JP2003228169A - 露光方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の大型化に対応すると共に、高速のスル
ープットを実現することができる露光方法及び露光装置
を提供する。 【解決手段】 第１ステージと第２ステージにそれぞれ
マスクと基板を設けて配置し、露光光を反射ミラーを介
して、第１ステージ側のマスク及び基板と第２ステージ
側のマスクと基板に照射し、マスクを基板に転写する露
光方法と、第１ステージと第２ステージにそれぞれマス
クと基板を設けて配置し、露光光の光路を反射ミラーに
より切り換えて、第１ステージ側のマスク及び基板と第
２ステージ側のマスク及び基板に選択的に照射し、マス
クを基板に転写することを特徴とする露光装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大型サイズの基板
にマスクを転写するのに適した露光方法及び露光装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶用表示装置やプラズマディスプレイ
装置等が近年大型化している。液晶用表示装置用のカラ
ーフィルタを形成したガラス基板からなる液晶表示パネ
ルおよびプラズマディスプレイ装置用の表示パネル等に
用いられるガラス基板からなる表示パネルも、大型サイ
ズのガラス基板で作成されている。

【０００３】このようなガラス基板にマスクを転写する
際に、分割マスクを使用して、ステップして露光してい
くステップ露光装置、分割マスクまたは一括マスクを使
用してライン状にスキャン露光していくミラープロジェ
クション露光装置、一括マスクを使用して、全面を一括
露光するプロキシミティ露光装置等が従来から知られて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の露光装置においては、基板の大型化に対応す
ることと、高速のスループットを実現することが困難で
あった。

【０００５】そこで、本発明は、上記問題点を解決し、
基板の大型化に対応すると共に、高速のスループットを
実現することができる露光方法及び露光装置を提供する
ことを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の解決手段を例示
すると、、特許請求の範囲の各請求項に記載された露光
方法及び露光装置である。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明においては、第１ステージ
と第２ステージを配置し、それらの第１及び第２ステー
ジにそれぞれマスクと基板を設け、露光光の光路を反射
ミラーにより切り換え、第１ステージ側のマスク及び基
板と第２ステージ側のマスク及び基板に選択的に照射
し、マスクを基板に転写する。

【０００８】マスクと基板が第１ステージと第２ステー
ジの両方に同時に存在することは好ましいが、本発明
は、その実施形態に限定されない。たとえば、第１ステ
ージと第２ステージで行う転写のタイミングをずらして
もよい。

【０００９】転写の際に、第２ステージ側の基板に対す
るマスク転写が終了する前に、第１ステージ側の基板に
対するマスク転写を開始することが好ましい。

【００１０】また、本発明によれば、第１ステージと第
２ステージにそれぞれマスクと基板を配置し、かつ、露
光光を切り換える反射ミラーを配置する。そして第１ス
テージ側のマスク及び基板と第２ステージ側のマスクと
基板に露光光を選択的に照射し、マスクを基板に転写す
る。

【００１１】好ましくは、転写の際に、第２ステージ側
の基板に露光光を導光する光路と、第１ステージ側の基
板に露光光を導光する光路とを切り換える。

【００１２】本発明による露光装置は、第１ステージと
第２ステージにそれぞれマスクと基板を同時に又は別の
タイミングで配置し、反射ミラーを介して、露光光を選
択的に第２ステージ側のマスク及び基板と第２ステージ
側のマスク及び基板に照射し、マスクを基板に転写す
る。

【００１３】好ましくは、転写の際に、第２ステージに
おいて基板に対するマスク転写が終了する前に、第１ス
テージにおいて基板のマスク転写を開始させるように制
御する制御手段を設ける。

【００１４】また、第１ステージと第２ステージを対に
して配置し、それらにそれぞれマスクと基板を配置す
る。そして、露光光を反射ミラーで切り換え、第１ステ
ージ側のマスク及び基板と第２ステージ側のマスク及び
基板に照射し、マスクを基板に転写する。

