JP2003215574A - 反射型液晶表示装置 - Google Patents
反射型液晶表示装置Info
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- JP2003215574A JP2003215574A JP2002015096A JP2002015096A JP2003215574A JP 2003215574 A JP2003215574 A JP 2003215574A JP 2002015096 A JP2002015096 A JP 2002015096A JP 2002015096 A JP2002015096 A JP 2002015096A JP 2003215574 A JP2003215574 A JP 2003215574A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射型液晶表示装置に関し、反射板からの反
射光に指向性を持たせながらも、ぎらつき感を無くす。 【解決手段】 基板１上に形成した所定の膜厚を有する
感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱
的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって感光性
樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、皺状凹凸形状６
上に光反射膜７を形成した反射板の感光性樹脂５の下に
方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線
状の凹凸パターン要素２，３を該同一の凹凸パターン要
素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置
するとともに、皺状凹凸形状６を前記凹凸パターン要素
２，３の配置に沿うように構成する。
射光に指向性を持たせながらも、ぎらつき感を無くす。 【解決手段】 基板１上に形成した所定の膜厚を有する
感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱
的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって感光性
樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、皺状凹凸形状６
上に光反射膜７を形成した反射板の感光性樹脂５の下に
方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線
状の凹凸パターン要素２，３を該同一の凹凸パターン要
素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置
するとともに、皺状凹凸形状６を前記凹凸パターン要素
２，３の配置に沿うように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示装置
に関するものであり、特に、反射型液晶表示装置におけ
る拡散反射板の表面に形成する皺状凹凸形状を方向性を
もって形成するための構成に特徴のある反射型液晶表示
装置に関するものである。
に関するものであり、特に、反射型液晶表示装置におけ
る拡散反射板の表面に形成する皺状凹凸形状を方向性を
もって形成するための構成に特徴のある反射型液晶表示
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の情報処理端末における画像
表示手段として、カラー液晶表示装置が用いられている
が、そのなかでも反射型液晶表示装置はバックライトを
使用しないため、薄型、軽量および低消費電力が可能で
あるという特長がある。
表示手段として、カラー液晶表示装置が用いられている
が、そのなかでも反射型液晶表示装置はバックライトを
使用しないため、薄型、軽量および低消費電力が可能で
あるという特長がある。
【０００３】この様な、反射型液晶表示装置は、大きく
分けて、光シャッター層、色付け層、及び、光反射層の
３層から構成されるが、周囲光を効率良く利用して明る
い表示を得ることが最も重要である。
分けて、光シャッター層、色付け層、及び、光反射層の
３層から構成されるが、周囲光を効率良く利用して明る
い表示を得ることが最も重要である。
【０００４】これらの３つの層の中でも、特に、光反射
層は光の利用効率だけでなく視角特性等にも大きな影響
を与えるので、光反射層の最適化が明るい反射型液晶表
示装置を実現する上で最も重要となり、近年、明るい光
反射層を得る検討がなされているので、ここで、図１１
及び図１２を参照して従来の反射型液晶表示装置を説明
する。
層は光の利用効率だけでなく視角特性等にも大きな影響
を与えるので、光反射層の最適化が明るい反射型液晶表
示装置を実現する上で最も重要となり、近年、明るい光
反射層を得る検討がなされているので、ここで、図１１
及び図１２を参照して従来の反射型液晶表示装置を説明
する。
【０００５】図１１参照
図１１は、従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図で
あり、ＴＦＴ３２を形成したＴＦＴ基板３１側に複数の
凹凸を面内に散りばめて構成した拡散反射板３３を設
け、このＴＦＴ基板３１と、カラーフィルタ３５を介し
て透明電極３６を設けた対向基板３４とを対向させ、両
者の間に液晶を注入して液晶層３７とすることによっ
て、反射型液晶表示装置の基本構造が構成されている
（必要ならば、特開平１１−２９５７５０号公報参
照）。
あり、ＴＦＴ３２を形成したＴＦＴ基板３１側に複数の
凹凸を面内に散りばめて構成した拡散反射板３３を設
け、このＴＦＴ基板３１と、カラーフィルタ３５を介し
て透明電極３６を設けた対向基板３４とを対向させ、両
者の間に液晶を注入して液晶層３７とすることによっ
て、反射型液晶表示装置の基本構造が構成されている
（必要ならば、特開平１１−２９５７５０号公報参
照）。
【０００６】次に、図１２を参照して、拡散反射板の製
造方法の一例（必要ならば、特開平９−２５８２１８号
公報参照）を説明する。 図１２（ａ）参照 まず、ガラス基板４１上にレジストを塗布してレジスト
層４２を形成したのち、フォトマスク４３を介して紫外
線４４を照射することによって、所定領域に対応する領
域を露光する。
造方法の一例（必要ならば、特開平９−２５８２１８号
公報参照）を説明する。 図１２（ａ）参照 まず、ガラス基板４１上にレジストを塗布してレジスト
層４２を形成したのち、フォトマスク４３を介して紫外
線４４を照射することによって、所定領域に対応する領
域を露光する。
【０００７】図１２（ｂ）参照
次いで、フォトマスク４３を除去したのち、レジスト層
４２を現像することによって、レジストパターン４５を
形成する。 図１２（ｃ）参照 次いで、レジストパターン４５をベーク処理して、レジ
ストをリフローすることよって凸状のレジストパターン
４６に変換する。
４２を現像することによって、レジストパターン４５を
形成する。 図１２（ｃ）参照 次いで、レジストパターン４５をベーク処理して、レジ
ストをリフローすることよって凸状のレジストパターン
４６に変換する。
【０００８】図１２（ｄ）参照
次いで、全面に金属膜を蒸着して、反射膜４７とするこ
とによって拡散反射体を形成していた。この様な拡散反
射板においては、凹凸の密度、径、振幅、形、傾斜角等
を制御することで光の利用効率を高めることができ、様
