する成分である。

【００４７】成分（Ｃ）としては、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリル酸エステル、トリス（２−メ
タクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス
エトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリル酸エステル、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレー
テッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトー
ルペンタ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラ
クトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、炭素数２〜
５の脂肪族炭化水素変性トリメチロールプロパントリア
クリレート、炭素数２〜５の脂肪族炭化水素変性ジペン
タエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、炭素数
２〜５の脂肪族炭化水素変性ジペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリル
酸エステル類；ジ（メタ）アクリル酸エチレングリコー
ル、ジ（メタ）アクリル酸１，３−ブチレングリコー
ル、ジ（メタ）アクリル酸１，４−ブタンジオール、ジ
（メタ）アクリル酸１，６−ヘキサンジオール、ジ（メ
タ）アクリル酸ノナンジオール、ジ（メタ）アクリル酸
ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸メチル
ペンタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ジエチルペン
タンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アク
リル酸テトラエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル
酸トリプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポ
リブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリシク
ロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸シクロヘ
キサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキ
シレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）
アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサンジ
メタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテ
ッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロ
ポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリ
ル酸水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリ
エトキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）
アクリル酸ポリプロポキシレーテッド水添ビスフェノー
ルＡ、ビスフェノキシフルオレンエタノールジ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロ
ールプロパンジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アク
リロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールの
ε−カプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メ
タ）アクリル酸エステル、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールのγ−ブチロラクトン付加物（ｎ＋ｍ
＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ネオペン
チルグリコールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜
５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ブチレングリコ
ールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ
（メタ）アクリル酸エステル、シクロヘキサンジメタノ
ールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ
（メタ）アクリル酸エステル、ジシクロペンタンジオー
ルのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メ
タ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡのカプロラ
クトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル
酸エステル、水添ビスフェノールＡのカプロラクトン付
加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステ
ル、ビスフェノールＦのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ
＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル等ジ（メ
タ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸２−ヒ
ドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、
（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）
アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸シク
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メ
タ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸２−
メチル−２−ノルボルニルメチル、（メタ）アクリル酸
トリメチロールプロパンホルマール、（メタ）アクリル
酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジシクロ
ペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、
（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル、シクロヘ
キサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−メ
トキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）ア
クリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）
アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；酢酸
ビニル、酪酸ビニル、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビ
ニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−
ビニルカプロラクタム、アジピン酸ジビニル等のビニル
エステルモノマー類；エチルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類；アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、ア
クリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリルアミ
ド、メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド
類；フタル酸、コハク酸、ヘキサヒドロフタル酸、テト
ラヒドロフタル酸、テレフタル酸、アゼライン酸、アジ
ピン酸等の多塩基酸、エチレングリコール、ヘキサンジ
オール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレン
グリコール等の多価アルコール及び（メタ）アクリル酸
又はその誘導体との反応で得られるポリエステルポリ
（メタ）アクリレート類を例示することができる。これ
らは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることが
できる。

【００４８】中でも特に、硬化物の耐水性を向上できる
ことから、分子内に環状構造を有する化合物が好適であ
る。分子内に環状構造を有する化合物としては、ビス
（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイ
ソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸トリシク
ロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエト
キシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル
酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メ
タ）アクリル酸ポリエトキシレーテッド水添ビスフェノ
ールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッ
ド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエ
トキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メ
タ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサ
ンジメタノール、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフル
フリル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メ
タ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イ
ソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メ
タ）アクリル酸２−メチル−２−ノルボルニルメチル、
（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパンホルマー
ル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリ
ル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）
アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジ
シクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロド
デカニル等の化合物類等を例示することができる。

【００４９】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
おいて、成分（Ｃ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）の合計１００質量部中０〜８０質量部であること
が好ましく、０〜７０質量部であることがより好まし
い。成分（Ｃ）の含有量が８０質量部を超えると、得ら
れる組成物の硬化収縮率が高くなる傾向にある。

【００５０】＜光重合開始剤（Ｄ）＞本発明の活性エネ
ルギー線硬化性組成物には、光重合開始剤（Ｄ）を添加
することが好ましい。このように、光重合開始剤（Ｄ）
を添加することにより、活性エネルギー線照射により迅
速に硬化する組成物を得ることができ、好適である。

【００５１】成分（Ｄ）としては、ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，
４，６−トリメチルベンゾフェン、メチルオルトベンゾ
イルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−
ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ジ
エトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチル
ケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケ
トン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、２−メチル−〔４−（メチルチ
オ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２
−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリ
ノフェニル）−ブタノン−１、ジエチルチオキサント
ン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス
（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，
６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキ
サイド、メチルベンゾイルホルメート等を例示すること
ができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用し
て用いることができる。

【００５２】なお、本発明の組成物を用いて光ディスク
の光透過層を形成する場合には、光透過層の光透過率が
低下することを防止するために、記録光又は再生光（書
き込み光又は読み取り光）を吸収しない光重合開始剤を
適宜選択して用いることが好ましい。例えば、記録光又
は再生光に用いる光線が波長４００ｎｍ程度のレーザー
光である場合、該レーザー光を吸収しない、短波長感光
型光重合開始剤を用いることが好ましい。短波長感光型
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、２，４，６−
トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベ
ンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ジエトキシ
アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケター
ル、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、メチルベンゾイルホルメート等を例示
することができる。

