JP2003219272A - 欠陥画素判定方法および装置 - Google Patents

欠陥画素判定方法および装置

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JP2003219272A JP2002017933A JP2002017933A JP2003219272A JP 2003219272 A JP2003219272 A JP 2003219272A JP 2002017933 A JP2002017933 A JP 2002017933A JP 2002017933 A JP2002017933 A JP 2002017933A JP 2003219272 A JP2003219272 A JP 2003219272A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録光L1の照射により放射線画像情報の記
録された放射線固体検出器10から画素毎の画素信号を
読み取り、その読み取られた画素信号に基づいて欠陥画
素を判定する欠陥画素判定方法において、正常な画素信
号を出力せず、その画素信号に対して補正処理を施した
としても正常な画素信号に近い値にはすることができな
いような画素を適切に欠陥画素と判定する。 【解決手段】 複数の異なるエネルギーの記録光のそれ
ぞれについて、放射斜線固体検出器10への照射による
欠陥画素検出用画像情報の記録およびその欠陥画素検出
用画像情報に対応した画素信号の読取りを行なうことに
より、各画素毎に複数の画素信号を取得し、画素毎に複
数の画素信号に基づいて欠陥画素であるか否かを判定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録用の電磁波の
照射により画像情報を潜像電荷として記録する固体検出
器における各画素が欠陥画素であるか否かを判定する欠
陥画素判定方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】今日、医療診断等を目的とする放射線撮
影において、放射線を検出して放射線画像情報を表す画
像信号を出力する放射線固体検出器を使用した放射線画
像記録読取装置が知られている。この装置に使用される
検出器としては、種々のタイプのものが提案、実用化さ
れている。
【0003】例えば、放射線を電荷に変換する電荷生成
プロセスの面からは、放射線が照射されることにより蛍
光体から発せられた蛍光を光電変換素子で検出して得た
信号電荷を光電変換素子の蓄電部に一旦蓄積し、蓄積電
荷を画像信号(画素信号)に変換して出力する光変換方
式の放射線固体検出器(例えば特開昭59−21126
3号、特開平2−164067号、PCT国際公開番号
WO92/06501号、SPIE Vol.1443 M
edicalImaging V;ImagePhysi
cs(1991) ,p.108−119等)、あるいは、
放射線が照射されることにより放射線導電体内で発生し
た信号電荷を電荷収集電極で集めて蓄電部に一旦蓄積
し、蓄積電荷を電気信号に変換して出力する直接変換方
式の放射線固体検出器(MATERIAL PARAM
ETERS IN THICK HYDROGENATE
D AMORPHOUS SILICONRADIATI
ONDETECTOS、Lawrence Berke
ley L.University of Califor
noia、Berkeley.CA 94720 Xer
ox Parc.Palo Alto.CA 94304、
Metal/Amorphous Sillicon M
utilayer Radiaton Detector
s、IEE TRANSACTIONS ON NUCL
EAR SCIENCE.VOL.36.NO.2.APRI
L 1989、特開平1−216290号等)等があ
る。
【0004】また、蓄積された電荷を外部に読み出す電
荷読出プロセスの面からは、前記蓄電部と接続されたT
FT(薄膜トランジスタ)を走査駆動して読み出すTF
T読出方式のものや、読取光(読取用の電磁波)を放射
線固体検出器に照射して読み出す光読出方式のもの等が
ある。
【0005】また、本願出願人は、特開2000−10
