JP5170872B2 - Multilayer printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、多層プリント基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a multilayer printed circuit board and a method for manufacturing the same.
従来、多層プリント基板の製造方法として、例えば特許文献1、特許文献2等に開示された多層基板の製造方法がある。
Conventionally, as a method for manufacturing a multilayer printed board, for example, there are methods for manufacturing a multilayer board disclosed in Patent Document 1,
特許文献1には、層間接続をした複数の両面基板を製造し、この複数の両面基板を層間接続可能な処理をしたフィルム状絶縁体を介して積層することで、基板の両面に電極を有する多層基板を製造する方法が開示されている。 In Patent Document 1, a plurality of double-sided substrates with interlayer connection are manufactured, and the plurality of double-sided substrates are stacked via a film-like insulator that has been processed to allow interlayer connection, thereby having electrodes on both sides of the substrate. A method of manufacturing a multilayer substrate is disclosed.
特許文献2には、樹脂フィルムの片面にのみ導体パターンが形成された片面導体パターンフィルムを積層し、電極が露出するように樹脂フィルムを除去することで、両面に電極を有する多層基板を製造する方法が開示されている。また、特許文献2には、多層基板表面をなす片面導体パターンフィルムを除いて、片面導体パターンフィルムには、導体パターンを底面とする有底ビアホールが形成され、その有底ビアホール内に導電ペーストを充填することにより、この導電ペーストを介して隣接する片面導体パターンフィルム同士の導体パターンを導通させる技術が開示されている。これによると、多層基板の各導体パターン層間をビアホール内の導電ペーストにより導通させることができる。
ところで、上記特許文献1及び2に開示された従来技術では、いずれの従来技術でも、ビアホール内の導電ペーストのみを各導体パターン層間の層間接続に用いる構成であるため、電気的に全ての層間接続をとるのが難しく、層間接続信頼性が低い。
By the way, in the prior arts disclosed in
導電ペーストのみを層間接続に用いる場合、熱融着プレスの温度、圧力の制御が難しく、電気的に全ての層間接続をとることは困難であった。特に熱可塑性樹脂を用いると、融着プレス時にフィルムが変形しやすく、多層基板としての厚さにバラツキが発生する不具合が顕著であった。 When only the conductive paste is used for interlayer connection, it is difficult to control the temperature and pressure of the heat fusion press, and it is difficult to electrically connect all interlayer connections. In particular, when a thermoplastic resin is used, the film is likely to be deformed at the time of fusion press, and there is a remarkable problem that the thickness of the multilayer substrate varies.
本発明は、このような従来の問題点に鑑みて為されたもので、その目的は、層間接続信頼性が高い多層プリント基板およびその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such conventional problems, and an object thereof is to provide a multilayer printed board having high interlayer connection reliability and a method for manufacturing the same.
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明に係る多層プリント基板は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールの内壁に前記導体パターンと一体に形成された第1の導体とをそれぞれ有する樹脂フィルムが複数枚重ね合わされており、複数の前記樹脂フィルムのうちの隣接する2つの樹脂フィルム間に、対向する2つの前記導体パターンと金属間結合した第2の導体が設けられており、前記導体パターンと前記第1の導体は、Ni−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより形成された下地金属層と、該下地金属層上に形成された導体層とを有し、前記導体パターンが前記導体層に形成されており、前記樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a multilayer printed board according to the invention described in claim 1 is formed integrally with the conductor pattern on the through hole, the conductor pattern formed on both sides, and the inner wall of the through hole. and a resin film having a first and a conductor each are superposed several sheets double, between two adjacent resin films of the plurality of the resin film, the bonded between two of the conductor pattern and the metal facing 2 The conductor pattern and the first conductor are plated with a Ni—P alloy and heated at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. A conductive layer formed on the underlying metal layer, the conductive pattern is formed on the conductive layer, and the resin film has a glass transition point and a melting point of 150 ° C. or higher. Characterized in that it is a thermoplastic resin is 50 ° C. or less.
この構成によれば、第1の導体により各樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが第2の導体により電気的に接続される。このように、スルーホールの内壁に形成された第1の導体(導電スルーホール)と、隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した第2の導体とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、樹脂フィルム両面の導体パターンとスルーホール内壁の第1の導体は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。導体パターンと第1の導体とを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の樹脂フィルムとの密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。また、樹脂フィルムと、その両面およびスルーホール内壁に形成される導体との間に接着層を用いる必要がなくなり、その分工程数を削減できる。 According to this configuration, the conductor patterns on both sides of each resin film are electrically connected by the first conductor, and two conductor patterns facing each other between two adjacent resin films among the plurality of resin films are the first. The two conductors are electrically connected. In this way, the first conductor (conductive through hole) formed on the inner wall of the through hole and the second conductor that is bonded between the two conductive patterns facing each other between the two adjacent resin films are connected to each other between the layers. Since the structure is used for connection, the interlayer connection reliability is high. Moreover, since the conductor pattern on both surfaces of the resin film and the first conductor on the inner wall of the through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. By making the conductor pattern and the first conductor into a two-layer structure having a base metal layer and a conductor layer, the adhesion between the conductor layer and the resin film is improved, so that the interlayer connection reliability is further improved. Further, it is not necessary to use an adhesive layer between the resin film and the conductors formed on both surfaces and the inner wall of the through hole, and the number of steps can be reduced accordingly.