々な検討がなされている。
とによって拡散反射体を形成していた。この様な拡散反
射板においては、凹凸の密度、径、振幅、形、傾斜角等
を制御することで光の利用効率を高めることができ、様
々な検討がなされている。
【０００９】しかし、上述のフォトリソグラフィを用い
た方法ではプロセスが煩雑であり、露光量、現像時間、
ベーク温度等のプロセス条件により形状が変化すること
で反射特性が大きく変化し、製造プロセスのマージンが
非常に狭い問題があった。
た方法ではプロセスが煩雑であり、露光量、現像時間、
ベーク温度等のプロセス条件により形状が変化すること
で反射特性が大きく変化し、製造プロセスのマージンが
非常に狭い問題があった。
【００１０】そこで、本発明者等は、新しい拡散反射板
の製造方法を提案しているので（必要ならば、特願２０
０１−１０１７５５号参照）、図１３を参照して説明す
る。 図１３（ａ）参照 まず、ＴＦＴ基板５１上に感光性樹脂層５２を形成した
のち、紫外線５３を照射し、感光性樹脂層５２の厚さ方
向または面内方向に収縮率等の熱的変形特性の分布を持
たせる。
の製造方法を提案しているので（必要ならば、特願２０
０１−１０１７５５号参照）、図１３を参照して説明す
る。 図１３（ａ）参照 まず、ＴＦＴ基板５１上に感光性樹脂層５２を形成した
のち、紫外線５３を照射し、感光性樹脂層５２の厚さ方
向または面内方向に収縮率等の熱的変形特性の分布を持
たせる。
【００１１】図１３（ｂ）参照
次いで、熱処理を施すことによって感光性樹脂層５２の
表面に皺状凹凸形状５４を形成する。 図１３（ｃ）参照 次いで、全面に金属層を蒸着することによって、皺状凹
凸形状５４の上に反射膜５５を形成するものである。
表面に皺状凹凸形状５４を形成する。 図１３（ｃ）参照 次いで、全面に金属層を蒸着することによって、皺状凹
凸形状５４の上に反射膜５５を形成するものである。
【００１２】この本発明者等が提案した方法によれば、
マスクパターンによる露光や現像といったフォトリソグ
ラフィの工程を必要としないため、プロセスが大幅に簡
略化されるため、安定かつ高い反射率を実現できる反射
電極を形成することが可能になった。
マスクパターンによる露光や現像といったフォトリソグ
ラフィの工程を必要としないため、プロセスが大幅に簡
略化されるため、安定かつ高い反射率を実現できる反射
電極を形成することが可能になった。
【００１３】しかし、この方式で発生する皺状凹凸形状
５４はランダムな方向に発生するので、これを制御する
ために感光性樹脂層５２の下にパターンを形成する方法
も合わせて提案している。
５４はランダムな方向に発生するので、これを制御する
ために感光性樹脂層５２の下にパターンを形成する方法
も合わせて提案している。
【００１４】図１４（ａ）乃至（ｅ）参照
図１４（ａ）乃至（ｅ）は、皺状凹凸形状５４の方向性
を制御するために感光性樹脂層５２の下に形成した凹凸
パターンの形状を示す平面図であり、各凹凸パターンは
ＴＦＴ形成時のバスライン等の成膜・パターニング工程
を利用して形成するものであり、これにより特定の皺状
凹凸形状５４を形成することが可能となり、反射光に指
向性を持たせることができた。
を制御するために感光性樹脂層５２の下に形成した凹凸
パターンの形状を示す平面図であり、各凹凸パターンは
ＴＦＴ形成時のバスライン等の成膜・パターニング工程
を利用して形成するものであり、これにより特定の皺状
凹凸形状５４を形成することが可能となり、反射光に指
向性を持たせることができた。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、指向性を持た
せた反射板を用いた反射型液晶表示装置はギラツキが激
しく、紙と比較して非常に表示が見づらいという問題が
ある。
せた反射板を用いた反射型液晶表示装置はギラツキが激
しく、紙と比較して非常に表示が見づらいという問題が
ある。
【００１６】したがって、本発明は、反射板からの反射
光に指向性を持たせながらも、ギラツキ感を無くすこと
を目的とする。
光に指向性を持たせながらも、ギラツキ感を無くすこと
を目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理的構
成の説明図であり、この図１を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明するが、図１（ａ）は
凹凸パターンを示す平面図であり、また、図１（ｂ）は
断面図である。 図１（ａ）及び（ｂ）参照 上記の課題を解決するために、本発明は、基板１上に形
成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚
さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた
後、熱処理によって感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６
を形成し、皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこ
れを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、
感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が
異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同
一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返
されないように配置されるとともに、皺状凹凸形状６が
前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴と
する。
成の説明図であり、この図１を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明するが、図１（ａ）は
凹凸パターンを示す平面図であり、また、図１（ｂ）は
断面図である。 図１（ａ）及び（ｂ）参照 上記の課題を解決するために、本発明は、基板１上に形
成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚
さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた
後、熱処理によって感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６
を形成し、皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこ
れを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、
感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が
異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同
一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返
されないように配置されるとともに、皺状凹凸形状６が
前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴と
する。
【００１８】この様にマクロでみれば規則的ではある
が、ミクロには不規則なパターンからなる凹凸パターン
