JP2003209363A - Manufacturing method for constituent material of multilayer printed wiring board and double side printed wiring board, constituent material of multilayer printed wiring board and double side printed wiring board obtained by the manufacturing method and multilayer printed wiring board obtained by using them - Google Patents

Manufacturing method for constituent material of multilayer printed wiring board and double side printed wiring board, constituent material of multilayer printed wiring board and double side printed wiring board obtained by the manufacturing method and multilayer printed wiring board obtained by using them

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JP2003209363A
JP2003209363A JP2002007483A JP2002007483A JP2003209363A JP 2003209363 A JP2003209363 A JP 2003209363A JP 2002007483 A JP2002007483 A JP 2002007483A JP 2002007483 A JP2002007483 A JP 2002007483A JP 2003209363 A JP2003209363 A JP 2003209363A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a constituent material of a printed wiring board using a multilayer composite material having a structure for which at least a thin first bulk copper layer for forming a circuit pattern, a thick second bulk copper layer for forming a bump for obtaining inter-layer continuity of the printed wiring board and an etching barrier layer positioned between the first bulk copper layer and the second bulk copper layer are stacked. <P>SOLUTION: For the constituent material of the multilayer printed wiring board to be used, a support plate 6 is stuck to the surface of the first bulk copper layer 5 of the multilayer composite material, the bump 8 is formed by using the second bulk copper layer 2, a dielectric sheet is piled up on the formation surface of the bump 8, the constituent resin is softened and pressed and thus the dump 8 is passed through the dielectric sheet and obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
製造方法及びその製造方法で得られたプリント配線板に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board and a printed wiring board obtained by the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、プリント配線板製造の国際競争の
激化により、製造コストをいかに削減して安価且つ高品
質の製品を供給するかが、企業の収益性を高め、事業の
存続を図る上で非常に重要となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, due to intensifying international competition in printed wiring board manufacturing, how to reduce manufacturing costs and supply inexpensive and high-quality products will increase the profitability of companies and ensure the survival of their businesses. Is very important in.

【0003】そこで、製造コストの削減を行うため、両
面若しくは3層以上の多層プリント配線板のスルホール
の層間導通メッキ工程を省略し、大幅にプリント配線板
の生産コストを圧縮化する技術が普及してきた。例え
ば、代表的な製造方法としては、株式会社東芝が採用す
るBit工法と称するものである。このBit工法
を、端的に表せば、プリント配線板の製造に用いる銅箔
の絶縁樹脂との接着面に、予め銅ペースト、銀ペースト
等の金属ペーストを用いて、スルホールと同様に機能す
る層間導通導体を構成することとなるバンプ形状をスク
リーン印刷法で製造して硬化させ、この状態でFR−4
基材等の誘電体シートと重ねて加圧積層することで、バ
ンプ形状に硬化した金属ペーストが当該誘電体シートを
突き破り、反対面に配置した銅箔面に突き当たり層間で
の導通経路を形成するのである。
Therefore, in order to reduce the manufacturing cost, the technique of omitting the interlayer conductive plating process of the through holes of the double-sided or multi-layered printed wiring board having three or more layers and significantly reducing the production cost of the printed wiring board has become widespread. It was For example, a typical manufacturing method is the B 2 it method adopted by Toshiba Corporation. If this B 2 it method is simply expressed, it functions like a through hole by using a metal paste such as a copper paste or a silver paste in advance on the bonding surface of the copper foil used for manufacturing the printed wiring board with the insulating resin. The bump shape that will form the interlayer conductive conductor is manufactured by the screen printing method and cured, and in this state, FR-4
By stacking it on a dielectric sheet such as a base material under pressure and laminating, the bump-shaped cured metal paste pierces the dielectric sheet and hits the copper foil surface on the opposite surface to form a conduction path between layers. Of.

【0004】そして、このような製造方法で使用するプ
リント配線板の導体形成に用いる多層複合材料として、
図8に示したように、圧延法により回路パターンを形成
するための第1バルク銅層5/粗化処理層3/エッチン
グバリア金属層4/多層プリント配線板の層間導通を得
るためのバンプ形状を形成するために用いる第2バルク
銅層2の順に4層構造に積層した材料が提案されてきた
が、その製造方法に起因して第1バルク銅層の基材との
密着性確保に用いる微細銅粒の扁平化を招くため、プリ
ント配線板を製造するためには再粗化処理する等の製造
工程を設ける必要があり、しかも、銅箔層の第1バルク
銅層を18μm以下にすることは不可能であったためフ
ァインピッチ回路の形成が困難であった。
Then, as a multilayer composite material used for forming a conductor of a printed wiring board used in such a manufacturing method,
As shown in FIG. 8, the first bulk copper layer 5 for forming the circuit pattern by the rolling method / the roughening treatment layer 3 / the etching barrier metal layer 4 / the bump shape for obtaining the interlayer conduction of the multilayer printed wiring board A material has been proposed in which a second bulk copper layer 2 used to form a layer is laminated in a four-layer structure in order, but due to its manufacturing method, it is used to secure adhesion of the first bulk copper layer to a base material. Since it causes flattening of fine copper particles, it is necessary to provide a manufacturing process such as re-roughening treatment for manufacturing a printed wiring board, and further, the first bulk copper layer of the copper foil layer is set to 18 μm or less. However, it was difficult to form a fine pitch circuit.

【0005】そこで、本件発明者等は電解法を用いて同
様の4層構造の多層複合材料を用いることで、圧延法で
得られる当該多層複合材料の欠点を克服できることを提
唱してきた。
Therefore, the present inventors have proposed that the drawbacks of the multilayer composite material obtained by the rolling method can be overcome by using the same multilayer composite material having a four-layer structure by using the electrolytic method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この電
気化学的手法を用いて製造された当該多層複合材料は、
第1バルク銅層を18μm未満にすることは容易に行え
るものの、現実のプリント配線板製造の過程を考える
に、第1バルク銅層を18μm未満、特に9μm以下の
極薄の銅層にして用いることが困難であった。まして、
ICチップの動作回路を形成するために必要と言われて
いる3μm程度の厚さとすることは全く不可能であっ
た。
However, the multilayer composite material produced by using this electrochemical method has the following problems.
Although it is easy to make the first bulk copper layer less than 18 μm, the first bulk copper layer is used as an ultrathin copper layer of less than 18 μm, particularly 9 μm or less in consideration of the actual process of manufacturing a printed wiring board. Was difficult. not to mention,
It was completely impossible to have a thickness of about 3 μm, which is said to be necessary for forming an operating circuit of an IC chip.

【0007】即ち、当該多層複合材料は、以下に述べる
ような図9〜図11に模式的に示したように使用される
ものである。まず、図9(a)に示す多層複合材料1a
は、図9(b)に示したように第2銅層2をバンプ8の
形状とするエッチングが行われる。このような多層複合
材料1aを用いれば、図9(b)に示すように、第2銅
層2をバンプ8へとエッチング形成すると共にバンプ8
を形成しない位置の粗化処理層3の微細銅粒は消失す
る。ところが、エッチングバリア層4は、粗化処理層3
の微細銅粒の持つ凹凸形状を転写した状態になっている
ため、図10(c)に示したように誘電体シートPを積
層しても誘電体シートPと第1バルク銅層5との接着界
面におけるアンカー効果を発揮することになり、引き剥
がし強度を損なうことが無くなるのである。そして、図
10(d−1)、(d−2)から明らかなように、余分
なエッチングバリア層4は、第1バルク銅層5をエッチ
ングして回路10を形成する際に、銅エッチングと同時
に除去することが可能となるのである。
That is, the multilayer composite material is used as schematically shown in FIGS. 9 to 11 as described below. First, the multilayer composite material 1a shown in FIG.
Is etched so that the second copper layer 2 has the shape of the bump 8 as shown in FIG. 9B. If such a multilayer composite material 1a is used, as shown in FIG. 9B, the second copper layer 2 is formed into the bump 8 by etching and the bump 8 is formed.
The fine copper particles of the roughening treatment layer 3 at the positions where the ridges are not formed disappear. However, the etching barrier layer 4 is not the roughening treatment layer 3.
Since the uneven shape of the fine copper particles is transferred, even if the dielectric sheets P are stacked as shown in FIG. 10C, the dielectric sheet P and the first bulk copper layer 5 are The anchor effect is exhibited at the adhesive interface, and the peeling strength is not impaired. Then, as is apparent from FIGS. 10D-1 and 10D-2, the excess etching barrier layer 4 is not etched with copper when the first bulk copper layer 5 is etched to form the circuit 10. It is possible to remove them at the same time.

【0008】以上に述べてきた多層複合材料1aは、図
10(d−1)のように回路エッチングが施され、ビル
トアップ用のプリント配線板となる。一方、図10(d
−2−)のように、銅箔9が張り合わされた後に、図
10(d−2−)のように内層回路エッチングが行わ
れ、多層プリント配線板の内層材となる。更に、これら
を用いて図11に示したように積層し、プレス加工すれ
ば、所謂4層基板が得られるのである。
The multilayer composite material 1a described above is subjected to circuit etching as shown in FIG. 10 (d-1) and becomes a printed wiring board for build-up. On the other hand, FIG.
-2-), after the copper foils 9 are bonded together, inner layer circuit etching is performed as shown in FIG. 10 (d-2-) to form an inner layer material of the multilayer printed wiring board. Further, by stacking these materials as shown in FIG. 11 and press-working, a so-called four-layer substrate can be obtained.