請求項2に記載の発明に係る多層プリント基板は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールの内壁に前記導体パターンと一体に形成された第1の導体とを有する複数の第1の樹脂フィルムと、ビアホールを有し、両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルムとが交互に重ね合わされており、前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとは、同じフィルム基材で構成されており、前記ビアホール内に充填された導電ペースト或いは金属粉が、前記複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの前記第1の樹脂フィルム間で対向する2つの前記導体パターンと金属間結合しており、前記導体パターンと前記第1の導体は、Ni−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより形成された下地金属層と、該下地金属層上に形成された導体層とを有し、前記導体パターンが前記導体層に形成されており、前記第1の樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする。 A multilayer printed circuit board according to a second aspect of the present invention includes a plurality of through holes, a conductor pattern formed on both sides, and a first conductor formed integrally with the conductor pattern on the inner wall of the through hole. The first resin film and the second resin film having via holes and having no conductor pattern on each side are alternately overlapped, and the first resin film and the second resin film are the same The conductive paste or metal powder filled in the via hole is formed of a film base material, and two adjacent first resin films of the plurality of first resin films are opposed to each other. is bound between the conductor pattern and the metal, the first conductor and the conductor pattern is heated for 30 seconds to 30 minutes at 230 ° C. to 250 DEG ° C. plated with Ni-P alloy And a conductor layer formed on the foundation metal layer, the conductor pattern is formed on the conductor layer, and the first resin film has a glass transition point. And a thermoplastic resin having a melting point of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower .
この構成によれば、第1の導体により各樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが導電ペースト或いは金属粉により電気的に接続される。このように、スルーホールの内壁に形成された第1の導体と、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電ペースト或いは金属粉とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、樹脂フィルム両面の導体パターンとスルーホール内壁の第1の導体は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。導体パターンと第1の導体とを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の樹脂フィルムとの密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。また、第1の樹脂フィルムと、その両面およびスルーホール内壁に形成される導体との間に接着層を用いる必要がなくなり、その分工程数を削減できる。 According to this configuration, the conductive patterns on both sides of each resin film are electrically connected by the first conductor, and the two adjacent first resin films are opposed to each other among the plurality of first resin films. Two conductor patterns are electrically connected by a conductive paste or metal powder. In this way, the first conductor formed on the inner wall of the through hole, the two conductive patterns facing each other between the two adjacent first resin films, and the conductive paste or metal powder bonded between the metals are connected between the layers. Therefore, the interlayer connection reliability is high. Moreover, since the conductor pattern on both surfaces of the resin film and the first conductor on the inner wall of the through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. By making the conductor pattern and the first conductor into a two-layer structure having a base metal layer and a conductor layer, the adhesion between the conductor layer and the resin film is improved, so that the interlayer connection reliability is further improved. Moreover, it is not necessary to use an adhesive layer between the first resin film and the conductors formed on both sides and the inner wall of the through hole, and the number of steps can be reduced accordingly.
請求項3に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記導電ペーストが少なくともSn,Cu,Agを含む金属粉からなることを特徴とする。 The multilayer printed board according to the invention described in claim 3 is characterized in that the conductive paste is made of metal powder containing at least Sn, Cu, and Ag.
上記課題を解決するために、請求項4に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールの内壁に前記導体パターンと一体に形成された第1の導体とを有する樹脂フィルムを作製する工程と、導電ペースト或いは金属粉からなる第2の導体を、隣接する2つの前記樹脂フィルムの導体パターン間に介在させて、複数の前記樹脂フィルムを積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、を備え、前記樹脂フィルムを作製する工程において、樹脂フィルムの両面および前記スルーホール内壁に無電解めっきによってNi−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体層を形成した後、該導体層に前記樹脂フィルムの両面の導体パターンを形成し、前記樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problem, a method for manufacturing a multilayer printed board according to claim 4 includes a through hole, a conductor pattern formed on both sides, and an integral part of the conductor pattern on the inner wall of the through hole. A step of producing a resin film having a formed first conductor, and a second conductor made of a conductive paste or metal powder are interposed between the conductive patterns of two adjacent resin films, so that a plurality of a resin film overlaid seen product, and a step of superposing by heat fusion press these laminates, in the step of preparing the resin film by electroless plating on both surfaces and the through hole inner wall of the resin film Ni- A base metal layer is formed by plating with P alloy and heating at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes, and electricity is formed on the base metal layer. After forming the conductive layer by Kki, forming a double-sided conductor pattern of the resin film on the conductor layer, the resin film has a glass transition point and melting point of the thermoplastic resin is 0.99 ° C. or higher 350 ° C. or less It is characterized by that.