を基板１上に設けることによって、感光性樹脂５層の熱
収縮に伴って表面に形成される皺状凹凸形状６を凹凸パ
ターンに沿うように形成することができ、それによっ
て、反射光に指向性を持たせることができるとともに、
ギラツキ感を低減することができる。なお、この場合、
皺状凹凸形状６は凹凸パターン要素２，３の配置に厳密
に沿っている必要はなく、反射光に指向性を持たせるこ
とができるとともに、ギラツキ感を低減する効果が得ら
れる限りは多少ずれていても問題はない。
が、ミクロには不規則なパターンからなる凹凸パターン
を基板１上に設けることによって、感光性樹脂５層の熱
収縮に伴って表面に形成される皺状凹凸形状６を凹凸パ
ターンに沿うように形成することができ、それによっ
て、反射光に指向性を持たせることができるとともに、
ギラツキ感を低減することができる。なお、この場合、
皺状凹凸形状６は凹凸パターン要素２，３の配置に厳密
に沿っている必要はなく、反射光に指向性を持たせるこ
とができるとともに、ギラツキ感を低減する効果が得ら
れる限りは多少ずれていても問題はない。
【００１９】また、この場合、２つ以上の線状の凹凸パ
ターン要素２，３が組み合わされて繰り返しパターン要
素２，３を構成し、前記繰り返しパターン要素２，３を
繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成するこ
とが望ましく、それによって、凹凸パターンの設計工程
が簡素化される。
ターン要素２，３が組み合わされて繰り返しパターン要
素２，３を構成し、前記繰り返しパターン要素２，３を
繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成するこ
とが望ましく、それによって、凹凸パターンの設計工程
が簡素化される。
【００２０】また、この場合の皺状凹凸形状６の平均傾
斜角の標準偏差を、反射板の面内で２°以下にすること
が望ましく、それによって、ギラツキ感を確実に低減す
ることができる。
斜角の標準偏差を、反射板の面内で２°以下にすること
が望ましく、それによって、ギラツキ感を確実に低減す
ることができる。
【００２１】また、この様な凹凸パターンをＴＦＴ等の
アクティブ素子を設けたアクティブマトリクス型液晶表
示装置に形成する場合には、補助容量配線ＣS 等のアク
ティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成
することが望ましく、それによって、凹凸パターン要素
２，３の製造工程と電極パターンの形成工程を兼ねるこ
とができるので、製造工程が簡素化される。
アクティブ素子を設けたアクティブマトリクス型液晶表
示装置に形成する場合には、補助容量配線ＣS 等のアク
ティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成
することが望ましく、それによって、凹凸パターン要素
２，３の製造工程と電極パターンの形成工程を兼ねるこ
とができるので、製造工程が簡素化される。
【００２２】また、この様な凹凸パターンをカラー液晶
表示装置に形成する場合には、波長が長くなるほど液晶
層の屈折率が小さくなるため、ＲＧＢ毎に異なった凹凸
パターンとすることが望ましく、特に、基本パターン４
における凹凸パターン要素２，３の配列方向に沿った傾
斜を、長波長画素において短波長画素より大きくするこ
とが望ましく、それによって、反射光の角度特性を各画
素において均一化することができる。
表示装置に形成する場合には、波長が長くなるほど液晶
層の屈折率が小さくなるため、ＲＧＢ毎に異なった凹凸
パターンとすることが望ましく、特に、基本パターン４
における凹凸パターン要素２，３の配列方向に沿った傾
斜を、長波長画素において短波長画素より大きくするこ
とが望ましく、それによって、反射光の角度特性を各画
素において均一化することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】ここで、図２乃至図７を参照し
て、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置を
説明する。 図２（ａ）参照 図２（ａ）は、凹凸パターンを示す概略的平面図であ
り、透明ガラスからなる基板１１上に、厚さが、例え
ば、１００ｎｍのＩＴＯからなる互いに異なった方位を
有する４つの凹凸パターン要素１２〜１５を配置して繰
り返しパターン１６を形成し、この繰り返しパターン１
６を図において右側方向に繰り返すことによって全体の
凹凸パターンを形成する。
て、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置を
説明する。 図２（ａ）参照 図２（ａ）は、凹凸パターンを示す概略的平面図であ
り、透明ガラスからなる基板１１上に、厚さが、例え
ば、１００ｎｍのＩＴＯからなる互いに異なった方位を
有する４つの凹凸パターン要素１２〜１５を配置して繰
り返しパターン１６を形成し、この繰り返しパターン１
６を図において右側方向に繰り返すことによって全体の
凹凸パターンを形成する。
【００２４】なお、各凹凸パターン要素１２〜１５の一
例を挙げると、長さａ，ｂは、例えば、ａ＝ｂ＝１０μ
ｍ、幅ｅはｅ＝３μｍ、また、凹凸パターン要素１２，
１４の傾斜角ｃは、ｃ＝１５°、また、凹凸パターン要
素１３，１５の傾斜角ｄは、ｄ＝４５°である。
例を挙げると、長さａ，ｂは、例えば、ａ＝ｂ＝１０μ
ｍ、幅ｅはｅ＝３μｍ、また、凹凸パターン要素１２，
１４の傾斜角ｃは、ｃ＝１５°、また、凹凸パターン要
素１３，１５の傾斜角ｄは、ｄ＝４５°である。
【００２５】次いで、図示は省略するものの、上記の図
１２と同様の工程によって、まず、レジストＡＦＰ−７
５０（クラリアント・ジャパン社製商品名）を、厚さ
が、例えば、２μｍになるように塗布したのち、９０℃
で２０分間のプリベークを行い、レジスト層内の溶媒を
除去する。
１２と同様の工程によって、まず、レジストＡＦＰ−７
５０（クラリアント・ジャパン社製商品名）を、厚さ
が、例えば、２μｍになるように塗布したのち、９０℃
で２０分間のプリベークを行い、レジスト層内の溶媒を
除去する。
【００２６】次いで、全面に紫外線を２６００ｍＪ／ｃ
ｍ2 照射して、レジスト層に熱的変形特性の分布を持た
せた後、２００℃で６０分間のベークを行ってレジスト
層の表面に皺状凹凸形状を発生させ、次いで、全面に厚
さが、例えば、２００ｎｍのＡｌ膜を蒸着して反射膜を
形成することによって、本発明の第１の実施の形態の拡
散反射板が完成する。
ｍ2 照射して、レジスト層に熱的変形特性の分布を持た
せた後、２００℃で６０分間のベークを行ってレジスト
層の表面に皺状凹凸形状を発生させ、次いで、全面に厚
さが、例えば、２００ｎｍのＡｌ膜を蒸着して反射膜を
形成することによって、本発明の第１の実施の形態の拡
散反射板が完成する。
【００２７】図２（ｂ）参照
図２（ｂ）は、上記の本発明の第１の実施の形態の拡散
反射板（サンプル１）の表面の反射膜の顕微鏡像を模写
したものであり、滑らかな曲線状パターンからなる規則
正しい表面パターンが見られ、特段のギラツキは見られ
なかった。
反射板（サンプル１）の表面の反射膜の顕微鏡像を模写
したものであり、滑らかな曲線状パターンからなる規則
正しい表面パターンが見られ、特段のギラツキは見られ
なかった。
【００２８】次に、図３を参照して、より規則的なパタ
ーンを配置したサンプル２と、ＩＴＯをパターニングし
ないサンプル３からなる比較例を説明するが、パターン