【００１５】この場合も、転写の際に、第２ステージ側
の基板に露光光を導光する光路と、第１ステージ側の基
板に露光光を導光する光路とを切り換える切換手段（好
ましくは反射ミラー）を設けることが好ましい。

【００１６】また、本発明の別の実施形態においては、
第１ステージにおいて基板のマスク転写をしている間
に、第２ステージにマスクと基板を配置する。そのあ
と、露光光を反射ミラーで切り換え、第２ステージ側の
マスク及び基板に照射し、マスクを基板に転写する。そ
のように第２ステージおいて基板に対するマスク転写を
している間に、第１ステージにマスクと基板を配置す
る。

【００１７】本発明の別の実施形態においては、第１ス
テージと第２ステージをそれぞれ所定の方向に少し（た
とえば１個の露光面の寸法分だけ）往復移動させて、そ
の移動ごとに分割露光する。たとえば、第１ステージに
配置されたマスクの４つの露光面のうち、２つずつ分割
して露光を行うために、第１ステージ自体が左右に１つ
の露光面分だけ移動するようにする。第２ステージにお
いても、同様に、第２ステージに配置されたマスクの残
り２つの露光面のうち、１つずつ分割して露光を行うた
めに、第２ステージ自体が左右に１つの露光面分だけ移
動するようにする。マスクの全ての露光面の面積が極め
て大きく、一度に複数（４つ）の露光面を転写すること
が困難な場合に、少なくとも半分（２つ）ずつ分割して
露光することにより、作業効率をあげることができる。

【００１８】また、マスクよりも基板そのものが大きい
場合、当然、一括露光は困難であり、最小限２回の露光
で液晶用表示パネル基板ができあがるようにする。そう
すると、基板を１つの露光用ステージに置く時間は少な
くて済み、作業効率を上げることができる。一括露光で
は、露光時間が多くなってしまうが、２回に分けて分割
露光する場合は、その略半分で済む。そのため、１つの
露光用ステージ上に置く時間が少なくて済み、作業効率
があがる。

【００１９】照明光源の配置の設計上の制約のために、
基板の搬送に際して迂回経路をとることができる。しか
し、本発明はその形態に限定されない。

【００２０】本発明のさらに別の実施形態においては、
前工程のコンベアと、第１及び第２ステージと、後工程
のコンベアとを直線に沿って直列に配置し、第１及び第
２ステージ間に光路切り替え用の反射ミラーを設ける。
第１及び第２ステージの各々にエンドレス式コンベアを
設けて、基板を搬送するのが好ましい。さらに、第１及
び第２ステージの間にランプハウスを設けて、そこに光
路の切換手段（好ましくは回転式の反射ミラー）を配置
し、かつ、その周囲にエンドレス式のコンベアを設け
る。それにより、基板を第１ステージから第２ステージ
に搬送する。これらのコンベアは、基板の特性に合った
ものにする。好ましくは、第１及び第２ステージのコン
ベアと、ランプハウスのコンベアは、別種のものとす
る。

【００２１】本発明は、種々の露光装置に適用できる。
例えば、基板にマスクを転写する際に、分割マスクを使
用して、ステップ式に露光していくステップ露光装置、
分割マスクまたは一括マスクを使用してライン状にスキ
ャン露光していくミラープロジェクション露光装置、一
括マスクを使用して全面を一括露光するプロキシミティ
露光装置等である。

【００２２】本発明では、基板を１個所にとどめておく
時間を極力少なくして、基板を多く流れるようにするこ
とで、作業効率をあげることができる。

【００２３】

【実施例】図面を参照しつつ、本発明の複数の実施例を
説明する。

【００２４】まず、図１〜２を参照して、実施例１を説
明する。

【００２５】図１は、本発明の実施例１によるプロキシ
ミティ露光装置１（以下、単に装置１という）を上から
見た概略配置図である。

【００２６】装置１の前面側（図１の上側）には、基板
作成の前工程からコンベア１５により搬送されてきた基
板２（例えばガラス基板等）を搬送するための第１搬送
ロボット３が設けられている。基板２の大きさの一例と
しては、数百ｍｍ×数百ｍｍのものがある。