【００５３】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
おいて、成分（Ｄ）の添加量は特に限定されるものでは
ないが、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量
部に対して、０．００１〜１０質量部であることが好ま
しく、０．０１〜６質量部であることがより好ましい。
成分（Ｄ）の添加量が０．００１質量部より少ないと、
得られる組成物の硬化性が低下する傾向にあり、１０質
量部を超えると、得られる組成物からなる塗膜の深部硬
化性が低下したり、硬化物が着色する傾向にある。

【００５４】＜その他の成分＞本発明の活性エネルギー
線硬化性組成物には、必要に応じて、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、４−ジメチルアミノ安息香酸アミル、４−ジメチル
アミノアセトフェノン等の公知の光増感剤を添加するこ
ともできる。

【００５５】また、本発明の活性エネルギー線硬化性組
成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内であれば、
必要に応じて、熱可塑性高分子、スリップ剤、レベリン
グ剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止
剤、シランカップリング剤、無機フィラー、有機フィラ
ー、表面有機化処理した無機フィラー等の添加剤等を適
宜配合しても良い。これらの添加剤の中でも特に、得ら
れる組成物を用いて形成される光ディスクの硬化物層の
黄変（光透過率の低下）を長期に渡って防止し、光ディ
スクの記録又は再生（書き込み又は読み込み）を良好に
行うために、酸化防止剤や光安定剤を配合することが好
ましい。

【００５６】酸化防止剤や光安定剤としては、住友化学
（株）製スミライザーＢＨＴ、スミライザーＳ、スミラ
イザーＢＰ−７６、スミライザーＭＤＰ−Ｓ、スミライ
ザーＧＭ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、スミライザーＷＸ
−Ｒ、スミライザーＮＷ、スミライザーＢＰ−１７９、
スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０、
スミライザーＴＮＰ、スミライザーＴＰＰ−Ｒ、スミラ
イザーＰ−１６、旭電化工業（株）製アデカスタブＡＯ
−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−
４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６
０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８
０、アデカスタブＡＯ−３３０、アデカスタブＰＥＰ−
４Ｃ、アデカスタブＰＥＰ−８、アデカスタブＰＥＰ−
２４Ｇ、アデカスタブＰＥＰ−３６、アデカスタブＨＰ
−１０、アデカスタブ２１１２、アデカスタブ２６０、
アデカスタブ５２２Ａ、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカ
スタブ１５００、アデカスタブＣ、アデカスタブ１３５
Ａ、アデカスタブ３０１０、チバスペシャリティーケミ
カルズ（株）製チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌ
ビン１４４、チヌビン６２２、チヌビン１１１、チヌビ
ン１２３、チヌビン２９２、日立化成工業（株）製ファ
ンクリルＦＡ−７１１Ｍ、ＦＡ−７１２ＨＭ等を例示す
ることができる。

【００５７】酸化防止剤及び／又は光安定剤の添加量は
特に限定されるものではないが、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．００１〜２質
量部であることが好ましく、０．０１〜１質量部である
ことがより好ましい。

【００５８】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は
上記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を所定の配合比で配合
してなる組成物であり、光ディスクの基板や記録膜への
密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低く、硬化後
の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止することがで
き、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適な
ものである。

【００５９】また、本発明の活性エネルギー線硬化性組
成物を用いて得られる光ディスクの記録又は再生（書き
込み又は読み取り）のエラーを防ぐために、本発明の組
成物の硬化後の光透過率が高いことが好ましく、硬化後
に透明であることが特に好ましい。具体的には、本発明
の組成物を用いて形成される硬化物層の記録光又は再生
光（書き込み光又は読み取り光）の光透過率が７０％以
上であることが好ましく、７５％以上であることがより
好ましい。

【００６０】また、上述のように、本発明の活性エネル
ギー線硬化性組成物によれば、低硬化収縮率を実現する
ことができるが、本発明の組成物の硬化収縮率は１０％
未満であることが好ましく、８％未満であることがより
好ましい。本発明の組成物の硬化収縮率が１０％以上で
あると、本発明の組成物を用いて形成される硬化物層と
記録膜との密着性が低下したり、得られる光ディスクに
反りが生じたりする傾向にあり、記録や再生（書き込み
や読み取り）時にエラーが発生する傾向にある。なお、
本明細書において、「硬化収縮率」とは下記式により定
義されるものとする。 硬化収縮率（％）＝［（ｄ２−ｄ１）／ｄ２］×１００ （但し、式中、ｄ１は２０℃における硬化前の比重、ｄ
２は２０℃における硬化後の比重をそれぞれ示す。）

【００６１】また、上述のように、本発明の活性エネル
ギー線硬化性組成物を用いれば、機械的強度に優れた硬
化物を得ることができるが、本発明の組成物の硬化後の
表面硬度が鉛筆硬度で２Ｂ以上であることが好ましい。
また、本発明の組成物が、光ディスクの最表面に形成さ
れる硬化物層用である場合には、硬化後の表面硬度が鉛
筆硬度でＢ以上であることが好ましい。本発明の組成物
の硬化後の鉛筆硬度が２Ｂ未満では、得られる硬化物層
表面に傷がつきやすいため、光ディスクの記録又は再生
（書き込み又は読み込み）時にエラーが発生する傾向に
ある。なお、本明細書において、「鉛筆硬度」は、基板
上に形成した硬化物をＪＩＳＫ−５４００準拠の方法に
基づいて測定されるものとする。