【0009】当該多層複合材料は、上述したような製造
方法で使用されるため、第1バルク銅層が薄くなると、
図9(b)に示したように第2銅層2をバンプ形状とす
るエッチングが行われた時点の製品にコシが無くなり、
均一な平面を保つことが出来ずハンドリング性を著しく
損ないシワ不良を発生したり、図10(c)に示したよ
うに誘電体シートを積層してもバンプの位置精度に欠け
るものとなるのである。
Since the multilayer composite material is used in the manufacturing method as described above, when the first bulk copper layer becomes thin,
As shown in FIG. 9 (b), the product at the time when the etching is performed with the second copper layer 2 in the bump shape disappears,
A uniform flat surface cannot be maintained, the handling property is significantly impaired, and wrinkle defects occur. Even if dielectric sheets are laminated as shown in FIG. 10C, the bumps have poor positional accuracy. .

【0010】以上のようなことを背景に、第1バルク銅
層が18μm未満、特に9μm以下の厚さとなっても、
良好なプリント配線板製造の可能な、当該多層複合材料
を用いた製造方法が望まれてきたのである。
Against the background described above, even if the thickness of the first bulk copper layer is less than 18 μm, particularly 9 μm or less,
There has been a demand for a manufacturing method using the multilayer composite material, which enables good manufacturing of printed wiring boards.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】そこで、本件発明者等
は、鋭意研究の結果、以下のような当該多層複合材料を
用いたプリント配線板の製造方法に想到したのである。
以下、本件発明について説明する。
The inventors of the present invention, as a result of diligent research, have come up with the following method for producing a printed wiring board using the multilayer composite material.
The present invention will be described below.

【0012】まず、「少なくとも回路パターンを形成す
るための第1バルク銅層、プリント配線板の層間導通を
得るためのバンプを形成するための第2バルク銅層及び
第1バルク銅層と第2バルク銅層との間に存在するエッ
チングバリア層を積層した構造を持つ多層複合材料とサ
ポート板とを用いて多層プリント配線板の構成材料を製
造する方法であって、ワークサイズとした当該多層複合
材料の第1バルク銅層の表面にサポート板を張り合わ
せ、当該第2バルク銅層をエッチングしてバンプを形成
し、当該バンプを形成した面に誘電体シートを重ね、誘
電体シートの構成樹脂を軟化させプレスすることで、誘
電体シートにバンプを貫通させることを特徴とする、第
1バルク銅層の片面側に多層プリント配線板の層間導通
導体となるバンプを備え、他面側にサポート板を張り合
わせた状態の多層プリント配線板の構成材料の製造方
法。」である。
First, "at least a first bulk copper layer for forming a circuit pattern, a second bulk copper layer for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a printed wiring board, a first bulk copper layer and a second bulk copper layer A method of manufacturing a constituent material of a multilayer printed wiring board using a multilayer composite material having a structure in which an etching barrier layer existing between a bulk copper layer and the support board is used, the multilayer composite having a work size. A support plate is attached to the surface of the first bulk copper layer of the material, the second bulk copper layer is etched to form bumps, and a dielectric sheet is overlaid on the surface on which the bumps are formed. The bump is penetrated through the dielectric sheet by softening and pressing, and a bump serving as an interlayer conductive conductor of the multilayer printed wiring board is formed on one side of the first bulk copper layer. For example, a manufacturing method of the constituent materials of the multilayer printed wiring board in a state in which laminated support plate on the other side. "A.

【0013】ここで、「少なくとも回路パターンを形成
するための第1バルク銅層、プリント配線板の層間導通
を得るためのバンプを形成するための第2バルク銅層及
び第1バルク銅層と第2バルク銅層との間に存在するエ
ッチングバリア層を積層した構造を持つ多層複合材料」
とは、図1に模式断面図として示したように、第1バル
ク銅層5と第2バルク銅層2との間にエッチングバリア
層4が存在する状態を基準として(図1に符号1として
示した状態)、種々のバリエーションを考えることが出
来る。例えば、図1にバリエーション例1及びバリエー
ション例2として示したように、第1バルク銅層5とエ
ッチングバリア層4との間に微細銅粒を設けるか、第2
バルク銅層2とエッチングバリア層4との間に微細銅粒
を設けるかして、プリント配線板の絶縁樹脂との接合強
度を確保するためのアンカー効果を得るために用いても
よい。また、必要に応じて、任意の面に防錆処理等の表
面処理層を設けても構わないのである。従って、「少な
くとも・・・」という表現を用いたのである。これは、
その他の請求項に記載した場合にも、同様の意味合いと
して用いている。以下本件発明に関して説明するが、説
明をより分かりやすくするために、最も好ましいと考え
られる多層複合材料1aを用いた場合を想定し、以下説
明することにする。
Here, "at least a first bulk copper layer for forming a circuit pattern, a second bulk copper layer for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a printed wiring board, and a first bulk copper layer and Multi-layer composite material having a structure in which an etching barrier layer existing between two bulk copper layers is laminated "
Means that the etching barrier layer 4 is present between the first bulk copper layer 5 and the second bulk copper layer 2 as shown in FIG. Various variations can be considered. For example, as shown as variation example 1 and variation example 2 in FIG. 1, fine copper grains are provided between the first bulk copper layer 5 and the etching barrier layer 4, or
Fine copper particles may be provided between the bulk copper layer 2 and the etching barrier layer 4 to obtain an anchor effect for securing the bonding strength with the insulating resin of the printed wiring board. If necessary, a surface treatment layer such as a rust preventive treatment may be provided on any surface. Therefore, the expression "at least ..." Was used. this is,
The same meaning is used in the cases described in other claims. Hereinafter, the present invention will be described, but in order to make the description easier to understand, the following description will be given on the assumption that the most preferable multilayer composite material 1a is used.

【0014】ここで用いる多層複合材料には、回路パタ
ーンを形成するための第1バルク銅層(以下、単に「第
1バルク銅層」と称する。)/エッチングバリア金属層
/粗化処理層/多層プリント配線板の層間導通を得るた
めのバンプ形状を形成するために用いる第2バルク銅層
(以下、単に「第2バルク銅層」と称する。)の4層構
造のものを用いることが好ましい。特に、前記第1バル
ク銅層又は前記第2バルク銅層を基準層として、そこに
電気化学的手法を用いてその他の層を形成したものであ
ることがより望ましいものである。この多層複合材料1
aの模式断面図を図1のバリエーション例1から見て取
ることができる。この多層複合材料1aは、第1バルク
銅層5/エッチングバリア金属層4/粗化処理層3/第
2バルク銅層2の層構造を持っているのである。
In the multilayer composite material used here, a first bulk copper layer (hereinafter simply referred to as "first bulk copper layer") for forming a circuit pattern / etching barrier metal layer / roughening treatment layer / It is preferable to use a four-layer structure of a second bulk copper layer (hereinafter, simply referred to as “second bulk copper layer”) used for forming a bump shape for obtaining interlayer conduction of a multilayer printed wiring board. . In particular, it is more preferable that the first bulk copper layer or the second bulk copper layer is used as a reference layer and another layer is formed thereon by using an electrochemical method. This multilayer composite material 1
A schematic cross-sectional view of a can be seen from Variation Example 1 of FIG. This multilayer composite material 1a has a layer structure of first bulk copper layer 5 / etching barrier metal layer 4 / roughening layer 3 / second bulk copper layer 2.

【0015】従来の圧延法を用いて製造した多層複合材
料との決定的違いは、電気化学的手法を用いて全ての層
構成を製造するため、粗化処理層3を構成する微細銅粒
や適度な凹凸の形状が押しつぶされて扁平化することな
く、電解析出して付着形成した当初の微細銅粒の形状
を、ずっと維持できる点にある。そして、この本件発明
に係る多層複合材料1aのエッチングバリア金属層4
は、粗化処理層3の微細銅粒の作り出す表面凹凸が転写
した形状を備えたものとすることができるのである。従
って、図3(b)に示したように第2バルク銅層2をバ
ンプ形状へとするエッチングを行った後に、エッチング
バリア金属層4を除去して、再粗化処理する必要性を無
くすることができるのである。
The decisive difference from the multilayer composite material produced by using the conventional rolling method is that all the layer structures are produced by using the electrochemical method. The point is that the initial shape of the fine copper particles that are electrolytically deposited and deposited can be maintained for a long time without the appropriate unevenness shape being flattened by being crushed. And, the etching barrier metal layer 4 of the multilayer composite material 1a according to the present invention
Can have a shape in which surface irregularities created by the fine copper particles of the roughening treatment layer 3 are transferred. Therefore, as shown in FIG. 3B, after etching the second bulk copper layer 2 into a bump shape, the etching barrier metal layer 4 is removed to eliminate the necessity of re-roughening treatment. It is possible.