【００２７】ロボット３は、レール１７にガイドされて
装置１の前面側（図１の上側）の左右両端間を移動自在
となっている。

【００２８】図１の実施例では、１本のレール１７に１
台のロボット３が移動可能に配置されているが、本発明
はこれに限定されない。例えば、より高速のスループッ
トを実現する場合には、１本のレール１７に２台のロボ
ットを移動可能に配置することができる。

【００２９】装置１の中間領域の両側には、露光光照射
用の第１ステージ４と第２ステージ５が設けられてお
り、それらの間に、露光光の照明光源１６が設けられて
いる。

【００３０】上述した第１搬送ロボット３には、基板２
を露光光照射用の第１ステージ４に搬送するためのアー
ムが設けられており、従来の真空チャック等で基板２を
第１ステージ４に搬送する。このアームは、従来から知
られたフロッグアーム等のようなアームであってもよ
い。同様に、このアームによって、第２ステージ５から
第１搬送ロボット３に基板２が渡される。

【００３１】第１ステージ４では、図２に示されている
ように、第１ステージ４の上に基板が配置され、さら
に、その基板２の上に数ミクロンの所定間隔を空けてマ
スク６が配置される。たとえば、第１ステージ４が一旦
降下し、マスク６と第１ステージ４との間隔を開けて、
そこに基板２を挿入し、第１ステージ４の上面の所定位
置に基板２を配置し、第１ステージ４を上昇させて、所
定位置で停止する。

【００３２】装置１の中央付近に設けられた露光光の照
明光源１６は、１２ｋＷの出力を備えている。光源１６
の下部（装置内部）に設けられた反射ミラー７と、第１
ステージ４および第２ステージ５の上部にそれぞれ設け
られた反射ミラー８、９を介して、第１ステージ４と第
２ステージ５にそれぞれ配置された基板２上に選択的に
露光光を照射するように構成されている。反射ミラー７
の傾く方向を切り換えることにより、光路の選択（切
換）を行う。

【００３３】光源１６の下部に設けられた反射ミラー７
は、第１ステージ４側か、あるいは第２ステージ５側に
傾斜可能であり、制御手段（図示せず）に接続されてい
て、露光光の２つの光路１０、１１の一方に選択的に切
り換えるように制御されている。

【００３４】装置１の後面（図１の下側）には、基板２
を搬送するための第２搬送ロボット１２が設けられてい
る。この第２搬送ロボットは、第１ステージ４から（ア
ームを介して）第２ステージ５に基板２を搬送する。第
２ステージ５は、露光光の照明光源１６を真ん中にして
第１ステージ４とは反対側に設けられている。

【００３５】第２搬送ロボット１２は、レール１７にガ
イドされて装置１の後面側（図１の下側）の左右両端間
を移動自在となっている。

【００３６】図１の実施例では、１本のレール１７に１
台のロボット１２が配置されているが、本発明はこれに
限定されない。例えば、より高速のスループットを実現
する場合には、１本のレール１７に２台のロボットを配
置することができる。

【００３７】ロボット１２は、マスクカート１８からマ
スク６を受けとって、第１及び第２ステージ４、５にマ
スク６を移送する。

【００３８】ロボット３やロボット１２は、２台並列し
て固定して設けてもよい。

【００３９】第２ステージ５では、第１ステージ４と同
様に、数ミクロンの所定間隔を空けてマスク６が配置さ
れる。そして、第２ステージ５上に配置された基板２
は、第１ステージ４と同様に、第２ステージ５が一旦降
下してマスク６と第２ステージ５との間隔を空けて、基
板２を配置し、第２ステージ５上に基板２を配置する。

【００４０】第２ステージ５上に配置された基板２は、
露光光の光路切換手段（好ましくは反射ミラー７）を介
して、第２ステージ５上に露光光を照射し、基板２を露
光する。