【００６２】また、本発明の組成物の硬化後のガラス転
移温度（Ｔｇ）は、特に限定されるものではないが、車
載用途等、耐熱性の要求される環境での使用を考慮する
と、５０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であ
ることがより好ましい。

【００６３】本発明の組成物は活性エネルギー線硬化性
を有するものであり、紫外線、α，β、γ線等の活性エ
ネルギー線を公知の方法で本発明の組成物に照射するこ
とにより、本発明の組成物を硬化させることができる
が、活性エネルギー線の中でも、工業的利用が容易であ
ることから、紫外線を用いることが好ましい。紫外線照
射手段としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超
高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ等の紫外線ランプを例示することができる。

【００６４】なお、本発明の組成物は、光ディスクの硬
化物層を形成する際に用いて好適なものであるが、本発
明はこの用途に限定されるものではなく、これらの特性
を必要とする種々の用途、例えば、ＩＣカード、ＩＤカ
ード等のカード類の接着剤や保護層、フレネルレンズ、
プリズムシート等の光学部品用２Ｐレジンや、透明ポッ
ティング材料、光ファイバー用被覆材料、液晶封止材
料、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）封止材料として
も好適に用いることができる。

【００６５】［光ディスク］次に、本発明の光ディスク
について説明する。本発明の光ディスクは、上記の本発
明の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された
硬化物層を有することを特徴とする。本発明は、ＣＤ等
の従来の光ディスク、ＤＶＤ等の多層記録型光ディス
ク、高密度光ディスク等、いかなる構造の光ディスクに
も適用可能である。硬化物層として、ＣＤ等の従来の光
ディスクの保護層や、高密度光ディスクの光透過層を形
成するには、例えば、支持基板上に形成された記録膜表
面に、本発明の組成物を塗布し塗膜を形成した後、該塗
膜に対して活性エネルギー線を照射し、硬化させれば良
い。また、硬化物層として、ＤＶＤ等の多層記録型光デ
ィスクの接着剤兼光透過層を形成するには、例えば、光
ディスク用基板の片側若しくは両側に本発明の組成物を
塗布し、該組成物を介して複数の光ディスク用基板を貼
着した後、基板を通して活性エネルギー線を照射し、組
成物を硬化させれば良い。

【００６６】本発明の光ディスクに用いる基板として
は、低コストであること、軽量であること、ランドやグ
ルーブの成型が容易であることなどから、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、アモル
ファスポリオレフィン系樹脂等のプラスチック製基板が
好適である。

【００６７】また、本発明の光ディスクにおいて、記録
膜の材質としては特に限定されるものではなく、光ディ
スクの要求性能等に応じて適宜選択することができる。
再生（読み取り）専用光ディスクでは、記録膜の材質と
して、金、白金、銀、アルミニウム等の光反射率の高い
金属、あるいはこれらの金属とＴｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃ
ｕ、Ｐｄ、Ｔａ等の金属との合金を例示することができ
る。また、書き換え（記録、再生）可能な光ディスクで
は、相変化記録膜の材質として、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ
合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ・Ｇｅ合金、Ｇｅ・Ｓｂ・
Ｔｅ合金、 Ｇｅ・Ｓｎ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｓｂ・Ｔｅ
合金等を例示することができ、光磁気記録膜の材質とし
て、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ系合金等を例示することができ
る。また、記録膜を形成方法としては、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法等の公知の薄
膜形成法を採用することができる。また、記録膜上に
は、ＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ₂等の誘電膜を積層形成し
ても良い。

【００６８】本発明の組成物の支持基板上への塗布方法
としては、特に限定されるものではないが、光ディスク
の生産性向上の観点から、スピンコーター法等が好適で
ある。また、本発明の組成物を用いて形成する硬化物層
の膜厚は、所望する特性が得られれば特に限定されるも
のではないが、例えば、ＣＤ等の従来の光ディスクの保
護層であれば、５〜２０μｍが好ましく、ＤＶＤ等の多
層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層であれば、２０
〜６０μｍが好ましく、高密度光ディスクの光透過層で
あれば、２０〜２００μｍが好ましい。

【００６９】また、本発明の光ディスクにおいて、記録
光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）としては、
特に限定されるものではなく、一般の光ディスクに使用
されている波長３８０〜８００ｎｍのレーザー光等を用
いることができる。中でも、光ディスクの記録容量を高
密度化できることから、４００ｎｍ前後の青紫色レーザ
ー光を用いることが好適である。

【００７０】本発明の光ディスクは、本発明の組成物を
用いて形成された硬化物層を備えたものであるので、硬
化物層の記録膜や基板への密着性が高く、硬化物層の機
械的強度に優れ、反りを防止することができると共に、
記録膜の耐腐食性に非常に優れたものとなる。

【００７１】

【実施例】次に、本発明に係る実施例及び比較例につい
て説明する。なお、実施例、比較例において、「反り
角」とは、光ディスク最外周における硬化物層側への半
径方向の最大反り角を意味するものとする。