【0016】本件発明における粗化処理層3は、図面中
に表したように微細銅粒を付着形成するか、第2バルク
銅層を形成することとなる銅箔の表面を化学的にエッチ
ングする等して直接粗化する等により形成されるもので
ある。念のために、ここで明記して置くが、図面中の粗
化処理層3の記載は、微細銅粒を付着形成したものを、
説明をより明確に把握できるように、極めて模式的に且
つ大きなものとして記載しており、その他の層の厚さ等
の寸法も、現実の製品と対応するものではなく、あくま
でも模式的に表現したものである。
The roughening treatment layer 3 according to the present invention deposits fine copper grains as shown in the drawing, or chemically etches the surface of the copper foil which will form the second bulk copper layer. It is formed by, for example, directly roughening. For the sake of caution, the description of the roughening treatment layer 3 in the drawings is made by attaching fine fine copper particles,
For the sake of clearer understanding of the explanation, it is described as being extremely schematic and large, and the dimensions such as the thicknesses of other layers do not correspond to the actual product, but are merely schematic representations. It is a thing.

【0017】そして、多層複合材料のエッチングバリア
金属層4は、ニッケル、ニッケル合金、スズ、スズ合金
を用いて構成したものである事が望ましい。アルカリ系
銅エッチング液を用いることで、銅成分のみを溶解さ
せ、容易に残留させることが可能となるからである。
The etching barrier metal layer 4 of the multi-layer composite material is preferably made of nickel, nickel alloy, tin or tin alloy. By using the alkaline copper etching solution, it is possible to dissolve only the copper component and easily leave it.

【0018】次に、第2バルク銅層2は、50〜150
μmの厚さを持つ銅層として構成することが望ましい。
第2バルク銅層2はバンプの形状を形成するために用い
るものであるから、第2バルク銅層2の厚さは、そのま
まバンプ8の高さになる。従って、絶縁層を形成するた
めに用いる誘電体シートPの厚さに応じて、第2バルク
銅層2の厚さを任意に選択使用すればよいと考えられる
が、バンプ8の高さが低すぎると加圧してプレス成形し
ても、バンプ8が誘電体シートPを突き破ることが出来
ず、層間導体の形成が出来ないのである。そこで、用い
る誘電体シートPがFR−4基材であって、その厚さが
25〜100μmである事と成形性とを考慮したとき
に、例えば、公称厚さが100μmの誘電体シートPを
用いる場合には、100〜150μmのバンプ8の高さ
とすることが最も良好な製品加工が可能となると判断で
きるのである。150μmという上限値は、バンプ8が
公称厚さ100μmの誘電体シートPを突き破った時
の、バンプ8の頭頂部の誘電体シートPからの突出距離
を考慮して定めたものである。そして、50μmという
下限値は、市場を流通しているFR−4基材の最小厚さ
である公称厚さ25μmを誘電体シートPとして用いる
場合を考慮して定めたものである。
Next, the second bulk copper layer 2 has a thickness of 50-150.
It is desirable to configure it as a copper layer with a thickness of μm.
Since the second bulk copper layer 2 is used for forming the bump shape, the thickness of the second bulk copper layer 2 is the height of the bump 8 as it is. Therefore, it is considered that the thickness of the second bulk copper layer 2 may be arbitrarily selected and used according to the thickness of the dielectric sheet P used to form the insulating layer, but the height of the bump 8 is low. If the pressure is too high, the bumps 8 cannot break through the dielectric sheet P and the interlayer conductors cannot be formed even if pressure is applied and press molding is performed. Then, when the dielectric sheet P to be used is a FR-4 base material and its thickness is 25 to 100 μm and formability is taken into consideration, for example, a dielectric sheet P having a nominal thickness of 100 μm is used. When used, it can be judged that the height of the bumps 8 of 100 to 150 μm enables the best product processing. The upper limit value of 150 μm is determined in consideration of the protrusion distance from the dielectric sheet P at the top of the bump 8 when the bump 8 penetrates the dielectric sheet P having a nominal thickness of 100 μm. The lower limit value of 50 μm is set in consideration of the case where the dielectric sheet P has a nominal thickness of 25 μm, which is the minimum thickness of the FR-4 base material in the market.

【0019】なお、本件明細書において、誘電体シート
とは、プリント配線板の層間絶縁層を構成することので
きる樹脂材のみで構成されたもの、樹脂材とそこに必要
とするガラスクロス、アラミド不織布等の骨格材を含む
もの、キャパシター層を構成するための誘電フィラー等
を含むもの等のプリント配線板用途で使用可能なものの
全てを含む概念として記載している。
In the present specification, the dielectric sheet is composed of only a resin material capable of forming an interlayer insulating layer of a printed wiring board, a resin material and a glass cloth or aramid required therefor. It is described as a concept including all that can be used in printed wiring board applications, such as those containing a skeleton material such as a non-woven fabric and those containing a dielectric filler for forming a capacitor layer.

【0020】第1バルク銅層5は、プリント配線板の信
号伝達回路、電源回路等の製造に用いるものであるか
ら、その製造する回路の配線密度を考慮して、その厚さ
を任意に定めれば良いものである。従って、第1バルク
銅層5の厚さには特段の限定を行うことは要さない。し
かしながら、ここで用いる多層複合材料の場合には、1
8μm未満の厚さを持つ第1バルク銅層5として用いる
ことが容易となるのである。
Since the first bulk copper layer 5 is used for manufacturing a signal transmission circuit, a power supply circuit, etc. of a printed wiring board, its thickness is arbitrarily determined in consideration of the wiring density of the circuit to be manufactured. It would be nice. Therefore, it is not necessary to particularly limit the thickness of the first bulk copper layer 5. However, in the case of the multilayer composite material used here, 1
It is easy to use as the first bulk copper layer 5 having a thickness of less than 8 μm.

【0021】以上に述べてきた多層複合材料1aとサポ
ート板6とを、図2(a)に模式的に示したように重ね
合わせ、図2(b)のように張り合わせるのである。こ
の張り合わせにあたっては、多層複合材料1aとサポー
ト板6とをインサート材として半田等の金属材若しくは
接着剤を用いて全面接着することも可能である。しかし
ながら、このような方法で全面接着すると、後のサポー
ト板6の取り外し作業で、サポート板にインサート材が
同伴して同時除去されない限り、インサート材の除去作
業を必要とすることになり、工程が煩雑化することにな
る欠点がある。そこで、サポート板6として金属材を用
いる場合には、多層複合材料1aとサポート板6とを重
ね合わせ、超音波溶接法を用いて、外周縁端部7のみを
接合させる方法を用いることが好ましい。超音波溶接法
は、ワークサイズの多層複合材料1aの外周縁端部7の
みを、連続シーム溶接に用いると同様の回転する円盤状
の溶接チップCとローラアンビルAとで加圧して挟み込
み、超音波振動を印加して行う。同時に、回転する円盤
状の溶接チップCとローラアンビルAとを、ワークサイ
ズの外周縁端部7に沿って移動させつつ、図2(b)に
示すように外周縁端部7のみ接合することでサポート板
6の除去作業を容易にするのである。しかも、超音波溶
接法は、接合強度のコントロールを容易に行うことが可
能で、溶液の浸透を起こさない程度の精度での溶接が可
能との利点を有している。また、外周縁端部7のみを接
着剤を用いて接合するという方法も、非常に実用的であ
る。
The multi-layer composite material 1a and the support plate 6 described above are laminated as shown in FIG. 2 (a) and laminated as shown in FIG. 2 (b). In this bonding, the multilayer composite material 1a and the support plate 6 may be entirely bonded by using a metal material such as solder or an adhesive as an insert material. However, if the entire surface is adhered by such a method, the removal work of the insert material is required unless the insert material accompanies the support plate and is simultaneously removed in the subsequent removal work of the support plate 6. There is a drawback that it becomes complicated. Therefore, when a metal material is used as the support plate 6, it is preferable to use a method in which the multilayer composite material 1a and the support plate 6 are overlapped and an ultrasonic welding method is used to join only the outer peripheral edge portion 7. . In the ultrasonic welding method, only the outer peripheral edge portion 7 of the work-size multilayer composite material 1a is pressed and sandwiched by the rotating disk-shaped welding tip C and the roller anvil A similar to those used in continuous seam welding, Apply sonic vibration. At the same time, the rotating disc-shaped welding tip C and the roller anvil A are moved along the outer peripheral edge portion 7 of the work size, and only the outer peripheral edge portion 7 is joined as shown in FIG. 2B. This facilitates the work of removing the support plate 6. Moreover, the ultrasonic welding method has an advantage that the joint strength can be easily controlled and the welding can be performed with an accuracy such that the solution does not penetrate. Further, a method of joining only the outer peripheral edge portion 7 with an adhesive is also very practical.