【００４１】なお、第１ステージ４においてなされた露
光面と重複する露光面が二重に露光されないように、そ
の面には遮蔽板（図示せず）が覆うように配置されてい
る。

【００４２】第２ステージ５上で露光された基板２は、
第１搬送ロボット３のアームを介して送られ、後処理工
程にコンベア１９により搬送されることになる。

【００４３】前工程（または後工程）とロボット３との
間で搬送される際に基板２は９０゜回転されてから搬送
される。そのとき、ロボット本体の上に作られたアーム
部が回転するようになっており、前工程からの基板をア
ーム部が受け取り、アーム部が旋回して露光ステージ１
のほうへ基板を搬送する。ロボット１２も、同様の作動
を行うものである。

【００４４】両ステージ４、５への露光のタイミングは
いろいろな形で設定できる。

【００４５】たとえば、第２ステージ上５に搬送された
基板２の露光処理が行われる前に、第１ステージ４に次
の基板２を配置して露光処理を開始することができる。
この場合、連続して２枚の基板２の露光処理を実現する
ことができ、高いスループットを実現することができ
る。

【００４６】同様に、露光光の照明光源１６の下部に設
けられた反射ミラー７を傾動させることにより同時に２
枚の基板２の露光処理を実現することができ、並列した
露光処理を行うことができる。

【００４７】また、従来一括露光が困難であった大面積
の基板２においても、本発明では、第１及び第２ステー
ジで分割して、少なくとも２回の露光処理で実現するこ
とが可能である。その場合、いかなる大型の基板であっ
ても露光処理を実現することができる。

【００４８】図３を参照して、本発明の実施例２を説明
する。図１〜２の実施例１と図３の実地例２において、
同一符号で示した部分や部材は、同一のものであり、同
一の動作をする。

【００４９】図３において、第１ステージ４’に配置さ
れたマスク６’の４つの露光面のうち、２点鎖線の長方
形で示してあるように、２つずつ分割して露光を行うた
めに、第１ステージ４’自体が左右に１つの露光面の寸
法分だけ移動する。第２ステージ５’においても、同様
に、２点鎖線の長方形で示してあるように、第２ステー
ジ５’に配置されたマスク６’の残り２つの露光面のう
ち、１つずつ分割して露光を行うために、第２ステージ
５’自体が左右に１つの露光面の寸法分だけ移動する。

【００５０】この図３の実施例２においては、マスク
６’の露光面の面積が極めて大きく、一度に４つの露光
面を転写することが困難な場合に、少なくとも２つずつ
分割して露光することにより、作業効率をあげることが
できる。

【００５１】図４〜５を参照して、本発明の実施例３を
説明する。

【００５２】図４〜５において、前工程のコンベア５
５、第１ステージ４４、照明光源５６、その下方に設け
られた光路切り替え用の反射ミラー４７、第２ステージ
４５、後工程のコンベア５９がほぼ１つの直線に沿って
直列に配置されている。基板４２は、前工程のコンベア
５５から後工程のコンベア５９に至る際に、幅方向や高
さ方向には移動することなく、ほぼ直線に沿って、まっ
すぐ進んでいく。

【００５３】図４〜５の実施例３をさらに詳細に説明す
る。

【００５４】図４は、プロキシミティ露光装置４１（以
下、単に装置１という）を上から見た概略配置図であ
る。

【００５５】装置４１の左端側には、第１ステージ４４
が設けられている。前工程のコンベア５５により搬送さ
れてきた基板４２（例えばガラス基板等）は、そのまま
の向きで上下左右に動くことなく、第１ステージ４４の
所定位置まで搬送される。

【００５６】基板４２の大きさの一例は、タテの寸法が
数百ｍｍで、ヨコの寸法が数百ｍｍである。

【００５７】装置４１には、前工程のコンベア５５と後
工程コンベア５９の間に、直線に沿って露光光照射用の
第１ステージ４４と第２ステージ４５が配置されてお
り、それらの間に、露光光の照明光源５６が設けられて
いる。照明光源５６の真下には、反射ミラー４７が回転
又は傾斜可能に設けられている。