が異なるだけで製造工程自体は第１の実施の形態と全く
同様である。 図３（ａ）参照 図３（ａ）は、図２（ａ）に示した各凹凸パターン要素
１２〜１５を規則正しく配列した繰り返しパターン１７
からなるものであり、各凹凸パターン要素１２〜１５自
体の構成ａ〜ｅは上記の第１の実施の形態と全く同様で
ある。
ーンを配置したサンプル２と、ＩＴＯをパターニングし
ないサンプル３からなる比較例を説明するが、パターン
が異なるだけで製造工程自体は第１の実施の形態と全く
同様である。 図３（ａ）参照 図３（ａ）は、図２（ａ）に示した各凹凸パターン要素
１２〜１５を規則正しく配列した繰り返しパターン１７
からなるものであり、各凹凸パターン要素１２〜１５自
体の構成ａ〜ｅは上記の第１の実施の形態と全く同様で
ある。
【００２９】図３（ｂ）参照
図３（ｂ）は、図３（ａ）のサンプル２の拡散反射板の
表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場
合、方位が異なる直線パターン領域からなる規則正しい
表面パターンが見られ、かなりのギラツキが感じられ
た。
表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場
合、方位が異なる直線パターン領域からなる規則正しい
表面パターンが見られ、かなりのギラツキが感じられ
た。
【００３０】図３（ｃ）参照
図３（ｃ）は、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３
の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したもの
であり、この場合にはレジスト層表面のランダムな皺状
凹凸形状に対応してランダムなパターンが見られ、特段
のギラツキは見られなかった。
の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したもの
であり、この場合にはレジスト層表面のランダムな皺状
凹凸形状に対応してランダムなパターンが見られ、特段
のギラツキは見られなかった。
【００３１】この様に、本発明の第１の実施の形態にお
いては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他
の凹凸パターン要素を配置させることで曲線状のパター
ンが得られることがわかった。
いては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他
の凹凸パターン要素を配置させることで曲線状のパター
ンが得られることがわかった。
【００３２】図４（ａ）参照
図４（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の拡散反射板
の反射率の方位角依存性を示す図であり、上述のサンプ
ル２及びサンプル３の反射率の方位角依存性も合わせて
示してある。
の反射率の方位角依存性を示す図であり、上述のサンプ
ル２及びサンプル３の反射率の方位角依存性も合わせて
示してある。
【００３３】本発明の第１の実施の形態においては、方
位４５°〜１３５°の範囲内に反射光が集光し、しか
も、ほぼ均一の明るさが実現されていることが理解され
る。一方、サンプル２の場合には、方位４５°、７５
°、１０５°、及び、１３５°に鋭いピークが見られ
る。また、サンプル３の場合には、方位に依存しない反
射特性が得られている。
位４５°〜１３５°の範囲内に反射光が集光し、しか
も、ほぼ均一の明るさが実現されていることが理解され
る。一方、サンプル２の場合には、方位４５°、７５
°、１０５°、及び、１３５°に鋭いピークが見られ
る。また、サンプル３の場合には、方位に依存しない反
射特性が得られている。
【００３４】図４（ｂ）参照
図４（ｂ）は、上記の反射率の測定方法を示す図であ
り、作製した各サンプルの反射膜に対向するように、厚
さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯを形成した０．７ｍ
ｍ厚のガラス基板を対向させ、両者の間にイマージョン
オイル（屈折率１．５２）を注入した状態で、各方位角
φについて、入射角３０°の平行光を入射させて、０°
方向に設けたディテクタで反射光の強度を測定した。
り、作製した各サンプルの反射膜に対向するように、厚
さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯを形成した０．７ｍ
ｍ厚のガラス基板を対向させ、両者の間にイマージョン
オイル（屈折率１．５２）を注入した状態で、各方位角
φについて、入射角３０°の平行光を入射させて、０°
方向に設けたディテクタで反射光の強度を測定した。
【００３５】次に、図４（ａ）における反射特性の原因
を調べるために反射膜の表面形状を測定したので、図５
を参照して説明する。 図５（ａ）参照 図５（ａ）は、各サンプルにおけるＭＲＳ粗さの方位角
依存性を示す図であり、本発明の第１の実施の形態にお
いては、方位４５〜１３５°の範囲で、約９°の高い傾
斜が得られていることがわかった。
を調べるために反射膜の表面形状を測定したので、図５
を参照して説明する。 図５（ａ）参照 図５（ａ）は、各サンプルにおけるＭＲＳ粗さの方位角
依存性を示す図であり、本発明の第１の実施の形態にお
いては、方位４５〜１３５°の範囲で、約９°の高い傾
斜が得られていることがわかった。
【００３６】それに対し、サンプル２においては、鋭い
ピークの反射光が得られた方位のみに大きな傾斜が存在
するのがわかる。一方、ＩＴＯをパターニングしないサ
ンプル３においては、全ての方位においてほぼ８°の高
い傾斜が見られた。
ピークの反射光が得られた方位のみに大きな傾斜が存在
するのがわかる。一方、ＩＴＯをパターニングしないサ
ンプル３においては、全ての方位においてほぼ８°の高
い傾斜が見られた。
【００３７】したがって、本発明の第１の実施の形態の
様に、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の
凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位
依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな
傾斜を持たせることができた。
様に、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の
凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位
依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな
傾斜を持たせることができた。
【００３８】図５（ｂ）及び（ｃ）参照
図５（ｂ）及び（ｃ）は、上述のＲＭＳ粗さの測定方法
の説明図であり、図５（ｂ）に示す測定しようとする方
位φについて、表面を段差計等で測定すると図５（ｃ）
に示すような曲線が得られる。この曲線における測定点
Ａ（ｘa ，ｙa ，ｚa ）とその隣の測定点Ｂ（ｘb ，ｙ
b ，ｚb ）とを結ぶ直線の傾斜角θABを、複数（ｎ箇
所）の測定箇所について求め、これらの２乗平均をＲＭ
Ｓ粗さを定義した。即ち、 ＲＭＳ粗さ＝｛（１／ｎ）×ΣθAB 2 ｝1/2 となる。
の説明図であり、図５（ｂ）に示す測定しようとする方
位φについて、表面を段差計等で測定すると図５（ｃ）
に示すような曲線が得られる。この曲線における測定点