この構成によれば、第1の導体により各樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが第2の導体により電気的に接続される。このように、スルーホールの内壁に形成された第1の導体と、隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電ペースト或いは金属粉とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、樹脂フィルム両面の導体パターンとスルーホール内壁の第1の導体は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。さらに、層間接続をとる第1の導体と導電ペーストとが交互に積層するため、熱融着プレス時に、導電ペーストへの圧力が均一になりやすく、層間接続信頼性が高い。導体パターンと第1の導体とを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の密着性が良くなる。これにより、層間接続信頼性がさらに向上する。また、下地金属層は無電解めっきにより形成するので、導体パターンと第1の導体の導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターンを形成することができる。これに対して、上記特許文献1,2に開示された従来技術では、銅箔をフィルムに融着プレスしてから導体パターンを形成するため、銅箔の厚さに制限があり、微細加工に向かない。さらに、導体パターンと導電スルーホールは同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターンと第1の導体の導体厚が均一になる。
According to this configuration, the conductor patterns on both sides of each resin film are electrically connected by the first conductor, and two conductor patterns facing each other between two adjacent resin films among the plurality of resin films are the first. The two conductors are electrically connected. As described above, the first conductor formed on the inner wall of the through hole, the two conductive patterns facing each other between the two adjacent resin films, and the conductive paste or metal powder bonded between the metals are used for interlayer connection. Therefore, the interlayer connection reliability is high. Moreover, since the conductor pattern on both surfaces of the resin film and the first conductor on the inner wall of the through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. Furthermore, since the first conductors and the conductive paste that take the interlayer connection are alternately laminated, the pressure on the conductive paste tends to be uniform at the time of heat fusion pressing, and the interlayer connection reliability is high. By making the conductor pattern and the first conductor into a two-layer structure having a base metal layer and a conductor layer, the adhesion of the conductor layer is improved. Thereby, the interlayer connection reliability is further improved. Moreover, since the base metal layer is formed by electroless plating, the conductor thickness of the conductor pattern and the first conductor can be reduced. Thereby, a fine conductor pattern can be formed. On the other hand, in the prior art disclosed in
上記課題を解決するために、請求項5に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールの内壁に前記導体パターンの導体と一体に形成された第1の導体とを有する第1の樹脂フィルムを作製する工程と、ビアホールを有し、両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルムを作製する工程と、前記ビアホールの開口端が前記導体パターンと接するように、前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとを熱融着して単位ユニットを作製する工程と、前記ビアホール内に導電ペースト或いは金属粉を充填した後、複数の前記単位ユニットを積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、を備え、前記第1の樹脂フィルムを作製する工程において、樹脂フィルムの両面および前記スルーホール内壁に無電解めっきによってNi−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体層を形成した後、該導体層に前記第1の樹脂フィルムの両面の導体パターンを形成し、前記第1の樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であり、前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとは、同じフィルム基材で構成されていることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problem, a method for manufacturing a multilayer printed board according to claim 5 includes a through hole, a conductor pattern formed on both sides, and a conductor of the conductor pattern on an inner wall of the through hole. A step of producing a first resin film having a first conductor formed integrally; a step of producing a second resin film having via holes and having no conductor pattern on both sides; and an opening end of the via hole After the first resin film and the second resin film are heat-sealed so as to be in contact with the conductor pattern, a unit unit is formed, and the via hole is filled with a conductive paste or metal powder stacking a plurality of the basic units, and a step of superposing by heat fusion press these laminates, Contact the step of producing the first resin film Then, both surfaces of the resin film and the inner wall of the through hole are plated with a Ni—P alloy by electroless plating, and heated at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes to form a base metal layer. After forming a conductor layer on the layer by electroplating, a conductor pattern on both sides of the first resin film is formed on the conductor layer, and the first resin film has a glass transition point and a melting point of 150 ° C. or higher and 350 ° C. The first resin film and the second resin film are made of the same film base material .
この構成によれば、第1の導体により各樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが導電ペースト或いは金属粉により電気的に接続される。このように、スルーホールの内壁に形成された第1の導体(導電スルーホール)と、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電ペースト或いは金属粉とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム両面の導体パターンとスルーホール内壁の第1の導体は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。さらに、層間接続をとる第1の導体と導電ペーストとが交互に積層するため、熱融着プレス時に、導電ペーストへの圧力が均一になりやすく、層間接続信頼性が高い。導体パターンと第1の導体とを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の密着性が良くなる。これにより、層間接続信頼性がさらに向上する。また、下地金属層は無電解めっきにより形成するので、導体パターンと第1の導体の導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターンを形成することができる。これに対して、上記特許文献1,2に開示された従来技術では、銅箔をフィルムに融着プレスしてから導体パターンを形成するため、銅箔の厚さに制限があり、微細加工に向かない。さらに、導体パターンと導電スルーホールは同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターンと第1の導体の導体厚が均一になる。
According to this configuration, the conductive patterns on both sides of each resin film are electrically connected by the first conductor, and the two adjacent first resin films are opposed to each other among the plurality of first resin films. Two conductor patterns are electrically connected by a conductive paste or metal powder. In this way, the first conductor (conductive through hole) formed on the inner wall of the through hole and the two conductive patterns facing each other between the two adjacent first resin films and the conductive paste or metal powder bonded between the metals. Are used for the interlayer connection, and thus the interlayer connection reliability is high. Moreover, since the conductor pattern on both surfaces of the first resin film and the first conductor on the inner wall of the through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. Furthermore, since the first conductors and the conductive paste that take the interlayer connection are alternately laminated, the pressure on the conductive paste tends to be uniform at the time of heat fusion pressing, and the interlayer connection reliability is high. By making the conductor pattern and the first conductor into a two-layer structure having a base metal layer and a conductor layer, the adhesion of the conductor layer is improved. Thereby, the interlayer connection reliability is further improved. Moreover, since the base metal layer is formed by electroless plating, the conductor thickness of the conductor pattern and the first conductor can be reduced. Thereby, a fine conductor pattern can be formed. On the other hand, in the prior art disclosed in
本発明によれば、層間接続信頼性が高い多層プリント基板を得ることができる。 According to the present invention, a multilayer printed board having high interlayer connection reliability can be obtained.