【００５８】第１ステージ４４と第２ステージ４５の周
囲には、それぞれ薄いシート状のエンドレス式コンベア
６１、６２が矢印の方向に複数のガイド６３に案内され
て巡回移動するように配置されている。

【００５９】第１ステージ４４と第２ステージ４５の間
には、所定のスペースに設けられていて、そこにランプ
ハウス６４が配置されている。このランプハウス６４に
は光路切り替え用の反射ミラー４７が配置されている。
その反射ミラー４７の真上に露光光用の１２ｋＷタイプ
の照明光源５６が配置されている。

【００６０】さらに、このランプハウス６４には、複数
のガイド６３に案内されて矢印の方向に巡回して移動す
るように、特殊コンベア６６が設けられている。この特
殊コンベア６６は、基板４２を支持して搬送するための
矩形の支持部６７を有する。この支持部６７は、厚いシ
ート状の部材からなり、基板４２の寸法よりも少し大き
い寸法を有する。特殊コンベア６６には、そのような支
持部６７のところを除いて、照明光源５６からの光路を
妨害するものは何も存在しない。基板４２を第１ステー
ジ４４から第２ステージ４５に移送する必要が生じたと
きのみ、特殊コンベア６６が作動して周回する。それに
より、支持部６７は、図５に示す上方巡回コース（第１
及び第２ステージ４４、４５の上面と同一レベルに位置
する）を図５の左から右に移動して巡回する。

【００６１】露光装置内における基板４２の搬送は、基
板４２の特性に合ったコンベア６１、６２、６６によっ
て行う。

【００６２】露光ステージ４４、４５とランプハウス６
４で別種のコンベアを採用するのが好ましい。

【００６３】第１ステージ４４では、数ミクロンの所定
間隔を空けてマスク４６が配置される。たとえば、マス
ク４６が一旦上昇し、マスク４６と第１ステージ４４の
間隔を開けてから、基板４２を第１ステージ４４の上面
の所定位置に配置し、第１ステージ４４上に基板２を位
置決めする。そのあと、マスク４６を所定位置に下降さ
せる。

【００６４】装置４１の中央領域に設けられた露光光の
照明光源５６は、光源５６の下方（装置内部）に設けら
れた反射ミラー４７と、第１ステージ４４および第２ス
テージ４５の上方に設けられた反射ミラー４８、４９を
介して、反射ミラー４７の傾く方向を切り換えることに
より、第１ステージ４４あるいは第２ステージ４５に配
置された基板４２上に露光光を照射するように構成され
ている。

【００６５】第１ステージ４４と第２ステージ４５の間
で、かつ光源５６の下方に設けられた反射ミラー４７
は、第１ステージ４４側か、あるいは第２ステージ４５
側に傾斜可能であり、制御手段（図示せず）に接続され
ていて、露光光の２つの光路５０、５１の一方に選択的
に切り換えられるように制御されている。

【００６６】必要に応じて、ロボット（図示せず）をラ
ンプハウス６４に隣接して設けて、マスクカート（図示
せず）からマスク４６を受けとって、第１及び第２ステ
ージ４４、４５の上方の所定位置にマスク４６を移送し
て配置する。

【００６７】第２ステージ４５でも、第１ステージ４４
と同じように、数ミクロンの所定間隔を空けてマスク４
６が配置される。たとえば、第２ステージ４５上に基板
４２を位置決めする際に、第１ステージ４４と同様に、
マスク４６が一旦上昇して、マスク４６と第２ステージ
４５との間隔を空けてから、基板４２を第２ステージの
所定位置に配置し、第２ステージ４５上に基板４２を位
置決めする。そのあと、マスク４６を所定位置まで下降
させる。

【００６８】第２ステージ４５上に配置された基板４２
は、反射ミラー４７を介して、第２ステージ４５上の基
板４２に露光光を照射し、基板２を露光する。

【００６９】なお、第１ステージ４４においてなされた
露光面と重複するように露光面が二重に露光されること
を避けるために、その面には、遮蔽板（図示せず）が覆
うように配置されている。