【0022】本件発明で用いるサポート板6には、自己
形状の保持能力を備えた強度を持つリジッド板であり、
後のエッチング工程等での損傷を受ける可能性の少ない
もので有れば、金属材であれ有機材であれ使用すること
が可能である。特に、サポート板には、ステンレス板、
アルミニウム板又はアルミニウム合金板を用いることが
好ましい。特に、アルミニウム又はアルミニウム合金
は、酸性の銅エッチング液で損傷することなく、繰り返
し使用が可能であり、しかも軽量であるため取り扱いが
容易となる点に大きな利点がある。アルミニウム板とは
工業的に用いられる純アルミニウムを用いたものであ
り、アルミニウム合金とはマンガン、クロム等の合金元
素を含有したものを言う概念として用いている。そし
て、このサポート板6としての厚さは、上述する様にし
て用いた場合の補強材としての役割を果たすことの出来
る最低限の厚さを備えればよく、特に上限は存在しな
い。しかしながら、作業者の運搬作業等を考慮すれば、
より軽量であることが作業性及び生産コストの面から望
ましいため不必要に厚い物とする必要はないものと考え
られ、0.3mm〜1mm程度の厚さがあれば充分使用
に耐えるものと考えられるのである。更に、超音波溶接
法を用いての良好な溶接が可能な範囲として、金属材の
場合のサポート板6の厚さは0.3mm〜0.6mmの
範囲が最も好ましいと考えられる。
The support plate 6 used in the present invention is a rigid plate having strength capable of holding its own shape,
A metal material or an organic material can be used as long as it is less likely to be damaged in a later etching process or the like. In particular, the support plate is a stainless steel plate,
It is preferable to use an aluminum plate or an aluminum alloy plate. In particular, aluminum or an aluminum alloy has a great advantage in that it can be repeatedly used without being damaged by an acidic copper etching solution and can be easily handled because it is lightweight. The aluminum plate is made of industrially used pure aluminum, and the aluminum alloy is used as a concept that contains alloy elements such as manganese and chromium. The thickness of the support plate 6 may be the minimum thickness that can serve as a reinforcing material when used as described above, and there is no upper limit in particular. However, considering the transportation work of workers,
Since it is desirable to be lighter in terms of workability and production cost, it is considered that there is no need to make it unnecessarily thick, and it is considered that a thickness of about 0.3 mm to 1 mm is sufficient for use. Be done. Furthermore, as a range in which good welding using the ultrasonic welding method is possible, it is considered that the thickness of the support plate 6 in the case of a metal material is most preferably in the range of 0.3 mm to 0.6 mm.

【0023】以上のようにしてサポート板6を張り付け
た状態を側面方向から捉えたのが、図3(a)に模式断
面図として示したものである。そして、第2バルク銅層
2をエッチングして、図3(b)に示すようにバンプ8
の形状を作るのである。バンプ8の形成は、エッチング
法を用いて行われる。このときサポート板6が存在する
ことで、たとえ第1バルク銅層5が3μm厚程度の極薄
のものであっても、シワになったり、折れ曲がりを生じ
ることがなくなる。
The state in which the support plate 6 is attached as described above is grasped from the side direction, which is shown as a schematic sectional view in FIG. 3 (a). Then, the second bulk copper layer 2 is etched to form the bumps 8 as shown in FIG.
To make the shape of. The bumps 8 are formed by using an etching method. At this time, the presence of the support plate 6 prevents wrinkles or bending even if the first bulk copper layer 5 is an extremely thin layer having a thickness of about 3 μm.

【0024】その結果、図4(c)に示す誘電体シート
Pの張り合わせ作業を容易にして、且つ、バンプ8の位
置精度を高めることが可能となるのである。この誘電体
シートPの張り合わせは、当該バンプ8を形成した面に
誘電体シートPを重ね、誘電体シートPの構成樹脂を軟
化させプレスすることで、誘電体シートPにバンプ8を
貫通させる操作を行うのである。この段階では、樹脂の
硬化温度以下の温度で加熱し、誘電体シートPの樹脂を
加熱軟化させ、バンプ8を貫通させるのみであり、誘電
体シートPの樹脂は硬化させず、半硬化状態のまま維持
するのである。このように誘電体シートPの樹脂を半硬
化状態のままにすることで、後述するように多層プリン
ト配線板の構成材料OBとして用いることが可能となる
のである。
As a result, it becomes possible to facilitate the work of laminating the dielectric sheets P shown in FIG. 4 (c) and enhance the positional accuracy of the bumps 8. The bonding of the dielectric sheets P is performed by stacking the dielectric sheets P on the surface on which the bumps 8 are formed and softening and pressing the constituent resin of the dielectric sheets P to penetrate the bumps 8 into the dielectric sheets P. To do. At this stage, the resin of the dielectric sheet P is heated and softened by heating at a temperature equal to or lower than the curing temperature of the resin to penetrate the bumps 8, and the resin of the dielectric sheet P is not cured but is in a semi-cured state. Keep it as it is. By leaving the resin of the dielectric sheet P in the semi-cured state in this way, it becomes possible to use it as a constituent material OB of the multilayer printed wiring board as described later.

【0025】この段階でサポート板6を取り外すと、コ
シのない中間材となってしまうため、サポート板6を取
り付けた状態のまま、多層プリント配線板の構成材料O
Bとして用いるのである。これが、本件発明に言う、第
1バルク銅層5の片面側に多層プリント配線板の層間導
通導体となるバンプ8を備え、他面側にサポート板6を
張り合わせた多層プリント配線板の構成材料OBであ
る。
If the support plate 6 is removed at this stage, it becomes an intermediate material without stiffness. Therefore, with the support plate 6 attached, the constituent material O of the multilayer printed wiring board is kept.
It is used as B. This is the constituent material OB of the multilayer printed wiring board according to the present invention in which the bumps 8 serving as the interlayer conductive conductors of the multilayer printed wiring board are provided on one surface side of the first bulk copper layer 5 and the support board 6 is attached to the other surface side. Is.

【0026】また、請求項には、「両面に回路を備え、
当該両面の回路間の層間導通導体であるバンプを備えた
両面プリント配線板の製造方法において、少なくとも回
路パターンを形成するための第1バルク銅層、両面プリ
ント配線板の層間導通を得るためのバンプを形成するた
めの第2バルク銅層及び第1バルク銅層と第2バルク銅
層との間に存在するエッチングバリア層を積層した構造
を持つ多層複合材料を用い、ワークサイズとした当該多
層複合材料の第1バルク銅層の表面にサポート板を張り
合わせ、当該第2バルク銅層をエッチングしてバンプを
形成し、当該バンプを形成した面に誘電体シートを重
ね、誘電体シートの構成樹脂を軟化させプレスすること
で、誘電体シートの構成樹脂の半硬化状態を維持してバ
ンプを貫通させ、バンプを貫通させた誘電体シート面
に、銅箔の接着面を対向して重ね合わせてプレス加工し
銅箔層を形成し、その後、サポート板を除去し、両面に
位置する第1バルク銅層と銅箔層をエッチングして回路
を形成して得られることを特徴とする層間導通導体であ
るバンプを備えた両面プリント配線板の製造方法。」と
記載している。
Further, in the claim, "a circuit is provided on both sides,
In a method for manufacturing a double-sided printed wiring board having bumps which are interlayer conductive conductors between the circuits on both sides, at least a first bulk copper layer for forming a circuit pattern, and a bump for obtaining interlayer conduction of the double-sided printed wiring board A multilayer composite material having a structure in which a second bulk copper layer for forming a layer and an etching barrier layer existing between the first bulk copper layer and the second bulk copper layer are stacked, and the multilayer composite having a work size is formed. A support plate is attached to the surface of the first bulk copper layer of the material, the second bulk copper layer is etched to form bumps, and a dielectric sheet is overlaid on the surface on which the bumps are formed. By softening and pressing, the resin in the dielectric sheet is maintained in a semi-cured state to allow the bumps to penetrate, and the surface of the dielectric sheet on which the bumps have penetrated faces the copper foil adhesive surface. It is obtained by stacking and pressing to form a copper foil layer, then removing the support plate and etching the first bulk copper layer and the copper foil layer located on both sides to form a circuit. And a method for producing a double-sided printed wiring board having bumps which are interlayer conductive conductors. ".

【0027】これは、誘電体シートの硬化した絶縁樹脂
層の両面に形成した回路間を、絶縁層内に位置するバン
プを層間導通導体として、両面回路間の導通を確保した
所謂両面プリント配線板の製造方法である。従って、こ
の両面プリント配線板は、多層プリント配線板を製造す
る際のコア材として用いることも、そのまま通常の両面
プリント配線板として用いることも可能である。
This is a so-called double-sided printed wiring board in which electrical connection between the double-sided circuits is ensured between the circuits formed on both sides of the cured insulating resin layer of the dielectric sheet by using the bumps located in the insulating layer as interlayer conductive conductors. Is a manufacturing method. Therefore, this double-sided printed wiring board can be used as a core material when manufacturing a multilayer printed wiring board, or can be used as it is as a normal double-sided printed wiring board.