5297号公報や特開2000−16726号公報にお
いて改良型直接変換方式の放射線固体検出器を提案して
いる。改良型直接変換方式の放射線固体検出器とは、直
接変換方式、且つ光読出方式のものであり、記録用の放
射線に対して透過性を有する第1の電極層、該第1の電
極層を透過した記録用の放射線の照射を受けることによ
り導電性を呈する記録用光導電層、第1の電極層に帯電
される電荷と同極性の電荷に対しては略絶縁体として作
用し、かつ、該電荷と逆極性の電荷に対しては略導電体
として作用する電荷輸送層、読取用の電磁波の照射を受
けることにより導電性を呈する読取用光導電層、読取用
の電磁波に対して透過性を有する第2の電極層を、この
順に積層して成るものであり、記録用光導電層と電荷輸
送層との界面に、画像情報を担持する潜像電荷を蓄積す
るものである。
【0006】この改良型直接変換方式の放射線固体検出
器において潜像電荷が担持する静電潜像を読み出す方式
としては、第2の電極層を平板状のものとし、この第2
の電極層にレーザ等のスポット状の読取光を走査して潜
像電荷を検出する方式と、第2の電極層における電極を
クシ歯状のストライプ状電極とし、ストライプ状電極の
長手方向と略直角な方向に延びたライン光源を該ストラ
イプ状電極の長手方向に走査して潜像電荷を検出する方
式がある。
【0007】また、光読出方式においては、平板電極も
しくはストライプ電極から読み出された信号はサンプリ
ング等されて画素信号として得られるが、この画素信号
に対応する範囲が放射線固体検出器における画素といえ
る。そして、TFT読出方式においては、各トランジス
タから出力された信号が画素信号として読み出されるた
め、各トランジスタが放射線固体検出器における画素と
いえる。
【0008】ここで、上記のような放射線固体検出器等
は、製造工程中のゴミ付着や使用過程における損傷によ
るひっかきキズ等によって、正常な画素信号を出力でき
ず、例え補正処理をその正常でない画素信号に施したと
しても正常な画素信号に補正することはできないような
欠陥画素が生じることがある。この欠陥画素は、上記の
ようにゴミ等によって生ずるもので、微細なものである
ため、目視検査によって判定するのは非常に困難であ
る。そのため、放射線固体検出器から読み取られた画素
毎の画素信号に基づいて欠陥画素を判定する方法が各種
提案されている。例えば、米国特許5519751号明
細書では、周辺画素に応じた画素信号との差が、規定値
以上の画素信号に応じた画素を欠陥画素と判定し、この
判定された欠陥画素の画素信号を補正するようにしてい
る。また、特開2000−244825号公報では、暗
状態(可視光または放射線を全く照射しない状態および
一定且つ微小量の可視光または放射線を被写体を介する
ことなく放射線固体検出器に照射した状態のいずれをも
含む)における放射線固体検出器等の画素から読み取ら
れた画素信号のヒストグラムおよび/または明状態(一
定量の光または放射線を被写体を介さずに照射した状
態)における放射線固体検出器等の画素から読み取られ
た画素信号のヒストグラムを取得し、各画素信号のう
ち、正常と思われる画素の代表値を求め、ヒストグラム
の度数が代表値の度数から最初に所定の度数以下となる
画素信号の値を欠陥画素判定値とし、代表値から欠陥画
素判定値までの範囲から外れる画素信号を欠陥画素と判
定する方法が記載されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、米国特
許5519751号明細書に記載のような欠陥画素判定
方法では、例えば、常に一定の値の画素信号しか出力し
ないような欠陥画素を規定値の大きさによっては正常な
画素と判定してしまったりする。また、所定の放射線の
エネルギーに対しては正常な画素信号を出力するが、そ
の他の放射線のエネルギーに対しては正常な画素信号を
出力しないような欠陥画素に対しては、上記の方法では
1つの画素値しか判定の対象としないので適切に欠陥画
素と判定することがでいない。また、このような欠陥画
素は特開2000−244825号公報に記載の欠陥画
素判定方法においても、欠陥画素判定値の大きさによっ
ては欠陥画素と判定することができない場合がある。ま
た、上記のような方法では、規定値や欠陥画素判定値の