【００７０】第２ステージ４５上で露光された基板４２
は、そのままの向きで後処理工程にコンベア５９により
搬送される。

【００７１】基板４２の搬送方法をさらに詳細に説明す
る。

【００７２】基板４２は、前工程で製造され、コンベア
５５により装置４１の入口に搬送されてくる。そのコン
ベア５５の終端近くに基板４２が到来したとき、第１ス
テージ４４のコンベア６１が動作を開始して、所定の速
度で巡回する。それにより、基板４２は、前工程のコン
ベア５５から第１ステージ４４のコンベア６１に移動し
て、そのまま水平状態を維持しつつ第１ステージ４４の
上面の所定位置まで搬送される。そして、コンベア６１
が停止する。第１ステージ４４の上方に離れて待機して
いたマスク４６が下降して、数ミクロンの接近位置で停
止する。そのあと、第１ステージ４４で露光処理が実行
される。

【００７３】露光後に、マスク４６が上昇して、再びコ
ンベア６１が始動して、基板４２が第２ステージ４５に
向って搬送される。このとき、コンベア６６も始動し、
ランプハウス６４の上方コース以外のところ（下方コー
スや側方コース）に待機していたコンベア６６の支持部
６７が上方コースの始端部（図５の左上隅の部分）に到
来する。そして、このコンベア６６の支持部６７が第１
ステージ４４のコンベア６１から基板４２を受けとり、
そのまま水平状態に基板４２を支持しつつ搬送する。

【００７４】基板４２がコンベア６６の支持部６７によ
って支持されて上方の巡回コースの右端近くに到来する
前に、第２ステージ４５のコンベア６２が始動する。基
板４２は、コンベア６６の支持部６７から第２ステージ
４５のコンベア６に移動して、そのまま水平状態を維持
しつつ第２ステージ４５の上面の所定位置まで搬送され
る。そして、コンベア６２が停止する。第２ステージ４
５の上方に離れて待機していたマスク４６が下降して、
数ミクロンの接近位置で停止する。そのあと、第２ステ
ージ４５で露光処理が行われる。

【００７５】第２ステージ４５での露光処理のあと、マ
スク４６が上昇し、コンベア６２が始動し、基板４２が
装置１の出口に到り、さらに後工程のコンベア５９に向
けて搬送される。

【００７６】基板４２は、装置１の出口で、第２ステー
ジ４５のコンベア６２から後工程のコンベア５９に移さ
れて、さらに、そのコンベア５９によって後工程の所望
の場所に搬送されていく。

【００７７】また、第１及び第２ステージ４４、４５へ
の露光のタイミングはいろいろな形で設定できる。

【００７８】たとえば、第２ステージ上４５に搬送され
た基板４２の露光処理が行われる前に、第１ステージ４
４に次の基板４２を配置して露光処理を開始することが
できる。この場合、連続して２枚の基板４２の露光処理
を実現することができる。

【００７９】同様に、露光光の照明光源５６の下部に設
けられた反射ミラー４７を傾動させることにより同時に
２枚の基板４２の露光処理を実現することができ、並列
した露光処理を行うことができる。

【００８０】また、大面積の基板４２については、第１
及び第２ステージ４４、４５で分割して、少なくとも２
回の露光処理で実現することが可能である。その場合、
いかなる大型の基板であっても露光処理を実現すること
ができる。

【００８１】基板４２の位置を検出する手段や、基板４
２を位置決めするための手段や、マスク４６の上昇や下
降をコントロールする手段や、種々のコンベア５５、５
９、６１、６２、６６の作動をコントロールする手段
や、これらの全体的な動作タイミングをコントロールす
る手段は、従来公知の任意のものを採用することができ
るので、ここでは詳細な説明を省略する。