Ａ（ｘa ，ｙa ，ｚa ）とその隣の測定点Ｂ（ｘb ，ｙ
b ，ｚb ）とを結ぶ直線の傾斜角θABを、複数（ｎ箇
所）の測定箇所について求め、これらの２乗平均をＲＭ
Ｓ粗さを定義した。即ち、 ＲＭＳ粗さ＝｛（１／ｎ）×ΣθAB 2 ｝1/2 となる。
【００３９】次に、問題となるギラツキの原因を調べた
ので図６を参照して説明する。なお、ギラツキ度は、心
理物理量として、白紙と鏡とを参照して、 5 ：金属的な強いぎらつきを感じる 4 ：強いぎらつき有り 3 ：少しぎらつき有り（白っぽい） 2 ：わずかにぎらつき有り（白く感じる） 1 ：ぎらつき感無し（白い） の５段階評価を行った。
ので図６を参照して説明する。なお、ギラツキ度は、心
理物理量として、白紙と鏡とを参照して、 5 ：金属的な強いぎらつきを感じる 4 ：強いぎらつき有り 3 ：少しぎらつき有り（白っぽい） 2 ：わずかにぎらつき有り（白く感じる） 1 ：ぎらつき感無し（白い） の５段階評価を行った。
【００４０】この様なギラツキ度を上記の各サンプルに
ついて測定してみると、本発明の第１の実施の形態の場
合にはギラツキ度２、サンプル２の場合はギラツキ度
５、サンプル３についてはギラツキ度１であった。
ついて測定してみると、本発明の第１の実施の形態の場
合にはギラツキ度２、サンプル２の場合はギラツキ度
５、サンプル３についてはギラツキ度１であった。
【００４１】図６（ａ）参照
図６（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の場合にギラ
ツキ度が低い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様
に、第１の実施の形態においては反射光の方位依存が小
さいことから、いずれの反射光もほぼ同じ明るさを持つ
ため、ギラツキ度が小さいと考えられる。
ツキ度が低い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様
に、第１の実施の形態においては反射光の方位依存が小
さいことから、いずれの反射光もほぼ同じ明るさを持つ
ため、ギラツキ度が小さいと考えられる。
【００４２】図６（ｂ）参照
図６（ｂ）は、サンプル２においてギラツキ度が高い理
由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、サンプル２
では反射光の方位依存が激しいために、特定の条件を満
たす反射光は非常に明るいがその条件を満たさない反射
光は非常に明るさが乏しく、場所により反射光の明暗が
激しくなり、ギラツキ度が大きくなると考えられる。
由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、サンプル２
では反射光の方位依存が激しいために、特定の条件を満
たす反射光は非常に明るいがその条件を満たさない反射
光は非常に明るさが乏しく、場所により反射光の明暗が
激しくなり、ギラツキ度が大きくなると考えられる。
【００４３】そこで、各種の凹凸パターンを用いて反射
膜を作製し、表面のＲＭＳ粗さを測定して反射膜内のＲ
ＭＳ粗さのばらつき（標準偏差）を調べたので、図７を
参照して説明する。 図７参照 図７は、ギラツキ度とＲＭＳ粗さの標準偏差の相関関係
を示す図であり、ＲＭＳ粗さの標準偏差が大きいほどギ
ラツキ度が大きくなることがわかり、標準偏差を２°以
下に抑えると、ぎらつき度が３以下になり、ほとんどぎ
らつきを感じないことがわかる。
膜を作製し、表面のＲＭＳ粗さを測定して反射膜内のＲ
ＭＳ粗さのばらつき（標準偏差）を調べたので、図７を
参照して説明する。 図７参照 図７は、ギラツキ度とＲＭＳ粗さの標準偏差の相関関係
を示す図であり、ＲＭＳ粗さの標準偏差が大きいほどギ
ラツキ度が大きくなることがわかり、標準偏差を２°以
下に抑えると、ぎらつき度が３以下になり、ほとんどぎ
らつきを感じないことがわかる。
【００４４】以上、説明したように、本発明の第１の実
施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方
位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲ
ＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範
囲にだけ大きな傾斜を持たせることができるので、ギラ
ツキを生じることなく、反射光を有効に利用することが
できる。
施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方
位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲ
ＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範
囲にだけ大きな傾斜を持たせることができるので、ギラ
ツキを生じることなく、反射光を有効に利用することが
できる。
【００４５】次に、図８を参照して、本発明の第１の実
施の形態の反射型液晶表示装置の拡散反射板を形成する
ための凹凸パターンの変形例を説明する。 図８（ａ）乃至（ｅ）参照 図８（ａ）乃至（ｅ）は、本発明の第１の実施の形態の
凹凸パターンの変形例を示す平面図であり、反射光に指
向性を持たせるとともに、ギラツキ感を生じさせないパ
ターンの例であり、パターンは直線に限らず、曲線、ジ
グザグ等が可能である。いずれの場合にも、マクロで見
ると規則性を有するものの、ミクロに見た場合には、程
度の問題はあるものの規則性を有さないパターンであ
る。
施の形態の反射型液晶表示装置の拡散反射板を形成する
ための凹凸パターンの変形例を説明する。 図８（ａ）乃至（ｅ）参照 図８（ａ）乃至（ｅ）は、本発明の第１の実施の形態の
凹凸パターンの変形例を示す平面図であり、反射光に指
向性を持たせるとともに、ギラツキ感を生じさせないパ
ターンの例であり、パターンは直線に限らず、曲線、ジ
グザグ等が可能である。いずれの場合にも、マクロで見
ると規則性を有するものの、ミクロに見た場合には、程
度の問題はあるものの規則性を有さないパターンであ
る。
【００４６】次に、図９を参照して、実際の素子配置と
凹凸パターンの配置を示した本発明の第２の実施の形態
を説明する。 図９参照 図９は、本発明の第２の実施の形態のアクティブマトリ
クス型の反射型液晶表示装置の要部平面図であり、アク
ティブ素子としてのＴＦＴ２１、ＴＦＴ２１に接続する
ゲートバスライン２２、データバスライン２３、及び、
画素電極２４からなる画素において、補助容量電極２５
を形成する際に、補助容量電極２５を形成するために堆
積させた導電膜をパターニングする際に、方位が互いに
異なる４つの凹凸パターン要素２６〜２９からなる凹凸
パターンを同時に形成したものである。
凹凸パターンの配置を示した本発明の第２の実施の形態
を説明する。 図９参照 図９は、本発明の第２の実施の形態のアクティブマトリ
クス型の反射型液晶表示装置の要部平面図であり、アク
ティブ素子としてのＴＦＴ２１、ＴＦＴ２１に接続する
ゲートバスライン２２、データバスライン２３、及び、
画素電極２４からなる画素において、補助容量電極２５
を形成する際に、補助容量電極２５を形成するために堆
積させた導電膜をパターニングする際に、方位が互いに
異なる４つの凹凸パターン要素２６〜２９からなる凹凸
パターンを同時に形成したものである。
【００４７】この本発明の第２の実施の形態において
は、補助容量電極２５と凹凸パターン要素２６〜２９と
を同じ工程で形成しているので、プロセス数を増加させ