大きさによっては、ゲイン補正やオフセット補正を施せ
ば正常な画素値に近い値に補正できるような画素まで欠
陥画素と判定してしまう可能性がある。
【0010】本発明は、上記のような問題点に鑑み、放
射線固体検出器等から出力された各画素の画素信号に基
づいて欠陥画素を判定する欠陥画素判定方法および装置
において、上記のような正常な画素信号を出力せず、そ
の画素信号に対して補正処理を施したとしても正常な画
素信号に近い値にはすることができないような画素を適
切に欠陥画素と判定することができる欠陥画素判定方法
および装置を提供することを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の欠陥画素判定方
法は、画像情報を担持した記録用の電磁波の照射により
画像情報が記録された固体検出器から画像情報に応じた
画素毎の画素信号を読み取り、その読み取られた画素信
号に基づいて欠陥画素を判定する欠陥画素判定方法にお
いて、複数の異なるエネルギーの記録用の電磁波のそれ
ぞれについて、固体検出器への照射による欠陥画素検出
用画像情報の記録およびその欠陥画素検出用画像情報に
対応した画素信号の読取りを行なうことにより、各画素
毎に複数の画素信号を取得し、画素毎に複数の画素信号
に基づいて欠陥画素であるか否かを判定することを特徴
とする。
【0012】ここで、上記「記録用の電磁波」とは、例
えば、放射線などを意味するが、放射線の照射により発
せられた蛍光なども含むものとする。
【0013】また、上記「欠陥画素」とは、正常な画素
信号を出力できず、かつ、その正常でない画素信号を補
正しても正常な画素信号に近い値にすることができない
画素を意味する。
【0014】また、「複数の異なるエネルギーの記録用
の電磁波のそれぞれについて、固体検出器への照射によ
る欠陥画素検出用画像情報の記録およびその欠陥画素検
出用画像情報に対応した画素信号の読取りを行なうこと
により、各画素毎に複数の画素信号を取得する」とは、
例えば、上記「複数の異なるエネルギーの記録用の電磁
波」を第1の記録用の電磁波および第2の記録用の電磁
波とした場合には、まず、第1の記録用の電磁波の照射
により固体検出器に第1の欠陥画素検出用画像情報を記
録し、その記録された第1の欠陥画素検出用画像情報を
読み取った後、上記固体検出器と同じ固体検出器を用い
て、第2の記録用の電磁波の照射により第2の欠陥画素
検出用画像情報を記録し、その記録された第2の欠陥画
素検出用画像情報を読み取るといったように、同じ固体
検出器を用いて、複数の記録用の電磁波の照射による複
数の欠陥画素検出用画像情報の記録とその読取りを繰り
返して行なうことを意味する。
【0015】また、所定画素における複数の画素信号の
うち少なくとも2つの画素信号の大きさが異なる場合に
おいて、複数の画素信号についてそれぞれオフセット補
正を施し、オフセット補正の施された複数の画素信号
を、記録用の電磁波のエネルギーの大きさをx軸とし、
そのエネルギーに応じた画素信号の大きさをy軸とした
xy座標上に示した際、オフセット補正の施された複数
の画素信号のうちの所定の2点を結んだ直線が少なくと
も1つ原点を通らない場合に、所定画素を欠陥画素とす
るようにすることができる。
【0016】ここで、上記「オフセット補正」とは、オ
フセットを補正する方法であれば如何なる方法としても
よいが、例えば、記録用の電磁波を照射していない状態
で放固体検出の読取りを行ない、このときの各画素の画
素信号を欠陥画素検出用画像情報を読み取ったときの各
画素の画素信号からそれぞれ減算するような処理とすれ
ばよい。
【0017】また、所定画素における複数の画素信号の
大きさが全て略同一である場合、所定画素を欠陥画素と
するようにすることができる。
【0018】本発明の欠陥画素判定装置は、画像情報を
担持した記録用の電磁波の照射により画像情報が記録さ
れた固体検出器から読み取られた画像情報に応じた画素
毎の画素信号に基づいて欠陥画素を判定する判定手段を
備えた欠陥画素判定装置において、判定手段が、複数の
異なるエネルギーの記録用の電磁波のそれぞれについ
て、固体検出器への照射による欠陥画素検出用画像情報
の記録およびその欠陥画素検出用画像情報に対応した画
素信号の読取りを行うことにより、各画素毎に複数取得