【0028】この両面プリント配線板の製造方法は、先
に述べた多層プリント配線板の構成材料の製造方法を基
本として、更に製造工程を付加したものである。即ち、
当該多層複合材料1bを用い、その第1バルク銅層5の
表面にサポート板6を張り合わせ、当該第2バルク銅層
2をエッチングしてバンプ8を形成し、当該バンプ8を
形成した面に誘電体シートPを重ね、誘電体シートPの
構成樹脂を軟化させバンプ8を貫通させるまでの工程が
共通するのである。そして、バンプ8を貫通させた誘電
体シートPの面に、銅箔の接着面を対向して重ね合わせ
てプレス加工し、図4(d)に模式的に示したように銅
箔層9を形成するのである。このプレス加工が終了した
段階で、サポート板6を除去し、図4(e)に模式的に
示すような状態になるのである。このサポート板6を除
去すると、両面に位置する第1バルク銅層5と銅箔層9
とに、エッチングレジスト層を形成して、回路形状を露
光現像して、エッチングすることで図4(f)に模式的
に示すように回路10を行い、両面プリント配線板DB
が完成することとなるのである。
This method for producing a double-sided printed wiring board is based on the above-mentioned method for producing the constituent materials of the multilayer printed wiring board, and further adds manufacturing steps. That is,
Using the multilayer composite material 1b, a support plate 6 is attached to the surface of the first bulk copper layer 5, the second bulk copper layer 2 is etched to form bumps 8, and the surface on which the bumps 8 are formed is dielectric. The steps of stacking the body sheets P, softening the constituent resin of the dielectric sheet P, and penetrating the bumps 8 are common. Then, the surface of the dielectric sheet P having the bumps 8 penetrating through it is laminated with the adhesive surface of the copper foil facing each other and pressed to form the copper foil layer 9 as schematically shown in FIG. 4D. To form. At the stage where this press working is completed, the support plate 6 is removed, and the state becomes as schematically shown in FIG. 4 (e). When the support plate 6 is removed, the first bulk copper layer 5 and the copper foil layer 9 located on both sides are removed.
Then, an etching resist layer is formed, the circuit shape is exposed and developed, and etching is performed to perform the circuit 10 as schematically shown in FIG.
Will be completed.

【0029】以上のように、本件発明に係る多層プリン
ト配線板の構成材料OBの製造方法と両面プリント配線
板DBの製造方法との発明としての主要部は共通してい
るため、多層プリント配線板の構成材料OBに適用でき
る概念をそのまま応用することが可能である。従って、
上述した多層プリント配線板の構成材料OBの製造方法
の説明の中で述べた「多層複合材料として最も優れると
考えられるもの」、「第1バルク銅層及び第2バルク銅
層の適正な厚さ」、「最も好ましいサポート板の張り合
わせ手段」、「サポート板の適正な構成材料」に関する
概念をそのまま適用できるのである。
As described above, since the essential parts of the invention of the method of manufacturing the constituent material OB of the multilayer printed wiring board according to the present invention and the method of manufacturing the double-sided printed wiring board DB are common, the multilayer printed wiring board is obtained. It is possible to directly apply the concept applicable to the constituent material OB. Therefore,
"Thought to be the best as the multilayer composite material" and "Proper thickness of the first bulk copper layer and the second bulk copper layer" described in the description of the method for manufacturing the constituent material OB of the multilayer printed wiring board described above. It is possible to directly apply the concepts of "the most preferable support plate bonding means" and "appropriate constituent material of the support plate".

【0030】そして、以上に述べてきた製造方法で得ら
れる多層プリント配線板の構成材料OBと両面プリント
配線板DBとを用いて、容易に多層プリント配線板を製
造することが可能となる。本件明細書で言う多層プリン
ト配線板とは、3層以上の回路層を備えたプリント配線
板のことである。当業者であれば、本件発明に係る製造
方法で得られた多層プリント配線板の構成材料OBと両
面プリント配線板DBとの種々の組み合わせを考え、多
様な層数の多層プリント配線板を製造することは可能と
考えられる。ここでは、多層プリント配線板の製造方法
を分かりやすく捉えられるように所謂4層プリント配線
板の製造方法を用いて説明する。
Using the constituent material OB of the multilayer printed wiring board and the double-sided printed wiring board DB obtained by the manufacturing method described above, the multilayer printed wiring board can be easily manufactured. The multilayer printed wiring board referred to in the present specification is a printed wiring board having three or more circuit layers. Those skilled in the art will consider various combinations of the constituent material OB of the multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method according to the present invention and the double-sided printed wiring board DB, and manufacture the multilayer printed wiring board with various layers. It seems possible. Here, a so-called four-layer printed wiring board manufacturing method will be described so that the manufacturing method of the multilayer printed wiring board can be easily understood.

【0031】4層プリント配線板を製造するためには、
図5に示すように、内層回路を形成した当該両面プリン
ト配線板DBをコア材として用いて、その両面に当該多
層プリント配線板の構成材料OBの誘電体シートPから
バンプ8の先端部が突出した面を対向して重ね合わせ
て、サポート板6が存在する状態で、プレス加工する。
その結果、図5(g)として模式的に示した状態とな
る。プレス加工が終了すると、この段階で両面に位置す
るサポート板6除去し、図6(h)に模式的に示したよ
うに多層プリント配線板の構成材料OBに由来する第1
バルク銅層5を両面に露出させるのである。そして、両
面に露出した第1バルク銅層5の表面にエッチングレジ
スト層を形成し、外層回路形状を露光現像し、エッチン
グすることで、図6(i)に示したような4層プリント
配線板MLBが完成するのである。このとき、バンプ8
の配置を予め適正に配置することで、スルーホールやバ
イアホール等の形成のための後工程を設けることが無く
とも、各層間の電気的導通確保が可能となるのである。
In order to manufacture a four-layer printed wiring board,
As shown in FIG. 5, using the double-sided printed wiring board DB in which the inner layer circuit is formed as a core material, the tips of the bumps 8 project from both sides of the dielectric sheet P of the constituent material OB of the multilayer printed wiring board. The surfaces thus faced are overlapped with each other so as to face each other, and are pressed with the support plate 6 present.
As a result, the state shown in FIG. 5 (g) is obtained. When the pressing process is completed, the support plates 6 located on both sides are removed at this stage, and the first part derived from the constituent material OB of the multilayer printed wiring board is schematically shown in FIG. 6 (h).
The bulk copper layer 5 is exposed on both sides. Then, an etching resist layer is formed on the surfaces of the first bulk copper layer 5 exposed on both sides, and the outer layer circuit shape is exposed and developed, and is etched, thereby forming a four-layer printed wiring board as shown in FIG. 6 (i). The MLB will be completed. At this time, bump 8
By properly arranging the above arrangement, it is possible to secure electrical conduction between the respective layers without providing a post process for forming a through hole or a via hole.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、実施形態として本件発明に
係る製造方法を用いて多層プリント配線板の構成材料を
製造する場合(以下、第1実施形態として記載)と、両
面プリント配線板を製造する場合(以下、第2実施形態
として記載)とを説明し、更に、これらを用いて4層プ
リント配線板を製造する場合(以下、第3実施形態とし
て記載)に関して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a case of manufacturing a constituent material of a multilayer printed wiring board by using a manufacturing method according to the present invention as an embodiment (hereinafter, described as a first embodiment) and a double-sided printed wiring board A case (hereinafter, described as a second embodiment) will be described, and a case (hereinafter, described as a third embodiment) for manufacturing a four-layer printed wiring board using these will be described.

【0033】第1実施形態: この実施形態において
は、上述した多層プリント配線板の構成材料OBを製造
した。
First Embodiment: In this embodiment, the constituent material OB of the above-mentioned multilayer printed wiring board was manufactured.

【0034】まず、多層複合材料1aを、次のようにし
て製造した。以下の説明においては、図7、図1及び図
2を参照しつつ説明する。なお、多層複合材料1aの外
層表面には亜鉛防錆処理を施しているが、図面中には防
錆層の記載は省略している。ここで用いた多層複合材料
1aは、第2バルク銅層2に120μmの厚さを持つ両
面が平滑な無酸素銅からなる圧延銅箔を出発材料とし、
その製造手順は、図7に示したフローに従い製造した。
最初に、図7(1)に示す圧延銅箔を酸洗処理した。処
理を行う酸洗処理槽の内部には濃度150g/l、液温
30℃の希硫酸溶液が満たされており、浸漬時間30秒
として、付着した油脂成分を除去し、余分な表面酸化被
膜の除去を行い、水洗した。
First, the multilayer composite material 1a was manufactured as follows. The following description will be given with reference to FIGS. 7, 1 and 2. Although the outer layer surface of the multilayer composite material 1a is subjected to zinc anticorrosion treatment, the illustration of the anticorrosion layer is omitted in the drawings. The multilayer composite material 1a used here uses a rolled copper foil made of oxygen-free copper having a thickness of 120 μm for the second bulk copper layer 2 and having smooth both sides as a starting material,
The manufacturing procedure was according to the flow shown in FIG.
First, the rolled copper foil shown in FIG. 7A was pickled. The inside of the pickling tank for the treatment is filled with a dilute sulfuric acid solution having a concentration of 150 g / l and a liquid temperature of 30 ° C., and the adhering oil and fat components are removed by dipping for 30 seconds to remove excess surface oxide film. It was removed and washed with water.