【００７２】（合成例１）ウレタンアクリレート（ＵＡ
１：成分（Ａ））の製造 （１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた
内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソ
シアナトシクロヘキシル）メタン（住友バイエルエレタ
ン製デスモジュールＷ：加水分解塩素量４ｐｐｍ）１３
２４ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５
ｇを仕込んでウオーターバスで内温が４０℃になるよう
に加熱した。 （２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４
−ヒドロキシプロピルアミド６４ｇ（０．４モル）とポ
リカプロラクトンジオール（ダイセル化学工業（株）製
プラクセル２０５、平均分子量：５３０）８４８ｇ
（１．６モル）を均一に混合溶解させた液を側管付きの
滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記
（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、
上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラス
コ内温を３５〜４５℃に保持しながら、４時間かけて等
速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で
２時間攪拌して反応させた。 （３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に昇温
後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルア
クリレート６９６ｇ（６モル）とハイドロキノンモノメ
チルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フ
ラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて
等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７
０〜８０℃に保持しつつ４時間反応させて、ウレタンア
クリレート（ＵＡ１）を得た。なお、残存イソシアネー
ト当量を測定し、反応率９９％以上（残存イソシアネー
ト当量が１％未満）となった時点を反応の終点とした。

【００７３】（合成例２）ウレタンアクリレート（ＵＡ
２：成分（Ａ））の製造 （１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた
内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソ
シアナトシクロヘキシル）メタン（住友バイエルエレタ
ン製デスモジュールＷ：加水分解塩素量４ｐｐｍ）１３
２４ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５
ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるよう
に加熱した。 （２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３
−ヒドロキシプロピルアミド１６１ｇ（１モル）とポリ
ブチレングリコール（ｎ＝１２、平均分子量：８５０）
ｇ（１．３モル）を均一に混合溶解させた液を側管付き
の滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記
（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、
上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラス
コ内温を６５〜７５℃に保持しながら、４時間かけて等
速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で
２時間攪拌して反応させた。 （３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた
後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルア
クリレート６２６ｇ（５．４モル相当量）とハイドロキ
ノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させ
た液を、フラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２
時間かけて等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物
の温度を７５〜８５℃に保持しつつ４時間反応させて、
ウレタンアクリレート（ＵＡ２）を得た。なお、反応の
終点は合成例１と同様に判定した。

【００７４】（合成例３）ウレタンアクリレート（ＵＡ
３：成分（Ａ））の製造 （１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた
内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイ
ソシアネート１１１０ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジ
ラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が
７０℃になるように加熱した。 （２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３
−ヒドロキシプロピルアミド６４ｇ（０．４モル）とポ
リカーボネートジオール（旭化成（株）製ＣＸ−４７１
０、平均分子量：１００２）１６０３ｇ（１．６モル）
を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕
込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフラスコ中
の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）のフラス
コ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５
℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下により滴下し
た。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌して反応
させた。 （３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた
後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルア
クリレート６２６ｇ（６モル）とハイドロキノンモノメ
チルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フ
ラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて
等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７
５〜８５℃に保持しながら４時間反応させて、ウレタン
アクリレート（ＵＡ３）を得た。なお、反応の終点は合
成例１と同様に判定した。

【００７５】（合成例４）ウレタンアクリレート（ＵＡ
４：成分（Ａ））の製造 （１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた
内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイ
ソシアネート８８８ｇ（４モル）、及びジブチル錫ジラ
ウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７
０℃になるように加熱した。 （２）ポリブチレングリコール（ｎ＝１２、平均分子
量：８５０）１７００ｇ（２モル）を側管付きの滴下ロ
ートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフ
ラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）
のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を６
５〜７５℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下によ
り滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌
して反応させた。 （３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた
後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルア
クリレート４６４ｇ（４モル）とハイドロキノンモノメ
チルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フ
ラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて
等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７
５〜８５℃に保持しながら４時間反応させて、ウレタン
アクリレート（ＵＡ４）を得た。なお、反応の終点は合
成例１と同様に判定した。

【００７６】（合成例５）エポキシアクリレート（ＥＡ
１：成分（Ａ））の製造 攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積
１リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ
（株）製エピコートＹＬ９８０（ビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂、全塩素含有量１９０ｐｐｍ、エポキシ当量
１８６）３７２ｇ、アクリル酸１４４ｇ、メタクリル酸
ジメチルアミノエチル２．６ｇ、ハイドロキノンモノメ
チルエーテル０．５ｇを仕込み、９５℃で２４時間反応
させ、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ＥＡ
１）を得た。なお、酸価測定を行い、酸価が１ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇとなった時点を反応の終点とした。

【００７７】（合成例６）エポキシアクリレート（ＥＡ
２：成分（Ａ））の製造 攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積
１リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ
（株）製エピコートＹＬ９８３Ｕ（ビスフェノールＦ型
エポキシ樹脂、全塩素含有量２７０ｐｐｍ、エポキシ当
量１７２）３４４ｇ、アクリル酸１４４ｇ、メタクリル
酸ジメチルアミノエチル２．４ｇ、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル０．５ｇを仕込み、９５℃で２４時間反
応させ、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（Ｅ
Ａ２）を得た。なお、反応の終点は合成例５と同様に判
定した。