次に、本発明を具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態の説明において同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。 Next, embodiments embodying the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of each embodiment, similar parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(第1実施形態)
第1実施形態に係る多層プリント基板を図1乃至図6に基づいて説明する。
(First embodiment)
A multilayer printed circuit board according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.
図1は第1実施形態に係る多層プリント基板の一部の概略構成を示す断面図、図2は図1の一部を拡大して示した部分断面図である。図3乃至図6は多層プリント基板の製造方法を説明するための工程図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a part of the multilayer printed board according to the first embodiment, and FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing an enlarged part of FIG. 3 to 6 are process diagrams for explaining a method of manufacturing a multilayer printed board.
図1に示す多層プリント基板10は、一例として6層の多層プリント基板に形成されている。この多層プリント基板10は、スルーホール11と、両面に形成された導体パターン12と、スルーホール11の内壁に導体パターン12と一体に形成された第1の導体である導電スルーホール14とを有する第1の樹脂フィルム15と、ビアホール21を有し、両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルム22とが交互に重ね合わされている。第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22は、両側に第1の樹脂フィルム15が位置するように、交互に重ね合わされている。
A multilayer printed
また、多層プリント基板10では、ビアホール21内に充填された第2の導体である導電ペースト23が、3つの樹脂フィルムのうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム15,15間で対向する2つの導体パターン12,12と金属間結合している。これにより、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15,15間で対向する2つの導体パターン12,12が、導電ペースト23により、電気的に接続されると共に機械的に結合されている。
Further, in the multilayer printed
さらに、多層プリント基板10は、その両側にある第1の樹脂フィルム15,15の一方の導体パターン12全体を覆うレジスト膜41と、その他方の導体パターン12全体を覆うレジスト膜42とを備えている。レジスト膜41,42には、導体パターン12の一部(電極となる箇所)を露出させるための貫通孔41a,42aがそれぞれ形成されている。
Furthermore, the multilayer printed
第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41,42は、例えば同じフィルム基材で構成されている。フィルム基材は、一般的なガラス布基材エポキシ樹脂やBTレジンなどを用いてもよいが、融着プレスで複数枚接合させる観点からは、フィルム基材に熱可塑性樹脂を用いた方が好都合である。熱可塑性フィルムのなかでは、液晶ポリマーフィルム,PEEK(Polyetheretherketone),PES(Polyethersulfone),PPE(Polyphenyeneether),PTFE(Polytetrafluoroethylene)などがあげられる。また、熱可塑性ポリイミドを用いてもよい。
The
各第1の樹脂フィルム15の導体パターン12と導電スルーホール14は、一つの導体13に形成されている。この導体13は、図2に示すように、下地金属層13aと、下地金属層13a上に形成された導体層13bとを有する。導体パターン12は、各第1の樹脂フィルム15の両面にある導体13の導体層13bに形成されている。
The
以上の構成を有する多層プリント基板10は、3つの第1の樹脂フィルム15と2つの第2の樹脂フィルム22を図1に示すように交互に重ね合わせ、さらに、両側にレジスト膜41,42を配置した状態で、熱融着プレスによって作製される。この熱融着プレスにより、第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22およびレジスト膜41,42の隣接するもの同士を融着させると共に、第2の樹脂フィルム22のスルーホール21に充填した導電ペースト23を硬化させる。これにより、各導電ペースト23により、その上下にある対向する2つの導電パターン12,12が電気的に接続させると共に、機械的に結合される。
In the multilayer printed
この多層プリント基板10では、スルーホール11の内壁に形成された導電スルーホール14と導電ペースト23とを、層間接続に用いている。
In the multilayer printed
次に、上記構成を有する多層プリント基板10の製造方法を、図3乃至図6に基づいて説明する。
Next, a method for manufacturing the multilayer printed
(1)まず、スルーホール11と、両面に形成された導体パターン12と、スルーホール11の内壁に導体パターン12の導体と一体に形成された導電スルーホール14とを有する第1の樹脂フィルム15を作製する工程を実施する。
(1) First, the
この工程では、まず、図3(A)に示す第1の樹脂フィルム15に、スルーホール11を穴あけ加工により形成する(図3(B)参照)。
In this step, first, a through
次に、図3(C)に示すように、第1の樹脂フィルム15の両面およびスルーホール11の内壁に、下地金属層13aとこの下地金属層13a上に形成された導体層13bとを有する導体13(図2参照)を形成する。下地金属層13aは無電解めっき処理により形成する。また、導体層13bは電気めっき処理により形成する。
Next, as shown in FIG. 3C, the
次に、導体13のうち、第1の樹脂フィルム15の両面にある導体13の導体層13b(図2参照)に、導電パターン12を形成する(図3(D)参照)。
Next, the
(2)次に、ビアホール21を有し、両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルム22を作製する工程を実施する。
(2) Next, the process of producing the
この工程では、図4(A)に示す第1の樹脂フィルム22に、ビアホール21を穴あけ加工により形成する(図4(B)参照)。
In this step, via
(3)次に、図5(A)に示すように、ビアホール21の開口端が導体パターン12と接するように、第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22とを熱融着して単位ユニットを作製する工程を実施する。
(3) Next, as shown in FIG. 5A, the
または、先に樹脂フィルム22を第一の樹脂フィルム15に熱融着してから、穴あけ加工してビアホール21を形成してもよい。
Alternatively, the via
(4)次に、ビアホール21内に導電ペースト23を充填する(図5B)参照)。
(5)次に、複数の単位ユニット30を積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程を実施する。
(4) Next, the
(5) Next, a plurality of
この工程では、レジスト膜42、第1の樹脂フィルム15、2つの単位ユニット30,17、およびレジスト膜41を、図6に示す順番に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる。これにより、図1に示す多層プリント基板10が完成する。
In this step, the resist
以上のように構成された第1実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。 According to 1st Embodiment comprised as mentioned above, there exist the following effects.