【0035】第2の工程は、第2バルク銅層2として用
いる圧延銅箔の片面に、電解法を用いて微細銅粒を付着
形成し、図7(2)に示すように粗化処理層3を形成し
た。銅電解液を用いて当該溶液中で、対極にDSE板を
用い、これを圧延銅箔の粗化処理層3を形成する面と平
行して離間配置し、圧延銅箔自体をカソード分極して行
った。このとき用いた電解液及び電解条件は、硫酸銅系
溶液として10g/l銅、150g/l硫酸、液温25
℃、電解時間10秒、電流密度20A/dmの条件と
した。
In the second step, fine copper particles are attached and formed on one surface of the rolled copper foil used as the second bulk copper layer 2 by an electrolytic method, and a roughening treatment layer is formed as shown in FIG. 7 (2). Formed 3. A DSE plate is used as a counter electrode in the solution using a copper electrolytic solution, and the DSE plate is placed in parallel with the surface of the rolled copper foil on which the roughening treatment layer 3 is formed, and the rolled copper foil itself is subjected to cathodic polarization. went. The electrolytic solution and the electrolytic conditions used at this time were 10 g / l copper as a copper sulfate-based solution, 150 g / l sulfuric acid, and a liquid temperature of 25.
C, electrolysis time was 10 seconds, and current density was 20 A / dm 2 .

【0036】そして、微細銅粒を形成した後に、微細銅
粒の脱落防止と微細銅粒の粒径成長を目的として、被せ
メッキを行った。この被せメッキは、硫酸銅系溶液とし
て、50g/l銅、150g/l硫酸、液温45℃、電
流密度80A/dm、電解時間15秒の平滑メッキ条
件で微細銅粒を被覆するように銅を均一析出させた。以
上のようにして粗化処理層3の形成を行い、水洗した。
After forming the fine copper particles, overcoating was performed for the purpose of preventing the fine copper particles from falling off and increasing the grain size of the fine copper particles. This overcoating is carried out by using a copper sulfate-based solution to coat fine copper particles under smooth plating conditions of 50 g / l copper, 150 g / l sulfuric acid, liquid temperature 45 ° C., current density 80 A / dm 2 , and electrolysis time 15 seconds. Copper was uniformly deposited. The roughening treatment layer 3 was formed as described above and washed with water.

【0037】粗化処理層3の形成が終了すると、第3の
工程として、当該粗化処理層3の上に、銅エッチング液
で浸食することのないエッチングバリア層4を形成し
た。本実施形態におけるエッチングバリア層4は、平面
換算で8.9g/mのニッケル層として形成した。ニ
ッケル電解液を用いて当該溶液中で、対極にステンレス
板を用い、これを圧延銅箔の粗化処理層3を形成した面
と平行して離間配置し、粗化処理層3を形成した圧延銅
箔自体をカソード分極して行った。ここで用いたニッケ
ル電解液及び電解条件は、硫酸ニッケルを用いてニッケ
ル濃度を20g/l、液温35℃、pH3、電流密度5
A/dmの条件とした。以上のようにして、図7
(3)に示すようにエッチングバリア層4を形成し、水
洗した。
When the formation of the roughening treatment layer 3 was completed, as a third step, the etching barrier layer 4 which was not corroded by the copper etching solution was formed on the roughening treatment layer 3. The etching barrier layer 4 in the present embodiment was formed as a nickel layer having a plane conversion of 8.9 g / m 2 . In the solution using a nickel electrolytic solution, a stainless plate was used as a counter electrode, and the stainless plate was placed in parallel with the surface of the rolled copper foil on which the roughening treatment layer 3 was formed, so that the roughening treatment layer 3 was formed. The copper foil itself was cathode-polarized. The nickel electrolytic solution and electrolysis conditions used here are nickel sulfate, nickel concentration 20 g / l, liquid temperature 35 ° C., pH 3, current density 5
The condition was A / dm 2 . As described above, FIG.
The etching barrier layer 4 was formed as shown in (3) and washed with water.

【0038】エッチングバリア層4の形成が終了する
と、第4の工程として、当該エッチングバリア層4の上
に電解法を用いて、3μm厚の第1バルク銅層5の形成
を行った。第1バルク銅層5の形成には、硫酸銅系溶液
を用い、平滑メッキ条件を採用して行った。ここで用い
た硫酸銅溶液の組成及び条件は、濃度が80g/l銅、
150g/l硫酸、液温50℃、電流密度50A/dm
、電解時間30秒の条件とした。
When the formation of the etching barrier layer 4 was completed, as a fourth step, the first bulk copper layer 5 having a thickness of 3 μm was formed on the etching barrier layer 4 by an electrolytic method. The formation of the first bulk copper layer 5 was performed using a copper sulfate-based solution under smooth plating conditions. The composition and conditions of the copper sulfate solution used here are such that the concentration is 80 g / l copper,
150g / l sulfuric acid, liquid temperature 50 ℃, current density 50A / dm
2 and the electrolysis time was 30 seconds.

【0039】以上のようにして、図7(4)に模式的に
示した4層構造の積層状態を備えたことを特徴とする多
層複合材料1aを得た。なお、本実施形態では、更に、
亜鉛を用いて防錆処理を行った。ここでは、アノード電
極として亜鉛板を用いた溶解性アノードを用いて、溶液
内の亜鉛の濃度バランスを維持するものとして行った。
ここでの電解条件は、硫酸亜鉛浴を用い、70g/l硫
酸、20g/l亜鉛の濃度とし、液温40℃、電流密度
15A/dmとした。
As described above, a multi-layer composite material 1a characterized by having a laminated state of a four-layer structure schematically shown in FIG. 7 (4) was obtained. In addition, in the present embodiment,
Anticorrosion treatment was performed using zinc. Here, a soluble anode using a zinc plate was used as the anode electrode to maintain the concentration balance of zinc in the solution.
As electrolysis conditions, a zinc sulfate bath was used, the concentrations of 70 g / l sulfuric acid and 20 g / l zinc were used, the liquid temperature was 40 ° C., and the current density was 15 A / dm 2 .

【0040】そして、図2(b)に示したように、50
cm×50cmサイズの多層複合材料1aの第1バルク
銅層5の表面に、サポート板6として同一サイズの工業
用純アルミ製の1.0mm厚さのアルミニウム板を超音
波溶接法を用いて、3mm幅の外周縁端部7のみを接合
させる方法を採用した。超音波溶接法は、ワークサイズ
の多層複合材料1aの外周縁端部7のみを、回転する円
盤状の溶接チップCとローラアンビルAとで加圧して挟
み込み、30kHzの超音波振動を印加することによ
り、回転する円盤状の溶接チップCとローラアンビルA
とを移動させつつ行った。
Then, as shown in FIG.
A 1.0 mm thick aluminum plate made of industrial pure aluminum of the same size is used as the support plate 6 on the surface of the first bulk copper layer 5 of the multi-layer composite material 1 a having a size of cm × 50 cm by ultrasonic welding. A method of joining only the outer peripheral edge portion 7 having a width of 3 mm was adopted. In the ultrasonic welding method, only the outer peripheral edge portion 7 of the work-size multilayer composite material 1a is pressed and sandwiched by the rotating disk-shaped welding tip C and the roller anvil A, and ultrasonic vibration of 30 kHz is applied. Rotating disk-shaped welding tip C and roller anvil A
I moved while moving.

【0041】サポート板6の張り合わせが終了すると、
第2バルク銅層2の表面にエッチングレジストとしてド
ライフィルムを張り付け、露光、現像し、エッチングす
ることで、バンプ8を形成した。続いて、バンプ8を形
成した面に100μm厚さのプリプレグPを重ね合わ
せ、150℃のプレス温度で積層し、加圧プレス成形す
ることで多層プリント配線板の構成材料OBを得た。
When the attachment of the support plates 6 is completed,
A bump 8 was formed by sticking a dry film as an etching resist on the surface of the second bulk copper layer 2, exposing it, developing it, and etching it. Subsequently, a prepreg P having a thickness of 100 μm was superposed on the surface on which the bumps 8 were formed, laminated at a press temperature of 150 ° C., and press-molded to obtain a constituent material OB of the multilayer printed wiring board.

【0042】第2実施形態: 第1実施形態で製造した
多層プリント配線板の構成材料OBを、更に以下の手順
で加工して、両面プリント配線板DBを製造した。即
ち、バンプ8を貫通させたプリプレグPの面に、公称厚
さ12μmの電解銅箔の接着面を対向して重ね合わせ、
170℃×1時間のプレス成形加工を行い、電解銅箔を
張り合わせ銅箔層9とした。その結果、図4(d)に模
式的に示したようになった。
Second Embodiment: The double-sided printed wiring board DB was manufactured by further processing the constituent material OB of the multilayer printed wiring board manufactured in the first embodiment in the following procedure. That is, the adhesive surface of the electrolytic copper foil having a nominal thickness of 12 μm is faced and overlapped with the surface of the prepreg P having the bumps 8 penetrating,
A press forming process was performed at 170 ° C. for 1 hour, and an electrolytic copper foil was laminated to form a copper foil layer 9. As a result, it became as schematically shown in FIG.

【0043】このプレス加工が終了した後に、サポート
板6を除去した。このときのサポート板6の除去は、ワ
ークサイズの接合した外周縁端部7を切り落とすことに
より、図4(e)に模式的に示すような状態になった。
このサポート板の除去が完了すると、両面に位置する第
1バルク銅層5と銅箔層9との表面に、ドライフィルム
を用いてエッチングレジスト層を形成した。そして、エ
ッチングレジスト層に回路形状を露光現像して、酸性銅
エッチング液を用いてエッチングすることで図4(f)
に模式的に示すように回路10の形成を行い、両面プリ
ント配線板DBを得た。
After this press working was completed, the support plate 6 was removed. At this time, the support plate 6 was removed by cutting off the joined outer peripheral edge portion 7 of the work size to be in a state schematically shown in FIG. 4 (e).
When the removal of the support plate was completed, an etching resist layer was formed using a dry film on the surfaces of the first bulk copper layer 5 and the copper foil layer 9 located on both sides. Then, the circuit shape is exposed and developed on the etching resist layer, and the etching is performed using an acidic copper etching solution.
The circuit 10 was formed as schematically shown in Fig. 1 to obtain a double-sided printed wiring board DB.