された画素信号を用いて、画素毎に複数の画素信号に基
づいて欠陥画素であるか否かを判定するものであること
を特徴とするものである。
【0019】また、判定手段が、所定画素における複数
の画素信号のうち少なくとも2つの画素信号の大きさが
異なるか否かを判断し、少なくとも2つの画素信号の大
きさが異なる場合、複数の画素信号についてそれぞれオ
フセット補正を施し、オフセット補正の施された複数の
画素信号を、記録用の電磁波のエネルギーの大きさをx
軸とし、そのエネルギーに応じた画素信号の大きさをy
軸としたxy座標上に示した際、オフセット補正の施さ
れた複数の画素信号のうちの所定の2点を結んだ直線が
少なくとも1つ原点を通らない場合に、所定画素を欠陥
画素とするようにすることができる。
【0020】また、判定手段が、所定画素における複数
の画素信号の大きさが全て略同一である場合、所定画素
を欠陥画素とするようにすることができる。
【0021】また、欠陥画素検出用画像情報が、略均一
なエネルギーの記録用の電磁波の照射により固体検出器
に記録されたベタ画像情報とすることができる。
【0022】
【発明の効果】本発明の欠陥画素判定方法および装置に
よれば、複数の異なるエネルギーの記録用の電磁波のそ
れぞれについて、固体検出器への照射による欠陥画素検
出用画像情報の記録およびその欠陥画素検出用画像情報
に対応した画素信号の読取りを行なうことにより、各画
素毎に複数の画素信号を取得し、画素毎に複数の画素信
号に基づいて欠陥画素であるか否かを判定するようにし
たので、正常な画素信号を出力せず、その画素信号に対
して補正処理を施したとしても正常な画素信号に近い値
にはすることができないような画素を適切に欠陥画素と
判定することができる。
【0023】具体的には、所定画素における複数の画素
信号のうち少なくとも2つの画素信号の大きさが異なる
場合において、複数の画素信号についてそれぞれオフセ
ット補正を施し、オフセット補正の施された複数の画素
信号を、記録用の電磁波のエネルギーの大きさをx軸と
し、そのエネルギーに応じた画素信号の大きさをy軸と
したxy座標上に示した際、オフセット補正の施された
複数の画素信号のうちの所定の2点を結んだ直線が少な
くとも1つ原点を通らない場合に、所定画素を欠陥画素
とするようにした場合には、上記のようなオフセット補
正処理やゲイン補正処理を施しただけでは補正すること
が困難である画素を簡易な演算処理にて欠陥画素と判定
することができる。
【0024】また、所定画素における複数の画素信号の
大きさが全て略同一である場合、所定画素を欠陥画素と
するようにした場合には、ほとんど画素信号を出力しな
いような欠陥画素や常に一定の値の画素信号しか出力し
ないような欠陥画素を適切に欠陥画素と判定することが
できる。
【0025】また、欠陥画素検出用画像情報が、略均一
なエネルギーの記録用の電磁波の照射により固体検出器
に記録されたものとした場合には、より簡易な方法によ
り欠陥画素検出用画像情報の記録を行なことができ、か
つ適切な欠陥画素であるか否かの判定を行なうことがで
きる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明による欠陥画
素判定方法を実施する欠陥画素判定装置の一実施形態を
用いた放射線画像記録読取装置の概略構成を示す図であ
り、図2は本実施の形態に用いられる放射線固体検出器
の概略構成図を示す図である。図2(A)は斜視図、図
2(B)はQ矢指部のXZ断面図、図2(C)はP矢指
部のXY断面図である。
【0027】まず、本放射線画像記録読取装置に用いら
れる放射線固体検出器10について説明を行う。放射線
固体検出器10は、記録用の電磁波(例えば、X線等の
放射線。以下記録光という。)L1を透過する第1の電
極層11、この第1の電極層11を透過した記録光L1
の照射を受けることにより導電性を呈する記録用光導電
層12、潜像電荷(例えば負電荷)に対しては略絶縁体
として作用し、かつ、該潜像電荷と逆極性の輸送電荷
(上述の例においては正電荷)に対しては略導電体とし
て作用する電荷輸送層13、読取用の電磁波(以下読取
光という)L2の照射を受けることにより導電性を呈す
る読取用光導電層14、読取光L2を透過する第2の電