【００８２】本発明は、前述の実施例に限定されない。

【００８３】たとえば、基板は、コの字状や直線状に移
動するだけでなく、円形状その他の形状に沿って移動す
るようにしてもよい。

【００８４】また、光路の切換手段は、反射ミラー以外
のものを採用してもよい。反射ミラーの制御は種々の形
態がある。

【００８５】また、図１〜２の実施例１において、ロボ
ット３を２台並列して固定して設けてもよい。ロボット
１２についても同様である。

【００８６】

【発明の効果】以上の通り、本発明は、基板の大型化に
対応すると共に、高速のスループットを実現することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１による装置全体を上から見た
図である。

【図２】図１の装置を側面から見た図である。

【図３】本発明の実施例２による装置全体を上から見た
図である。

【図４】本発明の実施例３による装置全体を上から見た
図である。

【図５】図４の装置を側面から見た図である。

【符号の説明】

１、４１ プロキシミティ装置 ２、４２ 基板 ３ 第１搬送ロボット ４、４’、４４ 第１ステージ ５、５’、４５ 第２ステージ ６、６’、４６ マスク ７、８、９、４７、４８、４９ 反射ミラー １０、１１、５０、５１ 光路 １２ 第２搬送ロボット １６、５６ 光源 １７ レール １８ マスクカート

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１ステージと第２ステージにそれぞれ
   マスクと基板を配置し、第１ステージ側のマスク及び基
   板と第２ステージ側のマスク及び基板に選択的に露光光
   を照射し、マスクを基板に転写することを特徴とする露
   光方法。
2. 【請求項２】 転写の際に、第２ステージ側の基板に対
   するマスク転写が終了する前に、第１ステージ側の基板
   に対するマスク転写を開始することを特徴とする請求項
   １に記載の露光方法。
3. 【請求項３】 第１ステージと第２ステージにそれぞれ
   マスクと基板を配置し、露光光を第１ステージ側のマス
   ク及び基板と第２ステージ側のマスク及び基板に反射ミ
   ラーを介して照射し、マスクを基板に転写することを特
   徴とする露光方法。
4. 【請求項４】 転写の際に、第２ステージ側の基板に露
   光光を導光する第１光路と、第１ステージ側の基板に露
   光光を導光する光路とを反射ミラーによって切り換える
   ことを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
5. 【請求項５】 マスクと基板を設ける第１ステージと、
   マスクと基板を設ける第２ステージを配置し、第１ステ
   ージに至る露光光の光路と、第２ステージに至る露光光
   の光路とを切り換える反射ミラーを設けたことを特徴と
   する露光装置。
6. 【請求項６】 転写の際に、第２ステージにおいて基板
   に対するマスク転写が終了する前に、第１ステージにお
   いて基板のマスク転写を開始させるように制御すること
   を特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 第１ステージと第２ステージにそれぞれ
   マスクと基板を設けて配置し、露光光の光路を反射ミラ
   ーにより切り換えて、第１ステージ側のマスク及び基板
   と第２ステージ側のマスク及び基板に選択的に照射し、
   マスクを基板に転写することを特徴とする露光装置。
8. 【請求項８】 第１ステージと第２ステージの間に反射
   ミラーを配置し、転写の際に、反射ミラーを回転させる
   ことにより、第２ステージ側の基板に露光光を導光する
   光路と、第１ステージ側の基板に露光光を導光する光路
   とを切り換える構成にしたことを特徴とする請求項５〜
   ７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 【請求項９】 第１ステージに配置されたマスクの複数
   の露光面を分割して露光を行うために、第１ステージ自
   体が所定方向に移動するようにし、第２ステージについ
   ても、同様に、第２ステージに配置されたマスクの残り
   の露光面を分割して露光を行うために、第２ステージ自
   体が所定方向に移動する構成にしたことを特徴とする請
   求項５〜８のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 【請求項１０】 基板がロボットによって第１ステージ
    及び第２ステージに搬入され、かつ搬出される構成にし
    たことを特徴とする請求項５〜９のいずれか１項に記載
    の露光装置。
11. 【請求項１１】 基板がコンベアによって第１ステージ
    及び第２ステージに搬入され、かつ搬出される構成にし
    たことを特徴とする請求項５〜９のいずれか１項に記載
    の露光装置。