ずに凹凸パターンを形成でき、それによって、所望の皺
状凹凸形状を得ることが可能になる。
は、補助容量電極２５と凹凸パターン要素２６〜２９と
を同じ工程で形成しているので、プロセス数を増加させ
ずに凹凸パターンを形成でき、それによって、所望の皺
状凹凸形状を得ることが可能になる。
【００４８】次に、図１０を参照して、カラー反射型液
晶表示装置に関する本発明の第３の実施の形態を説明す
る。 図１０（ａ）乃至（ｃ）参照 図１０（ａ）乃至（ｃ）は、それぞれ本発明の第３の実
施の形態の反射型液晶表示装置のＲ画素、Ｇ画素、及
び、Ｂ画素に対応する凹凸パターンの説明図であり、図
１０（ａ）に示すＲ画素における凹凸パターン要素の配
列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜が、図１
０（ｃ）に示すＢ画素における凹凸パターン要素の配列
方向（図においては垂直方向）に対する傾斜より大きく
なっており、図１０（ｂ）に示すＧ画素においてはその
中間である。
晶表示装置に関する本発明の第３の実施の形態を説明す
る。 図１０（ａ）乃至（ｃ）参照 図１０（ａ）乃至（ｃ）は、それぞれ本発明の第３の実
施の形態の反射型液晶表示装置のＲ画素、Ｇ画素、及
び、Ｂ画素に対応する凹凸パターンの説明図であり、図
１０（ａ）に示すＲ画素における凹凸パターン要素の配
列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜が、図１
０（ｃ）に示すＢ画素における凹凸パターン要素の配列
方向（図においては垂直方向）に対する傾斜より大きく
なっており、図１０（ｂ）に示すＧ画素においてはその
中間である。
【００４９】これは、波長が長くなるほど液晶層の屈折
率が小さくなるため、反射板で反射された光が空気層に
出る際に、スネルの法則によってＲ、Ｇ、Ｂの順番で射
出角が小さくなって、反射光の角度特性が不均一になる
が、凹凸パターンを上記の様にＲＧＢ毎に変えることに
よって反射光の角度特性の波長依存性を補償することが
でき、それによって、全ての画素について反射光の角度
特性を均一化することができる。
率が小さくなるため、反射板で反射された光が空気層に
出る際に、スネルの法則によってＲ、Ｇ、Ｂの順番で射
出角が小さくなって、反射光の角度特性が不均一になる
が、凹凸パターンを上記の様にＲＧＢ毎に変えることに
よって反射光の角度特性の波長依存性を補償することが
でき、それによって、全ての画素について反射光の角度
特性を均一化することができる。
【００５０】以上、本発明の実施の形態を説明してきた
が、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるもの
ではなく、各種の変更が可能である。例えば、上記第２
の実施の形態の説明においては、凹凸パターン要素を補
助容量電極の形成工程を利用して形成しているが、ゲー
トバスライン或いはデータバスライン等の他の配線層の
形成工程を利用して形成しても良いものである。
が、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるもの
ではなく、各種の変更が可能である。例えば、上記第２
の実施の形態の説明においては、凹凸パターン要素を補
助容量電極の形成工程を利用して形成しているが、ゲー
トバスライン或いはデータバスライン等の他の配線層の
形成工程を利用して形成しても良いものである。
【００５１】また、上記の各実施の形態及び変形例に示
した凹凸パターンは一例であり、示した凹凸パターンに
限られるものではなく、マクロで見た場合に規則性があ
り、それによって、反射光の指向性がえられ、ミクロで
みた場合には不規則であり、それによって、ギラツキ度
を発生させないパターンであれば良い。
した凹凸パターンは一例であり、示した凹凸パターンに
限られるものではなく、マクロで見た場合に規則性があ
り、それによって、反射光の指向性がえられ、ミクロで
みた場合には不規則であり、それによって、ギラツキ度
を発生させないパターンであれば良い。
【００５２】例えば、図８に示した各パターニングにお
いては、各凹凸パターン要素は、配列方向に沿って同じ
凹凸パターン要素が連続していないが、２つ程度は連続
しても良いものである。
いては、各凹凸パターン要素は、配列方向に沿って同じ
凹凸パターン要素が連続していないが、２つ程度は連続
しても良いものである。
【００５３】また、上記の各実施の形態においては、各
凹凸パターン要素は同じ形状の基本パターン要素の方位
を変えたものとして形成しているが、基本パターン要素
の形状が互いに異なるようにしても良いものであり、さ
らには、形状と方位の両方が異なる複数の凹凸パターン
要素を組み合わせて凹凸パターンを形成しても良いもの
である。
凹凸パターン要素は同じ形状の基本パターン要素の方位
を変えたものとして形成しているが、基本パターン要素
の形状が互いに異なるようにしても良いものであり、さ
らには、形状と方位の両方が異なる複数の凹凸パターン
要素を組み合わせて凹凸パターンを形成しても良いもの
である。
【００５４】ここで、再び、図１を参照して、改めて本
発明の詳細な特徴を説明する。 図１（ａ）及び（ｂ）参照 （付記１） 基板１上に形成した所定の膜厚を有する感
光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的
変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光
性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、前記皺状凹凸
形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用
いた反射型液晶表示装置において、前記感光性樹脂５の
下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上
の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パター
ン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように
配置されるとともに、前記皺状凹凸形状６が前記凹凸パ
ターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする反射型
液晶表示装置。 （付記２） 上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素
２，３が組み合わされて繰り返し基本パターン４を構成
し、前記繰り返し基本パターン４を繰り返すことによっ
て上記基板１上に凹凸パターンを形成したことを特徴と
する付記１記載の反射型液晶表示装置。 （付記３） 上記皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏
差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴と
する付記１または２に記載の反射型液晶表示装置。 （付記４） 上記基板１が、アクティブ素子を形成した
基板１であり、且つ、上記凹凸パターン要素２，３が前
記アクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によっ
て形成されていることを特徴とする付記１乃至３のいず
れか１に記載の反射型液晶表示装置。 （付記５） 上記アクティブ素子が薄膜トランジスタで