極層15をこの順に積層してなるものである。なお、放
射線固体検出器10は読取光L2を透過する支持体上に
第2の電極層15から順に形成されるものであるが、支
持体は図示省略している。
【0028】また、第2の電極層15の電極は、多数の
エレメント(線状電極)16aをストライプ状に配列し
たストライプ電極16として形成されている。エレメン
ト16aの間15aは、例えば、カーボンブラック等の
顔料を若干量分散させたポリエチレン等の高分子材料を
充填したものとし、読取光L2に対して遮光性を有する
ものとされている。
【0029】次に、本実施形態の放射線画像記録読取装
置について説明を行う。図1には放射線固体検出器10
のXZ断面図と共に電流検出回路40の詳細が示されて
いる。
【0030】本放射線画像記録読取装置は、放射線固体
検出器10、記録光照射手段20、読取光照射手段3
0、電流検出回路40、判定手段50および補正手段6
0とからなる。
【0031】記録光照射手段20は記録光L1を被写体
9に一様に爆射するものである。
【0032】読取光照射手段30は、ライン状の略一様
な読取光L2をストライプ電極16の各エレメント16
aの長手方向(図2における副走査方向)と概略直交さ
せつつ、該長手方向(副走査方向)に走査露光するもの
である。この走査露光においては、連続光を照射しても
よいし、パルス光を照射するようにしてもよい。
【0033】電流検出回路40は、蓄電部19に蓄積さ
れた潜像電荷の量に応じたレベルの画像信号を得るもの
であり、ストライプ電極16の各エレメント16a毎に
接続された電流検出アンプを多数有している。
【0034】判定手段50は、複数の異なるエネルギー
の記録光のそれぞれについて、放射線固体検出器10へ
の照射による欠陥画素検出用画像情報の記録およびその
欠陥画素検出用画像情報に対応した画素信号の読取りを
行うことにより、各画素毎に複数取得された画素信号を
用いて、画素毎に複数の画素信号に基づいて欠陥画素で
あるか否かを判定するものである。
【0035】補正手段60は、上記判定手段50から欠
陥画素と判定された画素の位置情報を受け取って記憶す
る。そして、実際の放射線画像情報の読取りの際、この
位置情報に基づいて、上記欠陥画素の上記放射線画像情
報に応じた画素信号を、欠陥画素の近傍に位置する正常
画素の上記放射線画像情報に応じた画素信号から算出し
て補正するものである。
【0036】次に、本放射線画像記録読取装置により放
射線固体検出器10に放射線画像情報を静電潜像として
記録し、さらに記録された静電潜像を読み出す方法につ
いて説明する。なお、以下の説明は、実際に被写体を透
過した放射線画像情報についての放射線固体検出器10
への記録読取過程を説明するものである。
【0037】最初に静電潜像記録過程について、図3に
示す電荷モデルを参照しつつ説明する。なお、記録光L
1によって記録用光導電層12内に生成される負電荷お
よび正電荷を、図面上では−または+を丸で囲んで表す
ものとする。
【0038】本放射線画像記録読取装置により放射線固
体検出器10に静電潜像を記録する際には、第1の電極
層11とストライプ電極16との間に直流電圧を印加
し、両者を帯電させる。これにより、第1の電極層11
とストライプ電極16との間には略Uの字状の電界が形
成され、記録用光導電層12の大部分の所は概略平行な
電場が存在するが、光導電層12と電荷輸送層13との
界面、すなわち蓄電部19には電界が存在しない部分が
生じる。そして、このUの字状の電界がエレメント16
aの長さ方向に連続した電界分布が形成される(図3
(A))。
【0039】次に放射線を被写体9に爆射し、記録光L
1を放射線固体検出器10に照射する。すると、放射線
固体検出器10の記録用光導電層12内で正負の電荷対
が発生し、その内の負電荷が上述の電界分布に沿って蓄
電部19に移動する(図3(B))。一方、記録用光導
電層12内で発生した正電荷は第1の電極層11に向か
って高速に移動し、第1の電極層11と記録用光導電層
12との界面で電源72から注入された負電荷と電荷再
結合し消滅する。また、記録光L1は被写体9の遮光部
9bを透過しないから、放射線固体検出器10の遮光部
9bの下部にあたる部分は何ら変化を生じない(図3