【００７８】（実施例１） （１）ＣＤの保護層形成用活性エネルギー線硬化性組成
物の調製 成分（Ａ）として、合成例１で得られたＵＡ１（３０質
量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−
１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート
（３０質量部）、成分（Ｃ）として、トリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート（２０質量部）、及び
１，９−ノナンジオールジアクリレート（２０質量
部）、成分（Ｄ）として、ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン（５質量部）を混合溶解し、ＣＤの保護層
形成用活性エネルギー線硬化性組成物を得た。本実施例
において調製した組成物の組成を表１に示す。 （２）評価用ＣＤの作製 帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカ
ーボネート樹脂）を射出成型して得た、直径１．５ｃｍ
の中心穴を有する透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚
１．２ｍｍ、反り角０度）を用い、この基板上に、バル
ザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００を用
い、純度９９．９％の銀を膜厚５０ｎｍとなるようにス
パッタリング法により成膜し、記録膜を形成した。次い
で、該記録膜上に、（１）で得た組成物を、スピンコー
ター法により平均膜厚１０μｍとなるように塗布し塗膜
を形成した。最後に、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯
（１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、この塗膜を積算光量４００
ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で硬化させて、保護層（硬
化物層）を形成し、評価用ＣＤを作製した。

【００７９】（実施例２〜５、比較例１〜４）表２に示
す組成とした以外は実施例１と同様にして、ＣＤの保護
層形成用活性エネルギー線組成物を調製した。また、得
られた組成物を用い、実施例１と同様にして評価用ＣＤ
を作製した。

【００８０】（評価項目及び評価方法）実施例１〜５、
比較例１〜４において得られた、活性エネルギー線硬化
性組成物及び評価用ＣＤについて、以下の評価を行っ
た。 ＜硬化収縮率＞得られた活性エネルギー線硬化組成物の
硬化前及び硬化後の比重を各々測定し、上述した定義に
基づいて硬化収縮率を算出した。また、下記基準に基づ
いて、評価を行った。 判定基準 ○：硬化収縮率が１０％未満であった。 ×：硬化収縮率が１０％以上であった。 ＜硬化物層の表面硬度＞得られた評価用ＣＤの保護層
（硬化物層）の鉛筆硬度を測定し、下記基準に基づいて
評価した。 判定基準 ○：鉛筆硬度が２Ｂ以上であった。 ×：鉛筆硬度が２Ｂ未満であった。 ＜硬化物層の密着性＞ １．記録膜密着性（記録膜に対する密着性） カッターナイフを用い、得られた光ディスクの保護層
（硬化物層）から記録膜表面まで十字状に切傷をつけた
後、保護層にニチバンセロテープ（登録商標）を貼付、
剥離する剥離試験を行い、下記基準に基づいて、硬化物
層の記録膜密着性について評価した。 判定基準 ○：保護層（硬化物層）と記録膜とが剥離しなかった。 ×：保護層（硬化物層）と記録膜とが剥離した。 ２．基板密着性（基板に対する密着性） 得られた活性エネルギー線硬化組成物を用い、記録膜を
形成する前の基板上に直接、保護層形成と同様にして、
硬化物層を形成した。このサンプルに対して、前記と同
様、カッターナイフを用い、得られた硬化物層から基板
表面まで十字状に切傷をつけた後、硬化物層にニチバン
セロテープ（登録商標）を貼付、剥離する剥離試験を行
い、下記基準に基づいて、硬化物層の基板への密着性に
ついて評価した。 判定基準 ○：硬化物層と基板とが剥離しなかった。 ×：硬化物層と基板とが剥離した。 ＜光ディスクの反り角＞ １．初期反り角 得られた評価用ＣＤについて、ジャパンイーエム（株）
製ＤＬＤ−３０００光ディスク光学機械特性測定装置を
用いて、２０℃、相対湿度５０％環境下にて、初期反り
角を測定した。 ２．耐久試験後反り角 得られた評価用ＣＤを８０℃、相対湿度８５％の環境下
に１００時間放置し、さらに、２０℃、相対湿度５０％
環境下に１００時間放置した後、初期反り角と同様にし
て、再度反り角を測定した。なお、初期反り角、耐久試
験後反り角の双方について、下記基準に基づいて評価を
行った。 判定基準 ○：反り角が０．３度以下であった。 ×：反り角が０．３度未満であった。 ＜硬化物層の記録膜保護性能＞得られた評価用ＣＤの記
録膜を顕微鏡にて８００倍の倍率で観察し、記録膜が腐
食されてないか否かを検査し、記録膜が腐食されていな
いものについて、硬化物層の記録膜保護性能が良好であ
ると判定した。なお、記録膜に白化やピンホール等が観
察されたものを腐食されていると認定した。