あり、且つ、上記電極材料が補助容量電極を形成する電
極材料であることを特徴とする付記４記載の反射型液晶
表示装置。 （付記６） 上記凹凸パターン要素２，３によって構成
される凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青
色画素毎に互いに異なっていることを特徴とする付記１
乃至５のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。 （付記７） 上記凹凸パターンが複数の凹凸パターン要
素２，３を一方向に配列した基本パターンの繰り返しか
らなるとともに、各基本パターンにおける凹凸パターン
要素２，３の配列方向に対する傾斜が、長波長画素にお
いて短波長画素より大きくなっていることを特徴とする
付記６記載の反射型液晶表示装置。
発明の詳細な特徴を説明する。 図１（ａ）及び（ｂ）参照 （付記１） 基板１上に形成した所定の膜厚を有する感
光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的
変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光
性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、前記皺状凹凸
形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用
いた反射型液晶表示装置において、前記感光性樹脂５の
下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上
の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パター
ン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように
配置されるとともに、前記皺状凹凸形状６が前記凹凸パ
ターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする反射型
液晶表示装置。 （付記２） 上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素
２，３が組み合わされて繰り返し基本パターン４を構成
し、前記繰り返し基本パターン４を繰り返すことによっ
て上記基板１上に凹凸パターンを形成したことを特徴と
する付記１記載の反射型液晶表示装置。 （付記３） 上記皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏
差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴と
する付記１または２に記載の反射型液晶表示装置。 （付記４） 上記基板１が、アクティブ素子を形成した
基板１であり、且つ、上記凹凸パターン要素２，３が前
記アクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によっ
て形成されていることを特徴とする付記１乃至３のいず
れか１に記載の反射型液晶表示装置。 （付記５） 上記アクティブ素子が薄膜トランジスタで
あり、且つ、上記電極材料が補助容量電極を形成する電
極材料であることを特徴とする付記４記載の反射型液晶
表示装置。 （付記６） 上記凹凸パターン要素２，３によって構成
される凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青
色画素毎に互いに異なっていることを特徴とする付記１
乃至５のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。 （付記７） 上記凹凸パターンが複数の凹凸パターン要
素２，３を一方向に配列した基本パターンの繰り返しか
らなるとともに、各基本パターンにおける凹凸パターン
要素２，３の配列方向に対する傾斜が、長波長画素にお
いて短波長画素より大きくなっていることを特徴とする
付記６記載の反射型液晶表示装置。
【００５５】
【発明の効果】本発明によれば、感光性樹脂を熱収縮さ
せて表面に皺状凹凸形状を形成する際に、下地にマクロ
で見た場合に規則性があり、且つ、ミクロでみた場合に
は不規則な凹凸パターンを形成しているので、反射光に
指向性を与えるとともに、特定の方向への鋭い反射によ
るギラツキ感を低減することができ、それによって、高
輝度に表示品質に優れた反射型液晶表示装置の実現に寄
与することろが大きい。
せて表面に皺状凹凸形状を形成する際に、下地にマクロ
で見た場合に規則性があり、且つ、ミクロでみた場合に
は不規則な凹凸パターンを形成しているので、反射光に
指向性を与えるとともに、特定の方向への鋭い反射によ
るギラツキ感を低減することができ、それによって、高
輝度に表示品質に優れた反射型液晶表示装置の実現に寄
与することろが大きい。
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の説明図である。
【図３】比較例の説明図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態の反射板の反射特性
の説明図である。
の説明図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の反射板のＲＭＳ粗
さの説明図である。
さの説明図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の反射板の低ギラツ
キ度の原因の説明図である。
キ度の原因の説明図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態の反射板のギラツキ
度のＲＭＳ粗さ依存性の説明図である。
度のＲＭＳ粗さ依存性の説明図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態の凹凸パターンの変
形例の説明図である。
形例の説明図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の反射型液晶表示装
置の説明図である。
置の説明図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態の反射型液晶表示
装置の説明図である。
装置の説明図である。
【図１１】従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図で
ある。
ある。
【図１２】従来の拡散反射板の製造工程の説明図であ
る。
る。
【図１３】従来の他の拡散反射板の製造工程の説明図で
ある。
ある。
【図１４】従来の凹凸パターンの説明図である。
１ 基板
２ 凹凸パターン要素
３ 凹凸パターン要素
４ 繰り返し基本パターン
５ 感光性樹脂
６ 皺状凹凸形状
７ 反射膜
１１ 基板
１２ 凹凸パターン要素
１３ 凹凸パターン要素
１４ 凹凸パターン要素
１５ 凹凸パターン要素
１６ 繰り返しパターン
１７ 繰り返しパターン
２１ ＴＦＴ
２２ ゲートバスライン
２３ データバスライン
２４ 画素電極
２５ 補助容量電極
２６ 凹凸パターン要素
２７ 凹凸パターン要素
３１ ＴＦＴ基板
３２ ＴＦＴ
３３ 拡散反射板
３４ 対向基板
３５ カラーフィルタ
３６ 透明電極
３７ 液晶層
４１ ガラス基板
４２ レジスト層
４３ フォトマスク
４４ 紫外線
４５ レジストパターン