○第1の導体である導電スルーホール14により各樹脂フィルム15両面の導体パターン12が電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルム15のうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が導電ペースト23により電気的に接続される。このように、スルーホール11の内壁に形成された導電スルーホール14と、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15,15間で対向する2つの導体パターン12,12を電気的に接続する導電ペースト23とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。
The
また、第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12とスルーホール11内壁の導電スルーホール14は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。従って、層間接続信頼性が高い多層プリント基板10を得ることができる。
Moreover, since the
○導体パターン12と導電スルーホール14とが形成される一つの導体13を、下地金属層13aと導体層13bを有する2層構造にすることで、導体層13bの樹脂フィルムとの密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。
○ Adhesiveness between the
○下地金属層13aは無電解めっきにより形成するので、導体パターン12と導電スルーホール14の導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターン12を形成することができる。
Since the
○導体パターン12と導電スルーホール14は同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターン12と導電スルーホール14の導体厚が均一になる。
(実施例)
<樹脂フィルム15の作製方法>
第1の樹脂フィルム15として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(株式会社クラレ製のVecstar(登録商標)CT−50N)を用いた。
○ Since the
(Example)
<Method for producing
A liquid crystal polymer film (Vecstar (registered trademark) CT-50N manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as the
炭酸ガスレーザによりスルーホール11を形成した。
スルーホール11は、炭酸ガスレーザだけでなく、小径ではUV-YAGレーザを用いてもよく、エキシマレーザを用いても良い。また、機械ドリルでスルーホール11を加工してもよい。
フィルム粗面化・デスミア:
穴あけ加工した第1の樹脂フィルム15を強アルカリに浸して表面を溶解し粗面化した。
The through
The through-
Film roughening / desmear:
The drilled
10規定の水酸化カリウム溶液に80℃で15〜30分間浸して、表面に凹凸を形成した。同時に、スルーホール11形成時に発生した樹脂スミアを溶解除去し、スルーホール11内壁表面も粗面化した。
Irregularities were formed on the surface by dipping in a 10 N potassium hydroxide solution at 80 ° C. for 15 to 30 minutes. At the same time, the resin smear generated during the formation of the through
無電解めっきにより、樹脂フィルム15表面に下地めっき(下地金属層13a)としてNi−Pをめっきした。
Ni-P was plated on the surface of the
コンディショナー処理、ニッケルリン合金の無電解めっき処理、熱処理、銅の電気めっき処理の各処理を順に施してスルーホールとフィルム両面を導電化したフィルムを製造した。
無電解めっき:
コンディショナー処理は、奥野製薬工業株式会社製のOPC−350コンディショナーにより、高分子フィルムの表面を洗浄した。ここで、パラジウムを含む触媒付与液として奥野製薬工業株式会社製のOPC−80キャタリスト、活性化剤としてOPC−500アクセラレーターを用いた。
A film in which through holes and both surfaces of the film were made conductive was manufactured by sequentially performing a conditioner treatment, an electroless plating treatment of a nickel phosphorus alloy, a heat treatment, and an electroplating treatment of copper.
Electroless plating:
In the conditioner treatment, the surface of the polymer film was washed with an OPC-350 conditioner manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. Here, an OPC-80 catalyst manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. was used as a catalyst-providing liquid containing palladium, and an OPC-500 accelerator was used as an activator.
ニッケル合金の無電解めっき処理は、第1の樹脂フィルム15両面にニッケル(Ni)−リン(P)めっきを行った。リン濃度2〜6%のものとして、市販のニッケル−リンめっき液から選定した。奥野製薬工業株式会社の化学ニッケルEXCを用い、Niめっき厚を0.2ミクロン厚形成した。
In the electroless plating treatment of the nickel alloy, nickel (Ni) -phosphorus (P) plating was performed on both surfaces of the
めっき液はこれに限定するものではなく、株式会社メルデックスのエンプレートNI−426、奥野製薬工業株式会社のトップニコロンLPH−LFを用いても良い。 The plating solution is not limited to this, and Enplate NI-426 (Meldex Co., Ltd.) or Top Nicolo LPH-LF (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) may be used.