【００８１】（実施例６） （１）ＤＶＤの接着剤兼光透過層形成用活性エネルギー
線硬化性組成物の調製 成分（Ａ）として、合成例２で得られたＵＡ２（４０質
量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−
１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート
（３０質量部）、成分（Ｃ）として、トリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート（１５質量部）、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート（１０質量部）、及び
イソボルニルアクリレート（５質量部）、成分（Ｄ）と
して、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
（４．５質量部）、及び２，４，６−トリメチルベンゾ
イルジフェニルホスフィンオキサイド（０．５質量部）
を混合溶解し、ＤＶＤの接着剤兼光透過層形成用活性エ
ネルギー線硬化性組成物を得た。本実施例において調製
した組成物の組成を表２に示す。 （２）評価用ＤＶＤの作製 帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカ
ーボネート樹脂）を射出成型して得た、直径１．５ｃｍ
の中心穴を有する透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚
０．６ｍｍ、反り角０度）を用い、この基板上に、バル
ザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００を用
い、純度９９．９％の銀を膜厚５０ｎｍとなるようにス
パッタリング法により成膜し、銀反射膜からなる記録膜
を有する光ディスクを得た。得られた光ディスクの記録
膜上の内周縁部に、（１）で得た組成物をディスペンス
法によりリング状に塗布した後、該塗布物上に、上記と
同様に作製した銀反射膜からなる記録膜を有する光ディ
スクを、間に気泡が残らないように密着させた。この
時、記録膜が互いに対向するように一対の光ディスクを
密着させた。続いて、スピンコーターを用い、一対の光
ディスク間に介在する組成物を全体に広げ、その平均膜
厚を５０μｍとした。最後に、ランプ高さ１０ｃｍの高
圧水銀灯（１６０Ｗ／ｃｍ）を用い、記録膜を通して光
を照射し、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー
量で硬化させて、接着剤兼光透過層（硬化物層）を形成
し、評価用ＤＶＤを作製した。

【００８２】（実施例７〜１０、比較例５〜８）表２に
示す組成とした以外は実施例６と同様にして、ＤＶＤの
接着剤兼光透過層用活性エネルギー線組成物を調製し
た。また、得られた組成物を用い、実施例６と同様にし
て評価用ＤＶＤを作製した。

【００８３】（評価項目及び評価方法）実施例６〜１
０、比較例５〜８において得られた、活性エネルギー線
硬化性組成物及び評価用ＤＶＤについて、以下の評価を
行った。 ＜硬化収縮率＞得られた活性エネルギー線硬化性組成物
について、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、硬化
収縮率の評価を行った。 ＜硬化物層の基板密着性（基板に対する密着性）＞得ら
れた評価用ＤＶＤの端面から、カッターナイフを用い
て、接着剤兼光透過層（硬化物層）部分に切り込みを入
れ、貼り合せた基板を剥離する試験を行い、下記基準に
基づいて硬化物層の基板密着性を評価した。 判定基準 ○：接着剤兼光透過層（硬化物層）と基板とが剥離しな
かった。 ×：接着剤兼光透過層（硬化物層）と基板とが剥離し
た。 ＜光ディスクの反り角＞得られた評価用ＤＶＤについ
て、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、初期反り
角、及び耐久試験後反り角の評価を行った。 ＜硬化物層の記録膜保護性能＞得られた評価用ＤＶＤに
ついて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、接着剤
兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能を評価した。

【００８４】（実施例１１） （１）高密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギ
ー線硬化性組成物の調製 成分（Ａ）として、合成例２で得られたＵＡ２（６０質
量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−
１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート
（４０質量部）、成分（Ｄ）として、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（２質量部）を混合溶解
し、高密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギー
線硬化性組成物を得た。本実施例において調製した組成
物の組成を表３に示す。 （２）評価用高密度光ディスクの作製 帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカ
ーボネート樹脂）を射出成型して得た透明円盤状基板
（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）を用
い、この基板上に、バルザース（株）製スパッタリング
装置ＣＤＩ−９００を用い、純度９９．９％の銀を膜厚
５０ｎｍとなるようにスパッタリング法により成膜し、
記録膜を形成した。次いで、該記録膜上に、（１）で得
た組成物を、スピンコーター法により平均膜厚１００μ
ｍとなるように塗布し塗膜を形成した。最後に、ランプ
高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、
この塗膜を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー
量で硬化させて、光透過層（硬化物層）を形成し、評価
用高密度光ディスクを作製した。

【００８５】（実施例１２〜１５、比較例９〜１２）表
３に示す組成とした以外は実施例１１と同様にして、高
密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギー線組成
物を調製した。また、得られた組成物を用い、実施例１
１と同様にして高密度光ディスクを作製した。

【００８６】（評価項目及び評価方法）実施例１１〜１
５、比較例９〜１２において得られた、活性エネルギー
線硬化性組成物及び評価用高密度ディスクについて、以
下の評価を行った。 ＜硬化収縮率＞得られた活性エネルギー線硬化組成物に
ついて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、硬化収
縮率の評価を行った。 ＜硬化物層の表面硬度＞得られた評価用高密度ディスク
の光透過層（硬化物層）の鉛筆硬度を、実施例１〜５、
比較例１〜４と同様に評価した。 ＜硬化物層の密着性＞実施例１〜５、比較例１〜４と同
様に、光透過層（硬化物層）の記録膜密着性、及び基板
密着性を評価した。 ＜光ディスクの反り角＞得られた評価用高密度ディスク
について、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、初期
反り角、及び耐久試験後反り角の評価を行った。 ＜硬化物層の記録膜保護性能＞得られた評価用高密度デ
ィスクについて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様
に、光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能を評価し
た。 ＜硬化物層の光透過率＞得られた評価用高密度ディスク
の光透過層（硬化物層）を記録膜から剥離し、日立製作
所（株）製分光光度計Ｕ−３４００を用い、空気をリフ
ァレンスとして波長４００ｎｍの光線透過率を測定し、
下記基準に基づいて評価した。 判定基準 ○：光透過率が７０％以上であった。 ×：光透過率が７０％未満であった。

