JP2003217818A5 - - Google Patents

Description

これにより、より正確に、加熱皿の温度を制御できる。

Claims (4)

1. 被加熱物を収容する加熱室と、
   高周波を発振するマグネトロンと、
   前記マグネトロンの発振する高周波を、前記加熱室内に導入する導波管と、
   前記被加熱物を載置して前記加熱室内に収納されるとともに、高周波を吸収して発熱する高周波発熱体を配置した加熱皿と、
   前記加熱皿の温度を検知する皿温度検知部と、
   前記加熱皿の温度を特定の温度まで上昇させるために、前記マグネトロンが高周波を発振する動作を制御する動作制御部とを含み、
   前記動作制御部は、前記マグネトロンが高周波を発振した際に前記加熱皿の温度が所定の温度だけ上昇するのに要する時間に基づいて、前記加熱皿の温度を前記特定の温度まで上昇させるためにマグネトロンに高周波を発振させる時間を決定する、高周波加熱装置。
2. 前記動作制御部は、所定の条件に従って前記マグネトロンの出力を変更し、かつ、前記加熱皿の温度が前記所定の温度だけ上昇するのに要する時間を計測している間は、当該所定の条件を緩和する、請求項１に記載の高周波加熱装置。
3. 前記動作制御部は、
   前記マグネトロンが高周波の発振を開始してから所定のタイミングにおける前記加熱皿の温度が一定の温度以下の場合には、前記決定された時間、前記マグネトロンに所定の出力で高周波を発振させ、
   前記マグネトロンが高周波の発振を開始してから所定のタイミングにおける前記加熱皿の温度が一定の温度を越える場合には、特定の時間だけ、前記マグネトロンを前記所定の出力よりも低い特定の出力で高周波を発振させる、請求項１または請求項２に記載の高周波加熱装置。
4. 前記特定の出力は、前記特定の温度に応じて決定される、請求項３に記載の高周波加熱装置。