【0044】第3実施形態: 上述した多層プリント配
線板の構成材料OBと両面プリント配線板DBとを組み
あわせて用いて、4層の多層プリント配線板MLBを製
造した。4層プリント配線板MLBを製造するために、
図4(f)に模式的に示したように、内層回路をエッチ
ング形成した当該両面プリント配線板DBをコア材とし
て用いた。そして、そのコア材の両面のそれぞれに当該
多層プリント配線板の構成材料OBのプリプレグPから
バンプ8の先端部が突出した面を対向して重ね合わせ
て、サポート板6が存在する状態で、170℃×60分
のプレス加工を行った。
Third Embodiment: A four-layered multilayer printed wiring board MLB was manufactured by using the above-mentioned constituent material OB of the multilayer printed wiring board and the double-sided printed wiring board DB in combination. In order to manufacture a 4-layer printed wiring board MLB,
As schematically shown in FIG. 4F, the double-sided printed wiring board DB having the inner layer circuit formed by etching was used as a core material. Then, the surfaces where the tip portions of the bumps 8 project from the prepreg P of the constituent material OB of the multilayer printed wiring board are overlapped on both sides of the core material so as to face each other, and 170 Pressing was performed at 60 ° C. for 60 minutes.

【0045】プレス加工が終了すると、この段階で両面
に位置するサポート板6を除去し、図6(h)に模式的
に示したように多層プリント配線板の構成材料OBに由
来する第1バルク銅層5を両面に露出させた。サポート
板6の除去は、積層した状態で外周縁端部7の接続部位
を切り落とすことにより行った。
When the press working is completed, the support plates 6 located on both sides are removed at this stage, and the first bulk derived from the constituent material OB of the multilayer printed wiring board is schematically shown in FIG. 6 (h). The copper layer 5 was exposed on both sides. The support plate 6 was removed by cutting off the connection part of the outer peripheral edge portion 7 in a laminated state.

【0046】そして、両面に露出した第1バルク銅層5
の表面に、ドライフィルムを用いてエッチングレジスト
層を形成し、外層回路形状を露光現像し、エッチングす
ることで、図6(i)に示したような4層プリント配線
板MLBを得た。
The first bulk copper layer 5 exposed on both sides
A four-layer printed wiring board MLB as shown in FIG. 6 (i) was obtained by forming an etching resist layer on the surface of the above with a dry film, exposing and developing the outer layer circuit shape, and etching.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明に係る多層複合材料を用いた製造
方法を採用することで、多層複合材料の回路形成用銅箔
が従来不可能であった18μm未満の厚さでも多層プリ
ント配線板の構成材料及び両面プリント配線板の製造が
可能となり、それぞれにファインピッチ回路の形成歩留
まり及びエッチング信頼性を飛躍的に向上させることが
できるのである。
By employing the manufacturing method using the multilayer composite material according to the present invention, it is possible to obtain a multilayer printed wiring board having a thickness of less than 18 μm, which has been impossible in the conventional copper foil for forming a circuit of the multilayer composite material. It is possible to manufacture the constituent materials and the double-sided printed wiring board, and it is possible to dramatically improve the formation yield and the etching reliability of the fine pitch circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】多層複合材料の基本層構成及びそのバリエーシ
ョン例を表す模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic layer configuration of a multilayer composite material and variations thereof.

【図2】多層複合材料の多層プリント配線板への加工過
程を表す模式図。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a process of processing a multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図3】多層複合材料の多層プリント配線板への加工過
程を表す模式図。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a process of processing a multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図4】多層複合材料の多層プリント配線板への加工過
程を表す模式図。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a process of processing a multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図5】多層複合材料の多層プリント配線板への加工過
程を表す模式図。
FIG. 5 is a schematic view showing a process of processing a multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図6】多層複合材料の多層プリント配線板への加工過
程を表す模式図。
FIG. 6 is a schematic view showing a process of processing a multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図7】多層複合材料の製造過程を表す模式図。FIG. 7 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a multilayer composite material.

【図8】従来の多層複合材料の製造過程を表す模式図。FIG. 8 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a conventional multilayer composite material.

【図9】従来の多層複合材料の多層プリント配線板への
加工過程を表す模式図。
FIG. 9 is a schematic view showing a process of processing a conventional multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図10】従来の多層複合材料の多層プリント配線板へ
の加工過程を表す模式図。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a process of processing a conventional multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【図11】従来の多層複合材料の多層プリント配線板へ
の加工過程を表す模式図。
FIG. 11 is a schematic diagram showing a process of processing a conventional multilayer composite material into a multilayer printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a 多層複合材料 2 第2バルク銅層 3 粗化処理層 4 エッチングバリア層 5 第1バルク銅層 6 サポート板 7 外周縁端部 8 バンプ 9 銅箔層 10 回路 P 誘電体シート(プリプレグ) C 溶接チップ A ローラアンビル OB 多層プリント配線板の構成材料 MLB 多層プリント配線板(4層プリント配線板) 1,1a Multilayer composite material 2 Second bulk copper layer 3 Roughening layer 4 Etching barrier layer 5 First bulk copper layer 6 Support plate 7 Outer peripheral edge 8 bumps 9 Copper foil layer 10 circuits P Dielectric sheet (prepreg) C welding tip A Laura Anvil OB Multilayer printed wiring board material MLB Multi-layer printed wiring board (4 layers printed wiring board)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/40 H05K 3/40 Z Fターム(参考) 4E351 AA01 BB01 BB23 BB24 BB30 BB33 BB38 CC17 DD04 DD19 DD52 DD54 GG06 5E317 AA24 BB01 BB12 BB15 CC52 CD25 CD31 GG14 5E339 AB02 AC01 AD03 AD05 BC01 BC02 BD03 BD06 BD11 BE11 FF02 5E346 AA06 AA12 AA15 AA35 AA43 BB01 CC02 CC08 CC32 CC37 DD02 DD32 EE02 EE06 EE07 EE09 EE31 FF24 FF35 GG02 GG22 GG28 HH26 HH33 (54)【発明の名称】 多層プリント配線板の構成材料及び両面プリント配線板の製造方法、その製造方法で得られた多 層プリント配線板の構成材料及び両面プリント配線板、並びにそれらを用いて得られる多層プリ ント配線板─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/40 H05K 3/40 Z F term (reference) 4E351 AA01 BB01 BB23 BB24 BB30 BB33 BB38 CC17 DD04 DD19 DD52 DD54 GG06 5E317 AA24 BB01 BB12 BB15 CC52 CD25 CD31 GG14 5E339 AB02 AC01 AD03 AD05 BC01 BC02 BD03 BD06 BD11 BE11 FF02 5E346 AA06 AA12 AA15 AA35 AA43 BB01 CC02 CC08 CC32. Title: Composition material for multilayer printed wiring board, method for manufacturing double-sided printed wiring board, constituent material for multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method, double-sided printed wiring board, and multilayer obtained using them Printed wiring board