銅めっき前に密着性を向上させるため、熱処理を行っても良い。230〜250℃の温度にて、30秒〜30分の加熱を行った。本実施例では、240℃、3分の加熱を施した。
銅電気めっき:
さらに銅電気めっきを行い、導体13の導体層13bを1〜10ミクロン厚に形成した。銅(Cu)の電気めっき処理は、導体層13bの導体厚が5ミクロンになるように銅を形成した。銅電気めっき液は下記を用いた。尚、添加剤として、荏原ユージライト株式会社製のキューブライトTH−RIIIを使用した。
In order to improve adhesion before copper plating, heat treatment may be performed. Heating was performed at a temperature of 230 to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. In this example, heating was performed at 240 ° C. for 3 minutes.
Copper electroplating:
Further, copper electroplating was performed to form a
硫酸銅 120 g/L
硫酸 150 g/L
濃塩酸 0.125mL/L(塩素イオンとして)
導体パターン12の作製:
導体パターン12は、サブトラクティブ法で第1の樹脂フィルム15の両面(導体13の導体層13b)に回路を形成した。感光レジストを塗布し、紫外線にて露光し、現像を行った。次に、エッチング工程を行い、導体パターンを形成した後、レジストを剥離した。なお、さらに微細な回路形成には、電気銅めっき厚(導体厚)を2〜3ミクロン厚にして、めっきレジストを形成してから導体パターン部に電気銅めっきを行うセミアディティブ法を用いても構わない。
Copper sulfate 120 g / L
Sulfuric acid 150 g / L
Concentrated hydrochloric acid 0.125mL / L (as chloride ion)
Production of conductor pattern 12:
The
<多層プリント基板10の製造方法>
第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22を重ねてプレス温度150〜350℃の範囲、プレス圧力0.5〜10MPaの範囲で熱融着プレスを行った。
<Method for Manufacturing Multilayer Printed
The
実施例では、1MPa、220℃として第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22を融着した。
In the example, the
次に、導電ペースト23を第2の樹脂フィルム22のビアホール21にスクリーン印刷にて塗布した。
Next, the
次に、第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22を融着した単位ユニット30を複数枚重ね合わせ、一括熱融着プレスを行った。
Next, a plurality of
プレス温度は150〜350℃の範囲、プレス圧力0.5〜10MPaの範囲で行った。このプレスにより、樹脂フィルム15,22同士を融着すると共に、樹脂フィルム22のビアホール21に充填した導電ペースト23を硬化させ、導電ペースト23と樹脂フィルム15の導体パターン12とを電気的に接続させた。導電ペースト23はAgペーストとして、藤倉化成株式会社製のドータイトXA−824を用いた。また、導電ペースト23はAgSnペーストを用いた。ペーストの詳細は、特許第3473601号公報の段落0075に記載のものを用いた。
The pressing temperature was in the range of 150 to 350 ° C. and the pressing pressure in the range of 0.5 to 10 MPa. By this pressing, the
実施例2では、フィルム基材として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(ジャパンゴアテックス株式会社製BIAC(登録商標) BC)を用いた。 In Example 2, a liquid crystal polymer film (BIAC (registered trademark) BC manufactured by Japan Gore-Tex Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as a film substrate.
実施例3では、フィルム基材として、厚さ50μmのPEEK/PEI(三菱樹脂株式会社製IBUKI(登録商標))を用いた。 In Example 3, PEEK / PEI (IBUKI (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 50 μm was used as a film base material.
実施例4では、フィルム基材として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(株式会社クラレ製のVecstar(登録商標)CT−50N)を用いた。 In Example 4, a liquid crystal polymer film (Vecstar (registered trademark) CT-50N manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as a film substrate.
実施例5では、フィルム基材として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(ジャパンゴアテックス株式会社製BIAC(登録商標) BC)を用いた。 In Example 5, a liquid crystal polymer film (BIAC (registered trademark) BC manufactured by Japan Gore-Tex Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as a film substrate.
実施例6では、フィルム基材として、厚さ50μmのPEEK/PEI(三菱樹脂株式会社製IBUKI(登録商標))を用いた。 In Example 6, PEEK / PEI (IBUKI (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 50 μm was used as a film substrate.
なお、実施例2〜6では、多層基板は実施例1と同様にして作製し、プレス圧力、温度は下記の表1による条件でおこなった。 In Examples 2 to 6, the multilayer substrate was produced in the same manner as in Example 1, and the pressing pressure and temperature were performed under the conditions shown in Table 1 below.
比較例1〜6では、銅箔と樹脂フィルムを張り合わせた片面積層板(片面導体パターンフィルム)、および、両面積層板(両面導体パターンフィルム)を用い、層間接続には、ブラインドビアホールに導電ペーストを充填したものを熱融着プレスして多層プリント基板を作製した。導電ペーストは実施例と同じものを用いた。各比較例で用いたフィルム、プレス圧力、プレス温度は下記の表2による。フィルムは実施例と同じ型番で厚さのものを使用した。
In Comparative Examples 1 to 6, a single-area layer board (single-sided conductor pattern film) and a double-sided laminated board (double-sided conductor pattern film) bonded with copper foil and a resin film were used, and a conductive paste was applied to the blind via hole for interlayer connection. The filled one was heat fusion pressed to produce a multilayer printed circuit board. The same conductive paste as in the example was used. The film, press pressure, and press temperature used in each comparative example are shown in Table 2 below. A film having the same model number and thickness as in the example was used.