【００８７】なお、表１〜３において、各成分の配合量
の単位は「質量部」を示す。また、各略号は、以下の化
合物を示す。 ＭＥＤＯＡ：２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキ
ソラニルメチルアクリレート ＭＩＢＤＯＡ：２−メチル−２−イソブチル−１，３−
ジオキソラニルメチルアクリレート ＭＥＤＯＥＯＡ：エチレンオキサイド（１モル）変性２
−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル
アクリレート ＭＥＤＯＣＰＡ：カプロラクトン（１モル）変性２−メ
チル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルアク
リレート ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート ＴＡＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレートＢＰＥ４：エチレンオキサイド（４モ
ル）変性ビスフェノールＡジアクリレート Ｃ６ＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート Ｃ９ＤＡ：１，９−ノナンジオールジアクリレート ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート ＰＭ２：日本化薬（株）製エチレンオキサイド変性リン
酸メタクリレート ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケ
トン ＨＰＰＡ：２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルア
クリレート ＨＰＡ：２−ヒドロキシプロピルアクリレート ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
フォスフィンオキサイドＢＤＫ：ベンジルジメチルケタ
ール ＨＭＰＰ：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン

【００８８】（実施例１〜５、比較例１〜４の結果）実
施例１〜５、比較例１〜４において得られた結果を表１
に示す。表１に示すように、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）の配合量を１
５〜３０質量部、成分（Ｂ）の配合量を３０〜６０質量
部、成分（Ｃ）の配合量を２５〜５５質量部として、活
性エネルギー線硬化性組成物を調製した実施例１〜５に
おいて、得られた組成物の硬化収縮率は８．５％と低
く、そのため、得られたＣＤの初期反り角は０．１度と
十分に小さいものであった。また、耐久試験後反り角も
０．２度と十分に小さいものであった。また、得られた
保護層（硬化物層）の表面硬度は鉛筆硬度でＨＢと極め
て高く、十分な機械的強度を有するものであった。ま
た、得られた保護層（硬化物層）の記録膜密着性、基板
密着性はいずれも良好であった。また、記録膜に腐食は
見られず、得られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性
能についても良好であった。

【００８９】これに対して、成分（Ａ）を配合せず、成
分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対し
て、成分（Ｂ）を９０質量部、成分（Ｃ）を１０質量部
として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較
例１では、記録膜に腐食が見られ、得られた保護層（硬
化物層）の記録膜保護性能が不十分であった。

【００９０】また、成分（Ｃ）を配合せず、成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、
成分（Ａ）を９６質量部、成分（Ｂ）を４質量部とし
て、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例２
では、得られた保護層（硬化物層）の表面硬度が鉛筆硬
度で６Ｂであり、機械的強度が不十分であった。また、
記録膜に腐食が見られ、得られた保護層（硬化物層）の
記録膜保護性能も不十分であった。

【００９１】また、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計
１００質量部に対して、成分（Ａ）を１０質量部、成分
（Ｂ）を７質量部、成分（Ｃ）を８３質量部として、活
性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例３では、
得られた組成物の硬化収縮率が１３％と極めて高く、得
られたＣＤの初期反り角が０．４度と大きいものであっ
た。また、耐久試験後反り角も０．８度と大きいもので
あった。また、得られた保護層（硬化物層）の記録膜密
着性、基板密着性も不十分であった。

【００９２】また、成分（Ａ）、（Ｂ）を配合せずに、
活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例４で
は、得られた組成物の硬化収縮率が１０．４％と大き
く、得られたＣＤの耐久試験後反り角が０．９度と著し
く大きい値となった。また、記録膜に腐食が見られ、得
られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分で
あった。

【００９３】（実施例６〜１０、比較例５〜８の結果）
実施例６〜１０、比較例５〜８において得られた結果を
表２に示す。表２に示すように、成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）の配合量を２
５〜５０質量部、成分（Ｂ）の配合量を７〜３０質量
部、成分（Ｃ）の配合量を３０〜４５質量部として、活
性エネルギー線硬化性組成物を調製した実施例６〜１０
において、得られた組成物の硬化収縮率は７〜８％と低
く、そのため、得られたＣＤの初期反り角は０．１度と
十分に小さいものであった。また、耐久試験後反り角も
０．２度と十分に小さいものであった。また、得られた
接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密着性も良好であ
った。また、記録膜に腐食は見られず、得られた接着剤
兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能についても良
好であった。

【００９４】これに対して、成分（Ｂ）を配合せず、成
分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対し
て、成分（Ａ）を４５質量部、成分（Ｃ）を５５質量部
として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較
例５では、記録膜に腐食が見られ、得られた接着剤兼光
透過層（硬化物層）の記録膜保護性能が不十分であっ
た。

【００９５】また、成分（Ｂ）を配合せず、成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、
成分（Ａ）を６０質量部、成分（Ｃ）を４０質量部とし
て、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例６
では、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密
着性が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、
得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性
能も不十分であった。

【００９６】また、成分（Ａ）を配合せず、成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、
成分（Ｂ）を９０質量部、成分（Ｃ）を１０質量部とし
て、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例７
では、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密
着性が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、
得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性
能も不十分であった。