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも回路パターンを形成するため
の第1バルク銅層、プリント配線板の層間導通を得るた
めのバンプを形成するための第2バルク銅層及び第1バ
ルク銅層と第2バルク銅層との間に存在するエッチング
バリア層を積層した構造を持つ多層複合材料とサポート
板とを用いて多層プリント配線板の構成材料を製造する
方法であって、 ワークサイズとした当該多層複合材料の第1バルク銅層
の表面にサポート板を張り合わせ、 当該第2バルク銅層をエッチングしてバンプを形成し、 当該バンプを形成した面に誘電体シートを重ね、誘電体
シートの構成樹脂を軟化させプレスすることで、誘電体
シートにバンプを貫通させることを特徴とする、第1バ
ルク銅層の片面側に多層プリント配線板の層間導通導体
となるバンプを備え、他面側にサポート板を張り合わせ
た状態の多層プリント配線板の構成材料の製造方法。
1. A first bulk copper layer for forming at least a circuit pattern, a second bulk copper layer for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a printed wiring board, a first bulk copper layer and a second bulk. A method for producing a constituent material for a multilayer printed wiring board using a support board and a multilayer composite material having a structure in which an etching barrier layer existing between a copper layer and the support layer is provided, the multilayer composite material having a work size. A support plate is attached to the surface of the first bulk copper layer, the second bulk copper layer is etched to form bumps, a dielectric sheet is overlaid on the surface on which the bumps are formed, and the constituent resin of the dielectric sheet is softened. Then, by pressing the bumps through the dielectric sheet, a bump serving as an interlayer conductive conductor of the multilayer printed wiring board is provided on one side of the first bulk copper layer, A method for manufacturing a constituent material of a multilayer printed wiring board in which a support board is attached to the other surface side.
【請求項2】 多層複合材料は、回路パターンを形成す
るための第1バルク銅層/エッチングバリア金属層/粗
化処理層/両面プリント配線板の層間導通を得るための
バンプを形成するために用いる第2バルク銅層の積層構
造を持つ物である請求項1に記載の多層プリント配線板
の構成材料の製造方法。
2. The multi-layer composite material is for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a first bulk copper layer / etching barrier metal layer / roughening treatment layer / double-sided printed wiring board for forming a circuit pattern. The method for producing a constituent material of a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is a material having a laminated structure of a second bulk copper layer used.
【請求項3】 第1バルク銅層は、公称厚さ18μm未
満の銅箔層である請求項1又は請求項2に記載の多層プ
リント配線板の構成材料の製造方法。
3. The method for producing a constituent material for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the first bulk copper layer is a copper foil layer having a nominal thickness of less than 18 μm.
【請求項4】 第2バルク銅層は、公称厚さ50μm以
上の銅箔層である請求項1〜請求項3のいずれかに記載
の多層プリント配線板の構成材料の製造方法。
4. The method for producing a constituent material of a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the second bulk copper layer is a copper foil layer having a nominal thickness of 50 μm or more.
【請求項5】 ワークサイズの当該多層複合材料の第1
バルク銅層表面へのサポート板の張り付けは、 当該多層複合材料のワークサイズと略同サイズのサポー
ト板とを重ねて、外周縁端部のみを接着させるものであ
る請求項1〜請求項4のいずれかに記載の多層プリント
配線板の構成材料の製造方法。
5. The first of said multi-layer composite material of work size.
The sticking of the support plate to the surface of the bulk copper layer is to overlap a work plate of the multilayer composite material with a support plate of substantially the same size and to bond only the outer peripheral edge portion. A method for manufacturing a constituent material for a multilayer printed wiring board according to any one of claims.
【請求項6】 サポート板は、アルミニウム板である請
求項1〜請求項5のいずれかに記載の多層プリント配線
板の構成材料の製造方法。
6. The method for manufacturing a constituent material of a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the support board is an aluminum board.
【請求項7】 両面に回路を備え、当該両面の回路間の
層間導通導体であるバンプを備えた両面プリント配線板
の製造方法において、 少なくとも回路パターンを形成するための第1バルク銅
層、両面プリント配線板の層間導通を得るためのバンプ
を形成するための第2バルク銅層及び第1バルク銅層と
第2バルク銅層との間に存在するエッチングバリア層を
積層した構造を持つ多層複合材料を用い、 ワークサイズとした当該多層複合材料の第1バルク銅層
の表面にサポート板を張り合わせ、 当該第2バルク銅層をエッチングしてバンプを形成し、 当該バンプを形成した面に誘電体シートを重ね、誘電体
シートの構成樹脂を軟化させプレスすることで、誘電体
シートの構成樹脂の半硬化状態を維持してバンプを貫通
させ、 バンプを貫通させた誘電体シート面に、銅箔の接着面を
対向して重ね合わせてプレス加工し銅箔層を形成し、 その後、サポート板を除去し、両面に位置する第1バル
ク銅層と銅箔層をエッチングして回路を形成して得られ
ることを特徴とする層間導通導体であるバンプを備えた
両面プリント配線板の製造方法。
7. A method of manufacturing a double-sided printed wiring board comprising circuits on both sides and bumps which are interlayer conductive conductors between the circuits on both sides, wherein at least a first bulk copper layer for forming a circuit pattern, both sides. A multilayer composite having a structure in which a second bulk copper layer for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a printed wiring board and an etching barrier layer existing between the first bulk copper layer and the second bulk copper layer are laminated. Using a material, a support plate is attached to the surface of the first bulk copper layer of the multilayer composite material having a work size, the second bulk copper layer is etched to form bumps, and a dielectric is formed on the surface on which the bumps are formed. By stacking sheets, softening and pressing the constituent resin of the dielectric sheet, the semi-cured state of the constituent resin of the dielectric sheet was maintained and the bumps were penetrated, and the bumps were penetrated. On the surface of the electric sheet, the adhesive surfaces of the copper foils are faced to each other and pressed to form a copper foil layer, then the support plate is removed, and the first bulk copper layer and the copper foil layer located on both sides are removed. A method for manufacturing a double-sided printed wiring board having bumps, which are interlayer conductive conductors, obtained by etching to form a circuit.
【請求項8】 多層複合材料は、回路パターンを形成す
るための第1バルク銅層/エッチングバリア金属層/粗
化処理層/両面プリント配線板の層間導通を得るための
バンプを形成するために用いる第2バルク銅層の積層構
造を持つ多層複合材料である請求項7に記載の層間導通
導体であるバンプを備えた両面プリント配線板の製造方
法。
8. The multilayer composite material is for forming bumps for obtaining interlayer conduction of a first bulk copper layer / etching barrier metal layer / roughening treatment layer / double-sided printed wiring board for forming a circuit pattern. The method for manufacturing a double-sided printed wiring board having bumps which are interlayer conductive conductors according to claim 7, which is a multilayer composite material having a laminated structure of a second bulk copper layer used.
【請求項9】 第1バルク銅層は、公称厚さ18μm未
満の銅箔層である請求項7又は請求項8に記載の層間導
通導体であるバンプを備えた両面プリント配線板の製造
方法。
9. The method for manufacturing a double-sided printed wiring board having bumps which are interlayer conductive conductors according to claim 7, wherein the first bulk copper layer is a copper foil layer having a nominal thickness of less than 18 μm.
【請求項10】第2バルク銅層は、公称厚さ50μm以
上の銅箔層である請求項7〜請求項9のいずれかに記載
の層間導通導体であるバンプを備えた両面プリント配線
板の製造方法。
10. The double-sided printed wiring board having bumps, which is an interlayer conductive conductor according to claim 7, wherein the second bulk copper layer is a copper foil layer having a nominal thickness of 50 μm or more. Production method.
【請求項11】ワークサイズの当該多層複合材料の第1
バルク銅層表面へのサポート板の張り付けは、 当該多層複合材料のワークサイズと同様のサイズのサポ
ート板とを重ねて、外周縁端部のみを接着させるもので
ある請求項7〜請求項10のいずれかに記載の層間導通
導体であるバンプを備えた両面プリント配線板の製造方
法。
11. The first of said multi-layer composite material of work size.
The attachment of the support plate to the surface of the bulk copper layer is performed by stacking a support plate having a size similar to the work size of the multilayer composite material and adhering only the outer peripheral edge portion. A method of manufacturing a double-sided printed wiring board, comprising a bump which is the interlayer conductive conductor according to any one of the claims.
【請求項12】サポート板は、アルミニウム板である請
求項7〜請求項11のいずれかに記載の層間導通導体で
あるバンプを備えた両面プリント配線板の製造方法。
12. A method of manufacturing a double-sided printed wiring board having bumps which are interlayer conductive conductors according to claim 7, wherein the support plate is an aluminum plate.
【請求項13】請求項1〜請求項6のいずれかに記載の
製造方法で得られる多層プリント配線板の構成材料。
13. A constituent material for a multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method according to claim 1.
【請求項14】請求項7〜請求項12のいずれかに記載
の製造方法で得られた層間導通導体であるバンプを備え
た両面プリント配線板
14. A double-sided printed wiring board having bumps, which are interlayer conductive conductors, obtained by the manufacturing method according to claim 7.
【請求項15】 請求項13に記載の層間導通導体を備
えた外層構成用材料と、請求項14に記載の層間導通導
体を備えた両面プリント配線板とを組みあわせて積層し
て得られる3層以上の多層プリント配線板。
15. An outer layer constituting material comprising the interlayer conducting conductor according to claim 13 and a double-sided printed wiring board comprising the interlayer conducting conductor according to claim 14 are combined and laminated to obtain 3. Multi-layer printed wiring board with more layers.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005136207A (en) * 2003-10-30 2005-05-26 North:Kk Wiring circuit board, method for manufacturing same and method for manufacturing multilayer wiring board
JPWO2006028090A1 (en) * 2004-09-06 2008-07-31 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド Member for connecting wiring films and method of manufacturing the same
CN104684263A (en) * 2013-11-29 2015-06-03 深南电路有限公司 Processing method of female and male thick copper circuit board
WO2023221809A1 (en) * 2022-05-19 2023-11-23 世大新材料(深圳)有限公司 Multilayer board production line and multilayer circuit board processing method

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005136207A (en) * 2003-10-30 2005-05-26 North:Kk Wiring circuit board, method for manufacturing same and method for manufacturing multilayer wiring board
JP4523261B2 (en) * 2003-10-30 2010-08-11 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド Wiring circuit board, method for manufacturing wiring circuit board, and method for manufacturing multilayer wiring board
JPWO2006028090A1 (en) * 2004-09-06 2008-07-31 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド Member for connecting wiring films and method of manufacturing the same
CN104684263A (en) * 2013-11-29 2015-06-03 深南电路有限公司 Processing method of female and male thick copper circuit board
WO2023221809A1 (en) * 2022-05-19 2023-11-23 世大新材料(深圳)有限公司 Multilayer board production line and multilayer circuit board processing method

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