フィルム厚さを基準にして、融着プレス後の基板厚さの変化を求めた(表1、表2参照)。実施例、比較例では50ミクロン厚の樹脂フィルムを7枚積層したので、350ミクロン厚を基準とし、プレス後のフィルム厚さを測定し、厚さ変形量とした。
接続信頼性の比較:
JIS C 5012の付図2.1のLに準じる導体パターンの6層基板を作製した。ただし、層間接続部の穴径100ミクロンとし、ランド径は0.5mm、配線幅は0.3mmとし、スルーホール11の間隔は7.62mmとした。実施例の多層プリント基板10の作製では、導電スルーホール14の中心位置に対し、導電ペースト23を充填するビアホール21の中心位置は150ミクロンオフセットした位置となるようにした。一方、比較例では、層間接続をとるための導電ペーストを充填するビアホールは同軸上となるように配置した。
Based on the film thickness, the change in the substrate thickness after the fusion press was determined (see Tables 1 and 2). In the examples and comparative examples, seven 50 micron thick resin films were laminated, so that the thickness after pressing was measured based on the 350 micron thickness as the thickness deformation.
Connection reliability comparison:
A six-layer substrate having a conductor pattern according to L in Fig. 2.1 of JIS C 5012 was produced. However, the hole diameter of the interlayer connection portion was 100 microns, the land diameter was 0.5 mm, the wiring width was 0.3 mm, and the interval between the through
実施例では、JIS C 5012の9.1.3記載条件1に該当する温度サイクル試験を実施し、層間接続信頼性について調査した。初期抵抗に対し20%以上抵抗値が増加した時点で接続不良とみなした。 In the examples, a temperature cycle test corresponding to 9.1.3 description condition 1 of JIS C 5012 was performed, and the interlayer connection reliability was investigated. When the resistance value increased by 20% or more with respect to the initial resistance, it was regarded as a connection failure.
表1に示す実施例1乃至6と表2に示す比較例1乃至6をみると、各実施例1乃至によれば、次のような効果が得られる。 Looking at Examples 1 to 6 shown in Table 1 and Comparative Examples 1 to 6 shown in Table 2, according to each of Examples 1 to 6, the following effects can be obtained.
融着プレス後のプレス厚さ変形量が小さい。
スルーホールの接続信頼性が高い。
The deformation amount of the press thickness after the fusion press is small.
Through hole connection reliability is high.
(第2実施形態)
次に、第2実施形態に係る多層プリント基板10Aを、図7および図8に基づいて説明する。
(Second Embodiment)
Next, a multilayer printed
この多層プリント基板10Aでは、対向する2つの導体パターン12,12を電気的に接続しかつ機械的に結合する第2の導体である導電ペースト23を、図7および図8に示すように、隣接する2つの樹脂フィルム15,15の間で対向する2つの導電パターン12,12のいずれか一方に塗布しておく。
In this multilayer printed
その後、レジスト膜42、導電ペースト23が導電パターン12上に塗布された樹脂フィルム15、導電ペースト23が導電パターン12上に塗布された樹脂フィルム15、導電パターン12が塗布されていない樹脂フィルム15、およびレジスト膜41を順に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる。これにより、図1に示す多層プリント基板10Aが完成する。
Thereafter, a resist
この多層プリント基板10Aでは、熱融着プレスにより、各導電ペースト23が硬化され、その上下にある導電パターン12と金属間結合するので、各導電ペースト23により、その上下にある導電パターン12,12が電気的に接続されると共に、機械的に結合される。
In this multilayer printed
以上のように構成された第2実施形態によれば、上記第1実施形態の奏する上記作用効果に加えて、以下の作用効果を奏する。 According to 2nd Embodiment comprised as mentioned above, in addition to the said effect produced by the said 1st Embodiment, there exist the following effects.
○第1の導体である導電スルーホール14により各樹脂フィルム15両面の導体パターン12が電気的に接続されると共に、複数の樹脂フィルム15のうちの隣接する2つの樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が第2の導体である導電ペースト23により電気的に接続される。このように、スルーホール11の内壁に形成された導電スルーホール14と、隣接する2つの樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12と金属間結合した導電ペースト23とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、樹脂フィルム15両面の導体パターン12とスルーホール内壁の導電スルーホール14は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。
The
○層間接続をとるための導電ペースト23を、隣接する2つの樹脂フィルム15,15の間で対向する2つの導電パターン12,12のいずれか一方に塗布するので、上記第1実施形態における、導電ペースト23を収容するビアホール21を有する第2の樹脂フィルム22が不要になる。これにより、部品点数および工程が削減され、製造コストを低減できる。
Since the
なお、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記各実施形態において、樹脂フィルム15の積層数は「3」に限らず、本発明は、樹脂フィルム15を複数枚重ね合わせた多層プリント基板に広く適用可能である。
In addition, this invention can also be changed and embodied as follows.