【００９７】また、成分（Ｂ）を配合せず、成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、
成分（Ａ）を３０質量部、成分（Ｃ）を７０質量部とし
て、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例８
では、得られた組成物の硬化収縮率が１０％と大きく、
得られたＣＤの初期反り角が０．４度と大きいものであ
った。また、耐久試験後反り角も０．８度と極めて大き
い値となった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた
接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十
分であった。

【００９８】（実施例１１〜１５、比較例９〜１２の結
果）実施例１１〜１５、比較例９〜１２において得られ
た結果を表３に示す。表３に示すように、成分（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分
（Ａ）の配合量を６０〜８５質量部、成分（Ｂ）の配合
量を５〜４０質量部、成分（Ｃ）の配合量を０〜２０質
量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した
実施例１１〜１５において、 得られた組成物の硬化収
縮率は６％と極めて低く、そのため、得られた高密度デ
ィスクの初期反り角は０．１度と十分に小さいものであ
った。また、耐久試験後反り角も０．２度と十分に小さ
いものであった。また、得られた光透過層（硬化物層）
の表面硬度は鉛筆硬度でＢであり、十分な機械的強度を
有するものであった。また、得られた光透過層（硬化物
層）の記録膜密着性、基板密着性はいずれも良好であっ
た。また、記録膜に腐食は見られず、得られた光透過層
（硬化物層）の記録膜保護性能についても良好であっ
た。また、得られた光透過層の光透過率は８６〜８８％
と極めて高く、良好であった。

【００９９】これに対して、成分（Ｂ）を配合せず、成
分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対し
て、成分（Ａ）を４５〜６０質量部、成分（Ｃ）を４０
〜５５質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を
調製した比較例９、１０では、得られた光透過層（硬化
物層）の表面硬度が鉛筆硬度で６Ｂ〜７Ｂであり、機械
的強度が不十分であった。また、記録膜に腐食が見ら
れ、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も
不十分であった。また、比較例９では、得られた光透過
層の光透過率も６９％と低く、不十分であった。

【０１００】また、成分（Ｃ）を配合せず、成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、
成分（Ａ）を９６質量部、成分（Ｂ）を４質量部とし
て、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例１
１では、得られた高密度ディスクの初期反り角は０．２
度と良好であったものの、耐久試験後に大きく反りが発
生し、反り角が０．６度となった。また、得られた光透
過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。

【０１０１】また、成分（Ａ）、（Ｂ）を配合せずに、
活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例１２で
は、得られた組成物の硬化収縮率が１０％と大きく、得
られた高密度ディスクの初期反り角が１度以上と大きか
った。また、耐久試験後反り角も１度以上と大きい値と
なった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた光透過
層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。

【０１０２】以上の結果から、成分（Ａ）〜（Ｃ）を配
合すると共に、これらを最適な配合比で配合した本発明
の組成物を用いることにより、硬化物層の記録膜や基板
への密着性が高く、硬化物層の機械的強度に優れ、反り
や記録膜の腐食が防止され、性能に優れた光ディスクを
提供できることが判明した。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】

【表２】

【０１０５】

【表３】

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば、光ディスクの基板や記
録膜への密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低
く、硬化後の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止す
ることができ、光ディスクの硬化物層を形成する際に用
いて好適な樹脂組成物、及び該組成物を用いて形成され
た硬化物層を有する光ディスクを提供することができ
る。

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Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウレタン（メタ）アクリレート化合物、
   エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくと
   も１種であるオリゴマー成分（Ａ）１５〜９５質量部、
   下記一般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステ
   ル化合物（Ｂ）５〜８５質量部、および前記成分
   （Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）０
   〜８０質量部（但し、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合
   計量は１００質量部とする）を含有することを特徴とす
   る活性エネルギー線硬化性組成物。 【化１】 （但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のア
   ルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数
   ４〜６のアルキルカルボキシレート基、Ｒ４は水素原子
   又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）
2. 【請求項２】 オリゴマー成分（Ａ）が、分子内に少な
   くとも１個のアミド基を有するウレタン（メタ）アクリ
   レート化合物であることを特徴とする請求項１に記載の
   活性エネルギー線硬化性組成物。
3. 【請求項３】 オリゴマー成分（Ａ）が、下記成分（ａ
   １）〜（ａ４）を反応させて得られるウレタン（メタ）
   アクリレート化合物であることを特徴とする請求項２に
   記載の活性エネルギー線硬化性組成物。 （ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少な
   くとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物 （ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物 （ａ３）ジイソシアネート化合物 （ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
4. 【請求項４】 成分（ａ１）が、環状ヒドロキシカルボ
   ン酸エステルとアミン化合物を反応させて得られるアミ
   ド含有化合物であることを特徴とする請求項３に記載の
   活性エネルギー線硬化性組成物。
5. 【請求項５】 成分（ａ２）が、ポリエーテルジオー
   ル、ポリエステルジオール、及びポリカーボネートジオ
   ールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物であ
   ることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の活性
   エネルギー線硬化性組成物。
6. 【請求項６】 成分（ａ３）が、脂環式ジイソシアネー
   トであることを特徴とする請求項３から請求項５までの
   いずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
7. 【請求項７】 オリゴマー成分（Ａ）が、ビスフェノー
   ル型エポキシ（メタ）アクリレート化合物類であること
   を特徴とする請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性
   組成物。
8. 【請求項８】 請求項１から請求項７までのいずれか１
   項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成
   された硬化物層を有することを特徴とする光ディスク。