(B),(C))。
【0040】このようにして、被写体9に記録光L1を
爆射することにより、被写体像に応じた電荷を記録用光
導電層12と電荷転送層13との界面である蓄電部19
に蓄積することができるようになる。この蓄積される潜
像電荷(負電荷)の量は被写体9を透過し放射線固体検
出器10に入射した放射線の線量に略比例するので、こ
の潜像電荷が静電潜像を担持することとなり、該静電潜
像が放射線固体検出器10に記録される。
【0041】次に、本放射線画像記録読取装置による静
電潜像読取過程について説明する。放射線固体検出器1
0から静電潜像を読み取る際には、第1の電極層11と
ストライプ電極16とを電流検出回路40における電流
検出アンプのイマジナリショートを介して短絡し、電荷
の再配列を行う。次いで、エレメント16aの長手方向
(副走査方向)に読取光照射手段30を副走査すること
により、ライン状の読取光L2で放射線固体検出器10
を走査露光する。この読取光L2の走査露光により副走
査位置に対応する読取光L2が入射した光導電層14内
に正負の電荷対が発生する。
【0042】蓄電部19とストライプ電極16との間
は、電場(強電界)が形成されており、また、電荷輸送
層13は正電荷に対しては導電体として作用するもので
あるから、読取用光導電層14に生じた正電荷は蓄積部
19の潜像電荷に引きつけられるように電荷輸送層13
の中を急速に移動し、蓄電部19で潜像電荷と電荷再結
合をし消滅する。一方、読取用光導電層14に生じた負
電荷は第1の電極層11、ストライプ電極16の正電荷
と電荷再結合し消滅する。上記電荷再結合による第1の
電極層11とストライプ電極16との間の電圧変化を電
流検出アンプ41により電流変化として検出する。この
読取りの際に放射線固体検出器10内を流れる電流は、
潜像電荷すなわち静電潜像に応じたものであるから、こ
の電流を電流検出アンプにより検出することにより各画
素の画素信号を得ることができる。電流検出アンプによ
り検出された各画素の画素信号は判定手段50に出力さ
れる。
【0043】ここで、本実施形態において欠陥画素判定
方法を実施する際には、上記のように被写体10を用い
ず、2つの異なるエネルギーの記録光X1,X2のそれ
ぞれについて、放射線固体検出器10への照射による欠
陥画素検出用画像情報の記録(ここで記録される欠陥画
素検出用画像情報はいわゆるベタ画像情報である)およ
びその読取りを行い、各画素毎に2つの異なる画素信号
Y1,Y2を得る。そして、判定手段50では、画素毎
の2つの異なる画素信号Y1,Y2に基づいて、その画
素が欠陥画素であるか否かを判定する。
【0044】判定手段50における欠陥画素であるか否
かの判定方法は、まず、上記2つの異なる画素信号Y
1,Y2の大きさが異なる場合には、この異なる2つの
画素信号Y1,Y2にオフセット補正処理を施す。上記
オフセット補正処理とは、例えば、放射線を照射してい
ない状態で放射線固体検出10の読取りを行ない、この
ときの各画素の画素信号をそれぞれ減算するような処理
とすればよい。そして、オフセット補正処理後の2つの
異なる画素信号Y1,Y2を、図4に示すような記録光
のエネルギーの大きさをx軸とし、画素信号の大きさを
y軸したxy座標上に示す。そして、この2つの画素信
号Y1,Y2を通過するように直線を引いたとき、この
直線が原点を通る場合には、画素信号Y1,Y2に応じ
た画素は欠陥画素でない、つまり正常画素と判定する。
図4においては、例えば、黒丸で示す画素信号が正常な
画素信号であるとすると、この黒丸と同一の画素信号に
応じた画素はもちろん正常画素と判定されるが、白丸や
2重丸で示した画素信号に応じた画素についてもその2
つの画素信号を通過する直線が原点を通るので正常画素
と判定される。これは、これらの画素は、黒丸で示した
画素信号に応じた正常画素とは異なる画素信号を出力す
るものであるが、ゲイン補正処理を施すことにより正常
画素に応じた画素信号と同じ画素信号の大きさに補正す
ることができるので、本実施形態では正常画素と判定す
ることにしている。上記ゲイン補正処理とは、例えば、
放射線を一様に照射したときの各画素の画素信号のばら
つきを求め、このばらつきに基づいて各画素の画素信号