４６ レジストパターン
４７ 反射膜
５１ ＴＦＴ基板
５２ 感光性樹脂層
５３ 紫外線
５４ 皺状凹凸形状
５５ 反射膜
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０２Ｆ 1/1368 Ｇ０２Ｆ 1/1368
Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８
9/30 ３３８ 9/30 ３３８
３４９ ３４９Ｄ
9/35 9/35
(72)発明者 大室 克文
神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番
１号 富士通株式会社内
Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA12 BA14 BA20 DA02
DA12 DA14 DB10 DC01 DC02
DE00
2H091 FA02X FA16Y FA31Y FB04
FB08 FC02 FC22 FC23 GA13
KA10 LA16
2H092 GA13 GA16 HA05 JA24 JB05
JB07 MA04 MA09 MA14 MA15
NA01 PA08 PA12
5C094 AA08 AA10 AA12 AA43 AA48
BA03 BA43 CA19 CA24 DA12
EA04 EA06 ED03 FA04 FB01
FB15 GB10
5G435 AA03 AA04 AA17 BB12 BB16
CC09 CC12 FF03 HH03 KK05
Claims (5)
- 【請求項１】 基板上に形成した所定の膜厚を有する感
光性樹脂の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変
形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光性
樹脂表面に皺状凹凸形状を形成し、前記皺状凹凸形状上
に光反射膜を形成してこれを反射板として用いた反射型
液晶表示装置において、前記感光性樹脂の下に方位また
は形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸
パターン要素が該同一の凹凸パターン要素が連続して３
つ以上繰り返されないように配置されるとともに、前記
皺状凹凸形状が前記凹凸パターン要素の配置に沿うこと
を特徴とする反射型液晶表示装置。 - 【請求項２】 上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素
が組み合わされて繰り返し基本パターンを構成し、前記
繰り返し基本パターンを繰り返すことによって上記基板
上に凹凸パターンを形成したことを特徴とする請求項１
記載の反射型液晶表示装置。 - 【請求項３】 上記皺状凹凸形状の平均傾斜角の標準偏
差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴と
する請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置。 - 【請求項４】 上記基板が、アクティブ素子を形成した
基板であり、且つ、上記凹凸パターン要素が前記アクテ
ィブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成さ
れていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１
項に記載の反射型液晶表示装置。 - 【請求項５】 上記凹凸パターン要素によって構成され
る凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青色画
素毎に互いに異なっていることを特徴とする請求項１乃
至４のいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002015096A JP3974787B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 反射型液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002015096A JP3974787B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 反射型液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003215574A true JP2003215574A (ja) | 2003-07-30 |
| JP3974787B2 JP3974787B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=27651598
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002015096A Expired - Fee Related JP3974787B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | 反射型液晶表示装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3974787B2 (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005292399A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Fujitsu Display Technologies Corp | 液晶表示装置用基板及びその製造方法並びにそれを備えた液晶表示装置 |
| WO2008102487A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Oji Paper Co., Ltd. | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法 |
| US7420633B2 (en) | 2004-08-11 | 2008-09-02 | Fujitsu Limited | Liquid crystal display having particular irregularity controlling structure |
| JP2008275758A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶表示装置用反射板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置用アレイ基板 |
| JP2008302591A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Oji Paper Co Ltd | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、光拡散体、光拡散体製造用工程シート原版ならびに光拡散体の製造方法 |
| JP2009092769A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-04-30 | Oji Paper Co Ltd | 光学シートおよび光拡散シート |
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