In each of the above embodiments, the number of
・上記各実施形態において、複数の樹脂フィルム15のうちの隣接する2つの樹脂フィルム間にそれぞれ設けられ、対向する2つの導体パターン12,12を電気的に接続しかつ機械的に結合する第2の導体である導電ペーストに代えて、金属粉を用いてもよい。
In each of the above-described embodiments, the second is provided between two adjacent resin films of the plurality of
10,10A:多層プリント基板
11:スルーホール
12:導体パターン
13:導体
13a:下地金属層
13b:導体層
14:導電スルーホール(第1の導体)
15:第1の樹脂フィルム
21:ビアホール
22:第2の樹脂フィルム
23:導電ペースト(第2の導体)
30:単位ユニット
41,42:レジスト膜
41a,42a:貫通孔
10, 10A: Multilayer printed circuit board 11: Through hole 12: Conductor pattern 13:
15: 1st resin film 21: Via hole 22: 2nd resin film 23: Conductive paste (2nd conductor)
30:
Claims (5)
複数の前記樹脂フィルムのうちの隣接する2つの樹脂フィルム間に、対向する2つの前記導体パターンと金属間結合した第2の導体が設けられており、
前記導体パターンと前記第1の導体は、Ni−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより形成された下地金属層と、該下地金属層上に形成された導体層とを有し、前記導体パターンが前記導体層に形成されており、
前記樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする多層プリント基板。 And a through hole, a conductor pattern formed on both surfaces, the resin film having a respective one of the conductors formed on the conductive pattern integrally with the inner wall of the through holes are superposed several sheets double,
Between the two resin films adjacent to each other among the plurality of resin films, the two conductor patterns facing each other and the second conductor bonded between the metals are provided ,
The conductor pattern and the first conductor are formed on the base metal layer formed by plating with a Ni—P alloy and heating at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. A conductor layer, and the conductor pattern is formed on the conductor layer,
The multilayer printed circuit board , wherein the resin film is a thermoplastic resin having a glass transition point and a melting point of 150 ° C or higher and 350 ° C or lower .
前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとは、同じフィルム基材で構成されており、
前記ビアホール内に充填された導電ペースト或いは金属粉が、前記複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの前記第1の樹脂フィルム間で対向する2つの前記導体パターンと金属間結合しており、
前記導体パターンと前記第1の導体は、Ni−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより形成された下地金属層と、該下地金属層上に形成された導体層とを有し、前記導体パターンが前記導体層に形成されており、
前記第1の樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする多層プリント基板。 A plurality of first resin films each having a through hole, a conductor pattern formed on both sides, and a first conductor formed integrally with the conductor pattern on the inner wall of the through hole; And the second resin film having no conductor pattern are alternately stacked,
The first resin film and the second resin film are composed of the same film base material,
The conductive paste or metal powder filled in the via hole is metal-bonded to the two conductive patterns facing each other between the two adjacent first resin films of the plurality of first resin films. And
The conductor pattern and the first conductor are formed on the base metal layer formed by plating with a Ni—P alloy and heating at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. A conductor layer, and the conductor pattern is formed on the conductor layer,
The multilayer printed circuit board, wherein the first resin film is a thermoplastic resin having a glass transition point and a melting point of 150 ° C or higher and 350 ° C or lower .
導電ペースト或いは金属粉からなる第2の導体を、隣接する2つの前記樹脂フィルムの導体パターン間に介在させて、複数の前記樹脂フィルムを積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、A step of interposing a second conductor made of conductive paste or metal powder between the conductive patterns of two adjacent resin films, stacking a plurality of the resin films, and stacking these laminates by heat fusion press When,
を備え、With
前記樹脂フィルムを作製する工程において、樹脂フィルムの両面および前記スルーホール内壁に無電解めっきによってNi−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体層を形成した後、該導体層に前記樹脂フィルムの両面の導体パターンを形成し、In the step of producing the resin film, the base metal layer is obtained by plating the both surfaces of the resin film and the inner wall of the through hole with an Ni-P alloy by electroless plating and heating at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. After forming a conductor layer by electroplating on the underlying metal layer, forming a conductor pattern on both sides of the resin film on the conductor layer,
前記樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする多層プリント基板の製造方法。The method for producing a multilayer printed board, wherein the resin film is a thermoplastic resin having a glass transition point and a melting point of 150 ° C to 350 ° C.
ビアホールを有し、両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルムを作製する工程と、Producing a second resin film having via holes and no conductor pattern on both sides;
前記ビアホールの開口端が前記導体パターンと接するように、前記第1の樹脂フィルムThe first resin film so that the opening end of the via hole is in contact with the conductor pattern
と前記第2の樹脂フィルムとを熱融着して単位ユニットを作製する工程と、And a step of thermally fusing the second resin film to produce a unit unit;
前記ビアホール内に導電ペースト或いは金属粉を充填した後、複数の前記単位ユニットを積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、After filling the via hole with a conductive paste or metal powder, stacking a plurality of the unit units, and laminating these laminates by heat fusion press,
を備え、 With
前記第1の樹脂フィルムを作製する工程において、樹脂フィルムの両面および前記スルーホール内壁に無電解めっきによってNi−P合金でめっきを施して230℃〜250℃で30秒〜30分加熱することにより下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体層を形成した後、該導体層に前記第1の樹脂フィルムの両面の導体パターンを形成し、In the step of producing the first resin film, by plating the both surfaces of the resin film and the inner wall of the through hole with an Ni-P alloy by electroless plating and heating at 230 ° C. to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. After forming a base metal layer and forming a conductor layer by electroplating on the base metal layer, forming a conductor pattern on both sides of the first resin film on the conductor layer,
前記第1の樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であり、The first resin film is a thermoplastic resin having a glass transition point and a melting point of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower,
前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとは、同じフィルム基材で構成されていることを特徴とする多層プリント基板の製造方法。The method for producing a multilayer printed board, wherein the first resin film and the second resin film are composed of the same film base material.
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