の大きさが一定となるように補正値を加減する処理をい
う。一方、×印で示される画素信号に応じた画素は、2
つの画素信号を通過する直線が原点を通らないのでこれ
らの画素信号に応じた画素は欠陥画素と判定される。2
つの画素信号を通過する直線が原点を通らない画素は、
上記の正常画素と判定された画素の画素信号のようにゲ
イン補正を施しても、正常画素に応じた画素信号と同じ
大きさに補正することが困難だからである。
【0045】また、三角印の画素信号のように上記2つ
の異なる画素信号Y1,Y2の大きさが同一(略0の
値)の場合には、これらの画素信号に応じた画素も欠陥
画素と判定される。上記のような判定方法を各画素毎に
行なっていき、全ての画素について欠陥画素であるか否
かを判定する。なお、上記の判定方法において、「2つ
の異なる画素信号Y1,Y2を、図4に示すような記録
光のエネルギーの大きさをx軸とし、画素信号の大きさ
をy軸したxy座標上に示す」とは、実際にこのような
座標軸を設けたり、画像として表示したりするわけでは
なく、実質的に上記内容のような演算処理を行なうこと
を意味する。もちろん、図4に示すような座標軸を画像
として表示させるようにしてもよい。
【0046】そして、判定手段50は、上記のようにし
て欠陥画素と判定された画素の位置情報を補正手段60
に出力し、補正手段60はこれを記憶する。
【0047】補正手段60は、実際に被写体を透過した
放射線画像情報の読取りの際、上記のようにして記憶さ
れた欠陥画素の位置情報に基づいて、欠陥画素の上記放
射線画像情報に応じた画素信号を、欠陥画素の近傍に位
置する正常画素の上記放射線画像情報に応じた画素信号
に基づいて算出して補正する。
【0048】上記放射線画像記録読取装置によれば、複
数の異なるエネルギーの記録光のそれぞれについて、放
射線固体検出器10への照射による欠陥画素検出用画像
情報の記録およびその欠陥画素検出用画像情報に対応し
た画素信号の読取りを行なうことにより、各画素毎に複
数の画素信号を取得し、画素毎に複数の画素信号に基づ
いて欠陥画素であるか否かを判定するようにしたので、
正常な画素信号を出力せず、その画素信号に対して補正
処理を施したとしても正常な画素信号に近い値にはする
ことができないような画素を適切に欠陥画素と判定する
ことができる。
【0049】また、所定画素における複数の画素信号の
大きさが全て略同一である場合、所定画素を欠陥画素と
するようにしたので、ほとんど画素信号を出力しないよ
うな欠陥画素や常に一定の値の画素信号しか出力しない
ような欠陥画素を適切に欠陥画素と判定することができ
る。
【0050】また、実際の放射線画像情報の読取りの際
には、欠陥画素の上記放射線画像情報に応じた画素信号
を、その欠陥画素の近傍に位置する正常画素の上記放射
線画像情報に応じた画素信号に基づいて補正するように
したので、欠陥画素についても適切な画素信号を得るこ
とができ、再生画像の画質の向上を図ることができる。
【0051】また、本実施形態では、2つの異なる記録
光のエネルギーに応じた2つの画素信号に基づいて欠陥
画素か否かの判定を行うようにしたが、3つ以上の異な
る記録光のエネルギーに応じた3つ以上の画素信号に基
づいて判定するようにしてもよい。この場合には、オフ
セット補正の施された複数の画素信号のうちの所定の2
点を結んだ直線が、少なくとも1つ原点を通らない場合
に、これらの画素信号に応じた画素を欠陥画素と判定す
るようにすればよい。
【0052】また、上記実施形態では、記録光の照射に
より電荷を発生し、この電荷を検出することにより放射
線画像情報の読み取りを行なう放射線固体検出器を用い
るようにしたが、記録光の照射により蛍光を発し、この
蛍光の検出することによって放射線画像情報の読み取り
を行なう放射線固体検出器を用いるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による欠陥画素判定方法を実施する欠陥
画素判定装置の一実施形態を用いた放射線画像記録読取
装置の概略構成図
【図2】図1に示す放射線画像記録読取装置にて用いら
れる放射線固体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ
断面図(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図3】上記放射線固体検出器に静電潜像を記録する方
法を説明する図
【図4】図1に示す放射線画像記録読取装置における欠
陥画素判定方法を説明する図
【符号の説明】
9 被写体 10 放射線固体検出器 11 第1の電極層 12 記録用光導電層 13 電荷輸送層 14 読取用光導電層 15 第2の電極層 16 ストライプ電極 19 蓄電部 20 記録光照射手段 30 読取光照射手段 40 電流検出回路 50 判定手段 60 補正手段 L1 記録光 L2 読取光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H013 AC04 4C093 AA16 CA36 EA07 EB13 EB17 FA32 FC18 FC19 FC30 FD13 5C024 AX16 CX22 CY01 CY40 CY44 HX14 5C072 AA01 CA11 VA01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画像情報を担持した記録用の電磁波の照
    射により前記画像情報が記録された固体検出器から前記
    画像情報に応じた画素毎の画素信号を読み取り、該読み
    取られた画素信号に基づいて欠陥画素を判定する欠陥画
    素判定方法において、 複数の異なるエネルギーの前記記録用の電磁波のそれぞ
    れについて、前記固体検出器への照射による欠陥画素検
    出用画像情報の記録および該欠陥画素検出用画像情報に
    対応した画素信号の読取りを行なうことにより、各画素
    毎に複数の画素信号を取得し、 各画素毎に前記複数の画素信号に基づいて欠陥画素であ
    るか否かを判定することを特徴とする欠陥画素判定方
    法。
  2. 【請求項2】 所定画素における前記複数の画素信号の
    うち少なくとも2つの画素信号の大きさが異なる場合に
    おいて、 前記複数の画素信号についてそれぞれオフセット補正を
    施し、 該オフセット補正の施された複数の画素信号を、前記記
    録用の電磁波のエネルギーの大きさをx軸とし、該エネ
    ルギーに応じた画素信号の大きさをy軸としたxy座標
    上に示した際、 前記オフセット補正の施された複数の画素信号のうちの
    所定の2点を結んだ直線が少なくとも1つ原点を通らな
    い場合に、前記所定画素を欠陥画素とすることを特徴と
    する請求項1記載の欠陥画素判定方法。
  3. 【請求項3】 画像情報を担持した記録用の電磁波の照
    射により前記画像情報が記録された固体検出器から読み
    取られた前記画像情報に応じた画素毎の画素信号に基づ
    いて欠陥画素を判定する判定手段を備えた欠陥画素判定
    装置において、 前記判定手段が、複数の異なるエネルギーの前記記録用
    の電磁波のそれぞれについて、前記固体検出器への照射
    による欠陥画素検出用画像情報の記録および該欠陥画素
    検出用画像情報に対応した画素信号の読取りを行うこと
    により、各画素毎に複数取得された画素信号を用いて、
    前記画素毎に前記複数の画素信号に基づいて欠陥画素で
    あるか否かを判定するものであることを特徴とする欠陥
    画素判定装置。
  4. 【請求項4】 前記判定手段が、 所定画素における前記複数の画素信号のうち少なくとも
    2つの画素信号の大きさが異なるか否かを判断し、 少なくとも2つの画素信号の大きさが異なる場合、 前記複数の画素信号についてそれぞれオフセット補正を
    施し、 該オフセット補正の施された複数の画素信号を、前記記
    録用の電磁波のエネルギーの大きさをx軸とし、該エネ
    ルギーに応じた画素信号の大きさをy軸としたxy座標
    上に示した際、 前記オフセット補正の施された複数の画素信号のうちの
    所定の2点を結んだ直線が少なくとも1つ原点を通らな
    い場合に、前記所定画素を欠陥画素とするものであるこ
    とを特徴とする請求項3記載の欠陥画素判定装置。
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